JP5099689B2 - カラーフィルタ欠陥修正装置およびカラーフィルタ欠陥修正方法 - Google Patents

Description

本発明は、カラーフィルタ欠陥修正装置およびカラーフィルタ欠陥修正方法に関し、特に、カラーフィルタのブラックマトリックス領域および着色領域の欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正装置およびカラーフィルタ欠陥修正方法に関する。

液晶ディスプレイの構成部品であるカラーフィルタには、ブラックマトリックスと呼ばれる格子状のパターン（クロム、酸化クロムおよび樹脂等の材料）および着色領域（以下、カラーフィルタ領域とも称する）が形成される。ブラックマトリックスを形成する段階での欠陥には、カラーフィルタ領域（この段階では色なし）にまでブラックマトリックスがはみ出した黒欠陥と、ブラックマトリックスの一部が欠落した白欠陥とがある。また、着色後にも互いの色が混色した黒欠陥と、色抜けした白欠陥とがある。従来は、作業者がカメラ画像を見ながらレーザ光で黒欠陥を修正したり、インクで白欠陥を埋めたりして修正する方法が採用されている。

たとえば、特開平９−６１２９６号公報（特許文献１）には以下のようなカラーフィルタ欠陥修正装置が開示されている。すなわち、画像処理部によってカラーフィルタの欠陥部分を認識し、認識されたカラーフィルタの欠陥部分に、インク塗布部のインク塗布用針でインクを塗布し、インク硬化部により塗布したインクを硬化させ、塗布されたインクのうち不要な部分をレーザ照射部からレーザを照射することによって除去する。

また、特開２００５−１０７３２７号公報（特許文献２）には、レーザ光の照射によりカラーフィルタの複数の欠陥を一時に除去する構成が開示されている。
特開平９−６１２９６号公報 特開２００５−１０７３２７号公報

しかしながら、特許文献１および特許文献２では、絵素と同サイズで同形状のスリットを用いており、欠陥を含む絵素全体にレーザを照射しているため、欠陥以外の除去された部分にもインクを塗布する必要がある。このため、欠陥のみにインクを塗布する場合よりも多くの時間を要する。

それゆえに、本発明の目的は、カラーフィルタの欠陥修正を適切に行なうことが可能なカラーフィルタ欠陥修正装置およびカラーフィルタ欠陥修正方法を提供することである。

上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるカラーフィルタ欠陥修正装置は、光透過領域および光透過領域に隣接する遮光領域を有するカラーフィルタの欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正装置であって、カラーフィルタの欠陥を検出し、検出された欠陥と、光透過領域および遮光領域との位置関係に基づいて、カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定する画像処理部と、カラーフィルタにおける決定された領域へのレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なう修正処理部とを備える。修正処理部は、スリットを形成するスリット部と、スリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含む。画像処理部は、検出された欠陥の全領域が光透過領域に存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域と重ならないようにスリットの位置を決定し、検出された欠陥が遮光領域および光透過領域にまたがって存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつレーザ光が照射されるカラーフィルタの領域と遮光領域との重なり領域が最小になるようにスリットの位置を決定する。レーザ照射部は、決定された位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。

好ましくは、画像処理部は、さらに、検出された欠陥が遮光領域および光透過領域にまたがって存在する場合には、検出された欠陥のうちの遮光領域における欠陥の大きさと光透過領域における欠陥の大きさとを比較し、修正処理部は、遮光領域および光透過領域のうち、欠陥の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、カラーフィルタにおける決定された領域に選択した色のインクを塗布するインク塗布部を含む。

好ましくは、カラーフィルタは、遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有する。スリットは、第１の光透過領域および第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有する。画像処理部は、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域および１つの光透過領域と重なるようにスリットの位置を決定する。

好ましくは、カラーフィルタは、遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、修正処理部は、カラーフィルタにおいて、第１の光透過領域および第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有する領域にインクを塗布するインク塗布部を含み、画像処理部は、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、インクが塗布されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域および１つの光透過領域と重なるようにインク塗布部の位置を決定し、インク塗布部は、決定された位置においてカラーフィルタにインクを塗布する。

好ましくは、画像処理部は、検出された欠陥の位置に基づいてスリットの第１の位置を決定し、検出された欠陥の全領域が光透過領域に存在する場合には、第１の位置におけるスリットを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域と遮光領域との重なり領域に基づいて第１の位置を補正することによりスリットの第２の位置を決定し、レーザ照射部は、第２の位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。

好ましくは、画像処理部は、検出された欠陥の位置に基づいてスリットの第１の位置を決定し、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、第１の位置におけるスリットを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域と光透過領域との重なり領域に基づいて第１の位置を補正することによりスリットの第２の位置を決定し、レーザ照射部は、第２の位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。

上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるカラーフィルタ欠陥修正方法は、光透過領域および光透過領域に隣接する遮光領域を有するカラーフィルタの欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正方法であって、カラーフィルタの欠陥を検出する第１のステップと、検出された欠陥と、光透過領域および遮光領域との位置関係に基づいて、カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定する第２のステップと、カラーフィルタにおける決定された領域へのレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なう第３のステップと、スリットを形成する第４のステップを含む。第２のステップにおいては、検出された欠陥の全領域が光透過領域に存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域と重ならないようにスリットの位置を決定し、検出された欠陥が遮光領域および光透過領域にまたがって存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつレーザ光が照射されるカラーフィルタの領域と遮光領域との重なり領域が最小になるようにスリットの位置を決定する。第３のステップにおいては、決定された位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。

好ましくは、第２のステップにおいては、さらに、検出された欠陥が遮光領域および光透過領域にまたがって存在する場合には、検出された欠陥のうちの遮光領域における欠陥の大きさと光透過領域における欠陥の大きさとを比較し、第３のステップにおいては、遮光領域および光透過領域のうち、欠陥の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、カラーフィルタにおける決定された領域に選択した色のインクを塗布する。

好ましくは、カラーフィルタは、遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有する。スリットは、第１の光透過領域および第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有する。第２のステップにおいては、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域および１つの光透過領域と重なるようにスリットの位置を決定する。

好ましくは、カラーフィルタは、遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有する。第３のステップにおいては、第１の光透過領域および第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有するカラーフィルタの領域にインクを塗布する。第２のステップにおいては、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、インクが塗布されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域および１つの光透過領域と重なるようにインクを塗布する位置を決定する。第３のステップにおいては、決定された位置において、カラーフィルタの領域にインクを塗布する。

好ましくは、第２のステップにおいては、検出された欠陥の位置に基づいてスリットの第１の位置を決定し、検出された欠陥の全領域が光透過領域に存在する場合には、第１の位置におけるスリットを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域と遮光領域との重なり領域に基づいて第１の位置を補正することによりスリットの第２の位置を決定する。第３のステップにおいては、第２の位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。

好ましくは、第２のステップにおいては、検出された欠陥の位置に基づいてスリットの第１の位置を決定し、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、第１の位置におけるスリットを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域と光透過領域との重なり領域に基づいて第１の位置を補正することによりスリットの第２の位置を決定する。第３のステップにおいては、第２の位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。

本発明によれば、カラーフィルタの欠陥修正を適切に行なうことができる。

以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。

［構成および基本動作］
図１は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置の構成を示す外観図である。

図１を参照して、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１は、ホストコンピュータ１と、制御用コンピュータ（制御部）２と、画像処理部３と、Ｚ軸ステージ４と、ＸＹテーブル５と、チャック台６と、レーザ照射部７と、可変スリット部８と、インク塗布部９と、モニタ１０と、対物レンズ２１とを備える。レーザ照射部７と、可変スリット部８と、インク塗布部９とは、修正処理部５０を構成する。Ｚ軸ステージ４と、ＸＹテーブル５とは、位置決め機構５１を構成する。可変スリット部８は、後述するＸＹスリット機構６１と、θスリット機構６２とを含む。

ホストコンピュータ１は、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１全体の制御を行なう。
制御用コンピュータ２は、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１に実装されている各ユニットを制御する。

画像処理部３は、図示しないＣＣＤ（Charge Coupled Devices）カメラでカラーフィルタを撮影し、撮影した画像に基づいてカラーフィルタの欠陥箇所を検出する。

また、画像処理部３は、欠陥検出結果に基づいて、２値化された欠陥抽出画像を生成し、２値化された正常時のマスク画像と欠陥抽出画像との論理積に基づいてカラーフィルタのブラックマトリックス領域における欠陥およびカラーフィルタ領域における欠陥を判別する。

位置決め機構５１は、カラーフィルタの位置を変更する。すなわち、Ｚ軸ステージ４は、ＸＹテーブル５に対する修正処理部５０の高さを変更する。ＸＹテーブル５は、カラーフィルタの水平方向の位置を変更する。

チャック台６は、修正対象であるカラーフィルタ等が載せられて固定される台である。
レーザ照射部７は、可変スリット部８の形成するスリットを介してカラーフィルタにおける１個以上の画素にレーザ光を照射する。

ここで、制御用コンピュータ２は、レーザ光の１回当たりの照射範囲を１個以上保存する図示しない記憶部を含む。記憶部は、たとえばカラーフィルタの種類ごとにレーザ光の１回当たりの照射範囲を保存する。

また、制御用コンピュータ２は、画像処理部３の欠陥検出結果に基づいてＸＹテーブル５およびＺ軸ステージ４を制御して、カラーフィルタに対するレーザ光の照射位置およびインクの塗布位置をそれぞれ少なくとも１箇所決定する。

可変スリット部８は、画像処理部３の欠陥検出結果に基づいて、記憶部に保存された１個以上の照射範囲から１個の照射範囲を選択し、選択したレーザ光の照射範囲に基づいてスリットの形状および大きさを調整することにより、レーザ照射部７からのレーザ光のカラーフィルタにおける照射範囲を調整する。ここで、可変スリット部８のスリットサイズすなわち記憶部の保存するレーザ光の１回当たりの照射範囲は、カラーフィルタの絵素より小さくすることが可能である。ＸＹスリット機構６１は、スリットの縦横サイズを調整する。θスリット機構６２は、スリットの角度を調整する。

インク塗布部９は、欠陥を修正するためのインクをカラーフィルタにおける１個以上の画素に塗布する。ここで、インク塗布部９の１回当たりのインク塗布範囲は、カラーフィルタの絵素より小さく設定することが可能である。

モニタ１０は、画像処理部３の撮影したカラーフィルタの画像を表示する。
図２は、ＸＹスリット機構の構成を示す図である。

図２を参照して、ＸＹスリット機構６１は、Ｘ方向サイズ調整用モータ３１と、Ｙ方向サイズ調整用モータ３２とを含む。

図３は、ＸＹスリット機構に含まれるＸ方向の調整機構の構成を示す外観平面図である。

図３を参照して、Ｘ方向サイズ調整用モータ３１が駆動されて軸３２が回転すると、回転方向に応じて開閉部３３〜３４がそれぞれ矢印の方向に移動する。たとえば、Ｘ方向サイズ調整用モータ３１が一方の方向に回転すると開閉部３３〜３４は互いに離れていき、他方の方向に回転すると開閉部３３〜３４は近づく。

図４は、θスリット機構の構成を示す外観平面図である。
図４を参照して、θスリット機構６２は、回転角度調整用モータ３５と、ベルト３６と、回転テーブル３７とを含む。回転角度調整用モータ３５は、ベルト３６を駆動して回転テーブル３７を回転させる。ＸＹスリット機構６１は、θスリット機構６２の回転中心Ｃ２と図２に示すＸＹスリット機構６１の中心Ｃ１とが一致するように回転テーブル３７上に配置され、組みつけられる。

図５は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置のインク塗布部の構成を示す外観図である。

図５を参照して、インク塗布部９は、インク塗布用位置決めシリンダ１１と、インクタンクテーブル１２と、インクタンク１３と、インク塗布用針１４とを含む。

インク塗布用位置決めシリンダ１１は、インク塗布用針１４の上下方向の位置決めを行なう。

インクタンクテーブル１２は、インクタンク１３の周方向の位置決めを行なう。
インク塗布用針１４は、インク塗布用位置決めシリンダ１１の下端部に取り付けられる。インク塗布動作の際にはインク塗布用位置決めシリンダ１１が下降してインク塗布用針１４が塗布面に接触し、インク塗布用針１４の先端に付着したインクがカラーフィルタの欠陥箇所に塗布される。塗布後は、インクをインク塗布用針１４の先端部に付着させるため、インク塗布用針１４がインクタンクテーブル１２に設置されたインクタンク１３に浸される。

なお、インク塗布部９は、上記のようにシリンダ１１およびインクタンクテーブル１２等を含む構成に限定されるものではなく、たとえば以下のような構成とすることができる。すなわち、インク塗布部は、先端に付着した修正液を欠陥に付着させるための塗布針を含む。また、欠陥を観察する観察光学系の視野外の所定位置に設けられ、修正液を保持する塗布パレットを含む。また、塗布針をカラーフィルタに平行なＸＹ平面内で移動させるとともにカラーフィルタに垂直なＺ方向に移動させ、観察光学系の視野内またはその近傍の塗布待機位置と塗布パレット近傍の準備位置とのうちのいずれかの位置に塗布針を位置させるアクチュエータを含む。

図６は、カラーフィルタにおけるブラックマトリックス領域、カラーフィルタ領域および絵素の関係を示す図である。

図６を参照して、修正対象であるカラーフィルタは、格子状に形成されたブラックマトリックス領域（遮光領域）と、ブラックマトリックス領域に隣接し、かつ囲まれたカラーフィルタ領域（光透過領域）とを含む。

また、カラーフィルタは、複数個のカラーフィルタ領域からなり、それぞれを絵素と呼ぶ。画像処理部３の欠陥検出処理では、絵素を次のように定義する。縦横に形成されているブラックマトリックス領域の交差位置に、絵素の始まりＤＳおよび絵素の終わりＤＥが存在する。また、絵素の始まりＤＳをカラーフィルタの位置と称する。画像処理部３はこのカラーフィルタの位置を特定する。また、図６において四角で囲まれた絵素の始まりＤＳから絵素の終わりＤＥまでの範囲が１個の絵素Ｐとなる。また、画像を、閾値Ｔよりも明るい画素を１、暗い画素を０として２値化したとき、絵素Ｐにおける値１の画素の集合が絵素Ｐのカラーフィルタ領域であり、値０（図６のハッチング部分）の画素の集合が絵素Ｐのブラックマトリックス領域である。また、各絵素ＰはそれぞれＲＧＢ（Red, Green, Blue）のうちのいずれかの色を有し、１つの絵素Ｐのカラーフィルタ領域に含まれる各画素は同一色を有する。

［動作］
次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置における画像処理部３がカラーフィルタの欠陥箇所を検出する際の動作について説明する。

図７は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置がカラーフィルタの１つの欠陥を修正する際の動作手順を定めたフローチャートである。

ここでは、カラーフィルタがチャック台６に載せられており、カラーフィルタの傾き等の位置補正が完了していると仮定して説明する。また、検査データ、すなわちカラーフィルタにおける欠陥の座標値、カラーフィルタの面積値、カラーフィルタのサイズ種別（大、中、小など）および欠陥種別等のデータを、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１が上位コンピュータから収集していると仮定して説明する。

制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御して、修正処理部５０がカラーフィルタの欠陥を修正できる位置にカラーフィルタを移動する。また、制御用コンピュータ２は、カラーフィルタの欠陥検出が行なえるように、図示しない照明部の明るさを調整し、対物レンズ２１を所定の倍率に切り替える（Ｓ１）。

画像処理部３は、カラーフィルタに焦点を合わせるために、対物レンズ２１のフォーカス調整を行なう（Ｓ２）。

画像処理部３は、検査対象であるカラーフィルタを撮影し、撮影した入力画像を取り込み、入力画像における画素の明るさに基づいてカラーフィルタの欠陥箇所を検出する（Ｓ３およびＳ４）。

画像処理部３は、欠陥検出結果に基づいて欠陥の重心位置を算出する。制御用コンピュータ２は、画像処理部３の算出した欠陥の重心位置に基づいてセンタリングを行なう、すなわち欠陥の重心位置が入力画像の中心に位置するように位置決め機構５１を制御する（Ｓ５）。

制御用コンピュータ２は、繰り返し回数Ｔｒｙ＝１とする（Ｓ６）。
画像処理部３は、繰り返し回数Ｔｒｙが最大繰り返し回数Ｍａｘ以下である場合には（Ｓ７でＹＥＳ）、精密な欠陥位置を求めるために、対物レンズ２１を高倍率に切り替える（Ｓ８）。

画像処理部３は、カラーフィルタに焦点を合わせるために、対物レンズ２１のフォーカス調整を行なう（Ｓ９）。

画像処理部３は、検査対象であるカラーフィルタを撮影し、撮影した入力画像を取り込む（Ｓ１０）。

画像処理部３は、繰り返し回数Ｔｒｙが１である場合には（Ｓ１１でＹＥＳ）、取り込んだ入力画像を修正前の入力画像として保存する（Ｓ１２）。

画像処理部３は、繰り返し回数Ｔｒｙが２以上である場合には（Ｓ１１でＮＯ）、取り込んだ入力画像を修正後の入力画像として保存する（Ｓ１３）。

画像処理部３は、取り込んだ入力画像における画素の明るさに基づいてカラーフィルタの欠陥箇所を検出する（Ｓ１４）。

画像処理部３は、取り込んだ入力画像において欠陥を検出した場合（Ｓ１５でＹＥＳ）には、欠陥箇所に対応する絵素の色判定を行なって塗布するインクの色を求め、また、インクの塗布位置を算出する。また、画像処理部３はレーザ光の照射位置を算出する（Ｓ１６）。

制御用コンピュータ２は、対物レンズ２１を所定の倍率に切り替える。また、画像処理部３は、カラーフィルタに焦点を合わせるために、対物レンズ２１のフォーカス調整を行なう（Ｓ１７）。

修正処理部５０は、画像処理部３が算出した修正位置等に基づいてカラーフィルタに対するレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なう（Ｓ１８）。

制御用コンピュータ２は、繰り返し回数Ｔｒｙに１を加える（Ｓ１９）。
画像処理部３は、繰り返し回数Ｔｒｙが最大繰り返し回数Ｍａｘ以下である場合には（Ｓ７でＹＥＳ）、修正後の入力画像に対して再び欠陥検出処理を行なう（Ｓ８〜Ｓ１４）。

そして、画像処理部３は、修正後の入力画像において欠陥を検出した場合（Ｓ１５でＹＥＳ）には、再び欠陥修正処理を行なう（Ｓ１６〜Ｓ１８）。

一方、画像処理部３は、修正後の入力画像において欠陥が検出されない場合（Ｓ１５でＮＯ）であって、繰り返し回数Ｔｒｙが２以上であるとき（Ｓ２１でＮＯ）には、今回の欠陥の修正に成功したと判断し、たとえば再びステップＳ１に戻って別の欠陥の修正を行なう（Ｓ２３）。

また、画像処理部３は、修正後の入力画像において欠陥が検出されない場合（Ｓ１５でＮＯ）であって、繰り返し回数Ｔｒｙが１であるとき（Ｓ２１でＹＥＳ）には、カラーフィルタに欠陥が存在しているかどうかが不明であると判断し、たとえば再びステップＳ１に戻って別の欠陥の修正を行なう（Ｓ２０）。

また、制御用コンピュータ２は、繰り返し回数Ｔｒｙが最大繰り返し回数Ｍａｘを超える場合には（Ｓ７でＮＯ）欠陥修正不可と判断し、たとえば再びステップＳ１に戻って別の欠陥の修正を行なう（Ｓ２０）。

以下、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置の動作を詳細に説明する。

［２値化入力画像の生成］
まず、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が２値化入力画像を生成する際の動作について説明する。

図８は、入力画像および２値化入力画像を示す図である。
画像処理部３は、カラーフィルタを撮影し、撮影した入力画像に基づいて２値化入力画像を生成し、入力画像をブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦに分離する。入力画像の位置（ｘ，ｙ）における画素の明るさをｆ（ｘ，ｙ）とし、２値化入力画像をｂ（ｘ，ｙ）とし、しきい値をＴとすると、ｆ（ｘ，ｙ）からｂ（ｘ，ｙ）への変換式は以下の式で表わされる。

ｂ（ｘ，ｙ）で表わされる複数個の画素のうち、明るさ１の画素がカラーフィルタ領域ＣＦであり、明るさ０の画素がブラックマトリックス領域ＢＭである。

ここで、ブラックマトリックス領域ＢＭの明るさの平均値をＩＢＭとし、カラーフィルタ領域ＣＦの画素ＲＧＢのうち、最も暗い画素の明るさの平均値をＩＣＦとすると、しきい値Ｔは以下の式で表わされる。

［カラーフィルタ領域のマスク画像の生成］
次に、画像処理部３が、生成した２値化入力画像に基づいてカラーフィルタ領域のマスク画像を生成する動作について説明する。

図９（ａ）は、登録画像を示す図である。（ｂ）は、２値化入力画像を示す図である。（ｃ）は、カラーフィルタ領域のマスク画像を示す図である。

画像処理部３は、パターンマッチングにより、画像上のＲＧＢ各絵素の位置を検出する。

画像処理部３は、欠陥のない理想的なカラーフィルタを予め撮影し、登録画像ｍ（ｘ，ｙ）として記憶する。

画像処理部３は、登録画像ｍ（ｘ，ｙ）から、２値化入力画像ｂ（ｘ，ｙ）と同様に閾値Ｔを用いて、カラーフィルタ領域が１（白）であり、それ以外が０（黒）である２値化登録画像を生成する。

画像処理部３は、２値化登録画像におけるサーチ対象Ｓおよびカラーフィルタ領域ＣＦの座標を予め登録している。より詳細には、画像処理部３は、サーチ対象Ｓについては左上端の座標と縦横サイズとを登録し、また、カラーフィルタ領域ＣＦについては端点の座標を登録している。

また、画像処理部３は、サーチ対象Ｓとカラーフィルタ領域との位置関係を予め求めている。サーチ対象Ｓの左上端座標を（ｘｓ，ｙｓ）とし、カラーフィルタ領域ＣＦの各端点の座標を（ｘｉ，ｙｉ）とすると、サーチ対象Ｓおよびカラーフィルタ領域ＣＦの位置関係は、（ｘｉ−ｘｓ，ｙｉ−ｙｓ）となる。

そして、画像処理部３は、２値化入力画像ｂ（ｘ，ｙ）からサーチ対象Ｓと類似の部位をパターンマッチングによってサーチし、サーチ対象Ｓと類似の部位の左上端座標を求める。また、画像処理部３は、登録時に求めたサーチ対象Ｓおよびカラーフィルタ領域ＣＦの位置関係から、サーチ対象Ｓと類似の部位に対応するカラーフィルタ領域ＣＦの位置を検出する。

図９（ｂ）の点線で示すように、カラーフィルタに欠陥が発生していてサーチ対象Ｓと類似の部位を検出できない場合には、画像処理部３は、欠陥箇所の周囲の検出結果を用いてサーチ対象Ｓと類似の部位の左上端座標を推定する。

以上のような処理により、画像処理部３は、カラーフィルタ領域ＣＦの各端点の座標を明確にしてカラーフィルタ領域を白とし、背景部を黒とするカラーフィルタ領域のマスク画像を作成する。このような構成により、マスク画像を単に登録画像から生成する構成と比べて、位置決め誤差等によるマスク画像のずれを最小限にすることができる。

また、ＲＧＢ各画素の明るさは異なるため、サーチ対象Ｓと類似の部位を濃淡パターンマッチングによってサーチする際には、通常、色ごとに参照用の登録画像を用意しないと誤認識の可能性が高くなる。しかしながら、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、画像処理部３が、撮影した入力画像に基づいて２値化入力画像を生成し、２値化入力画像に基づいてカラーフィルタ領域のマスク画像を生成する構成により、参照用の登録画像を１種類のみ用意すればよく、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１の構成および処理の簡易化を図ることができる。

［欠陥検出］
次に、画像処理部３が、入力画像を検査して欠陥箇所を検出する際の動作について説明する。

図１０（ａ）および（ｂ）は、画像処理部が入力画像の水平方向に欠陥検出を行なう際の動作を示す図である。

画像処理部３は、カラーフィルタの絵素の明るさに基づいて欠陥箇所を検出する。より詳細には、画像処理部３は、周期的に、すなわち等間隔で配置されている絵素の間隔をＰとすると、入力画像における位置（ｘ，ｙ）の明るさｆ（ｘ，ｙ）に対して、以下のように比較検査を行なう。

上記のように、画像処理部３は、明るさｆ（ｘ，ｙ）と、１周期前の明るさｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）および１周期後の明るさｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）とを比較する。

ここで、ｓ-p（ｘ，ｙ）はｆ（ｘ，ｙ）とｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）との比較結果を、ｓ+p（ｘ，ｙ）はｆ（ｘ，ｙ）とｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）との比較結果を示す。

画像処理部３は、ｓ-p（ｘ，ｙ）およびｓ+p（ｘ，ｙ）の符号が一致している場合にｓH（ｘ，ｙ）をスライスレベルＴｄと比較する。また、画像処理部３は、ｓ-p（ｘ，ｙ）
およびｓ+p（ｘ，ｙ）の符号が一致していない場合には、位置（ｘ−Ｐ，ｙ）または位置（ｘ＋Ｐ，ｙ）における画素に欠陥がある可能性が高く、検査の信頼性が低いため、位置（ｘ，ｙ）を検査対象から除外する。このような構成により、入力画像のノイズによる欠陥検出の誤りを防ぐことができる。

そして、画像処理部３は、ｓH（ｘ，ｙ）がＴｄ以上の場合は位置（ｘ，ｙ）における
画素を欠陥と判断し、結果をｄH（ｘ，ｙ）に格納する。ｄH（ｘ，ｙ）において、値１の画素は欠陥であることを、値０の画素は正常であることを示す。

なお、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、画像処理部３は、明るさｆ（ｘ，ｙ）と、１周期前の明るさｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）および１周期後の明るさｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）とを比較する構成であるとしたが、これに限定するものではない。画像処理部３が、たとえば明るさｆ（ｘ，ｙ）と、２周期前の明るさｆ（ｘ−２×Ｐ，ｙ）および３周期後の明るさｆ（ｘ＋３×Ｐ，ｙ）とを比較する等、位置（ｘ，ｙ）の画素の明るさと、位置（ｘ，ｙ）の画素が属する絵素とは異なる絵素に属する画素の明るさとを比較する構成であってもよい。

また、位置（ｘ，ｙ）の画素の明るさと、位置（ｘ，ｙ）の画素以外の画素の明るさとを比較する、すなわち同じ絵素に属する画素同士の明るさを比較する構成とすることも可能である。ただし、位置（ｘ，ｙ）の画素の明るさと、位置（ｘ，ｙ）の画素が属する絵素とは異なる絵素に属する画素の明るさとを比較する構成では、欠陥検出対象の画素と比較される画素が正常である可能性が高いため、より正確に画素の欠陥を検出することができ、好ましい構成であるといえる。

図１１（ａ）および（ｂ）は、画像処理部が入力画像の垂直方向に欠陥検出を行なう際の動作を示す図である。

画像処理部３は、周期的に、すなわち等間隔で配置されている絵素の間隔をＰとすると、入力画像における位置（ｘ，ｙ）の明るさｆ（ｘ，ｙ）に対して、以下のように比較検査を行なう。

上記のように、画像処理部３は、明るさｆ（ｘ，ｙ）と、１周期前の明るさｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）および１周期後の明るさｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）とを比較する。

ここで、ｓ-p（ｘ，ｙ）はｆ（ｘ，ｙ）とｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）との比較結果を、ｓ+p（ｘ，ｙ）はｆ（ｘ，ｙ）とｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）との比較結果を示す。

画像処理部３は、ｓ-p（ｘ，ｙ）およびｓ+p（ｘ，ｙ）の符号が一致している場合にｓV（ｘ，ｙ）をスライスレベルＴｄと比較する。

そして、画像処理部３は、ｓV（ｘ，ｙ）がＴｄ以上の場合は位置（ｘ，ｙ）における
画素を欠陥と判断し、結果をｄV（ｘ，ｙ）に格納する。ｄV（ｘ，ｙ）において、値１の画素は欠陥であることを、値０の画素は正常であることを示す。

次に、画像処理部が入力画像の水平方向および垂直方向の両方に欠陥検出を行なう際の動作について説明する。

画像処理部３は、水平方向および垂直方向の明るさｆ（ｘ，ｙ）と、１周期前の明るさｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）および１周期後の明るさｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）との比較結果を用いて次のように欠陥検出を行なう。

画像処理部３は、ｓH（ｘ，ｙ）またはｓV（ｘ，ｙ）がＴｄ以上の場合は位置（ｘ，ｙ）における画素を欠陥と判断し、結果をｄHV（ｘ，ｙ）に格納する。ｄHV（ｘ，ｙ）において、値１の画素は欠陥であることを、値０の画素は正常であることを示す。

上記各欠陥検出方法の使用例としては、入力画像において複数個の絵素が水平方向に配置されており、かつ垂直方向には１絵素しか配置されていない場合には、入力画像の水平方向に欠陥検出を行なう方法を採用する。また、入力画像において複数個の絵素が垂直方向に配置されており、かつ水平方向には１絵素しか配置されていない場合には、入力画像の垂直方向に欠陥検出を行なう方法を採用する。また、入力画像においてそれぞれ２個以上の絵素が垂直方向および水平方向に配置されている場合には、入力画像の水平方向および垂直方向の両方に欠陥検出を行なう方法を採用する。これら３つの欠陥検出方法は、欠陥検出検査で使用する対物レンズ２１の倍率および絵素のサイズに応じて選択される。

次に、画像処理部３が黒欠陥のスライスレベルＴｄを決定する際の動作について説明する。

図１２（ａ）および（ｂ）は、ブラックマトリックス領域、ＲＧＢ各画素および黒欠陥のスライスレベルＴｄの関係を示す図である。

ブラックマトリックス領域の明るさをＩＢＭとし、ＲＧＢ各画素の明るさをＩＲ、ＩＧ、ＩＢとする。ＩＢＭを基準としたとき、ＩＲ、ＩＧ、ＩＢの各コントラスト値は以下の式で表わされる。

画像処理部３は、ブラックマトリックス領域が最も暗いのでｍｉｎ（ＣＲ，ＣＧ，ＣＢ）より小さい値をスライスレベルＴｄとして選択する。

ここで、カラーフィルタにおいては、隣接する絵素におけるカラーフィルタ領域の明るさは等しくない。観察光学系にもよるが、一般的にＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラは緑の波長に対する感度が最も高い。このため、緑の絵素が入力画像において最も明るく見え、続いて赤、青という順序になる。

前述した入力画像の水平方向、垂直方向ならびに水平方向および垂直方向の両方にそれぞれ欠陥検出を行なう方法では、隣接する絵素のカラーフィルタ領域の明るさを比較するため、異なる明るさ同士を比較することになる。しかしながら、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置は、スライスレベルＴｄをｍｉｎ（ＣＲ，ＣＧ，ＣＢ）より小さい値とする構成であるため、異なる明るさ同士を比較する場合でも、欠陥検出を正確に行なうことができる。

なお、視野が広い場合、すなわち画像処理部３の１回の撮影面積が大きい場合には、同一色に対応する３つおきの絵素におけるカラーフィルタ領域の明るさを比較する構成であってもよい。

次に、画像処理部３が白欠陥のスライスレベルＴｄを決定する際の動作について説明する。

図１３（ａ）および（ｂ）は、ブラックマトリックス領域、ＲＧＢ各画素および白欠陥のスライスレベルＴｄの関係を示す図である。

白欠陥部の明るさをＩＷＨとし、ＲＧＢ各画素の明るさをＩＲ、ＩＧ、ＩＢとする。ＩＷＨを基準としたとき、ＩＲ、ＩＧ、ＩＢの各コントラスト値は以下の式で表わされる。

画像処理部３は、白欠陥部が最も明るくなるのでｍｉｎ（ＣＲ，ＣＧ，ＣＢ）より小さい値をスライスレベルＴｄとして選択する。

図１４（ａ）は、欠陥の存在するカラーフィルタの入力画像を示す図である。（ｂ）は、画像処理部が生成した黒欠陥抽出画像を示す図である。

図１４（ａ）を参照して、カラーフィルタには、黒欠陥および白欠陥が混在している。画像処理部３は、黒欠陥のスライスレベルＴｄを用いて黒欠陥を検出し、図１４（ｂ）に示すような２値化された黒欠陥抽出画像を生成する。

図１５（ａ）は、欠陥の存在するカラーフィルタの入力画像を示す図である。（ｂ）は、画像処理部が生成した白欠陥抽出画像を示す図である。

図１５（ａ）を参照して、カラーフィルタには、黒欠陥および白欠陥が混在している。画像処理部３は、白欠陥のスライスレベルＴｄを用いて白欠陥を検出し、図１５（ｂ）に示すような２値化された白欠陥抽出画像を生成する。

このように、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、カラーフィルタにおいて黒欠陥および白欠陥が混在している場合にも、黒欠陥および白欠陥を区別して検出することができる。

ところで、白欠陥は、ブラックマトリックス領域における白欠陥およびカラーフィルタ領域における白欠陥の２種類が存在する。たとえばブラックマトリックス領域における白欠陥に対しては、インクを塗布して抜けの部分を埋めて修正を行なうが、インクの塗布範囲をブラックマトリックス領域の幅に合わせることはできない。これは、インク塗布針のサイズを白欠陥のサイズに合わせて変更することができないからである。また、異なる径を有する複数個の針をカラーフィルタ欠陥修正装置１０１が備える構成とすることは可能であるが、あらゆる白欠陥を網羅することはできない。

このため、ブラックマトリックス領域における白欠陥を修正する際にインクを塗布するとはみ出しが発生する。すなわち、ブラックマトリックス領域にインクを塗布するとカラーフィルタ領域にはみ出すことになり、インクがはみ出した部分はカラーフィルタ領域の黒欠陥となる。そうすると、このカラーフィルタ領域における黒欠陥を検出し、レーザ光を照射して黒欠陥を除去し、黒欠陥を除去した部分にインクを塗布する必要が生じる。

カラーフィルタ領域における白欠陥を修正した後でブラックマトリックス領域における白欠陥を修正すると、上記のようにカラーフィルタ領域にはみ出したインク、すなわち黒欠陥を除去し、黒欠陥を除去した部分に再度インクを塗布する必要が生じ、欠陥修正時間が増大してしまう。したがって、修正順序としては、ブラックマトリックス領域における白欠陥を修正した後でカラーフィルタ領域における白欠陥を修正する順序が好ましい。

なお、カラーフィルタ領域における白欠陥を修正した際にインクがブラックマトリックス領域にはみ出す場合があるが、ブラックマトリックス領域にはみ出したインクはカラーフィルタを通過すべき光をさえぎらないため、大きな問題にはならない。

そこで、画像処理部３は、ブラックマトリックス領域における白欠陥およびカラーフィルタ領域における白欠陥を判別し、ブラックマトリックス領域における白欠陥を修正した後でカラーフィルタ領域における白欠陥を修正する。

図１６は、画像処理部がカラーフィルタ領域における白欠陥抽出画像を生成する動作を示す図である。図１７は、画像処理部がブラックマトリックス領域における白欠陥抽出画像を生成する動作を示す図である。

カラーフィルタ領域のマスク画像は、カラーフィルタ領域が１であり、ブラックマトリックス領域を含むカラーフィルタ領域以外の部分が０の２値化された画像である。また、白欠陥抽出画像は、欠陥部分が１であり、欠陥部分以外の部分が０の２値化された画像である。したがって、画像処理部３は、カラーフィルタ領域のマスク画像と白欠陥抽出画像との論理積を演算することにより、カラーフィルタ領域における白欠陥抽出画像を生成する。また、画像処理部３は、カラーフィルタ領域のマスク画像の論理レベルを反転した画像と白欠陥抽出画像との論理積を演算することにより、ブラックマトリックス領域における白欠陥抽出画像を生成する。

［センタリング］
次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置における制御用コンピュータ２がセンタリングを行なう際の動作について説明する。

図１８は、画像処理部が欠陥マスク画像を生成する動作を示す図である。
図１８を参照して、画像処理部３は、前述のように黒欠陥抽出画像および白欠陥抽出画像を生成し、両者の論理和を演算することにより、欠陥マスク画像を生成する。

そして、画像処理部３は、欠陥マスク画像において値が１である部分（図１８においてハッチングのない部分）の重心位置を計算する。

すなわち、画像処理部３は、欠陥マスク画像において、値１の画素の総数をＮとし、値１の画素ｉの座標を（Ｘｉ，Ｙｉ）とすると、欠陥部位の重心座標（ＸＧ，ＹＧ）を次の式に基づいて算出する。

そして、制御用コンピュータ２は、画像処理部３の算出結果に基づいて、欠陥部位の重心座標（ＸＧ，ＹＧ）が画面中心に一致するように位置決め機構５１を制御する。

［色判定］
次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を含む絵素の色判定を行なう際の動作について説明する。

図１９は、欠陥抽出画像の一例を示す図である。
生成したカラーフィルタ領域のマスク画像から各絵素におけるカラーフィルタ領域の位置が明らかになっているため、画像処理部３は、各絵素のカラーフィルタ領域の位置と欠陥抽出画像とを照合することにより、欠陥ＥＲＲを含む絵素ＰＥＲＲを特定する。より詳細には、画像処理部３は、欠陥の位置情報として欠陥に外接する長方形Ｒの頂点座標を求め、この長方形Ｒを含む絵素（以下、欠陥絵素とも称する）を検出する。

次に、画像処理部３は、予め登録されている色情報と欠陥絵素ＰＥＲＲの色情報とを比較し、欠陥絵素の色を特定する。

より詳細には、画像処理部３に、予めＲＧＢ各絵素の色相代表値を登録しておく。ＲＧＢそれぞれの色相代表値をＨＲ、ＨＧ、ＨＢとすると、ＨＲ、ＨＧ、ＨＢは以下の式で表わされる。

式（Ｄ１）において、Ｈｍ（ｘ，ｙ）は色相値を表わし、登録画像ｍ（ｘ，ｙ）におけるＲＧＢ値から後述する変換式により求められる。また、（ｘ1，ｙ1）は測定領域の左上端座標であり、（ｘ2，ｙ2）は測定領域の右下端座標を示す。つまり、ＨＲ、ＨＧ、ＨＢは測定領域内の色相平均値である。

図２０は、ＲＧＢ各絵素の色相ヒストグラムを示す図である。
図２０を参照して、実際にはＲＧＢ各絵素の色相値はそれぞれＨＲ、ＨＧ、ＨＢを中心として分布しているので、画像処理部３は、ＲＧＢ各絵素の色相代表値を（ＨＲ±ｒＲ）、（ＨＧ±ｒＧ）、（ＨＢ±ｒＢ）として保持する。ｒＲ、ｒＧ、ｒＢは、ＨＲ、ＨＧ、ＨＢを中心とする各分布の標準偏差をσとおくとたとえば３×σである。

図２１は、画像処理部が色相情報計算マスク画像を生成する動作を示す図である。
図２１を参照して、画像処理部３は、欠陥抽出画像とカラーフィルタ領域マスク画像との排他的論理和を演算することにより、色相情報計算マスク画像を生成する。

画像処理部３は、色相情報計算マスク画像において値１（図２１においてハッチングのない部分）の画素についてのみ色相値を計算する。画像処理部３は、ブラックマトリックス領域と同じ値０である欠陥部分は色相値が不明であるため、計算対象外とする。

生成したカラーフィルタ領域のマスク画像から各絵素のカラーフィルタ領域の位置が明らかになっているため、画像処理部３は、各カラーフィルタ領域において色相情報計算マスクの値が１の画素の色相値を累算し、カラーフィルタ領域ごとに色相値の平均値を求める。そして、画像処理部３は、求めた平均値とＲＧＢ各絵素の色相代表値とを比較し、求めた平均値が最も近い色相代表値に対応する色をカラーフィルタ領域の色と決定する。

ここで、カラーフィルタ内の色相情報計算マスクがすべて０の場合は、色不定となる。
この場合は後述するように予め登録された色並び情報に基づいてカラーフィルタ領域の色を特定する。

次に、登録画像ｍ（ｘ，ｙ）におけるＲＧＢ値から色相値を算出する方法を説明する。
カラーＣＣＤカメラで撮影された画像では、色の３原色であるＲＧＢの３つの値を用いて色を表わすが、色合いおよび鮮やかさ等の感覚的な量はＲＧＢの値では分かりにくいので、人間の感覚に近い表色系が考案されている。表色系の１つとしてＨＳＶ表色系がある。ここで、Ｈは色相、Ｓは彩度、Ｖは明るさを示す。ＨＳＶ表色系はＲＧＢ値から容易に計算することができ、コンピュータによる画像処理の分野で用いられている。

ＲＧＢ値の内、最小値をｆｍｉｎとし、最大値をｆｍａｘとすると、明るさＶはＶ＝ｆｍａｘで表わされる。

また、色相Ｈおよび彩度Ｓは以下のように算出される。

［色判定の信頼度］
次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置における色判定の信頼度の算出方法および使用方法について説明する。

図２２（ａ）および（ｂ）は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置において絵素の色判定の信頼度が低い場合において行なわれる色判定の様子を示す図である。

各カラーフィルタ領域において、色判定を行う絵素のカラーフィルタ領域に相当する撮像画像上の総画素数をＮとし、色判定に用いた色相情報マスクの値１に相当する撮像画像上の画素数をＮｍとすると、絵素の色判定に対する信頼度ＲはＲ＝Ｎｍ／Ｎで表わされる。

画像処理部３は、信頼度Ｒが所定値以上の絵素については前述のカラーフィルタ領域の色相値の平均値と色相代表値との比較による色判定結果を信頼する。一方、画像処理部３は、信頼度Ｒが所定値未満の絵素については、予め登録されている色並び情報と照合し、色並び情報に対して矛盾がある場合は色判定結果を訂正する。

ここで、色並び情報は論理的なものであり、たとえばカラーフィルタの入力画像の横方向がＲＧＢという配列になっているのであれば(ＲＧＢ)という並び順を記憶しておく。色並び情報は、たとえばカラーフィルタ欠陥修正装置１０１に設定するレシピに入力しておく。なお、レシピは、たとえば制御用コンピュータ２における記憶部に保存される。

まず、図２２（ａ）に示すように、入力画像の横方向においてＲＧＢ各絵素が（ＲＧＢ）の順でストライプ状に配列されている場合について説明する。画像処理部３は、入力画像の左上から右下に向かって絵素を走査していき、信頼度Ｒの低い絵素（図２２（ａ）のＤ１）が出現した場合、信頼度Ｒが低い絵素の手前の絵素（図２２（ａ）のＤ２）の次の絵素の色を色並び情報から検索する。そして、色並び情報から検索した色と信頼度Ｒが低い絵素の上の絵素（図２２（ａ）のＤ３）の色とが同じ場合には色並び情報から検索した色を信頼度Ｒが低い絵素の色であると決定する。また、信頼度Ｒが低い絵素の上の絵素の色が不定である場合には、信頼度Ｒが低い絵素の下の絵素（図２２（ａ）のＤ４）の色と色並び情報から検索した色とを照合する。信頼度Ｒが低い絵素の下の絵素の色が不定である場合には、信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素（図２２（ａ）のＤ５）の手前の絵素の色を色並び情報から検索し、信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素（図２２（ａ）のＤ５）の上の絵素（図２２（ａ）のＤ６）または信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素の下の絵素（図２２（ａ）のＤ７）の色と色並び情報から検索した色とを照合する。

次に、図２２（ｂ）に示すように、入力画像の縦方向においてＲＧＢ各絵素が（ＲＧＢ）の順でストライプ状に配列されている場合について説明する。画像処理部３は、入力画像の左上から右下に向かって絵素を走査していき、信頼度Ｒの低い絵素（図２２（ｂ）のＤ１）が出現した場合、信頼度Ｒが低い絵素の手前の絵素（図２２（ｂ）のＤ２）の次の絵素の色を色並び情報から検索する。そして、色並び情報から検索した色と信頼度Ｒが低い絵素の左の絵素（図２２（ｂ）のＤ３）の色とが同じ場合には色並び情報から検索した色を信頼度Ｒが低い絵素の色であると決定する。また、信頼度Ｒが低い絵素の左の絵素の色が不定である場合には、信頼度Ｒが低い絵素の右の絵素（図２２（ｂ）のＤ４）の色と色並び情報から検索した色とを照合する。信頼度Ｒが低い絵素の右の絵素の色が不定である場合には、信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素（図２２（ｂ）のＤ５）の手前の絵素の色を色並び情報から検索し、信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素（図２２（ｂ）のＤ５）の左の絵素（図２２（ｂ）のＤ６）または信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素の右の絵素（図２２（ｂ）のＤ７）の色と色並び情報から検索した色とを照合する。

次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置がカラーフィルタにおけるレーザ照射領域およびインク塗布領域を決定する際の動作について説明する。なお、レーザ照射領域およびインク塗布領域の決定は、画像処理部３の代わりに制御用コンピュータ２が行なう構成であってもよい。

以下では、たとえば、スリットＳＬの形状は四角形であり、カラーフィルタにおいて塗布されるインクの形状は円であると仮定して説明する。また、たとえば、以下に示す図の紙面横方向において、ブラックマトリックス領域ＢＭの幅をＷとし、インク塗布円ＩＡの直径をＤとし、カラーフィルタ領域ＣＦの幅をＣとし、スリットＳＬの幅をＳとすると、Ｃ≧Ｓ＞ＷかつＣ≧Ｄ＞Ｗであると仮定して説明する。

なお、インク塗布円ＩＡの直径については、通常、基板にインクを塗布すると、基板表面に付着したインクは円形状に広がっていく。そして、この円の直径を実測し、実測した直径をインク塗布円ＩＡの直径Ｄとしてカラーフィルタ欠陥修正装置１０１に使用させる。また、インク塗布およびインク塗布円ＩＡの直径の測定を繰り返し行なって、複数回測定した直径の平均値をインク塗布円ＩＡの直径Ｄとしてカラーフィルタ欠陥修正装置１０１に使用させる場合もある。

制御用コンピュータ２は、画像処理部３によるレーザ照射領域およびインク塗布領域の算出結果に基づいてレーザ照射部７、インク塗布部９および位置決め機構５１を制御して、カラーフィルタの欠陥箇所にレーザ光を照射し、また、インクを塗布する。

制御用コンピュータ２は、可変スリット部８によって形成されるスリットＳＬを初期位置に移動させる。より詳細には、画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲの位置に基づいてスリットＳＬの初期位置を決定する。たとえば、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲに外接する長方形Ｒの中心とスリットＳＬの中心とが一致するようにスリットＳＬの初期位置を決定する。そして、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬを初期位置に移動させる。

次に、画像処理部３は、初期位置におけるスリットＳＬを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域（仮レーザ照射領域）とブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦとの重なり領域に基づいてスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置、すなわち実際にレーザ光を照射する際のスリットＳＬの位置を決定する。

そして、レーザ照射部７は、最終位置におけるスリットＳＬを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。

図２３（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２３（ｂ）は、図２３（ａ）におけるＸＸＩＩＩＢ−ＸＸＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図２４（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２４（ｂ）は、図２４（ａ）におけるＸＸＩＶＢ−ＸＸＩＶＢ断面を示す断面図である。

画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭ近傍のカラーフィルタ領域ＣＦに存在する場合等、欠陥ＥＲＲの全領域がカラーフィルタ領域ＣＦに存在する場合には、スリットＳＬを介してレーザ光が照射されるカラーフィルタの領域（以下、レーザ照射領域ＲＡとも称する。）が、欠陥ＥＲＲの少なくとも一部を含み、かつブラックマトリックス領域ＢＭと重ならないようにスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置を決定する。

図２３を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの上枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌを求める。

図２４を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ下枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。

図２５（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２５（ｂ）は、図２５（ａ）におけるＸＸＶＢ−ＸＸＶＢ断面を示す断面図である。図２６（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２６（ｂ）は、図２６（ａ）におけるＸＸＶＩＢ−ＸＸＶＩＢ断面を示す断面図である。

図２５を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの左枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの左枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌを求める。

図２６を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ右枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。

図２７（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２７（ｂ）は、図２７（ａ）におけるＸＸＶＩＩＢ−ＸＸＶＩＩＢ断面を示す断面図である。図２８（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２８（ｂ）は、図２８（ａ）におけるＸＸＶＩＩＩＢ−ＸＸＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。

図２７を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの下枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌを求める。

図２８を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ上枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。

図２９（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２９（ｂ）は、図２９（ａ）におけるＸＸＩＸＢ−ＸＸＩＸＢ断面を示す断面図である。図３０（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３０（ｂ）は、図３０（ａ）におけるＸＸＸＢ−ＸＸＸＢ断面を示す断面図である。

図２９を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの右枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの右枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌを求める。

図３０を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ左枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。

図３１（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３１（ｂ）は、図３１（ａ）におけるＸＸＸＩＢ−ＸＸＸＩＢ断面を示す断面図である。図３１（ｃ）は、図３１（ａ）におけるＸＸＸＩＣ−ＸＸＸＩＣ断面を示す断面図である。図３２（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３２（ｂ）は、図３２（ａ）におけるＸＸＸＩＩＢ−ＸＸＸＩＩＢ断面を示す断面図である。図３２（ｃ）は、図３２（ａ）におけるＸＸＸＩＩＣ−ＸＸＸＩＩＣ断面を示す断面図である。

図３１を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの上枠側の領域および左枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの左枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ２とを求める。

図３２を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ下枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ右枠側へ移動させる。これにより、スリットＳＬの最終位置とブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。

図３３（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３３（ｂ）は、図３３（ａ）におけるＸＸＸＩＩＩＢ−ＸＸＸＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図３３（ｃ）は、図３３（ａ）におけるＸＸＸＩＩＩＣ−ＸＸＸＩＩＩＣ断面を示す断面図である。図３４（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３４（ｂ）は、図３４（ａ）におけるＸＸＸＩＶＢ−ＸＸＸＩＶＢ断面を示す断面図である。図３４（ｃ）は、図３４（ａ）におけるＸＸＸＩＶＣ−ＸＸＸＩＶＣ断面を示す断面図である。

図３３を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの下枠側の領域および右枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの右枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ２とを求める。

図３４を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ上枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ左枠側へ移動させる。これにより、スリットＳＬの最終位置とブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。

図３５（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３５（ｂ）は、図３５（ａ）におけるＸＸＸＶＢ−ＸＸＸＶＢ断面を示す断面図である。図３５（ｃ）は、図３５（ａ）におけるＸＸＸＶＣ−ＸＸＸＶＣ断面を示す断面図である。図３６（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３６（ｂ）は、図３６（ａ）におけるＸＸＸＶＩＢ−ＸＸＸＶＩＢ断面を示す断面図である。図３６（ｃ）は、図３６（ａ）におけるＸＸＸＶＩＣ−ＸＸＸＶＩＣ断面を示す断面図である。

図３５を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの上枠側の領域および右枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの右枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ２とを求める。

図３６を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ下枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ左枠側へ移動させる。これにより、スリットＳＬの最終位置とブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。

図３７（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３７（ｂ）は、図３７（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＢ−ＸＸＸＶＩＩＢ断面を示す断面図である。図３７（ｃ）は、図３７（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＣ−ＸＸＸＶＩＩＣ断面を示す断面図である。図３８（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３８（ｂ）は、図３８（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＩＢ−ＸＸＸＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図３８（ｃ）は、図３８（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＩＣ−ＸＸＸＶＩＩＩＣ断面を示す断面図である。

図３７を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの下枠側の領域および左枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの左枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ２とを求める。

図３８を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ上枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ右枠側へ移動させる。これにより、スリットＳＬの最終位置とブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。

図３９（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３９（ｂ）は、図３９（ａ）におけるＸＸＸＩＸＢ−ＸＸＸＩＸＢ断面を示す断面図である。図４０（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４０（ｂ）は、図４０（ａ）におけるＸＬＢ−ＸＬＢ断面を示す断面図である。

画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡが欠陥ＥＲＲの少なくとも一部を含み、かつレーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域が最小になるようにスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置を決定する。

図３９を参照して、画像処理部３は、前述の欠陥検出処理により、欠陥ＥＲＲに外接する長方形Ｒの頂点Ａ〜頂点Ｄの座標を求める。画像処理部３は、長方形Ｒとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域に基づいてスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置を決定する。

すなわち、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの上部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠から長方形Ｒまでの距離Ｌを求める。

図４０を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ下枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。

図４１（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４１（ｂ）は、図４１（ａ）におけるＸＬＩＢ−ＸＬＩＢ断面を示す断面図である。図４２（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４２（ｂ）は、図４２（ａ）におけるＸＬＩＩＢ−ＸＬＩＩＢ断面を示す断面図である。

図４１を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの左部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの左枠から長方形Ｒまでの距離Ｌを求める。

図４２を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ右枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。

図４３（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４３（ｂ）は、図４３（ａ）におけるＸＬＩＩＩＢ−ＸＬＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図４４（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４４（ｂ）は、図４４（ａ）におけるＸＬＩＶＢ−ＸＬＩＶＢ断面を示す断面図である。

図４３を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの下部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠から長方形Ｒまでの距離Ｌを求める。

図４４を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ上枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。

図４５（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４５（ｂ）は、図４５（ａ）におけるＸＬＶＢ−ＸＬＶＢ断面を示す断面図である。図４６（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４６（ｂ）は、図４６（ａ）におけるＸＬＶＩＢ−ＸＬＶＩＢ断面を示す断面図である。

図４５を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの右部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの右枠から長方形Ｒまでの距離Ｌを求める。

図４６を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ左枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。

図４７（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４７（ｂ）は、図４７（ａ）におけるＸＬＶＩＩＢ−ＸＬＶＩＩＢ断面を示す断面図である。図４７（ｃ）は、図４７（ａ）におけるＸＬＶＩＩＣ−ＸＬＶＩＩＣ断面を示す断面図である。図４８（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４８（ｂ）は、図４８（ａ）におけるＸＬＶＩＩＩＢ−ＸＬＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図４８（ｃ）は、図４８（ａ）におけるＸＬＶＩＩＩＣ−ＸＬＶＩＩＩＣ断面を示す断面図である。

図４７を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの上部および左部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの左枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ２とを求める。

図４８を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ下枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ右枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。

図４９（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４９（ｂ）は、図４９（ａ）におけるＸＬＩＸＢ−ＸＬＩＸＢ断面を示す断面図である。図４９（ｃ）は、図４９（ａ）におけるＸＬＩＸＣ−ＸＬＩＸＣ断面を示す断面図である。図５０（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５０（ｂ）は、図５０（ａ）におけるＬＢ−ＬＢ断面を示す断面図である。図５０（ｃ）は、図５０（ａ）におけるＬＣ−ＬＣ断面を示す断面図である。

図４９を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの下部および右部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの右枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ２とを求める。

図５０を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ上枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ左枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。

図５１（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５１（ｂ）は、図５１（ａ）におけるＬＩＢ−ＬＩＢ断面を示す断面図である。図５１（ｃ）は、図５１（ａ）におけるＬＩＣ−ＬＩＣ断面を示す断面図である。図５２（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５２（ｂ）は、図５２（ａ）におけるＬＩＩＢ−ＬＩＩＢ断面を示す断面図である。図５２（ｃ）は、図５２（ａ）におけるＬＩＩＣ−ＬＩＩＣ断面を示す断面図である。

図５１を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの上部および右部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの右枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ２とを求める。

図５２を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ下枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ左枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。

図５３（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５３（ｂ）は、図５３（ａ）におけるＬＩＩＩＢ−ＬＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図５３（ｃ）は、図５３（ａ）におけるＬＩＩＩＣ−ＬＩＩＩＣ断面を示す断面図である。図５４（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５４（ｂ）は、図５４（ａ）におけるＬＩＶＢ−ＬＩＶＢ断面を示す断面図である。図５４（ｃ）は、図５４（ａ）におけるＬＩＶＣ−ＬＩＶＣ断面を示す断面図である。

図５３を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの下部および左部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの左枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ２とを求める。

図５４を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ上枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ右枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。

図５５は、ブラックマトリックス領域およびカラーフィルタ領域にまたがって欠陥が存在する状態を示す図である。

画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在する場合、すなわち検出された欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの両方に存在する場合には、ブラックマトリックス領域ＢＭにおける欠陥領域の大きさとカラーフィルタ領域ＣＦにおける欠陥領域の大きさとを比較する。

そして、インク塗布部９は、画像処理部３の比較結果に基づいて、ブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦのうち、欠陥領域の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、レーザ光が照射されたカラーフィルタの領域に選択した色のインクを塗布する。

具体的には、ブラックマトリックス領域ＢＭにおける欠陥領域すなわちブラックマトリックス領域ＢＭと同色で着色されるべき部分の面積をＳＡ、カラーフィルタ領域ＣＦにおける画素と同色で着色されるべき部分の面積をＳＢとする。インク塗布部９は、ＳＡ＞ＳＢの場合には、ブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクを選択し、ＳＡ≦ＳＢの場合には、画素と同色のインクを選択する。

ここで、上記の方法では、本来塗布されるべきインクとは異なる色のインクが塗布される部分が生じるが、この部分の面積が製品の規格を満足する場合には、上記の方法を採用することができる。このような方法により、ブラックマトリックス領域ＢＭに対応する色のインクおよびカラーフィルタ領域ＣＦに対応する色のインクの両方を用いて欠陥修正を行なう場合と比べて短時間で修正作業を完了することができる。

図５５を参照して、ブラックマトリックス領域ＢＭにおける欠陥ＥＲＲの領域ＡＲ１は、カラーフィルタ領域ＣＦにおける欠陥ＥＲＲの領域ＡＲ２より小さい。この場合、インク塗布部９は、画像処理部３の比較結果に基づいて、カラーフィルタ領域ＣＦに対応するＲＧＢいずれかの色のインクを選択する。

図５６は、ブラックマトリックス領域およびカラーフィルタ領域にまたがって欠陥が存在する状態を示す図である。

図５６を参照して、ブラックマトリックス領域ＢＭにおける欠陥ＥＲＲの領域ＡＲ１は、カラーフィルタ領域ＣＦにおける欠陥ＥＲＲの領域ＡＲ２より大きい。この場合、インク塗布部９は、画像処理部３の比較結果に基づいて、ブラックマトリックス領域ＢＭに対応する色のインクを選択する。

なお、インク塗布部９は、欠陥ＥＲＲの全領域がカラーフィルタ領域ＣＦに存在する場合には、カラーフィルタ領域ＣＦに対応する色のインクを選択し、レーザ光が照射されたカラーフィルタの領域に選択した色のインクを塗布する。また、インク塗布部９は、欠陥ＥＲＲの全領域がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、ブラックマトリックス領域ＢＭに対応する色のインクを選択し、レーザ光が照射されたカラーフィルタの領域に選択した色のインクを塗布する。

図５７（ａ）〜（ｃ）は、ブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合におけるスリット位置ＳＬを示す図である。ここでは、図５７の紙面横方向がｘ軸方向であり、紙面縦方向がｙ軸方向であるとして説明する。

図５７（ａ）を参照して、検出された欠陥ＥＲＲの全領域がブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向の全部および延在方向の一部に存在している。

制御用コンピュータ２は、可変スリット部８によって形成されるスリットＳＬを初期位置に移動させる。より詳細には、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタの欠陥ＥＲＲの中心すなわちブラックマトリックス領域ＢＭの中心線ＭＬとスリットＳＬの中心とが一致するようにスリットＳＬを移動させる。

図５７（ｂ）を参照して、次に、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡが欠陥ＥＲＲの少なくとも一部を含み、かつブラックマトリックス領域ＢＭおよび１つのカラーフィルタ領域ＣＦと重なるようにスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置を決定する。

より詳細には、画像処理部３は、ブラックマトリックス領域ＢＭの中心線ＭＬから（Ｓ−Ｗ）／２だけブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向にスリットＳＬの初期位置をシフトした位置を、ブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向におけるスリットＳＬの最終位置に決定する。

図５７（ｃ）を参照して、次に、画像処理部３は、スリットＳＬをブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向にシフトする。たとえば、画像処理部３は、図５７（ｃ）において紙面上部から紙面下部へスリットＳＬをシフトする場合には、スリットＳＬの上辺と欠陥ＥＲＲの上辺とが一致するように、最初にレーザ光を照射する領域すなわちブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向におけるスリットＳＬの初期位置を決定する。このときのスリットＳＬの中心のｙ座標をｐＢとする。

また、画像処理部３は、スリットＳＬの下辺と欠陥ＥＲＲの下辺とが一致するように、最後にレーザ光を照射する領域すなわちブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向におけるスリットＳＬの最終位置を決定する。このときのスリットＳＬの中心のｙ座標をｐＴとする。

スリットＳＬの最大シフト量をＰとし、レーザ照射によるカット総回数をｎとすると、スリットＳＬの中心のｙ座標、およびスリットＳＬのシフト量ｐは以下の式で表わされる。

図５８（ａ）〜（ｅ）は、紙面縦方向に延在するブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合において、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を修正する際の動作を示す図である。また、図５９（ａ）〜（ｅ）は、紙面横方向に延在するブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合において、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を修正する際の動作を示す図である。

まず、制御用コンピュータ２は、インク塗布円ＩＡを初期位置に移動させる。より詳細には、画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲの全領域がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタの欠陥ＥＲＲの中心すなわちブラックマトリックス領域ＢＭの中心線ＭＬとインク塗布円ＩＡとが一致するようにインク塗布部９を移動させる。

図５８（ａ）および図５９（ａ）を参照して、次に、画像処理部３は、インク塗布円ＩＡが欠陥ＥＲＲの少なくとも一部を含み、かつブラックマトリックス領域ＢＭおよび１つのカラーフィルタ領域ＣＦと重なるようにインク塗布円ＩＡの初期位置を補正することによりインク塗布円ＩＡの最終位置を決定する。

より詳細には、画像処理部３は、ブラックマトリックス領域ＢＭの中心線ＭＬから（Ｄ−Ｗ）／２だけブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向にインク塗布円ＩＡをシフトした位置を、ブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向におけるインク塗布円ＩＡの最終位置に決定する。なお、画像処理部３は、ブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向におけるインク塗布円ＩＡの中心座標は、たとえばブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向におけるスリットＳＬの中心座標と同じ位置に設定する。

図５８（ｂ）および図５９（ｂ）を参照して、制御用コンピュータ２は、画像処理部３が決定したカット位置すなわちスリットＳＬの最終位置に基づいてレーザ照射部７および位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタの欠陥箇所にレーザ光を照射する。

図５８（ｃ）および図５９（ｃ）を参照して、制御用コンピュータ２は、画像処理部３が決定したインク塗布領域すなわちインク塗布円ＩＡの最終位置に基づいてインク塗布部９および位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタの欠陥箇所にブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクを塗布する。このとき、カラーフィルタ領域ＣＦ２にはブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクが食み出しているが、カラーフィルタ領域ＣＦ１には食み出していない。

図５８（ｄ）および図５９（ｄ）を参照して、画像処理部３は、カラーフィルタ領域ＣＦ２に食み出しているインクをカットするためのスリット位置ＳＬを決定する。この場合、画像処理部３は、たとえば、欠陥ＥＲＲの全領域がカラーフィルタ領域ＣＦに存在する場合である前述の図２３〜図３８に示す場合と同様の方法でカット位置すなわちスリット位置ＳＬの最終位置を決定する。

そして、制御用コンピュータ２は、画像処理部３が決定したカット位置すなわちスリットＳＬの最終位置に基づいてレーザ照射部７および位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタにレーザ光を照射する。

図５８（ｅ）および図５９（ｅ）を参照して、画像処理部３は、たとえば、インク塗布円ＩＡの中心をスリットＳＬの中心と同じ位置に設定する。

そして、制御用コンピュータ２は、画像処理部３が決定したインク塗布領域すなわちインク塗布円ＩＡの最終位置に基づいてインク塗布部９および位置決め機構５１を制御することにより、図５８（ｄ）および図５９（ｄ）で示すレーザ光の照射領域にカラーフィルタ領域ＣＦ２と同色のインクを塗布する。

以上のように、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、ブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合には、ブラックマトリックス領域ＢＭを介して対向して配置された２つのカラーフィルタ領域ＣＦの両方にインクが食み出すことのないようにカラーフィルタの欠陥修正を行なう。すなわち、ブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクを塗布する際に一方のカラーフィルタ領域ＣＦのみにインクが食み出すようにインク塗布領域を決定する。

ここで、ブラックマトリックス領域ＢＭの幅Ｗよりも小さいインク塗布円ＩＡの直径Ｄが得られるインク塗布用針１４をインク塗布部９が含む構成とすれば、ブラックマトリックス領域ＢＭに欠陥の全領域が存在する場合において、ブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクがカラーフィルタ領域ＣＦに食み出すことを防ぐことができる。しかしながら、そのような径の小さいインク塗布針を製造することは困難であり、また、製造コストが高くなってしまう。

しかしながら、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、径の大きいインク塗布用針１４を使用しても、２つのカラーフィルタ領域ＣＦの両方にインクが食み出すことを防ぐことができるため、インク塗布後の修正作業を短時間で完了することができる。また、ブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクが食み出した部分にレーザ光を照射する際に同時に除去されてしまうカラーフィルタ領域ＣＦにおける正常な領域を最小限に抑えることができる。

ところで、特許文献１および特許文献２記載の構成では、カラーフィルタの欠陥修正に関し、欠陥よりも大きな面積をレーザにてカットする場合があり、この場合には本発明の作業内容と比較して修正作業に時間を要する問題点がある。

また、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が行なう上記スリット位置の算出方法の他に、スリットＳＬのサイズを欠陥のサイズに合わせる方法も考えられる。しかしながら、スリットＳＬのサイズは塗布されたインクの広がりを考慮して決定する必要がある。すなわち、スリットＳＬのサイズすなわちカットサイズを小さくするとカラーフィルタにおける正常領域へのインクのはみ出し量が多くなる。そうすると、インクが食み出した領域の膜厚が許容値を超えて大きくなるため、新たに欠陥をつくってしまう場合がある。このため、欠陥のサイズがインク塗布領域より小さい場合には、欠陥のサイズに合わせてスリットＳＬのサイズを小さく変更することは困難である。

また、レーザ光が照射されたカラーフィルタの領域においてインクが塗布されない部分が生じることを防ぐために、かつ正常領域へのインクの食み出しを抑制するために、インク塗布円ＩＡがスリットＳＬの枠に内接するようにスリットＳＬのサイズを設定する場合がある。したがって、欠陥ＥＲＲのサイズがインク塗布円ＩＡより小さい場合、スリットＳＬのサイズを欠陥ＥＲＲのサイズに合わせて変更することは困難である。

しかしながら、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、画像処理部３は、カラーフィルタの欠陥を検出し、検出された欠陥と、カラーフィルタ領域ＣＦおよびブラックマトリックス領域ＢＭとの位置関係に基づいて、カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定する。このように、欠陥が発生した位置に応じて適切にカラーフィルタの修正領域を算出する構成により、スリットＳＬのサイズを欠陥のサイズに合わせて変更することなく、カラーフィルタの正常な領域に対して余計な修正処理が行なわれることを最小限に抑えることができる。したがって、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、カラーフィルタの欠陥修正を適切に行なうことができる。

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置の構成を示す外観図である。 ＸＹスリット機構の構成を示す図である。 ＸＹスリット機構に含まれるＸ方向の調整機構の構成を示す外観平面図である。 θスリット機構の構成を示す外観平面図である。 本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置のインク塗布部の構成を示す外観図である。 カラーフィルタにおけるブラックマトリックス領域、カラーフィルタ領域および絵素の関係を示す図である。 本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置がカラーフィルタの１つの欠陥を修正する際の動作手順を定めたフローチャートである。 入力画像および２値化入力画像を示す図である。 （ａ）は、登録画像を示す図である。（ｂ）は、２値化入力画像を示す図である。（ｃ）は、カラーフィルタ領域のマスク画像を示す図である。 （ａ）および（ｂ）は、画像処理部が入力画像の水平方向に欠陥検出を行なう際の動作を示す図である。 （ａ）および（ｂ）は、画像処理部が入力画像の垂直方向に欠陥検出を行なう際の動作を示す図である。 （ａ）および（ｂ）は、ブラックマトリックス領域、ＲＧＢ各画素および黒欠陥のスライスレベルＴｄの関係を示す図である。 （ａ）および（ｂ）は、ブラックマトリックス領域、ＲＧＢ各画素および白欠陥のスライスレベルＴｄの関係を示す図である。 （ａ）は、欠陥の存在するカラーフィルタの入力画像を示す図である。（ｂ）は、画像処理部が生成した黒欠陥抽出画像を示す図である。 （ａ）は、欠陥の存在するカラーフィルタの入力画像を示す図である。（ｂ）は、画像処理部が生成した白欠陥抽出画像を示す図である。 画像処理部がカラーフィルタ領域における白欠陥抽出画像を生成する動作を示す図である。 画像処理部がブラックマトリックス領域における白欠陥抽出画像を生成する動作を示す図である。 画像処理部が欠陥マスク画像を生成する動作を示す図である。 欠陥抽出画像の一例を示す図である。 ＲＧＢ各絵素の色相ヒストグラムを示す図である。 画像処理部が色相情報計算マスク画像を生成する動作を示す図である。 （ａ）および（ｂ）は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置において絵素の色判定の信頼度が低い場合において行なわれる色判定の様子を示す図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２３（ａ）におけるＸＸＩＩＩＢ−ＸＸＩＩＩＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２４（ａ）におけるＸＸＩＶＢ−ＸＸＩＶＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２５（ａ）におけるＸＸＶＢ−ＸＸＶＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２６（ａ）におけるＸＸＶＩＢ−ＸＸＶＩＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２７（ａ）におけるＸＸＶＩＩＢ−ＸＸＶＩＩＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２８（ａ）におけるＸＸＶＩＩＩＢ−ＸＸＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２９（ａ）におけるＸＸＩＸＢ−ＸＸＩＸＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３０（ａ）におけるＸＸＸＢ−ＸＸＸＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３１（ａ）におけるＸＸＸＩＢ−ＸＸＸＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３１（ａ）におけるＸＸＸＩＣ−ＸＸＸＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３２（ａ）におけるＸＸＸＩＩＢ−ＸＸＸＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３２（ａ）におけるＸＸＸＩＩＣ−ＸＸＸＩＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３３（ａ）におけるＸＸＸＩＩＩＢ−ＸＸＸＩＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３３（ａ）におけるＸＸＸＩＩＩＣ−ＸＸＸＩＩＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３４（ａ）におけるＸＸＸＩＶＢ−ＸＸＸＩＶＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３４（ａ）におけるＸＸＸＩＶＣ−ＸＸＸＩＶＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３５（ａ）におけるＸＸＸＶＢ−ＸＸＸＶＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３５（ａ）におけるＸＸＸＶＣ−ＸＸＸＶＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３６（ａ）におけるＸＸＸＶＩＢ−ＸＸＸＶＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３６（ａ）におけるＸＸＸＶＩＣ−ＸＸＸＶＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３７（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＢ−ＸＸＸＶＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３７（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＣ−ＸＸＸＶＩＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３８（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＩＢ−ＸＸＸＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３８（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＩＣ−ＸＸＸＶＩＩＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３９（ａ）におけるＸＸＸＩＸＢ−ＸＸＸＩＸＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４０（ａ）におけるＸＬＢ−ＸＬＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４１（ａ）におけるＸＬＩＢ−ＸＬＩＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４２（ａ）におけるＸＬＩＩＢ−ＸＬＩＩＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４３（ａ）におけるＸＬＩＩＩＢ−ＸＬＩＩＩＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４４（ａ）におけるＸＬＩＶＢ−ＸＬＩＶＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４５（ａ）におけるＸＬＶＢ−ＸＬＶＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４６（ａ）におけるＸＬＶＩＢ−ＸＬＶＩＢ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４７（ａ）におけるＸＬＶＩＩＢ−ＸＬＶＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図４７（ａ）におけるＸＬＶＩＩＣ−ＸＬＶＩＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４８（ａ）におけるＸＬＶＩＩＩＢ−ＸＬＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図４８（ａ）におけるＸＬＶＩＩＩＣ−ＸＬＶＩＩＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４９（ａ）におけるＸＬＩＸＢ−ＸＬＩＸＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図４９（ａ）におけるＸＬＩＸＣ−ＸＬＩＸＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５０（ａ）におけるＬＢ−ＬＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５０（ａ）におけるＬＣ−ＬＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５１（ａ）におけるＬＩＢ−ＬＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５１（ａ）におけるＬＩＣ−ＬＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５２（ａ）におけるＬＩＩＢ−ＬＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５２（ａ）におけるＬＩＩＣ−ＬＩＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５３（ａ）におけるＬＩＩＩＢ−ＬＩＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５３（ａ）におけるＬＩＩＩＣ−ＬＩＩＩＣ断面を示す断面図である。 （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５４（ａ）におけるＬＩＶＢ−ＬＩＶＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５４（ａ）におけるＬＩＶＣ−ＬＩＶＣ断面を示す断面図である。 ブラックマトリックス領域およびカラーフィルタ領域にまたがって欠陥が存在する状態を示す図である。 ブラックマトリックス領域およびカラーフィルタ領域にまたがって欠陥が存在する状態を示す図である。 （ａ）〜（ｃ）は、ブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合におけるスリット位置ＳＬを示す図である。 （ａ）〜（ｅ）は、紙面縦方向に延在するブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合において、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を修正する際の動作を示す図である。 （ａ）〜（ｅ）は、紙面横方向に延在するブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合において、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を修正する際の動作を示す図である。

符号の説明

１ ホストコンピュータ、２ 制御用コンピュータ（制御部）、３ 画像処理部、４ Ｚ軸ステージ、５ ＸＹテーブル、６ チャック台、７ レーザ照射部、８ 可変スリット部、９ インク塗布部、１０ モニタ、１１ インク塗布用位置決めシリンダ、１２ インクタンクテーブル、１３ インクタンク、１４ インク塗布用針、２１ 対物レンズ、３１ Ｘ方向サイズ調整用モータ、３２ Ｙ方向サイズ調整用モータ、３３〜３４ 開閉部、３５ 回転角度調整用モータ、３６ ベルト、３７ 回転テーブル、５０ 修正処理部、５１ 位置決め機構、６１ ＸＹスリット機構、６２ θスリット機構。

Claims (12)

1. 光透過領域および前記光透過領域に隣接する遮光領域を有するカラーフィルタの欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正装置であって、
   前記カラーフィルタの欠陥を検出し、前記検出された欠陥と、前記光透過領域および前記遮光領域との位置関係に基づいて、前記カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定する画像処理部と、
   前記カラーフィルタにおける前記決定された領域へのレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なう修正処理部とを備え、
   前記修正処理部は、
   スリットを形成するスリット部と、
   前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、
   前記画像処理部は、
   前記検出された欠陥の全領域が前記光透過領域に存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域と重ならないように前記スリットの位置を決定し、
   前記検出された欠陥が前記遮光領域および前記光透過領域にまたがって存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域と前記遮光領域との重なり領域が最小になるように前記スリットの位置を決定し、
   前記レーザ照射部は、前記決定された位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射するカラーフィルタ欠陥修正装置。
2. 前記画像処理部は、さらに、前記検出された欠陥が前記遮光領域および前記光透過領域にまたがって存在する場合には、前記検出された欠陥のうちの前記遮光領域における欠陥の大きさと前記光透過領域における欠陥の大きさとを比較し、
   前記修正処理部は、
   前記遮光領域および前記光透過領域のうち、前記欠陥の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、前記カラーフィルタにおける前記決定された領域に前記選択した色のインクを塗布するインク塗布部を含む請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
3. 前記カラーフィルタは、前記遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、
   前記スリットは、前記第１の光透過領域および前記第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有し、
   前記画像処理部は、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域および１つの前記光透過領域と重なるように前記スリットの位置を決定する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
4. 前記カラーフィルタは、前記遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、
   前記修正処理部は、前記カラーフィルタにおいて、前記第１の光透過領域および前記第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有する領域にインクを塗布するインク塗布部を含み、
   前記画像処理部は、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記インクが塗布される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域および１つの前記光透過領域と重なるように前記インク塗布部の位置を決定し、
   前記インク塗布部は、前記決定された位置において前記カラーフィルタにインクを塗布する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
5. 前記画像処理部は、前記検出された欠陥の位置に基づいて前記スリットの第１の位置を決定し、前記検出された欠陥の全領域が前記光透過領域に存在する場合には、前記第１の位置における前記スリットを介して前記レーザ光が照射されるであろう前記カラーフィルタの領域と前記遮光領域との重なり領域に基づいて前記第１の位置を補正することにより前記スリットの第２の位置を決定し、
   前記レーザ照射部は、前記第２の位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
6. 前記画像処理部は、前記検出された欠陥の位置に基づいて前記スリットの第１の位置を決定し、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記第１の位置における前記スリットを介して前記レーザ光が照射されるであろう前記カラーフィルタの領域と前記光透過領域との重なり領域に基づいて前記第１の位置を補正することにより前記スリットの第２の位置を決定し、
   前記レーザ照射部は、前記第２の位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
7. 光透過領域および前記光透過領域に隣接する遮光領域を有するカラーフィルタの欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正方法であって、
   前記カラーフィルタの欠陥を検出する第１のステップと、
   前記検出された欠陥と、前記光透過領域および前記遮光領域との位置関係に基づいて、前記カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定する第２のステップと、
   前記カラーフィルタにおける前記決定された領域へのレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なう第３のステップと、
   スリットを形成する第４のステップとを含み、
   前記第２のステップにおいては、
   前記検出された欠陥の全領域が前記光透過領域に存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域と重ならないように前記スリットの位置を決定し、
   前記検出された欠陥が前記遮光領域および前記光透過領域にまたがって存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域と前記遮光領域との重なり領域が最小になるように前記スリットの位置を決定し、
   前記第３のステップにおいては、前記決定された位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射するカラーフィルタ欠陥修正方法。
8. 前記第２のステップにおいては、さらに、前記検出された欠陥が前記遮光領域および前記光透過領域にまたがって存在する場合には、前記検出された欠陥のうちの前記遮光領域における欠陥の大きさと前記光透過領域における欠陥の大きさとを比較し、
   前記第３のステップにおいては、前記遮光領域および前記光透過領域のうち、前記欠陥の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、前記カラーフィルタにおける前記決定された領域に前記選択した色のインクを塗布する請求項７記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。
9. 前記カラーフィルタは、前記遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、
   前記スリットは、前記第１の光透過領域および前記第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有し、
   前記第２のステップにおいては、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域および１つの前記光透過領域と重なるように前記スリットの位置を決定する請求項７記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。
10. 前記カラーフィルタは、前記遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、
    前記第３のステップにおいては、前記第１の光透過領域および前記第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有する前記カラーフィルタの領域にインクを塗布し、
    前記第２のステップにおいては、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記インクが塗布される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域および１つの前記光透過領域と重なるようにインクを塗布する位置を決定し、
    前記第３のステップにおいては、前記決定された位置において、前記カラーフィルタの領域にインクを塗布する請求項７記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。
11. 前記第２のステップにおいては、
    前記検出された欠陥の位置に基づいて前記スリットの第１の位置を決定し、
    前記検出された欠陥の全領域が前記光透過領域に存在する場合には、前記第１の位置における前記スリットを介して前記レーザ光が照射されるであろう前記カラーフィルタの領域と前記遮光領域との重なり領域に基づいて前記第１の位置を補正することにより前記スリットの第２の位置を決定し、
    前記第３のステップにおいては、前記第２の位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項７記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。
12. 前記第２のステップにおいては、
    前記検出された欠陥の位置に基づいて前記スリットの第１の位置を決定し、
    前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記第１の位置における前記スリットを介して前記レーザ光が照射されるであろう前記カラーフィルタの領域と前記光透過領域との重なり領域に基づいて前記第１の位置を補正することにより前記スリットの第２の位置を決定し、
    前記第３のステップにおいては、前記第２の位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項７記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。

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