JP4982015B2 - 紫外線ランプシステム用反射器 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は概して紫外線ランプシステムに関するものであり、特に紫外線ランプシステムにおいて用いられる、システム内に配設されたプラズマバルブの発生する紫外線放射を反射する反射器（反射器）に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
紫外線ランプシステムは、該システム内のマイクロ波キャビティ即ちマイクロ波チャンバ内に設置された紫外線プラズマバルブのごとき無電極ランプにマイクロ波エネルギーを結合するようになされている。紫外線熱硬化においては、ランプシステムに１以上のマグネトロンを設け、マイクロ波放射をマイクロ波チャンバ内のプラズマバルブに結合している。マグネトロンはマイクロ波チャンバに対して、チャンバの上端に連結された出力ポートを有するウェーブガイドを介して結合されている。プラズマバルブはマイクロ波エネルギーにより十分に励起されているとき、マイクロ波チャンバの下端から、照射対象基板に向けて強い紫外および赤外成分を有する放射スペクトルを放つ。一般的には紫外線ランプシステムはまた、チャンバ下端に設けられた、紫外線は透過するがマグネトロンにより発生されたマイクロ波は透過しない金属網を有している。なおここで「上端」および「下端」とは図面に示されたチャンバの向きに関連してマイクロ波チャンバの説明を簡単にするために用いているものであることを理解されたい。当然ながら、紫外線ランプ加熱硬化の特定の適用例に応じて、マイクロ波チャンバの構造と機能を全く改変することなくマイクロ波チャンバの向きを変えることができる。
【０００３】
プラズマバルブ（plasma bulb即ちプラズマ管あるいはプラズマ電球）は、特性スペクトルを有する近似的線光源を提供し、その長手方向に沿って外部に等方的に放射を射出する。しかし放出された放射の大部分は１回以上の反射を経て基板に到達する。例えば接着剤、シーラント、インク、塗膜材等の硬化または加熱に用いられる紫外線ランプシステムは、プラズマバルブが配置されるマイクロ波チャンバ内に取り付けられるかまたは該チャンバの一部をなす反射器を含む。反射器は反射された放射を所定パターンに従って基板に振り向けるよう機能する光学要素である。
【０００４】
大部分の紫外線ランプシステムにおいては、冷光照明（cold-light illumination）が望まれる。冷光照明ではプラズマバルブの放つ放射の赤外成分をシステム内の吸収フィルタ又は反射フィルタにより除去しておく。赤外線放射は基板と相互作用し照射面を加熱する。従ってこのようなシステムの好適な反射器は放射を波長の関数として選択的に反射しかつ透過する。特に反射器を、紫外線を優先選択的に基板に導く波長選択的コーティングを有する被膜光学素子とすることができる。波長選択的コーティングは一般的には誘電体材料の多層薄膜であり、これは当業者にはよく知られた物理蒸着または化学蒸着などの真空蒸着技術を用いて塗膜される。赤外領域の波長を有する放射は反射器によって透過され、周囲構造に吸収されて熱的に放散される。従って余計な赤外放射は反射器によって実質的に反射されることはなく、基板を照明することもない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
反射器の幾何学的形状は基板を照明する放射のパターンを決定する。反射器は通例、円錐を平面で切って得られる放物線、楕円、双曲線、円などの円錐曲線の一部の形状になされる。一般的には楕円形の反射器が用いられ、該反射器の焦点あるいはその近傍に置かれた基板に紫外線放射のフォーカスされた即ち収束されたビームを与える。楕円反射器の特性は、楕円の一つの焦点に位置する光源から放射された光線は反射器でいちど反射された後他方の焦点を通過する、というものである。こうして一方の焦点に沿って軸方向に置かれたプラズマバルブを有する楕円反射器は、第２の焦点に置かれた基板に対してフォーカスされた線状の放射を与えることになる。
【０００６】
他方で、紫外線ランプシステムのいくつかの適用例では、基板の比較的広い面積にわたって一様な照射または放射密度が要求される。このような適用例に対しては、双曲線の焦点に置かれた放射源を有する双曲線反射器が理想的であろう。双曲線反射器のこのような線光源から発せられた間接放射は無限遠の焦点面に向かう共心の平行光線束として反射される。しかしながら、双曲線反射器は双曲線面に割り当てられる数学的記述に従って相対的に広いので、大抵の場合、双曲線反射器は大部分のマイクロ波チャンバの利用可能スペースに納めることが物理的にできない。
【０００７】
過去において、反射器−プラズマバルブ−基板の光学的配置を調整することにより一様な放射を与えるように紫外線ランプシステムの設計が試みられてきた。より小型の反射器を提供するために提案された一つの解決策は、楕円反射器の焦点からプラズマバルブを離すように位置替えすることであった。この構成によって反射される紫外線放射は少なくとも部分的にデフォーカスされはしたが、照射は基板面にわたって十分に均一ではなかった。更に入射マイクロ波エネルギーとプラズマバルブ内のガスの結合が変化し、プラズマバルブの長さ方向に沿って照射が不均一になる。提案された別の解決策は、楕円反射器の位置を変えて基板が焦点面あるいはその近傍に位置しないようにするというものであった。しかし反射器を位置替えすることによりプラズマバルブに与えうる冷却が減少し、それに伴ってプラズマバルブの使用寿命が短くなる。
【０００８】
以上の次第で、広い面積にわたって均一な紫外線放射を効率的に提供し、かつマイクロ波チャンバの最適な寸法と干渉することがなく、あるいはプラズマバルブの動作特性に悪影響を及ぼさないようになされた反射器が求められている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は現在知られているマイクロ波励起式紫外線ランプシステムの上記およびその他の欠点を解消するものである。後に本発明を或る実施の形態に関連して説明するが、本発明はそれら実施形態に限定されるものではない。むしろ本発明は本発明の概念と範囲の内に含まれるであろうすべての代替的構成、変形例、均等物を含むものである。
【００１０】
本発明による反射器は、紫外線ランプシステムのプラズマバルブから離間して設けられるようになされた長手に延びる１つ以上の反射パネルを有する。この反射器はプラズマバルブの発する電磁放射、特に紫外線放射を反射し、隣接する基板の表面に上にほぼ均一な照射をもたらすことができる。各反射パネルの主要部の湾曲はデカルト座標において、式(x/a)⁽²⁺ⁿ⁾+(y/b)^(2+m)=1で表される。ここでａおよびｂは定数であり、ｎおよびｍはおよそ２より小さく０以上の指数であり、かつ少なくともｎまたはｍの一方は０より大きい。
【００１１】
反射器のこの湾曲により、広い面積にわたって実質的に均一な紫外線放射の照射がもたらされる。更にその場合でも反射器はマイクロ波チャンバの最適な寸法と干渉することがなく、またプラズマバルブの動作特性に悪影響を与えることもない。更にこの反射器はマイクロ波チャンバの利用可能スペースに好適に適合する。
【００１２】
以上に説明した本発明の目的および利点は添付図面とその説明により明らかにされるであろう。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図面を参照すると、本発明の原理に従ったマイクロ波励起式の紫外線（ＵＶ）ランプシステム１０が図示されている。紫外線ランプシステム１０は、一対のマグネトロン１２として示される一対のマイクロ波発生器を有している。該一対のマグネトロン１２はそれぞれのウェーブガイド１６を介して、長手的に延在するマイクロ波チャンバ１４に連結されている。各ウェーブガイド１６は、マイクロ波チャンバ１４の上端部に連結される出口ポート１８を有している。一対のマイクロ波発生器１２が発生するマイクロ波エネルギーは、マイクロ波チャンバ１４に対して、その両側上端部に隣接して長手方向に離間した位置において結合される。
当該技術において知られているように、密閉された細長く延在する管状の無電極プラズマバルブ２０が、マイクロ波チャンバ１４に設置され、且つマイクロ波チャンバ１４の上面付近に支持されている。図示されていないが、以下のことを理解されたい。即ちランプシステム１０は、当業者によく知られた、加圧空気源を含んだキャビネットまたはハウジング内に設置されており、該加圧空気源は、マイクロ波チャンバー１４内にエアを向けるよう動作し、バルブ２０を冷却する。
【００１４】
ランプシステム１０は、マグネトロン１２からマイクロ波チャンバ１４に結合された電磁波によるプラズマバルブ２０内のガスの十分な励起によって、マイクロ波チャンバ１４の底面から、図２中の矢印２４によって概略示されるように、紫外線の放射を放つよう設計や構成がなされる。なおここでは一対のマグネトロン１２を、図示し説明していくが、ランプシステム１０は、単一のマグネトロン１２を含んで、プラズマバルブ２０内の混合ガスを励起させるようにしても、本発明の思想や範囲から外れることがないことを理解されたい。プラズマバルブ２０内の混合ガスは、放出される放射の所定の波長分布を作り出すようにその元素を調整する。これらの目的のために都合のよい混合ガスは、水銀蒸気とアルゴンに鉄などの微量元素を加えたものである。バルブ２０内の励起した混合ガスによって出力された電磁気の放射は、強い紫外線と赤外線の成分を含んでいる。ここでは、電磁放射（以下、放射と称する）は、約２００ｎｍから約１０００ｎｍにわたる波長として定義され、紫外線放射は、約２００ｎｍから約４００ｎｍにわたる波長として定義され、また赤外線放射は、約７５０ｎｍから約１０００ｎｍにわたる波長として定義される。
【００１５】
ランプシステム１０は、一つのスタータバルブ２６と、一対の変圧器２８を備えている。これら変圧器２８は、各マグネトロン１２に電気的に接続されており、当業者に知られているようにマグネトロン１２のフィラメントに電力供給する。マグネトロン１２はウェーブガイド１６の入り口ポート３０に取り付けられており、マグネトロン１２により発生されるマイクロ波はウェーブガイド１６の長手方向に離間した出口ポート１８を介してチャンバ１４に放出される。好ましくは、２つのマグネトロン１２の周波数をわずかに分離し（ずらし）、ランプシステムの動作中にそれらが相互結合(intercoupling)するのを防止する。本発明を限定するものではないが、具体的な例としては、２つのマグネトロン１２は、それぞれ約２４７０ＭＨzと約２４４５ＭＨzの周波数で動作することができる。
【００１６】
図１と図２を参照すれば、最もよく解るように、マイクロ波チャンバ１４は、ほぼ水平な上面３２と、ほぼ垂直な対向する一対の端壁３４と、端壁３４の間で長手方向に延び、且つプラズマバルブ２０の両側に位置するほぼ垂直な対向する一対の側壁３６とを有している。マイクロ波チャンバ１４は、さらに側壁３６から上面３２に向かって上方に且つ内側に延在する傾いた傾壁３８を有している。
一対の開口４０が、マイクロ波チャンバ１４の上端に設けられている。その開口４０は、ウェーブガイド１６の出口ポート１８に整列されて（位置合わせされて）連結される。一対のマグネトロン１２によって発生された電磁波は、マイクロ波チャンバ１４に結合され、十分なエネルギーによってバルブ２０内の混合ガスを励起し、これによりガス原子は多くの紫外線と赤外線の成分を有した放射のスペクトルを放出する。もちろん、本発明書の思想や範囲から外れることなくマイクロ波チャンバ１４の他の形態も可能である。例えば、知られているように、放電によって混合ガスを励起するための電源に接続された電極をバルブ２０の両端に内蔵してもよい。
【００１７】
本発明の原理に従って、長手方向に延在する反射器４２がマイクロ波チャンバ４２内に設置されている。この反射器は図２に矢印２１によって図式的に示されているプラズマバルブ２０から発する放射のスペクトルから、紫外線放射を優先選択的に反射してマイクロ波チャンバ１４の底面の下方に位置する基板（不図示）に向ける。メッシュ（網目）スクリーン４４が、マイクロ波チャンバ１４の底面に取り付けられている。メッシュスクリーン４４は紫外線放射２４は透過するが、一対のマグネトロン１２によって発生されたマイクロ波は閉じこめる。網目スクリーン４４は、高い導電性の金属、好ましくはタングステンからなり、且つ入射紫外線放射に対する高い透過率（好ましくは９０％以上）を有している。
【００１８】
図１および図２に示すように、反射器４２はマイクロ波チャンバ１４内に取り付けられた一対の長手方向に延在する反射パネル４６を含んでいる。反射パネルはそれぞれ対向して向き合いかつプラズマバルブ２０から離間した内側凹面４３を有している。本発明書の思想や範囲から外れることなく、反射器４２は、マイクロ波チャンバ内に延在しバルブ２０から離間したワンピースの一体型パネル４６または２枚以上からなるパネル４６のどちらでもよいことはあきらかである。
【００１９】
おのおのの内側面は、光学的に平坦な表面仕上げを有することが望ましく、おのおのの反射パネル４６は、ＰＹＲＥＸ（登録商標）のような放射透過性の物質の層で構成されることが望ましい。適度な反射と温度の特性を有している他の物質（金属など）は、マイクロ波チャンバ１４の一部に用いられ放射伝達が要求されない特定の用途に際して付随的に使用されるであろう。
【００２０】
紫外線ランプシステム１０を使用するために、反射器４２は、プラズマバルブ２０によって放射される放射２１の特定の波長を少なくとも部分的に透過、反射もしくは吸収するように機能することができる。特に反射器は、図２の矢印２２によって図式的に示されるように、赤外線を好適に透過し、且つ入射する放射２１内の紫外線放射２４は、反射する。従来知られているように、このような結果をもたらすためのよく知られている方法は、ダイクロイックコーティング（不図示）によって、おのおのの反射パネル４６の内側面４３をコートすることである。このダイクロイックコーティングは、通常屈折率の高低が交互にくる多様な誘電体の材料からなる周期的多層フィルムから構成される。このコーティングが非金属であるゆえに、一対のマグネトロン１２から下方に向かって反射器４２の裏面に入射するマイクロ波放射は、調節された層とほとんど干渉することなく、即ちほとんど吸収されることなく容易に透過され、バルブ２０内の混合ガスをイオン化する。典型的なコーティングは「Balzers #UNS200-S 多層性コーティング」であり、これは波長220nm-440nmの入射放射に対して反射性が高い。
【００２１】
図２に示すように、赤外線放射２２は、反射器４２を介して透過され、且つマイクロ波チャンバ１４の周囲に導かれる。チャンバ壁３２、３４、３６、３８は、赤外線放射２２を吸収したり、放散したりする。その結果、基板（不図示）は反射器４２から反射される望ましくない間接赤外線放射２２によってさらされることがない。あるいは代替的には、反射器４２は、赤外線放射２２を吸収するようにしてもよい。対照的に、紫外線放射２４は、反射器４２によってよく反射され、マイクロチャンバ１４の底面より下の網目スクリーン４４を越えて所定の距離に配置された基板に向けられる。
【００２２】
一対の反射パネル４６は、一対の長手方向に離間したリテーナ４８（その内の一方のみが図２に示されている）によってマイクロ波チャンバ１４内に取り付けられている。各反射パネル４６は最下端部５３を有しており、該最下端部５３は各チャンバ側壁３６から内側に延びる概して水平の内向きフランジ５０上に支持されている。長手方向に延在する中間部材５２がリテーナ４８内に形成された一対のスロット５４（図２）によってマイクロ波チャンバ内に取り付けられている。中間部材５２は反射パネル４６の各頂点５５から離間して、かつプラズマバルブ２０から離間して位置しており、バルブを冷却するのに十分な空気の循環を可能にする。この中間部材５２はＰＹＲＥＸ（登録商標）などのガラス製としてよく、またコーティングせずにバルブ２０から放出される紫外線放射２４に対して非反射性としてよい。
【００２３】
本発明の一つの態様によれば、各反射パネル４６の内面４３は非２次の（non-quadratic）数学的関係式で定義される湾曲を有する非球面ミラーの一部を表している。説明のために図２に直交２次元デカルト座標系を定義しており、ここでは原点５８をとり、パネルの内面４３に垂直な平面内の各点を該原点５８に対する座標（ｘ，ｙ）で表している。各パネル４６はそれぞれの頂部５６で切頭されており、かつその最下端５３は式ｙ＝０で定義される平面から所定距離５９だけ持ち上げられている。このデカルト座標系では各反射パネル４６の内面４３の湾曲は数学的関係式(x/a)⁽²⁺ⁿ⁾+(y/b)^(2+m)=1で表される。なおここでｂは曲線の半短径でありａは半長径である。
【００２４】
反射器４２の示す回転面を作り出すために、指数ｎおよびｍをそれぞれ０．８に設定した。しかし指数ｎおよびｍの値はこれには限定されず、約２より小さく０以上であってかつｎおよびｍの少なくとも一方は０より大となるような値とすることができる。好適には指数ｎおよびｍの値を約０．７〜０．８の範囲に設定する。ｎ＝０かつｍ＝０であれば、数学的関係式は通常の楕円となり、各パネル４６は楕円柱の一部をなす形状となる。いずれのパネル４６もマイクロ波チャンバの範囲内でｘ方向あるいはｙ方向にずらすことができ、それによって各内面４３はプラズマバルブ２０の周囲でもはや配置の対称性を失うが、このようなものも本発明の思想の範囲内に含まれるものであることを理解されたい。
【００２５】
上記式で定義される湾曲面が長手方向に延在して反射器４２を形成する。プラズマバルブ２０の軸は反射器４２の焦点あるいはその近傍に位置決めされ、プラズマバルブ２０から放出される紫外線放射２４は反射器４２によってほとんどホモセントリックな平行光線として下方に反射され、メッシュスクリーン４４を介して基板（不図示）に向けられる。数学的に表現された内面４３の湾曲により、比較的均一な照射あるいは放射光束密度を有する紫外線放射２４が基板の比較的大きな表面領域にわたってもたらされる。またこの均一な照射はマイクロ波チャンバの最適な寸法と干渉することなく達成される。
【００２６】
本発明を限定するものではないが、例として示すと、反射器４２の好適な実施例は切頭された頂部５６までのｙ方向寸法が７５．２９ｍｍ（2.964インチ）であり、最下端部５３までのｘ方向寸法が３９．９８ｍｍ（1.574インチ）である。なおこれらは原点５８から各パネル４６の内側凹面４３までを計測したものである。また、この好適な実施例の反射器４２のランプの軸に平行な長手方向寸法は２５１．００ｍｍ（9.882インチ）であり、その公称厚さは３．１７５ｍｍ（0.125インチ）である。更に、この好適な実施例の各パネル４６の持ち上がり距離５９は６．２５ｍｍ（0.246インチ）であり、パネル４６の頂部５６は１７．９８ｍｍ（0.708インチ）の横方向隙間によって隔てられている。
【００２７】
図１および図２と同じ参照符号を用いて、本発明の原理による反射器６２の別の実施例を図３に示す。反射器６２は一対の長く延びる反射パネル６４を有している。これら反射パネルはマイクロ波チャンバ１４内に各内側凹面６６が互いに対向し対面するように、かつプラズマバルブ２０から離間するように取り付けられている。各反射パネル６４は上に反射パネル４６に関連して説明した数学的関係式によって表現される好適な湾曲内側表面６６を有している。反射器６２を形成する指数ｎおよびｍはそれぞれ０．７とした。一対の反射パネル６４はリテーナ６８によりマイクロ波チャンバ１４内に取り付けられており、かつ各反射パネル６４の最下端部７０は、概して水平で各チャンバ側壁３６から内側に延在するフランジ５０上に支持されている。各パネル６４はそれぞれの頂部７２で切頭されており、またその最下端部７０はｘ＝０で定義される平面から上方に所定距離７４だけ持ち上げられている。
【００２８】
反射器６２は反射器４２（図１および図２）に関連して説明したものと同様に動作するものであり、比較的均一な紫外線放射の照射を基板の比較的広い表面領域に与え、その際マイクロ波チャンバの最適寸法と干渉することがない。
【００２９】
本発明を限定するものではないが、例として示すと、反射器６２の好適な実施例は切頭された頂部７２までのｙ方向寸法が７５．５９ｍｍ（2.976インチ）であり、最下端部７０までのｘ方向寸法が５０．０１ｍｍ（1.969インチ）である。なおこれらは原点５８から各パネル６４の内側凹面６６までを計測したものである。また、この好適な実施例の反射器６２のランプの軸に平行な長手方向寸法は１４６．９９ｍｍ（5.787インチ）であり、その公称厚さは３．１７５ｍｍ（0.125インチ）である。更に、この好適な実施例の各パネル６４の持ち上がり距離７４は６．３５ｍｍ（0.250インチ）であり、パネル６４の頂部７２は１１．９９ｍｍ（0.472インチ）の横方向隙間によって隔てられている。
【００３０】
以上本発明を様々な実施形態により細部にわたって説明してきたが、特許請求の範囲に記載した本発明の範囲をこれらの細部によって限定しようと意図するものではない。その他の利点および変形例は当業者には容易に理解されるだろう。たとえば、本発明は反射器の焦点又はその付近に位置する放射源を有する任意の光反射システムにおいて基板その他の目標物の比較的広い表面にわたって比較的均一な照射をおこなうために用いることができる。したがって本発明を広くとらえれば、図示されかつ上に説明された特定の細部、代表的な装置および方法、そして例示のための実施例などに限定されるものではない。従って本発明の概括的思想の範囲を逸脱することなく、上記の細部からの変更を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の原理による紫外線ランプシステムの斜視図である。
【図２】図１の紫外線ランプシステムの線２−２に沿った断面図であり、図１のランプシステムに用いる２つのパネルを有する反射器の位置実施形態を示す図である。
【図３】図１のランプ紫外線システムに用いる、本発明による２つのパネルを有する反射器の別の実施例を示す断面図である。
【符号の説明】
１０………紫外線ランプシステム
１２………マグネトロン
１４………マイクロ波チャンバ
１６………ウェーブガイド
１８………出口ポート
２０………プラズマバルブ
２１………矢印
２２………矢印
２４………紫外線放射
２６………スタータバルブ
２８………変圧器
３２………上面
３４………端壁
３６………側壁
３８………傾壁
４０………開口
４２………反射器
４３………内側凹面
４４………メッシュスクリーン
４６………反射器パネル
５０………フランジ
５３………最下端
５６………頂部
５８………原点
５９………所定距離
５９………持ち上がり距離
６２………反射器
６４………反射器パネル
６６………内側凹面
６８………リテーナ
７０………最下端部
７２………頂部
７４………所定距離
７４………持ち上がり距離

Claims (16)

1. 放射のスペクトルを放出するための細長く延びるバルブを有するランプシステムに用いられる、該ランプシステムの下方に位置するターゲットの比較的大きな表面領域にわたって比較的均一な照射をもたらすための反射器であって、該反射器は細長く延びるバルブから離間して設置されるようになされており、該反射器の主要部分の湾曲はデカルト座標系において以下の式により表されることを特徴とする反射器：
   (x/a)⁽²⁺ⁿ⁾ + (y/b)^(2+m) = 1
   ここで、ａおよびｂは定数、ｎおよびｍは約２より小さく０以上の指数であり、ｎおよびｍの少なくとも一方は０より大である。
2. 前記反射器は少なくとも２つの長手に延在する反射パネルを有することを特徴とする請求項１記載の反射器。
3. 前記反射器は、
   バルブから離間して取り付けられるようになされた第１の長手に延在する反射パネルと、
   バルブから離間すると共に前記第１の反射パネルと対向して取り付けられるようになされた第２の長手に延在する反射パネルと、
   を有することを特徴とする請求項１記載の反射器。
4. 前記指数ｎおよびｍは等しいことを特徴とする請求項１記載の反射器。
5. 前記反射器は波長範囲約200nm〜400nmの紫外波長を有する電磁放射を反射可能であることを特徴とする請求項１記載の反射器。
6. 前記反射器は波長約750nm以上の赤外波長を有する電磁放射を少なくとも部分的に透過または吸収可能であることを特徴とする請求項５記載の反射器。
7. 前記反射器の表面は紫外波長を有する電磁放射を反射可能であり、赤外波長を有する電磁放射を少なくとも部分的に透過または吸収可能であるダイクロイックコーティングを施されていることを特徴とする請求項１記載の反射器。
8. 紫外線放射を発生する装置であって、
   細長く延びるマイクロ波チャンバと、
   前記マイクロ波チャンバ内に設置された細長く延びるバルブと、
   前記マイクロ波チャンバに結合され、前記チャンバ内にマイクロ波エネルギー場を発生可能であり、前記バルブを励起して電磁放射を放出させる少なくとも一つのマイクロ波発生器と、
   細長く延びるバルブから離間して設置されるようになされた反射器と、
   を有し、該反射器の主要部分の湾曲はデカルト座標系において以下の式により表されることを特徴とする装置：
   (x/a)⁽²⁺ⁿ⁾ + (y/b)^(2+m) = 1
   ここで、ａおよびｂは定数、ｎおよびｍは約２より小さく０以上の指数であり、ｎおよびｍの少なくとも一方は０より大である。
9. 前記反射器は少なくとも２つの長手に延在する反射パネルを有することを特徴とする請求項８記載の装置。
10. 前記反射器は、
    バルブから離間して取り付けられるようになされた第１の長手に延在する反射パネルと、
    バルブから離間すると共に前記第１の反射パネルと対向して取り付けられるようになされた第２の長手に延在する反射パネルと、
    を有することを特徴とする請求項８記載の装置。
11. 前記指数ｎおよびｍは等しいことを特徴とする請求項８記載の装置。
12. 前記反射器は波長範囲約200nm〜400nmの紫外波長を有する電磁放射を反射可能であることを特徴とする請求項８記載の装置。
13. 前記反射器は波長約750nm以上の赤外波長を有する電磁放射を少なくとも部分的に透過または吸収可能であることを特徴とする請求項１２記載の装置。
14. 前記反射器の表面は紫外波長を有する電磁放射を反射可能であり、赤外波長を有する電磁放射を少なくとも部分的に透過または吸収可能であるダイクロイックコーティングを施されていることを特徴とする請求項８記載の装置。
15. ターゲットの比較的大きな表面領域にわたってほぼ均一な放射を発生する装置であって、
    長手軸を有するバルブと、
    前記バルブに作動的に結合され、該バルブを励起して電磁放射を放出させるパワー供給源と、
    長手方向に延びるバルブから離間して設置された反射器と、
    を有し、該反射器の主要部分の湾曲はデカルト座標系において以下の式により表されることを特徴とする装置：
    (x/a)⁽²⁺ⁿ⁾ + (y/b)^(2+m) = 1
    ここで、ａおよびｂは定数、ｎおよびｍは約２より小さく０以上の指数であり、ｎおよびｍの少なくとも一方は０より大である。
16. 前記指数ｎおよびｍは等しいことを特徴とする請求項１５記載の装置。

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