JP5114627B2

JP5114627B2 - トレハロース化合物および該化合物を含有する医薬

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Publication number: JP5114627B2
Application number: JP2008507454A
Authority: JP
Inventors: 麦夫西沢; 洋今川; 博文山本
Original assignee: Glytech Inc
Current assignee: Glytech Inc
Priority date: 2006-03-27
Filing date: 2007-03-22
Publication date: 2013-01-09
Anticipated expiration: 2027-03-22
Also published as: EP2000473B1; US20100249057A1; WO2007111214A1; CN101443344B; EP2000473A9; TWI382989B; ES2362940T3; US8163713B2; ATE504592T1; DK2000473T3; JPWO2007111214A1; KR20080103603A; EP2000473A4; EP2000473A2; CN101443344A; DE602007013730D1; PT2000473E; TW200745153A; KR101412082B1

Description

本発明は、トレハロース化合物および該化合物を含有する医薬に関するものである。

アデノシンは神経系をはじめ生体内に広く存在し、アデノシン受容体を介して細胞間の様々な機能調節に関与している。アデノシンの受容体はＡ１、Ａ２（２Ａと２Ｂ）およびＡ３のサブタイプに分類されており、その組織分布や機能が判明しつつある。

これらアデノシン受容体のうち、ヒトのＡ３受容体は、肺、肝臓、胎盤、脳、大動脈、腎臓、睾丸、心臓等の組織に分布しており、これら組織の炎症、低酸素状態、虚血等により活性化される。従って、アデノシンＡ３受容体のアンタゴニストは、抗喘息薬、慢性閉塞性肺疾患治療薬、脳保護薬、抗炎症薬等に有用であると考えられる。

アデノシンＡ３受容体のアンタゴニストとして、特許文献１にはピリミジン構造を有する化合物が、また、特許文献２にはアデニン構造を有する化合物が開示されている。この様に、従来のアデノシンＡ３受容体アンタゴニストは、アデノシンの塩基部分と共通構造を有する化合物であった。

ところで、従来、トレハロースのジエステル化合物として、トレハロースジミコレート（ＴＤＭ）とトレハロースジコリノミコレート（ＴＤＣＭ）が知られている。ＴＤＭは結核菌（Mycobacterium tuberculosis）の細胞表層に存在する糖脂質として見出され、免疫アジュバンド活性および抗腫瘍活性を示すことが知られている。また、同族のジフテリア菌（Corynebacterium spp）から、ＴＤＭより炭素鎖の短い同族体であるＴＤＣＭが単離され、ＴＤＣＭとその立体異性体が、それぞれ制癌作用と癌の転移阻害作用等を示すことが明らかにされている。

また、特許文献３には、炭素数７〜２１の脂肪酸とトレハロースとのジエステル化合物が記載されている。しかしながら、このトレハロースジ脂肪酸エステルの用途は界面活性剤である。しかも、これらは、トレハロースモノ脂肪酸エステル、アルキリデントレハロース、或いは陰イオン界面活性剤等と共に界面活性剤として例示されているものの１つに過ぎず、また、当該ジエステル化合物の具体例は一切記載されていない。

さらに非特許文献１および非特許文献２には、下記トレハロースジエステル化合物が開示されている。

しかしながら、当該化合物は、非特許文献１ではＦＤ−ＭＳの測定試料として用いられているのみであり、非特許文献２では、当該化合物（糖脂質）がリン脂質膜に与える影響を試験しているに過ぎない。
特開平１１−１５８０７３号公報特表２００３−５１９１０２号公報特開平１１−１７１７２７号公報（請求項６、［実施例］） Jean-Claude Prome，Germain Puzo，イスラエル・ジャーナル・オブ・ケミストリー（Israel Journal of Chemistry），第１７巻，第１７２〜１７６頁（１９７８年） Y．Kasahara，Y．Ashihara，クリニカル・ケミストリー，第２７巻１１号，第１９２２〜１９２５頁（１９８１年）

上述した様に、アデノシンＡ３受容体のアンタゴニストは、様々な生理作用を有し、医薬としての利用が期待されることから、アデノシンＡ３受容体に対してより一層高い親和性を有するアンタゴニストの開発が要望されている。

本発明が解決すべき課題は、アデノシンＡ３受容体に対する高い親和性を有する新規化合物を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために、アデノシンＡ３受容体に対して優れた親和性を示す化合物を開発すべく鋭意研究を重ねて来た。その結果、本発明者らが新規に合成した炭素数が比較的小さい脂肪酸とトレハロースとのジエステル化合物が、炭素数が比較的大きい脂肪酸とトレハロースとのジエステル化合物に比し、アデノシンＡ３受容体に対して格段に優れた拮抗活性を有していることを見出した。本発明は、このような知見に基づいて完成されたものである。

本発明は、下記項１〜項１１に係るトレハロース化合物及び該化合物を含有する医薬を提供する。
項１．一般式（１）

［式中、
ＸおよびＸ’は、同一または異なって、水素原子、水酸基またはＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基を示す。
ＹおよびＹ’は、同一または異なって、酸素原子または−ＮＲ⁵−を示す。ここでＲ⁵は、水素原子またはＣ₁−Ｃ₆アルキル基を示す。
Ｒ¹およびＲ³は、各々Ｃ₁−Ｃ₇アルキル基を示す。
Ｒ²およびＲ⁴は、各々Ｃ₃−Ｃ₆アルキル基を示す。］
で表されるトレハロース化合物。
項２．ＸおよびＸ’が共に水素原子である項１に記載のトレハロース化合物。
項３．ＸおよびＸ’が共に水酸基である項１に記載のトレハロース化合物。
項４．ＸおよびＸ’が共にメトキシ基である項１に記載のトレハロース化合物。
項５．ＹおよびＹ’が共に酸素原子である項１〜４の何れかに記載のトレハロース化合物。
項６．ＹおよびＹ’が共に−ＮＨ−である項１〜４の何れかに記載のトレハロース化合物。
項７．Ｒ¹およびＲ³が共にｎ−ヘキシル基である項１〜６の何れかに記載のトレハロース化合物。
項８．Ｒ²およびＲ⁴が共にｎ−ペンチル基である項１〜６の何れかに記載のトレハロース化合物。
項９．６，６’−ビス−［（２−ペンチルノナノイルアミノ）］−６，６’−ジデオキシ−α,α’−トレハロース、
６，６’− ビス−［（２−ペンチルヘプタノイル）］−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−ジデオキシ−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−［（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース、および
６，６’−ビス−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
からなる群から選択される何れかのトレハロース化合物である項１に記載のトレハロース化合物。
項１０．項１〜９の何れかに記載のトレハロース化合物を含有する医薬。
項１１．項１〜９の何れかに記載のトレハロース化合物を含有するアデノシンＡ３受容体のアンタゴニスト。

本発明において、「Ｃ₁−Ｃ₇アルキル基」とは、炭素数１〜７の直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基をいい、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソアミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル等を例示することができる。Ｒ¹またはＲ²としては直鎖状のＣ₁−Ｃ₇アルキル基が好適であり、より好ましくは直鎖状Ｃ₂−Ｃ₆アルキルであり、さらに好ましくは直鎖状Ｃ₃−Ｃ₆アルキルであり、最も好ましくはｎ−ヘキシルである。

また、「Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基」と「Ｃ₃−Ｃ₆アルキル基」は、上記Ｃ₁−Ｃ₇アルキル基のうち炭素数がそれぞれ１〜６および３〜６のものをいう。Ｒ³またはＲ⁴としては直鎖状のＣ₃−Ｃ₆アルキル基が好適であり、より好ましくは直鎖状のＣ₄−Ｃ₆アルキル基であり、さらに好ましくはｎ−ペンチルである。Ｒ⁵としてはＣ₁−Ｃ₄アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ₁−Ｃ₂アルキル基であり、さらに好ましくはメチルである。

「Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基」は、炭素数１〜６の直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素オキシ基を意味する。例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ等を例示することができる。当該基として好ましくはＣ₁−Ｃ₄アルコキシであり、より好ましくはＣ₁−Ｃ₂アルコキシであり、最も好ましくはメトキシである。

本発明のトレハロース化合物においては、ＸおよびＸ’が共に水素原子であるもの、共に水酸基であるもの、或いは共にメトキシ基であるものが好適である。また、ＹおよびＹ’が共に酸素原子であるもの、或いは共に−ＮＨ−であるものも好適である。

式（１）の化合物は１以上の不斉中心を有し得、また、エナンチオマーまたはジアステレオマーとして存在することがある。本発明には、これらの混合物と分離した個々のアイソマーの両方が含まれるものとする。

また、トレハロースには、α,α’体、α,β’体、β,β’体という３つの異性体が存在する。本発明のトレハロース化合物としては、α,α’体が好適である。

式（１）の化合物とその塩は溶媒和物として存在し得るが、これも本発明の範囲内である。また、本発明範囲には、生物学研究に有用な式（１）の化合物の放射性標識化合物も含まれる。

本発明のトレハロース化合物の具体例として、以下の化合物を例示することができる。

６，６’−ビス−Ｎ−（２−ペンチルノナノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルヘプタノイル）−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−２−ヘキシル−３−ヒドロキシデカノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヘキシル−３−ヒドロキシデカノイル］−α,α’−トレハロース
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ヘキシルデカノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ヘキシルデカノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ブチルヘキサノイル）−α，α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ヘキシルオクタノイル）−α，α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルノナノイル）−α，α’−トレハロース
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−２−ブチル−３−ヒドロキシオクタノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−２−ブチル−３−ヒドロキシオクタノイル］−α，α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｎ−（２−ヘキシルオクタノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−α，α’−トレハロース

本発明のトレハロース化合物として好適な化合物は、以下のものを例示することができる。

６，６’−ビス−Ｎ−（２−ペンチルノナノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルヘプタノイル）−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース

本発明の医薬およびアデノシンＡ３受容体のアンタゴニストは、上記トレハロース化合物を含有することを特徴とする。

本発明に係る一般式（１）のトレハロース化合物（以下、「トレハロース化合物（１）」という場合がある）は、例えば、下記合成スキーム１に従って製造することができる。

上記合成スキーム中、Ｙ、Ｙ’およびＲ¹〜Ｒ⁴は、前述したものと同義を示す。また、Ｂｎはベンジル基を示し、ＺおよびＺ’は、ＸおよびＸ’の定義のうちの水素原子とＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基に加えて−ＯＢｎ基の何れかを示す。なお、上記スキームにおいて、トレハロース化合物２等はα，α’体のみであるが、α，β’体とβ，β’体も同様に合成することができる。

合成スキーム１は、トレハロース化合物２とカルボン酸化合物３および５とからエステル化反応またはアミド化反応によって、トレハロース化合物（１）を製造する工程である。

出発原料であるトレハロース化合物２のうちＹおよびＹ’が共に酸素原子である化合物は、市販のものか、或いはトレハロース等から公知の方法により合成したものを用いることができる。例えば、α，α’体は天然に存在するものであり入手容易である。また、α，β’体およびβ，β’体は、それぞれ２，３，４，６位の水酸基を保護したα−またはβ−Ｄ−グルコピラノースとα−Ｄ−グルコピラノシルクロライドとの混合物を、ＡｇＯＴｆおよびモレキュラーシーブ４Ａの存在下、溶媒中で反応させればよい（M．Nishizawaら，Chem．Pharm．Bull．，42(4)巻，982-984頁，1994年を参照）。なお、トレハロースにおいて６位の水酸基と他の水酸基とは反応性が異なるので、ＹおよびＹ’が共に酸素原子であるトレハロース化合物２は、比較的容易に合成できる。また、ＹおよびＹ’が共に−ＮＲ⁵−であるトレハロース化合物や、一方が酸素原子で他方が−ＮＲ⁵−であるトレハロース化合物は、文献記載の方法（Wang J．ら，Bioorganic Medicinal Chemistry，12巻，6397-6413頁，2004年）により或いは当該方法に準じて合成することができる。また、さらに、カルボン酸化合物３および５は、市販のものを用いるか、或いは後述する合成スキーム２〜４により合成できる。

合成スキーム１の最初のステップ（以下、スキーム中の各ステップを、順番に「ステップ１」等という）では、先ず、トレハロース化合物２とカルボン酸化合物３からエステル化反応またはアミド化反応によりトレハロース化合物４を得る。続いて、トレハロース化合物４およびカルボン酸化合物５からエステル化反応またはアミド化反応によりトレハロース化合物６を得る。

ここで使用するエステル化反応またはアミド化反応は、通常使用されるものを広く使用することができる。例えば、脱水法（カルボジイミド法を含む）、混合酸無水物法、活性エステル化法等を挙げることが出来る。これら方法のうち、脱水剤としては、アルコールまたはアミンおよびカルボン酸からエステル合成またはアミド合成に通常使用されるものを広く使用することができる。例えば、塩化水素、硫酸、塩酸等の鉱酸；パラトルエンスルホン酸、カンファースルホン酸等の有機酸；フッ化ホウ素エテラート等のルイス酸、カルボジイミドを例示できる。脱水法のうちカルボジイミド法の具体的な反応条件を例に挙げれば、脱水剤としてジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩などのカルボジイミド類を使用し、ジメチルアミノピリジン、４−ピロリジノピリジン等の触媒を添加する。さらに、反応を促進させるために、溶媒にベンゼン、トルエン等を使用したＤｅａｎ−Ｓｔａｒｋの水分離装置や乾燥剤を入れたソックスレー抽出器等の装置を使用することもできる。使用できる乾燥剤としては、無水硫酸マグネシウム、モレキュラーシーブ（４Ａ，５Ａ）等が挙げられる。原料化合物と脱水剤、および触媒の使用割合も特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができる。

上記エステル化反応またはアミド化反応は、通常、適当な溶媒中で行われる。使用される溶媒は、原料化合物に対する適度な溶解性を有し、反応に悪影響を与えない不活性なものであれば特に制限されない。例えば、塩化メチレン、クロロホルム、二塩化エタン等のハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、モノグライム等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等を使用することができる。

また、上記エステル化反応またはアミド化反応の反応温度も特に限定されないが、通常、０℃から２００℃、好ましくは室温から１００℃で行われる。反応時間は、通常、１時間〜１週間、好ましくは１〜２４時間である。

反応終了後は、反応混合液に対して副生物の分離除去、乾燥、溶媒の留去などの一般的な処理を行なった後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ等の一般的な方法により精製する。

なお、ステップ１の反応においては、トレハロース化合物４において何れのグルコース部分の６位ＨＹ−基もエステル化等される可能性がある。よって、反応後に所望の６位ＨＹ−基がエステル化等されたトレハロース化合物４を分離精製する。或いは、反応収率を高めるために、原料であるトレハロース化合物２の６位のうち、カルボン酸化合物３とのエステル化を望まないＨＹ’−基を選択的に保護しておき、ＨＹ−基のエステル化反応またはアミド化反応の後に、選択的に脱保護してもよい。

続くステップ２では、カルボン酸化合物５と、ステップ１でエステル化されなかったトレハロース化合物２のＨＹ’−基とで、上記ステップ１と同様の方法によりエステル化またはアミド化する。

また、２つのカルボン酸部分が同一であるトレハロース化合物１が目的化合物である場合には、合成スキーム１における２段階のエステル化反応等を１段階で行なってもよい。即ち、トレハロース化合物２に対してカルボン酸化合物３を１倍モル程度用いればモノエステルまたはモノアミドが主生成物として得られるが、カルボン酸化合物を２倍モル以上用いれば、２つの６位水酸基が同一のカルボン酸化合物によりエステル化等されたジエステル等が主生成物として得られる。

続いて、ステップ１および２で得られたトレハロース化合物６を、水素雰囲気下で触媒を使用しての接触水素添加反応に付して本発明のトレハロース化合物（１）が製造される。使用される触媒は接触水素添加反応に慣用のものを広く使用でき、例えば、酸化白金、白金炭素、水酸化パラジウム、パラジウム炭素、ラネーニッケル等が挙げられる。その使用量は通常、基質に対して０．１〜５０質量％であり、水素圧は１〜１００気圧、好ましくは１〜３気圧である。

当該反応は、通常適当な溶媒中で行われ、溶媒としては、反応に悪影響を与えない不活性なものを用いることができる。例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。また、その反応温度も特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは室温から５０℃である。反応時間は通常、１〜５０時間、好ましくは１〜３０時間である。

各ステップの反応終了後は、触媒の濾別、溶媒の留去などの一般的な処理を行なった後、溶媒抽出、シリカゲルカラムクロマトグラフィ等の一般的な方法により精製する。

上記合成スキーム１の原料化合物であるカルボン酸化合物３は、例えば、下記合成スキーム２〜４により製造することができる。合成スキーム２〜４ではカルボン酸化合物３を目的化合物として記載されているが、同じく原料化合物であるカルボン酸化合物５は、カルボン酸化合物３と同様に製造することができる。

上記合成スキーム１の原料化合物であるカルボン酸化合物３のうち、最終的にＸ基が水酸基である化合物を得るためのカルボン酸化合物３ａおよび３ｂは、例えば次の合成スキーム２により合成できる。

上記合成スキーム中、Ｒ¹、Ｒ²およびＢｎは前述したものと同義を示す。また、Ｒ⁶はＣ₁−Ｃ₆アルキル基を示し、Ｈａｌは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を示し、Ｂｚはベンゾイル基を示し、ＺおよびＺ’はＸおよびＸ’の定義のうち水素原子とＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基に加えて−ＯＢｎ基の何れかを示す。なお、上記スキーム中では化合物８はＲ体のみが示されているが、後述する様にＳ体も合成できる。よって、上記スキーム２によって、２位および３位における４つの光学異性体を合成することができる。

合成スキーム２は、合成スキーム１の原料化合物であるカルボン酸化合物３または５のうちＺ基が−ＯＢｎ基であり、最終的にＸ基が水酸基であるトレハロース化合物（１）を製造するためのカルボン酸化合物を製造する工程である。

出発原料であるアセト酢酸エステル６は、比較的シンプルな構造を有するため、市販のものを用いるか、公知の方法により合成して用いることができる。

合成スキーム２のステップ１では、アセト酢酸エステル６を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化アルキル反応に付して化合物７を合成する工程である。また、当該反応は、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等の金属ヨウ化物の存在下で行なうのが有利である。カルボキシル基の保護基であるＲ⁶としては、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル基等が好適である。

塩基性化合物としては公知のものを広く使用できるが、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム、ｎ-ブチルリチウムのような強塩基が好ましく、また、これらを併用してもよい。

アセト酢酸エステル６とハロゲン化アルキルとの使用割合は特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができるが、通常、アセト酢酸エステル６に対してハロゲン化アルキルを１〜５倍モル、好ましくは１〜１．５倍モルとする。また、アセト酢酸エステル６と塩基性化合物との使用割合も特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができるが、通常、アセト酢酸エステル６に対して塩基性化合物を１〜１．５倍モルモル、好ましくは２〜３倍モルとする。

ステップ１の反応は、通常適当な溶媒中で行われる。溶媒としては、反応に悪影響を与えない不活性なものを用いることができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、モノグライム等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。また、その反応温度も特に限定されないが、通常、−２０〜１００℃、好ましくは−１０℃〜室温とする。反応時間は、通常３０分〜３０時間、好ましくは１〜１０時間である。

次のステップ２では、トリエチルアミン等の塩基を少量添加し、化合物７を還元して化合物８を合成する。

光学活性な化合物８は、不斉配位子もしくはその錯体を触媒として、不斉水素化反応によって製造される。不斉配位子またはその錯体としては、不斉水素化反応に使用されるものは広く使用でき、例えば、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）系錯体（例えば、光学活性なＢＩＮＡＰ−ルテニウム錯体）；光学活性１，２−ジアニリノエタン−ルテニウム錯体などのジアミン系錯体；ビス（オキサゾリニール）ピリジン−ロジウム錯体等が挙げられる。これら触媒の中でも、Ｒ体のジクロロ（２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル）ルテニウム（以下「ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ」という）を触媒として還元すればＲ体の化合物８が、Ｓ体のＢＩＮＡＰ−Ｒｕを用いればＳ体の化合物８が、それぞれ高い光学収率で得られる。その使用量は触媒量であり、化合物７に対して、通常、０．０００１〜０．５倍モル、好ましくは０．００１〜０．０１倍モルである。

ステップ２の反応は、通常適当な溶媒中で行われる。当該溶媒としては、反応に悪影響を与えないものがすべて用いられ、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、モノグライム等のエーテル類等が挙げられる。

その反応温度も特に限定されないが、通常、０〜２００℃、好ましくは０〜５０℃で行われる。反応時間は、通常、１時間〜５日間、好ましくは１〜３０時間である。

また、当該反応では耐圧容器を用い、水素雰囲気下で行われる。水素圧は、通常１〜２００気圧であり、好ましくは２〜１００気圧である。

次のステップ３では、塩基性化合物の存在下、化合物８をハロゲン化アルキルでアルキル化して化合物９を製造する。この反応は、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等の金属ヨウ化物の存在下で行なうのが有利である。塩基性化合物としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ｎ−ブチルリチウム、ＬＤＡ（リチウムジイソプロピルアミド）等の強塩基が好ましく、またこれらを併用してもよい。

この反応で生成する化合物９の水酸基と、新たに導入されたアルキル基との立体配置は、antiであるものが主生成物となる。即ち、Ｒ体の化合物８からは（ＲＲ）−化合物９が、Ｓ体の化合物８からは（ＳＳ）−化合物９が、それぞれ９７％以上の高いジアステレオ選択性で生成する。

化合物８とハロゲン化アルキルとの使用割合は特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができる。通常は、化合物８に対してハロゲン化アルキルを１〜５倍モル、好ましくは１〜２倍モル用いる。また、化合物８と塩基性化合物との使用割合も特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができる。通常は、化合物８に対して塩基性化合物を１〜１０倍モル、好ましくは２〜４倍モル用いる。

当該反応は通常適当な溶媒中で行なわれる。当該溶媒としては、反応に悪影響を与えない不活性なものを用いることができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、モノグライム等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等である。当該反応の反応温度も特に限定されないが、通常、−７８〜５０℃、好ましくは−７８℃〜室温で行われる。反応時間は、通常１〜３０時間、好ましくは３０分〜５時間である。

次のステップ４では、化合物９を還元的エーテル化反応に付した後、加水分解してカルボン酸化合物３ａを合成する。具体的には、先ず、塩基性化合物の存在下、化合物９をトリメチルクロロシランで処理してシリルエーテルとする。さらに、低温下でトリメチルシリルトリフラートを触媒として，ベンズアルデヒドおよびトリエチルシランを加えて還元的エーテル化反応を行うと水酸基がベンジル化された化合物を製造できる。さらに、Ｒ⁶としてｔ−ブチル基を使用した場合には、反応後に反応液を室温まで昇温させると、ｔ−ブチル基が脱離して目的の化合物３ａがワンポットで製造される。

当該反応の第一段階目のシリル化反応に使用されるトリメチルシリル化剤としては、通常トリメチルシリル化反応に使用できるものが使用できる。例えば、クロロトリメチルシラン等のハロゲン化トリメチルシラン；ヘキサメチルジシラザン；ビストリメチルシリルウレア等を挙げることができる。化合物９とシリル化剤との使用割合も特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができる。通常は、化合物９に対してシリル化剤を１〜５倍モル、好ましくは１〜２倍モル用いる。

使用される塩基性化合物としては、通常のシリル化反応に使用される無機化合物、有機化合物の何れも使用できる。例えば、トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミンが好ましい。化合物９と塩基性化合物との使用割合は特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができる。通常は、化合物９に対して塩基性化合物を１〜１０倍モル、好ましくは１〜２倍モル用いる。

また、このステップ４は、触媒の存在下で行われる。好ましい触媒はトリメチルシリルトリフラートである。その使用量は触媒量であり、具体的には化合物９に対して０．０１〜０．８倍モル使用して行われる。

当該反応の第二段階目の還元的エーテル化反応におけるベンズアルデヒド、トリエチルシランおよび化合物９との使用割合も特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができる。通常は、ベンズアルデヒドに対してトリエチルシランおよび化合物９の試薬は、共に１〜１０倍モル、好ましくは１〜２倍モル用いる。

当該反応は、通常適当な溶媒中で行われる。当該溶媒としては、反応に悪影響を与えない不活性なものが用いられる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、モノグライム等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、二塩化エタン等のハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトニトリル；ＤＭＦ等が挙げられる。

このステップの反応温度は特に限定されないが、通常、−２０〜１００℃、好ましくは０〜５０℃で行われる。反応時間は、通常５分〜２４時間、好ましくは３０分〜１０時間である。また、この工程の反応温度は特に限定されないが、通常は−８０〜５０℃、好ましくは−８０〜０℃で行われる。反応時間は、通常５分〜２４時間、好ましくは３０分〜１０時間である。

水酸基が立体反転した化合物１０は、ステップ５により合成できる。具体的には、化合物８にアゾジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルホスフィンおよび安息香酸を反応させる光延反応を行なう。

使用できるアゾジカルボン酸ジアルキルとしては、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等を挙げることができる。化合物９に対するアゾジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルホスフィンおよび安息香酸の使用割合は特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができる。通常、化合物９に対してアゾジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルホスフィンおよび安息香酸を各々１〜３倍モル、好ましくは１〜１．５倍モル用いる。

当該反応は、通常、適当な溶媒中で行なわれる。使用できる溶媒としては、光延反応に慣用の溶媒が使用でき、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。

反応温度は、通常−５０〜５０℃、好ましくは−３０℃〜室温で行なわれる。反応時間は、通常１０分〜１０時間、好ましくは３０分〜３時間である。

次のステップ６では、化合物１０の−ＯＢｚ基を脱保護して化合物１１を合成する。具体的には、Solomon等の方法（Salomon，C．J．；Mata，E．G．；Mascaretti，O．A．，J．Org．Chem．，1994年，59巻，7259〜7266頁）に従って、アルキル錫試薬を用いる加水分解反応を行なう。

使用できるアルキル錫試薬としては、ビストリブチルスズオキシド、ビストリエチルスズオキシド等を挙げることが出来る。化合物１０に対する錫試薬の割合は、通常１．５〜２倍モル、好ましくは１．２倍モル程度である。

当該反応は、通常溶媒中で行なわれる。使用できる溶媒としては慣用の溶媒が使用でき、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。反応温度は、通常１００〜１３０℃、好ましくは１００〜１２０℃である。反応時間は、通常１０〜５０時間、好ましくは１０〜２０時間である。

各ステップの反応終了後においては、シリカゲルカラムクロマトグラフィ、減圧蒸留などの公知の単離及び精製方法を適用することによって、目的化合物を単離し、精製する。

次のステップ７で、化合物１１から目的のカルボン酸化合物３ｂを製造する条件は、前記の化合物９からカルボン酸化合物３ａを製造する条件と同じものを用いることができる。

上記合成スキーム１の原料化合物であるカルボン酸化合物３のうち、Ｚ基がＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基であるカルボン酸化合物３ｃは、例えば次の合成スキーム３により合成できる。

上記合成スキーム中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ⁶は前述したものと同義を示す。また、Ｒ⁷はＣ₁−Ｃ₆アルキル基を示す。なお、上記スキームでは化合物９として（２Ｒ，３Ｒ）体のみが示されているが、スキーム２の説明の通り（２Ｓ，３Ｓ）体も合成できる。また、化合物９および１２では３位の立体構造が保持されているが、後述する様に反転させることも可能である。よって、合成スキーム３により、カルボン酸化合物３ｃとして４つの光学異性体を製造することができる。

合成スキーム３は、合成スキーム２における化合物９を出発原料とし、合成スキーム１の原料化合物であるカルボン酸化合物３または５であって、最終的にＸ基がＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基であるトレハロース化合物（１）を製造するためのカルボン酸化合物を製造する工程である。

合成スキーム３の最初のステップ１では、化合物９の水酸基をエーテル化する。このステップでは、塩基性化合物の存在下、スルホン酸アルキルエステルを用いるアルキルエーテル化反応を利用することができる。かかる試薬を用いれば、３位における立体構造は保持される。使用できるスルホン酸アルキルエステルとしては、トリフルオロメタンスルホン酸のアルキルエステル、ｐ−トルエンスルホン酸のアルキルエステル等を挙げることができる。例えば、メチルエーテル化試薬を例に挙げると、トリフルオロメタンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸メチル等を用いることができる。化合物９とスルホン酸アルキルエステルとの使用割合は特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができる。通常は、化合物９に対してスルホン酸アルキルエステルを１〜５倍モル、好ましくは１〜１．５倍モル用いる。

使用される塩基性化合物としては、無機化合物および有機化合物の何れも使用できるが、２,６−ｔ−ブチルピリジンや４−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基が好ましい。また、化合物９と塩基性化合物との使用割合も特に限定されず、適宜調節すればよいが、通常、化合物９に対して塩基性化合物を１〜５倍モル、好ましくは１〜２倍モルとする。

当該反応は、通常適当な溶媒中で行われる。当該溶媒としては、反応に悪影響を与えない不活性なものが用いられる。例えば、塩化メチレン、クロロホルム、二塩化エタン等のハロゲン化炭化水素類；塩化テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。

その反応温度も特に限定されないが、通常、−２０〜１００℃、好ましくは室温〜５０℃で行われる。反応時間は、通常１時間〜２日間、好ましくは１〜３０時間である。

また、上記アルキルエーテル化反応のほか、３位における立体構造を反転させたい場合には、水酸基をｐ−トルエンスルホニル化するなど脱離基とし、所望のＣ₁−Ｃ₆アルコキシドを用いたＳ_N２反応を利用すればよい。かかる反応には、公知のＳ_N２反応の条件を適用することができる。

上記ステップ１で得られた化合物１２のＲ⁶が、ｔ−Ｃ₄Ｈ₉やプレニルである場合、トリメチルシリルトリフラートを触媒に用いてエステル基を分解することによって、カルボン酸３ｃを製造できる。この反応において、化合物１２とトリメチルシリルトリフラート化合物との使用割合も特に限定されず、広い範囲内から適宜選択することができるが、通常は化合物１２に対してトリメチルシリルトリフラート化合物を０．０５〜２倍モル、好ましくは０．１〜０．７倍モル用いる。

当該反応は、通常適当な溶媒中で行われる。当該溶媒としては、反応に悪影響を与えない不活性なものが用いられる。例えば、塩化メチレン、クロロホルム、二塩化エタン等のハロゲン化炭化水素類；塩化テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等である。また、その反応温度も特に限定されないが、通常、−２０〜２００℃、好ましくは室温〜５０℃で行われる。反応時間は、通常、１時間〜２日間、好ましくは１〜３０時間である。

上記合成スキーム１の原料化合物であるカルボン酸化合物３のうち、Ｚ基が水素原子であるカルボン酸化合物３ｄは、例えば次の合成スキーム４により合成できる。必要に応じて、Creger，J.Am.Chem.Soc.，92巻，1397-98頁，1970年を参照してもよい。

上記合成スキーム中、Ｒ¹およびＲ²は前述したものと同義を示す。

合成スキーム４は、化合物１２を通常のアルキル化反応に付して、カルボン酸化合物３ｄを得る工程である。原料化合物である化合物１２は、市販のものを用いることができる。

アルキル化反応には、公知の方法を適用することができる。例えば、Creger，J．Am．Chem．Soc．，92，pp1397-1398（1970年）に記載の方法を用いることができる。より具体的には、化合物１２の溶液に強塩基を加えて２位の水素原子を引き抜いた後、対応するハロゲン化アルキルを反応させればよい。

溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類を用いることができる。また、強塩基としては水素化ナトリウム等を用いることができ、リチウムジイソプロピルアミドを併用して、プロトン−リチウム交換反応を行なってもよい。化合物１２と強塩基の割合は、広い範囲内から適宜選択することができるが、通常は化合物１２に対して強塩基等を０．９〜１．２倍モル用いる。この際の反応温度は、通常−８０〜６０℃程度、より好ましくは室温〜６０℃程度とし、反応時間は３０分〜６時間程度とする。

次いで、反応混合液にハロゲン化アルキルを加える。化合物１２とハロゲン化アルキルの割合は、広い範囲内から適宜選択することができるが、通常は化合物１２に対してハロゲン化アルキルを１．１〜２倍モル程度用いる。この際の反応温度は、通常は室温程度にすればよい。また、反応時間は、通常２〜１２時間程度とする。

反応終了後においては、シリカゲルカラムクロマトグラフィ、減圧蒸留などの公知の単離及び精製方法を適用することによって、目的化合物を単離し、精製する。

本発明のトレハロース化合物（１）は、アデノシンＡ３受容体に対して良好な選択性および高い親和性を有する。よって、アデノシンＡ３受容体のアンタゴニストとして、アデノシンがアデノシンＡ３受容体に結合することにより引き起こされる疾病の予防薬または治療薬として期待できる。

本発明のトレハロース化合物（１）は、そのまま或いは医療製剤の形態でヒトまたは動物に投与される。医療製剤は、本発明化合物を通常の医療製剤の形態に製剤したものであって、通常使用される充填剤、増量剤、結合剤、保湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤および賦形剤を用いて調製される。投与形態としては特に限定はなく、治療目的に応じて適宜選択して使用される。その代表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤、乳剤）等が挙げられる。これら製剤は、常法により製造すればよい。

上記医療製剤の投与量は、用法、患者の年齢、性別、疾患の程度、その他の条件に応じて適宜選択すればよく、通常、有効成分であるトレハロース化合物（１）を、１日あたり体重１ｋｇに対して０．０１〜１００ｍｇ、好ましくは０．１〜５０ｍｇを１回〜数回に分けて投与される。

上記投与量は、種々の条件で変動するので、上記範囲より少ない投与量で充分な場合もあるし、また上記範囲を超えた投与量が必要な場合もある。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例により制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。

本発明のトレハロース化合物は、アデノシンＡ３受容体に対して高い親和性を有するアデノシンＡ３受容体アンタゴニストである。よって、本発明のトレハロース化合物は、喘息、慢性閉塞性肺疾患、脳疾患、炎症など、アデノシンＡ３受容体が関係する疾患の予防および／または治療剤として有効である。

製造例Ａ−１
３−オキソオクタン酸ｔ−ブチルエステルの製造
乾燥させた二口フラスコに無水ＴＨＦ（２００ｍｌ）を加え、そこに水素化ナトリウム（６０ｗ／ｗ％、２．７１ｇ、６７．８ｍｍｏｌ）を加えて０℃に冷却し、アセト酢酸ｔ−ブチル（９．００ｇ、５６．９ｍｍｏｌ）を滴下した。得られた混合物を０℃のまま１０分間撹拌し、これにｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍヘキサン溶液、３９．１ｍｌ、６２．６ｍｍｏｌ）を滴下した。得られた混合物を０℃で３０分間撹拌した後、これに１−ヨードブタン（１３．６ｇ、７３．９ｍｍｏｌ）を加えて６時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：２００ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製して、標記化合物（１１．３ｇ、７３％）を得た。
FT-IR（neat）：2979，2873，1748cm^-1
¹H-NMR（300MHz，CDCl₃）δ0.89（3H，t，J=6.9Hz），1.29（4H，m），1.47（9H，s），1.58（2H，m），2.52（2H，t，J=7.4Hz），3.33（2H，s）
¹³C-NMR（75MHz，CDCl₃）δ13.6，22.2，22.9，27.7，28.1，31.0，42.6，50.4，81.4，166.3，203.1
EIMS m/z（％）215（7 M⁺+1），199（10），159（100），89（18）
HRMS（CI⁺） m/z 計算値：C₁₂H₂₃O₃（M⁺+1）215.1647，実測値：215.1644

製造例Ａ−２
３−オキソノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
１−ヨードペンタン（１４．６ｇ、７３．７ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ａ−１と同様にして、標記化合物（１０．８ｇ、６６％）を得た。
FT-IR（neat）2958，2932，2860，1740，1715 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（3H，t，J = 6.9Hz），1.28（6H，m），1.47（9H，s），1.59（2H，m），2.52（2H，t，J = 7.6Hz），3.34（2H，s）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.4，23.4，27.9，28.7，31.5，42.9，50.6，81.8，166.5，203.5
CIMS m/z（%）229（54 M⁺+1），213(70)，174(92)，173(100)，172(85)，155(52)，113(92)，102(55)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₃H₂₅O₃（M⁺+1）229.1804，実測値：229.1810

製造例Ａ−３
３−オキソデカン酸ｔ−ブチルエステルの製造
１−ヨードヘキサン（１２．４ｇ、５８．５ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ａ−１と同様にして、標記化合物（９．１０ｇ、９６％）を得た。
FT-IR（neat）2955，2929，2857，1735，1714 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（3H，t，J = 7.1Hz），1.28（8H，m），1.47（9H，s），1.59（2H，m），2.52（2H，t，J = 7.4Hz），3.34（2H，s）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.2，22.8，23.7，28.1，28.5，29.2，31.8，43.1，50.8，82.0，166.7，203.6
EIMS m/z（%）242（1 M⁺），186(35)，169(32)，127(73)，102(95)，57(100)
HRMS(EI⁺)m/z 計算値：C₁₄H₂₆O₃（M⁺）242.1882，実測値：242.1876

製造例Ｂ−１
（Ｒ）−３−ヒドロキシオクタン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ａ−１で得た３−オキソオクタン酸ｔ−ブチルエステル（４．５０ｇ、２１．０ｍｍｏｌ）と、ジクロロ［（Ｒ）−（＋）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル］ルテニウム（II）［以下、（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ−ＲｕＣｌ₂と略す］（４０ｍｇ、５０．３μｍｏｌ）とを、液体窒素で凍結脱気したメタノール（１０ｍｌ）に溶解した。得られたメタノール溶液を、オートクレーブ（ＴＡＩＡＴＳＵＳＵＳ３１６）を用いて、６０気圧の水素下室温で４２時間撹拌し、反応溶液を濃縮してカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：１５０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製して、標記化合物（４．１１ｇ、８９％）を得た。
[α]_D ²⁰ -21.6^o（c 2.1）
FT-IR（neat）3449，2978，1738 cm^-1
¹H NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.89（3H，t，J = 6.7Hz），1.24-1.53（17H，m），2.31（1H，dd，J = 16.4Hz，8.9Hz），2.43（1H，dd，J = 16.4Hz，3.2Hz），3.10（OH，d，J = 3.9Hz），3.95（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ13.9，22.5，25.1，28.0，31.7，36.4，42.3，68.0，81.1，172.5
CIMS m/z（%）217（3 M⁺+1），183(8)，161(100)，143(25)，89(18)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₂H₂₅O₃（M⁺+1）217.1804，実測値：217.1813

製造例Ｂ−２
（Ｓ）−３−ヒドロキシオクタン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ａ−１で得た３−オキソオクタン酸ｔ−ブチルエステル（４．５０ｇ、２０．９ｍｍｏｌ）および触媒にジクロロ［（Ｓ）−（＋）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル］ルテニウム（II）［以下、（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ−ＲｕＣｌ₂と略す］（４０ｍｇ、５０．３μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｂ−１と同様にして、標記化合物（４．１２ｇ、９１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +21.3^o（c 2.0）
FT-IR（neat）3455，2980，1739 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.89（3H，t，J = 6.7Hz），1.24-1.53（17H，m），2.33（1H，dd，J = 16.4Hz，8.9Hz），2.43（1H，dd，J = 16.4Hz，3.2Hz），3.10（OH，d，J = 3.7Hz），3.95（1H，m）
¹³C NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，25.1，28.0，31.7，36.4，42.3，68.0，81.0，172.5
CIMS m/z（%）217（5 M⁺+1），183(6)，161(100)，143(27)，89(17)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₂H₂₅O₃（M⁺+1）217.1803，実測値：217.1794

製造例Ｂ−３
（Ｒ）−３−ヒドロキシノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ａ−２で得た３−オキソノナン酸ｔ−ブチルエステル（４．００ｇ、１７．５ｍｍｏｌ）および（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ−ＲｕＣｌ₂（４０ｍｇ、５０．３μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｂ−１と同様にして、標記化合物（３．８０ｇ、９４％）を得た。[α]_D ²⁰ -20.3^o（c 1.0）
FT-IR（neat）3443，2930，2858，1731，1714 cm^-1
¹H NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（3H，t，J = 7.0Hz），1.22-1.54（19H，m），2.30（1H，dd，J = 16.5Hz，8.9Hz），2.42（1H，dd，J = 16.5Hz，3.2Hz），3.09（OH，d，J = 3.7Hz），3.94（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，25.4，28.1，29.2，31.7，36.4，42.3，68.0，81.1，172.6
CIMS m/z（%）231（8 M⁺+1），215(8)，197(18)，175(100)，157(98)，139(22)，127(20)，89(10)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₃H₂₇O₃（M⁺+1）231.1960，実測値：231.1959

製造例Ｂ−４
（Ｓ）−３−ヒドロキシノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ａ−２で得た３−オキソノナン酸ｔ−ブチルエステル（４．００ｇ、１７．５ｍｍｏｌ）およぴ（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ−ＲｕＣｌ₂（４０ｍｇ、５０．３μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｂ−１と同様にして、標記化合物（３．９０ｇ、９６％）を得た。
[α]_D ²⁰ +25.7^o（c 0.9）
FT-IR（neat）3448，2932，2859，1731 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（3H，t，J = 7.0Hz），1.22-1.57（19H，m），2.31（1H，dd，J = 16.2Hz，8.8Hz），2.43（1H，dd，J = 16.2Hz，3.2Hz），3.07（OH，d，J = 3.9Hz），3.95（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，25.3，28.0，29.1，31.7，36.4，42.3，68.0，80.9，172.4
CIMS m/z（%）231（10 M⁺+1），197(14)，175(100)，157(97)，139(25)，127(16)，89(10)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₃H₂₇O₃（M⁺+1）231.1961，実測値：231.1942

製造例Ｂ−５
（Ｒ）−３−ヒドロキシデカン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ａ−３で得た３−オキソデカン酸ｔ−ブチルエステル（６．００ｇ、２４．８ｍｍｏｌ）および（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ−ＲｕＣｌ₂（４０ｍｇ、５０．３μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｂ−１と同様にして、標記化合物（４．８４ｇ、８０％）を得た
。
[α]_D ²⁰ -20.8^o（c 1.0）
FT-IR（neat）3445，2934，2857，1732 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）0.88（3H，t，J = 7.0Hz），1.21-1.56（21H，m），2.31（1H，dd，J = 16.2Hz，8.8Hz），2.43（1H，dd，J = 16.2Hz，3.3Hz），3.05（OH，d，J = 3.7Hz），3.94（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，25.4，28.0，29.1，29.4，31.7，36.4，42.3，68.0，81.0，172.4
CIMS m/z（%）245（4 M⁺+1），211(8)，189(100)，171(84)，127(59)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₄H₂₉O₃（M⁺+1）245.2116，実測値：245.2112

製造例Ｂ−６
（Ｓ）−３−ヒドロキシデカン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ａ−３で得た３−オキソデカン酸ｔ−ブチルエステル（６．００ｇ、２４．８ｍｍｏｌ）および（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ−ＲｕＣｌ₂（４０ｍｇ、５０．３μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｂ−１と同様にして、標記化合物（５．１２ｇ、８４％）を得た。[α]_D ²⁰+17.5^o（c 9.0）
FT-IR（neat）3443，2928，2857，1731 cm^-1
¹H NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（3H，t，J = 6.9Hz），1.21-1.56（21H，m），2.31（1H，dd，J = 16.2Hz，8.8Hz)，2.43（1H，dd，J = 16.2Hz，3.2Hz），3.06（OH，d，J = 3.7Hz），3.95（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，25.4，28.0，29.1，29.4，31.7，36.4，42.3，68.0，81.0，172.4
CIMS m/z（%）245（45 M⁺+1），227(5)，211(10)，189(100)，171(45)，127(10)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₄H₂₉O₃（M⁺+1）245.2116，実測値：245.2111

製造例Ｃ−１
（２Ｒ，３Ｒ）−２−ブチル−３−ヒドロキシオクタン酸ｔ−ブチルエステルの製造
乾燥させた二口フラスコを−７８℃に冷却し、ジイソプロピルアミン（５．４１ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）を加え、次にメチルリチウム（０．９８Ｍジエチルエーテル溶液、４５ｍｌ、４４．１ｍｍｏｌ）を滴下し、１０分間撹拌後、０℃に昇温してさらに３０分間撹拌した。反応溶液を−４８℃に冷却し、製造例Ｂ−１で得た（Ｒ）−３−ヒドロキシオクタン酸ｔ−ブチルエステル（３．５０ｇ、１６．２ｍｍｏｌ）を滴下しながら加え、３０分間撹拌した。得られた混合物にヘキサリン酸トリアミド（ＨＭＰＡ）（７ｍｌ）を加えて１分間撹拌し、１−ヨードブタン（３．８７ｇ、２１．０ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を−４８℃で１時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：１５０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１）で精製して、標記化合物（１．９８ｇ、４４％）を得た。
[α]_D ²⁰ +7.2^o（c 2.1）
FT-IR（neat）3490，2971，1734 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）0.89（3H，t，J = 6.6Hz），0.90（3H，t，J = 6.9Hz），1.20-1.79（23H，m），2.31（1H，dt，J = 8.9Hz，5.4Hz），2.66（OH，d，J = 8.7Hz），3.60（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ13.9，14.0，22.6(2C)，25.5，28.1，29.4，29.5，31.8，35.8，51.2，72.5，81.0，175.3
CIMS m/z（%）273（1 M⁺+1），239(10)，217(100)，199(92)，145(15)，116(15)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₆H₃₃O₃（M⁺+1）273.2430，実測値：273.2440

製造例Ｃ−２
（２Ｓ，３Ｓ）−２−ブチル−３−ヒドロキシオクタン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｂ−２で得た（Ｓ）−３−ヒドロキシオクタン酸ｔ−ブチルエステル（３．５０ｇ、１６．２ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｃ−１と同様にして、標記化合物（２．１３ｇ、４８％）を得た。
[α]_D ²⁰ -6.9^o（c 2.0）
FT-IR（neat）3469，2971，1733 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.89（3H，t，J = 6.6Hz），0.90（3H，t，J = 6.9Hz），1.21-1.79（23H，m），2.31（1H，dt，J = 8.9Hz，5.2Hz），2.66（OH，d，J = 8.7Hz），3.60（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ13.9，14.0，22.5(2C)，25.4，28.1，29.4，29.5，31.8，35.7，51.2，72.5，81.0，175.3
CIMS m/z（%）273（1 M⁺+1），239(10)，217(100)，199(84)，145(13)，116(13)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₆H₃₃O₃（M⁺+1）273.2430，実測値：273.2428

製造例Ｃ−３
（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｂ−３で得た（Ｒ）−３−ヒドロキシノナン酸ｔ−ブチルエステル（５．００ｇ、２１．７ｍｍｏｌ）および１−ヨードペンタン（５．５９ｇ、２８．２ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｃ−１と同様にして、標記化合物（２．４９ｇ、３８％）を得た。
[α]_D ²⁰ +7.4^o（c 3.4）
FT-IR（neat）3464，2963，2861，1730 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，t，J = 6.7Hz），1.20-1.78（27H，m），2.31（1H，dt，J = 9.6Hz，5.2Hz），2.64（OH，d，J = 8.7Hz），3.59（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.5，22.6，25.8，27.0，28.1，29.3，29.7，31.7，31.8，35.8，51.3，72.5，81.1，175.3
CIMS m/z（%）301（4 M⁺+1），287(5)，267(10)，245(100)，227(91)，215(10)，159(32)，130(35)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₈H₃₇O₃（M⁺+1）301.2742，実測値：301.2734

製造例Ｃ−４
（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｂ−３で得た（Ｒ）−３−ヒドロキシノナン酸ｔ−ブチルエステル（５．００ｇ、２１．７ｍｍｏｌ）および１−ヨードペンタン（５．５９ｇ、２８．２ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｃ−１と同様にして、標記化合物（２．００ｇ、３１％）を得た。
[α]_D ²⁰ -8.0^o（c 2.1）
FT-IR（neat）3464，2959，2860，1730，1713 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，t，J = 6.6Hz），1.18-1.82（27H，m），2.32（1H，dt，J = 10.0Hz，5.4Hz），2.68（OH，d，J = 8.8Hz），3.60（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0(2C)，22.4，22.6，25.7，26.9，28.1，29.2，29.7，31.6，31.8，35.8，51.2，72.4，81.0，175.3
CIMS m/z（%）301（2 M⁺+1），287(5)，267(10)，245(100)，227(92)，215(10)，159(32)，130(33)，89(36)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₈H₃₇O₃（M⁺+1）301.2743，実測値：301.2745

製造例Ｃ−５
（２Ｒ，３Ｒ）−２−ヘキシル−３−ヒドロキシデカン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｂ−５で得た（Ｒ）−３−ヒドロキシデカン酸ｔ−ブチルエステル（４．００ｇ、１６．４ｍｍｏｌ）および１−ヨードヘキサン（５．２０ｇ、２４．５ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｃ−１と同様にして、標記化合物（１．８０ｇ、３３％）を得た。
[α]_D ²⁰ +6.4^o（c 10.0）
FT-IR（neat）3493，2928，2857，1728，1709 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，t，J = 6.9Hz），1.22-1.78（31H，m），2.31（1H，dt，J = 9.1Hz，5.2Hz），2.64（OH，d，J = 8.5Hz），3.59（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，22.6，25.7，27.2，28.1，29.1，29.2，29.5，29.7，31.6，31.8，35.8，51.3，72.5，80.9，175.2
CIMS m/z（%）329（25 M⁺+1），311(5)，273(100)，255(86)，237(6)，213(5)，173(17)，144(21)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₀H₄₁O₃（M⁺+1）329.3056，実測値：329.3056

製造例Ｃ−６
（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヘキシル−３−ヒドロキシデカン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｂ−６で得た（Ｓ）−３−ヒドロキシデカン酸ｔ−ブチルエステル（４．００ｇ、１６．４ｍｍｏｌ）および１−ヨードヘキサン（５．２０ｇ、２４．５ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｃ−１と同様にして、標記化合物（２．２０ｇ、４１％）を得た。
[α]_D ²⁰ -7.1^o（c 10.0）
FT-IR（neat）3497，2929，2857，1728，1708 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）0.88（6H，t，J = 6.9Hz），1.22-1.78（31H，m），2.31（1H，dt，J = 9.1Hz，5.2Hz），2.64（OH，d，J = 8.5Hz），3.59（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，22.6，25.8，27.2，28.1，29.1，29.2，29.5，29.7，31.6，31.8，35.8，51.3，72.5，81.0，175.3
CIMS m/z（%）329（20 M⁺+1），295(8)，273(100)，255(90)，237(5)，173(10)，144(11)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₀H₄₁O₃（M⁺+1）329.3056，実測値：329.3050

製造例Ｃ−７−１
（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンゾイルオキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｃ−３で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（１．００ｇ、３．３３ｍｍｏｌ）を無水トルエン（１８ｍｌ）に溶解して０℃に冷却した。そこへ安息香酸（８１３ｍｇ、６．６６ｍｍｏｌ）、トリフェニルフォスフィン（２．０１ｇ、７．６６ｍｍｏｌ）およびジイソプロピルアゾジカルボキシレート（以下、「ＤＩＡＤ」と略す）（４０ｗ／ｖ％トルエン溶液：３．８７ｍｌ、７．６６ｍｍｏｌ）を順次加え、２時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：４０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１）で精製して、標記化合物（１．２８ｇ、９５％）を得た。
[α]_D ²⁰ -0.26^o（c 28，CHCl₃）
FT-IR（neat）3090，3063，3033，2957，2859，1733 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.86（6H，m），1.18-1.57（25H，m），1.69（2H，m），2.64（1H，ddd，J = 10.7Hz，7.0Hz，3.7Hz），5.28（1H，ddd，J = 8.1Hz，7.0Hz，4.1Hz），7.45（2H，m），7.57（1H，tt，J = 6.5Hz，1.4Hz），8.05（2H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0(2C)，22.5(2C)，25.3，27.1，28.0，28.4，29.1，31.6，31.8，50.6，75.0，80.6，128.3，129.6，130.4，132.9，166.0，172.5
CIMS m/z（%）405(12 M⁺+1)，349(100)，331(21)，278(15)，262(8)，227(85)，226(60)，209(33)，182(20)，123(19)，105(59)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₅H₄₁O₄（M⁺+1）405.3005，実測値：405.2991

製造例Ｃ−７−２
（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｃ−７−１で得た（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンゾイルオキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（１．２４ｇ、３．０６ｍｍｏｌ）を無水トルエン（４ｍｌ）に溶解し、トリブチルスズオキシド（２．３４ｇ、３．９２ｍｍｏｌ）を加えて加熱還流した。３９時間後、反応液に蒸留水を加え、ジエチルエーテルで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：３０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）で精製して、標記化合物（５０１ｍｇ、５４％）を得た。
[α]_D ²⁰ +2.7^o（c 2.4）
FT-IR（neat）3435，2957，2931，2859，1726 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，m），1.14-1.72（27H，m），2.30（1H，dt，J = 10.2Hz，4.4Hz），2.51（OH，d，J = 4.4Hz），3.74（1H，dt，J = 8.4Hz，4.4Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.5，22.6，25.8，26.9，27.3，28.1，29.2，31.7，31.8，34.3，51.7，72.2，80.9，175.1
CIMS m/z（%）301（3 M⁺+1），287(4)，267(14)，245(95)，227(100)，186(10)，159(15)，130(85)，113(10)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₈H₃₇O₃（M⁺+1）301.2743，実測値：301.2739

製造例Ｃ−８−１
（２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンゾイルオキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｃ−４で得た（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（１．００ｇ、３．３３ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｃ−７−１と同様にして、標記化合物（１．２３ｇ、９１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +0.25^o（c 10，CHCl₃）
FT-IR（neat）3089，3063，3032，2958，2860，1733 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.86（6H，m），1.18-1.56（25H，m），1.69（2H，m），2.64（1H，ddd，J = 10.7Hz，7.0Hz，3.7Hz），5.28（1H，ddd，J = 8.5Hz，7.2Hz，4.3Hz），7.45（2H，m），7.57（1H，tt，J = 7.3Hz，1.4Hz），8.05（2H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ13.9，14.0，22.4，22.5，25.3，27.1，28.0，28.4，29.1，31.6，31.8，50.6，75.0，80.6，128.3，129.6，130.4，132.9，166.0，172.5
CIMS m/z（%）405(14 M⁺+1)，349(100)，331(21)，278(13)，227(80)，209(30)，182(16)，112(20)，105(49)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₅H₄₁O₄（M⁺+1）405.3005，実測値：405.2999

製造例Ｃ−８−２
（２Ｓ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｃ−８−１で得た（２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンゾイルオキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（１．７２ｇ、４．２５ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｃ−７−２と同様にして、標記化合物（６８０ｍｇ、５４％）を得た。
[α]_D ²⁰ -3.3^o（c 2.2）
FT-IR（neat）3437，2967，2864，1731 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，m），1.18-1.72（27H，m），2.30（1H，dt，J = 10.3Hz，4.4Hz），2.51（OH，d，J = 4.4Hz），3.74（1H，dt，J = 8.7Hz，4.4Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0(2C)，22.5，22.6，25.8，27.0，27.3，28.1，29.2，31.7，31.8，34.3，51.7，72.2，80.9，175.1
CIMS m/z（%）301（2 M⁺+1），267(15)，245(82)，227(100)，186(8)，159(10)，130(65)，113(10)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₈H₃₇O₃（M⁺+1）301.2742，実測値：301.2735

製造例Ｃ−９
（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステルの製造
製造例Ｃ−３で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（５００ｍｇ、１．６６ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（５．０ｍｌ）に溶解し、これに２，６−ジｔ−ブチルピリジン（４７６ｍｇ、２．４９ｍｍｏｌ）を加え、５分間室温で撹拌した。得られた混合物にメチルトリフラート（３２８ｍｇ、１．９９ｍｍｏｌ）を加え、４０℃に加温して２０時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジクロロメタンで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：２５ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）で精製して、標記化合物（４９８ｍｇ、９５％）を得た。
[α]_D ²⁰ +7.8^o（c 2.5）
FT-IR（neat）2963，2863，1733 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，m），1.18-1.66（27H，m），2.44（1H，m），3.33（3H，s），3.34（1H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0(2C)，22.5，22.6，24.6，27.2，27.8，28.1，29.5，30.7，31.7，31.8，50.4，57.6，80.0，82.4，174.0
CIMS m/z（%）315（3 M⁺+1），301(4)，259(92)，241(100)，227(34)，186(28)，173(15)，129(92)
HRMS(CI)m/z 計算値：C₁₉H₃₉O₃（M⁺+1）315.2899，実測値：315.2884

製造例Ｄ−１
（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタン酸の製造
製造例Ｃ−１で得た（２Ｒ，３Ｒ）−２−ブチル−３−ヒドロキシオクタン酸ｔ−ブチルエステル（１．００ｇ、３．６７ｍｍｏｌ）を、無水ジクロロメタン（１２ｍｌ）に溶解した。この溶液に、トリエチルアミン（１．３７ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）およびトリメチルクロロシラン（１．２０ｇ、１１．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。蒸留水を加えてジクロロメタンで３回抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後濃縮した。粗生成物を無水ジクロロメタン（６９ｍｌ）に溶解し、−４８℃に冷却した。さらに、これにベンズアルデヒド（５８４ｍｇ、５．５１ｍｍｏｌ）、トリエチルシラン（６４１ｍｇ、５．５１ｍｍｏｌ）およびトリメチルシリルトリフラート（４０８ｍｇ、１．８４ｍｍｏｌ）を順次加え、−４８℃で１５分間撹拌後、室温まで昇温した。２時間反応した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：３０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７／１）で精製して、標記化合物（７８１ｍｇ、７０％）を得た。
[α]_D ²⁰ -1.5^o（c 5.0）
FT-IR（neat）3088，3064，3032，2956，2861，1710 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，t，J = 6.9Hz），1.20-1.73（14H，m），2.66（1H，ddd，J = 10.3Hz，5.9Hz，5.6Hz），3.65（1H，q，J = 5.9Hz），4.52（1H，d，J = 11.4Hz），4.61（1H，d，J = 11.4Hz），7.25-7.36（5H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ13.9，14.0，22.6(2C)，24.4，27.5，29.8，31.0，31.9，49.7，72.1，79.9，127.7，127.9，128.3，138.1，180.1
CIMS m/z（%）307（85 M⁺+1），298(100)，271(18)，243(12)，199(30)，171(10)，133(10)，91(90)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₉H₃₁O₃（M⁺+1）307.2273，実測値：307.2266

製造例Ｄ−２
（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタン酸の製造
製造例Ｃ−２で得た（２Ｓ，３Ｓ）−２−ブチル−３−ヒドロキシオクタン酸ｔ−ブチルエステル（１．００ｇ、３．６７ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｄ−１と同様にして、標記化合物（７４０ｍｇ、６６％）を得た。
[α]_D ²⁰ +1.5^o（c 5.0）
FT-IR（neat）3088，3064，3032，2962，2871，1713 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，t，J = 6.9Hz），1.99-1.72（14H，m），2.66（1H，ddd，J = 10.5Hz，6.1Hz，5.8Hz），3.65（1H，q，J = 5.8Hz），4.52（1H，d，J = 11.4Hz），4.60（1H，d，J = 11.4Hz），7.25-7.36（5H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ13.9，14.0，22.6(2C)，24.4，27.4，29.8，31.0，31.9，49.7，72.1，79.9，127.6，127.8，128.3，138.1，180.3
CIMS m/z（%）307（88 M⁺+1），298(100)，271(20)，243(15)，199(23)，191(10)，133(12)，91(85)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₉H₃₁O₃（M⁺+1）307.2273，実測値：307.2270

製造例Ｄ−３
（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸の製造
製造例Ｃ−３で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（１．００ｇ、３．３３ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｄ−１と同様にして、標記化合物（８２０ｍｇ、７４％）を得た。
[α]_D ²⁰ +7.5^o（c 2.5）
FT-IR（neat）3031，2959，2861，1945，1866，1806，1713 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，m），1.18-1.74（18H，m），2.66（1H，ddd，J = 10.2Hz，5.8Hz，4.4Hz），3.64（1H，q，J = 5.8Hz），4.52（1H，d，J = 11.3Hz），4.60（1H，d，J = 11.3Hz），7.22-7.40（5H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ13.9，14.0，22.3，22.5，24.6，27.2，27.5，29.3，30.9，31.7(2C)，49.7，72.0，79.9，127.6，127.9，128.3，138.2，180.7
CIMS m/z（%）335（52 M⁺+1），317(70)，299(10)，228(37)，182(18)，157(10)，133(10)，107(35)，91(100)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₁H₃₅O₃（M⁺+1）335.2586，実測値：335.2577

製造例Ｄ−４
（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸の製造
製造例Ｃ−４で得た（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（１．００ｇ、３．３３ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｄ−１と同様にして、標記化合物（９６６ｍｇ、８７％）を得た。
[α]_D ²⁰ -6.7^o（c 2.5）
FT-IR（neat）3031，2957，2860，1945，1867，1805，1713 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，m），1.18-1.74（18H，m），2.64（1H，ddd，J = 10.2Hz，5.1Hz，4.4Hz），3.63（1H，q，J = 5.1Hz），4.53（1H，d，J = 11.4Hz），4.64（1H，d，J = 11.4Hz），7.29-7.39（5H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.4，22.6，24.7，27.3，27.7，29.4，31.1，31.7，31.8，49.7，72.1，79.9，127.6，127.8，128.3，138.1，180.3
CIMS m/z（%）335（68 M⁺+1），317(85)，299(12)，228(36)，182(19)，157(10)，133(13)，107(31)，91(100)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₁H₃₅O₃（M⁺+1）335.2586，実測値：335.2580

製造例Ｄ−５
（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカン酸の製造
製造例Ｃ−５で得た（２Ｒ，３Ｒ）−２−ヘキシル−３−ヒドロキシデカン酸ｔ−ブチルエステル（７００ｍｇ、２．２６ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｄ−１と同様にして、標記化合物（５２２ｍｇ、６４％）を得た。
[α]_D ²⁰ +1.3^o（c 2.2）
FT-IR（neat）3087，3064，3031，2931，2857，1708 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，m），1.16-1.42（18H，m），1.59（4H，m），2.65（1H，dt，J = 10.5Hz，5.1Hz），3.64（1H，q，J = 5.6Hz），4.52（1H，d，J = 11.1Hz），4.61（1H，d，J = 11.1Hz），7.23-7.38（5H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.6(2C)，24.8，27.6，27.7，29.2，29.6，31.1，31.6，31.8，49.7，72.1，79.9，127.6，127.8，128.3，138.1，180.1
CIMS m/z（%）363（100 M⁺+1），345(91)，327(11)，255(15)，199(7)，107(8)，91(34)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₃H₃₉O₃（M⁺+1）363.2899，実測値：363.2904

製造例Ｄ−６
（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカン酸の製造
製造例Ｃ−６で得た（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヘキシル−３−ヒドロキシデカン酸ｔ−ブチルエステル（７００ｍｇ、２．２６ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｄ−１と同様にして、標記化合物（６２１ｍｇ、７６％）を得た。
[α]_D ²⁰ -1.8^o（c 2.2）
FT-IR（neat）3088，3069，3031，2930，2858，1709 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）0.88（6H，m），1.16-1.42（18H，m），1.59（4H，m），2.65（1H，dt，J = 10.5Hz，5.1Hz），3.64（1H，q，J = 5.8Hz），4.52（1H，d，J = 11.3Hz），4.61（1H，d，J = 11.3Hz），7.23-7.38（5H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.6(2C)，24.8，27.6，27.7，29.2，29.6，31.1，31.6，31.8，49.7，72.1，79.9，127.6，127.8，128.3，138.1，180.1
CIMS m/z（%）363（90 M⁺+1），345(100)，327(15)，299(10)，255(22)，199(8)，133(9)，91(38)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₃H₃₉O₃（M⁺+1）363.2899，実測値：363.2892

製造例Ｄ−７
（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸の製造
製造例Ｃ−７−２で得た（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（５００ｍｇ、１．６６ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｄ−１と同様にして、標記化合物（３７８ｍｇ、６８％）を得た。
[α]_D ²⁰ -16.3^o（c 2.9）
FT-IR（neat）3064，3032，2959，2861，1946，1867，1712 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，m），1.16-1.84（18H，m），2.67（1H，dt，J = 9.9Hz，5.2Hz），3.62（1H，q，J = 5.2Hz），4.56（1H，d，J = 11.3Hz），4.63（1H，d，J = 11.3Hz），7.26-7.46（5H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ13.9，14.0，22.4，22.5，25.3，27.4，27.9，29.2，31.7，49.2，72.1，79.8，127.8，128.1，128.5，138.1，180.3
CIMS m/z（%）335（31 M⁺+1），317(52)，299(9)，228(24)，227(22)，182(12)，107(25)，91(100)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₁H₃₅O₃（M⁺+1）335.2586，実測値：335.2588

製造例Ｄ−８
（２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸の製造
製造例Ｃ−８−２で得た（２Ｓ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（５００ｍｇ、１．６６ｍｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｄ−１と同様にして、標記化合物（４７０ｍｇ、８４％）を得た。
[α]_D ²⁰ +16.5^o（c 2.2）
FT-IR（neat）3064，3031，2958，2861，1945，1867，1805，1713 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，m），1.16-1.84（18H，m），2.67（1H，dt，J = 9.9Hz，5.2Hz），3.62（1H，q，J = 5.2Hz），4.56（1H，d，J = 11.3Hz），4.63（1H，d，J = 11.3Hz），7.28-7.44（5H，m）¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.4，22.6，25.4，27.5，27.9，29.3，31.7，49.2，72.1，79.8，127.8，128.0，128.4，138.1，180.2
CIMS m/z（%）335（42 M⁺+1），317(80)，299(10)，228(40)，227(30)，182(18)，157(10)，133(10)，91(100)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₂₁H₃₅O₃（M⁺+1）335.2586，実測値：335.2582

製造例Ｄ−９
（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナン酸の製造
製造例Ｃ−９で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナン酸ｔ−ブチルエステル（４５０ｍｇ、１．４３ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（１０ｍｌ）に溶解し、０℃に冷却した。得られた溶液を撹拌しながら、これにトリメチルシリルトリフラート（１６２ｍｇ、７２９μｍｏｌ）を滴下して５分間撹拌した後、室温まで昇温した。３０分間反応させた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：１５ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製して、標記化合物（３４１ｍｇ、９２％）を得た。
[α]_D ²⁰ +21.3^o（c 1.1）
FT-IR（neat）2956，2933，2860，1708 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.88（6H，m），1.20-1.72（18H，m），2.58（1H，ddd，J = 10.2Hz，5.6Hz，4.7Hz），3.38（1H，m），3.41（3H，s）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.4，22.6，24.7，27.3，27.9，29.4，30.8，31.7，31.8，49.6，57.9，82.0，179.8
CIMS m/z（%）259（17 M⁺+1），241(100)，227(29)，209(20)，129(74)，97(21)
HRMS(CI⁺)m/z 計算値：C₁₅H₃₁O₃（M⁺+1）259.2273，実測値：259.2268

製造例Ｅ−１
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−３で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸（１００ｍｇ、２９９μｍｏｌ）およびトレハロース化合物（２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジルオキシ−α，α’−トレハロース）（１１５ｍｇ、１３０μｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（３ｍｌ）に溶解し、粉末モレキュラーシーブス４Ａ、４−ジメチルアミノピリジン（１５．８ｍｇ、１３０μｍｏｌ）および１−エチル−３−（３−ジエチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩［以下、ＥＤＣＩと略す］（７４．６ｍｇ、３８９μｍｏｌ）を順次加え、室温で６時間反応した。反応液をセライト−５３５を用いて濾過し、濾液に蒸留水を加えてジクロロメタンで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後、濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：１５ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製して、標記化合物（１６８ｍｇ、８５％）を得た。
[α]_D ²⁰ +91.9^o（c 0.5）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2929，2858，1949，1871，1807，1738 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.83（12H，m），1.10-1.68（36H，m），2.66（2H，ddd，J =10.6Hz，7.2Hz，3.7Hz），3.49（2H，dd，J = 9.6Hz，3.6Hz），3.55（2H，t，J = 9.5Hz），3.62（2H，m），4.01（2H，t，J = 9.5Hz），4.09（2H，dd，J = 12.8Hz，3.6Hz），4.19（4H，m），4.46（4H，s），4.52（2H，d，J = 10.6Hz），4.61（2H，d，J = 11.8Hz），4.67（2H，d，J = 11.8Hz），4.84（4H，d，J = 11.1Hz），4.99（2H，d，J = 10.9Hz），5.10（2H，d，J = 3.7Hz），7.19-7.37（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.4，22.6，24.9，27.5，29.4，31.1，31.8，49.8，62.2，69.1，71.8，72.9，75.2，75.6，77.2，77.7，79.6，80.2，81.5，93.9，127.4，127.6，127.7，127.8，127.9，128.2，128.4(3C)，137.8，138.0，138.6，138.7，174.3
FABMS m/z（%）1538（2 M⁺+Na），750(2)，642(10)，551(19)，443(12)）^x25，209(4)，181(41)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₉₆H₁₂₂O₁₅Na（M⁺+Na）1537.8681，実測値：1537.8657

製造例Ｅ−２
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−４で得た（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸（１００ｍｇ、２９９μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（１５１ｍｇ、７７％）を得た。
[α]_D ²⁰ +74.1^o（c 0.3）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2929，2858，1949，1869，1807，1738 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）0.84（12H，m），1.10-1.68（36H，m），2.69（2H，ddd，J = 10.7Hz，7.0Hz，3.4Hz），3.50（2H，m），3.55（2H，m），3.62（2H，m），4.00（2H，t，J =9.4Hz），4.06（2H，dd，J = 12.2Hz，2.6Hz），4.21（4H，m），4.44（4H，m），4.46（4H，m），4.64（2H，d，J = 12.1Hz），4.70（2H，d，J = 12.1Hz），4.75（2H，d，J = 10.5Hz），4.84（2H，d，J = 10.9Hz），4.98（2H，d，J = 10.9Hz），5.08（2H，d，J = 3.4Hz），7.14-7.38（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.1(2C)，22.5，22.6，24.8，27.4，27.6，29.5，31.0，31.8，49.7，62.1，69.1，71.8，72.9，75.3，75.7，77.7，79.5，80.0，81.5，94.0，127.4，127.6，127.7，127.8，127.9，128.0，128.2，128.3，128.4(2C)，128.5，137.8，137.9，138.5，138.7，174.2
FABMS m/z（%）1538（2 M⁺+Na），750(2)，641(7)，443(10)）^x25，181(29)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₉₆H₁₂₂O₁₅Na（M⁺+Na）1537.8681，実測値：1537.8657

製造例Ｅ−３
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−７で得た（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸（１００ｍｇ、２９９μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（１７３ｍｇ、８７％）を得た。
[α]_D ²⁰ +82.1^o（c 0.5）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2953，2928，2858，1950，1874，1807，1736 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）0.83（12H，m），1.10-1.76（36H，m），2.65（2H，ddd，J = 10.4Hz，6.6Hz，4.1Hz），3.49（2H，dd，J = 9.6Hz，3.6Hz），3.54（2H，m），3.59（2H，t，J = 9.8Hz），4.02（2H，t，J = 9.3Hz），4.08（2H，dd，J = 12.2Hz，2.5Hz），4.18（4H，m），4.45（2H，d，J = 11.3Hz），4.52（2H，d，J = 10.6Hz），4.54（2H，d，J = 11.3Hz），4.62（2H，d，J = 11.8Hz），4.68（2H，d，J = 11.8Hz），4.84（4H，d，J = 10.7Hz），4.98（2H，d，J = 10.7Hz），5.09（2H，d，J = 3.6Hz），7.19-7.36（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.5，22.6，25.3，27.6，28.4，29.4，31.8，32.1，49.9，62.1，69.1，71.9，73.1，75.2，75.7，77.8，79.8，80.0，81.5，93.8，127.4，127.5，127.6，127.7，127.8，127.9(2C)，128.3，128.4(2C)，128.5，137.8，138.0，138.5，138.7，174.1
FABMS m/z（%）1538（1 M⁺+Na），642(4)，443(9)）^x25，181(28)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₉₆H₁₂₂O₁₅Na（M⁺+Na）1537.8681，実測値：1537.8658

製造例Ｅ−４
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−８で得た（２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸（１００ｍｇ、２９９μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（１７９ｍｇ、９１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +87.3^o（c 0.4）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2953，2928，2858，1949，1869，1808，1734 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.82（12H，m），1.10-1.74（36H，m），2.70（2H，ddd，J =10.7Hz，6.5Hz，4.4Hz），3.45（2H，dd，J = 9.6Hz，3.6Hz），3.52（2H，m），3.55（2H，t，J = 9.6Hz），4.00（2H，t，J = 9.4Hz），4.10（2H，dd，J = 12.8Hz，3.3Hz），4.18（4H，m），4.45（2H，d，J = 11.4Hz），4.53（2H，d，J = 10.6Hz），4.58（2H，d，J = 11.4Hz），4.61（2H，d，J = 11.8Hz），4.68（2H，d，J = 11.8Hz），4.79（2H，d，J = 10.6Hz），4.83（2H，d，J = 10.9Hz），4.96（2H，d，J = 10.9Hz），5.13（2H，d，J = 3.6Hz），7.19-7.34（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.5，22.6，25.4，27.5，28.8，29.4，31.8，32.0，49.6，62.1，69.1，71.8，73.0，75.2，75.6，77.7，79.6，80.2，81.5，94.0，127.4，127.5，127.6，127.7(2C)，127.8，127.9(2C)，128.4(3C)，128.5，137.9，138.1，138.4，138.7，174.1
FABMS m/z（%）1538（1 M⁺+Na），749(2)，641(8)，551(11)，443(8)）^x25，181(25)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₉₆H₁₂₂O₁₅Na（M⁺+Na）1537.8681，実測値：1537.8657

製造例Ｅ−５
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−５で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカン酸（１３６ｍｇ、３７４μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（１６４ｍｇ、６１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +83.0^o（c 0.2）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2927，2857，1949，1872，1806，1737 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.80（6H，t，J = 7.2Hz），0.86（6H，t，J = 7.0Hz），1.10-1.68（44H，m），2.66（2H，ddd，J = 10.6Hz，6.7Hz，3.6Hz），3.49（2H，dd，J = 9.6Hz，3.6Hz），3.55（2H，t，J = 9.6Hz），3.62（2H，m），4.02（2H，t，J = 9.6Hz），4.09（2H，dd，J = 12.1Hz，2.7Hz），4.18（4H，m），4.45（4H，s），4.52（2H，d，J = 10.6Hz），4.61（2H，d，J = 12.0Hz），4.67（2H，d，J = 12.0Hz），4.83（2H，d，J = 10.6Hz），4.84（2H，d，J = 11.0Hz），4.98（2H，d，J = 11.0Hz），5.10（2H，d，J = 3.6Hz），7.16-7.36（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.6(2C)，24.9，27.6，27.8，29.2，29.3，29.7，31.1，31.6，31.8，49.8，62.2，69.1，71.9，73.0，75.2，75.6，77.8，79.6，80.2，81.5，93.8，127.4，127.5，127.7，127.8，127.9，128.2，128.4(3C)，137.8，138.0，138.6，138.7，174.3

製造例Ｅ−６
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−６で得た（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカン酸（１３６ｍｇ、３７４μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（１６６ｍｇ、６２％）を得た。
[α]_D ²⁰ +50.1^o（c 1.0）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2957，2862，1949，1872，1806，1740 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.84（6H，t，J = 7.0Hz），0.85（6H，t，J = 7.0Hz），1.10-1.68（44H，m），2.68（2H，ddd，J = 10.7Hz，6.7Hz，3.6Hz），3.50（2H，dd，J = 9.4Hz，3.4Hz），3.55（2H，t，J = 9.4Hz），3.62（2H，m），4.00（2H，t，J = 9.4Hz），4.06（2H，m），4.20（4H，m），4.43（2H，d，J = 11.8Hz），4.45（2H，d，J = 10.5Hz），4.48（2H，d，J = 11.8Hz），4.64（2H，d，J = 12.0Hz），4.70（2H，d，J = 12.0Hz），4.75（2H，d，J = 10.5Hz），4.83（2H，d，J = 10.9Hz），4.97（2H，d，J = 10.9Hz），5.09（2H，d，J = 3.4Hz），7.14-7.36（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，24.7，27.6，29.1，29.2，29.7，30.9，31.6，31.7，49.6，62.1，69.1，71.8，72.9，75.1，75.6，77.7，79.5，80.0，81.4，93.9，127.3，127.5，127.7(2C)，127.8，127.9，128.1，128.3，128.4，137.8，137.9，138.5，138.6，174.1

製造例Ｅ−７
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−９で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナン酸（１０１ｍｇ、３９１μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（２００ｍｇ、８６％）を得た。
[α]_D ²⁰ +82.7^o（c 0.5）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2929，2858，1950，1874，1807，1738 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.81（6H，m），0.87（6H，m），1.12-1.64（36H，m），2.58（2H，ddd，J = 10.5Hz，7.0Hz，3.6Hz），3.25（6H，s），3.34（2H，dt，J = 6.7Hz，3.6Hz），3.53（2H，dd，J = 9.6Hz，3.4Hz），3.56（2H，t，J = 9.6Hz），4.04（2H，t，J = 9.6Hz），4.19（6H，m），4.56（2H，d，J = 10.6Hz），4.67（2H，d，J = 12.0Hz），4.71（2H，d，J = 12.0Hz），4.86（2H，d，J = 10.9Hz），4.87（2H，d，J = 10.6Hz），5.00（2H，d，J = 10.9Hz），5.16（2H，d，J = 3.6Hz），7.23-7.37（30H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.4，22.6，24.7，27.4，27.6，29.5，30.5，31.8，49.5，57.4，62.2，69.2，73.0，75.2，75.7，77.8，79.5，81.6，81.9，93.7，127.5，127.6，127.7，127.9(2C)，128.0，128.4(2C)，137.8，138.0，138.7，174.2
FABMS m/z（%）1386（5 M⁺+Na），673(3)）^x20，475(2)，181(39)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₈₄H₁₁₄O₁₅Na（M⁺+Na）1385.8055，実測値：1385.8104

製造例Ｅ−８
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ブチルヘキサノイル）−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
上記製造例Ｅ−１と同様に反応及び後処理を行った。即ち、２−ブチルヘキサン酸（１２３ｍｇ、７１４μｍｏｌ）およびトレハロース化合物（２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジルオキシ−α，α’−トレハロース）（３００ｍｇ、３４０μｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（３ｍｌ）に溶解し、粉末モレキュラーシーブス４Ａ、４−ジメチルアミノピリジン（２０．７ｍｇ、１７０μｍｏｌ）およびＥＤＣＩ（１６３ｍｇ、８４８μｍｏｌ）を順次加え、２時間加熱還流した。セライト−５３５を用いて反応液を濾過し、濾液に蒸留水を加え、ジクロロメタンで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、濾過後、濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：１５ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７／１）で精製して、標記化合物（３５８ｍｇ、８８％）を得た。
[α]_D ²⁰ +79.1^o（c 1.1）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2956，2860，1950，1874，1807，1739 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.83（12H，m），1.23（16H，m），1.44（4H，m），1.58（4H，m），2.32（2H，m），3.54（2H dd，J = 9.5Hz，3.6Hz），3.56（2H，t，J = 9.5Hz），4.05（2H，t，J = 9.5Hz），4.09（2H，m），4.20（4H，m），4.54（2H，d，J = 10.6Hz），4.68（2H，d，J = 12.0Hz），4.72（2H，d，J = 12.0Hz），4.86（2H，d，J = 10.9Hz），4.88（2H，d，J = 10.6Hz），5.00（2H，d，J = 10.9Hz），5.18（2H，d，J = 3.6Hz），7.22-7.38（30H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ13.9(2C)，22.6，29.5(2C)，32.1(2C)，45.6，62.0，69.1，73.0，75.2，75.6，77.9，79.5，81.5，93.6，127.4，127.6，127.7，127.8，127.9，128.4(2C)，137.8，138.0，138.6，176.1
FABMS m/z（%）1214（1 M⁺+Na），587(2)，479(4)，389(9)，271(3)，181(39)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₇₄H₉₄O₁₃Na（M⁺+Na）1213.6592，実測値：1213.6562

製造例Ｅ−９
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルヘプタノイル）−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
２−ペンチルヘプタン酸（１１４ｍｇ、５６７μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−８と同様にして、標記化合物（２８１ｍｇ、９９％）を得た。
[α]_D ²⁰ +69.8^o（c 1.1）
FT-IR（neat）3088，3064，3031，2928，2857，1949，1874，1807，1739 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.81（6H，t，J = 6.3Hz），0.83（6H，t，J = 6.0Hz）1.20（24H，m），1.42（4H，m），1.55（4H，m），2.32（2H，m），3.54（2H d，J = 9.6Hz），3.55（2H，t，J = 9.6Hz），4.04（2H，t，J = 9.6Hz），4.11（2H，m），4.20（4H，m），4.53（2H，d，J = 10.9Hz），4.67（2H，d，J = 11.8Hz），4.71（2H，d，J = 11.8Hz），4.85（2H，d，J = 10.7Hz），4.87（2H，d，J = 10.9Hz），4.99（2H，d，J = 10.7Hz），5.17（2H，d，J = 3.3Hz），7.24-7.37（30H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0(2C)，22.5(2C)，27.0，27.1，31.7，32.3，45.7，62.0，69.1，73.0，75.2，75.7，77.8，79.6，81.5，93.7，127.4，127.6，127.7，127.8，127.9(2C)，128.4(2C)，137.8，138.0，138.6，176.1
FABMS m/z（%）1270（1 M⁺+Na），507(10)）^x10，417(5)，181(35)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₇₈H₁₀₂O₁₃Na（M⁺+Na）1269.7218，実測値：1269.7245

製造例Ｅ−１０
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ヘキシルオクタノイル）−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
２−ヘキシルオクタン酸（１０９ｍｇ、４７６μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−８と同様にして、標記化合物（２６１ｍｇ、８９％）を得た。
[α]_D ²⁰ +72.6^o（c 1.2）
FT-IR（neat）3088，3064，3031，2929，2857，1948，1869，1804，1739 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.82（6H，t，J = 7.2Hz），0.85(6H，t，J = 6.6Hz)，1.21（32H，m），1.43（4H，m），1.56（4H，m），2.32（2H，m），3.55（2H dd，J = 9.4Hz，3.6Hz)，3.57（2H，t，J = 9.4Hz），4.05（2H，t，J = 9.4Hz），4.11（2H，m），4.19（4H，m），4.54（2H，d，J = 10.6Hz），4.67（2H，d，J = 11.8Hz），4.72（2H，d，J = 11.8Hz），4.85（2H，d，J = 10.9Hz），4.87（2H，d，J = 10.6Hz），4.99（2H，d，J = 10.9Hz），5.18（2H，d，J = 3.6Hz），7.23-7.37（30H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0(2C)，22.5，27.3，27.4，29.2，31.6(2C)，32.3，45.7，62.0，69.1，73.0，75.2，75.6，77.8，79.7，81.5，93.6，127.4，127.6，127.7，127.8(2C)，127.9，128.3，128.4(2C)，137.8，138.0，138.6，176.1
FABMS m/z（%）1326（1 M⁺+Na），643(2)，535(5)，445(12)，271(6)，181(83)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₈₂H₁₁₀O₁₃Na（M⁺+Na）1325.7845，実測値：1325.7819

製造例Ｅ−１１
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルノナノイル）−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
２−ペンチルノナン酸（１３０ｍｇ、５６７μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−８と同様にして、標記化合物（２８１ｍｇ、８４％）を得た。
[α]_D ²⁰ +66.9^o（c 1.1）
FT-IR（neat）3088，3064，3031，2934，2859，1866，1732 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.84（12H，m），1.21（32H，m），1.41（4H，m），1.55（4H，m），2.32（2H，m），3.55（2H dd，J = 11.8Hz，3.6Hz），3.56（2H，t，J = 11.8Hz），4.05（2H，t，J = 11.8Hz），4.12（2H，m），4.20（4H，m），4.54（2H，d，J = 10.4Hz），4.67（2H，d，J = 12.1Hz），4.72（2H，d，J = 12.1Hz），4.86（2H，d，J = 10.7Hz），4.88（2H，d，J = 10.4Hz），5.00（2H，d，J = 10.7Hz），5.17（2H，d，J = 3.6Hz），7.22-7.38（30H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0(2C)，14.1(2C)，22.4，22.5，22.6(2C)，27.0，27.1，27.4(2C)，29.1(2C)，29.5，31.7，31.8，32.3(2C)，45.7(2C)，62.0，69.1，73.0，75.2，75.7，77.8，79.6，81.5，93.7，127.4，127.6，127.7，127.8，127.9(2C)，128.4(2C)，137.7，138.0，138.5，176.1(2C)
FABMS m/z（%）1326（2 M⁺+Na），643(3)，535(10)）^x10，445(5)，181(25)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₈₂H₁₁₀O₁₃Na（M⁺+Na）1325.7845，実測値：1325.7891

製造例Ｅ−１２−１
６−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−２で得た（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタン酸（５０．０ｍｇ、１６３μｍｏｌ）およびトレハロース化合物（２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジルオキシ−α，α’−トレハロース）（２８７ｍｇ、３２７μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、モノエステル体である標記化合物（１７８ｍｇ、９３％）を得た。
[α]_D ²⁰ +69.5^o（c 1.0）
FT-IR（neat）3499，3088，3063，3031，2955，2869，1951，1873，1809，1739 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.83（6H，t，J = 7.3Hz），1.10-1.62（14H，m），2.68（1H，ddd，J = 11.0Hz，7.2Hz，4.0Hz），3.52（6H，m），3.62（1H，m），4.04（4H，m），4.23（2H，m），4.44(1H，m)，4.48（2H，m），4.66（4H，m），4.72（1H，m），4.78（1H，d，J = 10.3Hz），4.85（1H，d，J = 10.7Hz），4.87（2H，d，J = 9.8Hz），4.99（2H，d，J = 10.9Hz），5.07（1H，d，J = 3.6Hz），5.12（1H，d，J = 3.6Hz），7.16-7.38（35H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.3，14.4，22.9，23.0，24.8，27.7，30.2，31.3，32.3，50.0，53.8，61.8，62.5，69.5，71.6，72.2，73.2，73.4，75.4，75.6，75.9，76.0，77.7，78.1，79.8，80.4，81.9，94.1，94.2，127.7，127.8(2C)，127.9(3C)，128.0，128.1，128.2(2C)，128.3，128.4，128.6，128.7(2C)，128.8，138.2，138.3(2C)，138.5，138.9，139.0，139.1，174.5
FABMS m/z（%）1194（6 M⁺+Na））^x8，271(10)，181(100)，107(15)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₇₃H₈₆O₁₃Na（M⁺+Na）1193.5966，実測値：1193.5962

製造例Ｅ−１２−２
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１２−１で得た６−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１１５ｍｇ、９８．０μｍｏｌ）および製造例Ｄ−１で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタン酸（３６．１ｍｇ、１１８μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（１４１ｍｇ、９９％）を得た。
[α]_D ²⁰ +47.5^o（c 2.2）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2954，2861，1950，1874，1808，1739 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.84（12H，m），1.10-1.68（28H，m），2.67（2H，m），3.49（2H，m），3.55（2H，m），3.62（2H，m），4.01（2H，m），4.07(2H，m)，4.22（4H，m），4.44（1H，m），4.46（4H，s），4.53（1H，d，J = 10.6Hz），4.62（1H，d，J = 11.8Hz），4.64（1H，d，J = 10.9Hz），4.68（1H，d，J = 10.9Hz），4.70（1H，d，J = 11.8Hz），4.76（1H，d，J = 10.5Hz），4.84（3H，m），4.98（1H，d，J = 10.9Hz），4.99（1H，d，J = 10.9Hz），5.08（1H，d，J = 3.6Hz），5.11（1H，d，J = 3.4Hz），7.17-7.38（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.2，14.3(2C)，14.4，22.9(2C)，23.0，24.8，24.9，27.6，30.1，30.3，31.2，31.3，32.2，32.3，49.9，50.0，62.4，62.5，69.4，72.1，73.2，73.3，75.5，76.0(2C)，78.0，78.1，79.7，79.9，80.3，80.5，81.8，94.2，127.7，127.8，127.9(2C)，128.0，128.1，128.2，128.3，128.5，128.7(2C)，128.8，138.1，138.3，138.8，138.9，139.0，174.5，174.6
FABMS m/z（%）1482（3 M⁺+Na），721(2)，613(10)，523(12)，325(12)）^x50，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₉₂H₁₁₄O₁₅Na（M⁺+Na）1481.8055，実測値：1481.8077

製造例Ｅ−１３−１
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−３で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸（５４．４ｍｇ、１６３μｍｏｌ）およびトレハロース化合物（２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジルオキシ−α，α’−トレハロース）（２８７ｍｇ、３２７μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、モノエステル体である標記化合物（１６２ｍｇ、８３％）を得た。
[α]_D ²⁰ +55.3^o（c 5.0）
FT-R（neat）3500，3088，3063，3031，2928，2859，1950，1872，1808，1736 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.85（6H，m），1.10-1.72（18H，m），2.66（1H，ddd，J = 10.7Hz，6.9Hz，3.3Hz），3.55（6H，m），3.61（1H，m），4.13（6H，m），4.46(2H，s)，4.53（1H，d，J = 11.8Hz），4.65（4H，m），4.71（1H，d，J = 11.8Hz），4.85（2H，d，J = 11.0Hz），4.87（2H，d，J = 10.2Hz），4.99（1H，d，J = 10.7Hz），5.00（1H，d，J = 11.0Hz），5.08（1H，d，J = 3.8Hz），5.14（1H，d，J = 3.6Hz），7.17-7.42（35H，m）
¹³C-NMR（50 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.5，22.6，24.9，27.5，29.4，31.1，31.8，49.8，61.6，62.2，69.1，71.2，71.9，72.9，73.0，75.0，75.2，75.6，75.7，77.2，77.3，77.8，79.4，79.6，80.3，81.6，93.7，94.0，127.4，127.6，127.8，127.9,(2C)，128.1，128.2，128.4(2C)，128.5，137.8，138.0，138.2，138.6，138.7，138.8，174.4
FABMS m/z（%）1222（5 M⁺+Na），641(6)，551(5)，443(3)，317(12)，181(100)，92(100)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₇₅H₉₀O₁₃Na（M⁺+Na）1221.6279，実測値：1221.6251

製造例Ｅ−１３−２
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１３−１で得た６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１０８ｍｇ、９０．０μｍｏｌ）および製造例Ｄ−４で得た（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸（３１．７ｍｇ、９５．０μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（１２４ｍｇ、９１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +68.6^o（c 0.6）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2929，2859，1949，1871，1807，1738 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.84（12H，m），1.10-1.72（36H，m），2.66（1H，m），2.69（1H，m），3.48（1H，dd，J = 9.3Hz，5.8Hz），3.51（1H，m），3.55（2H，m），3.61（1H，m），3.62（1H，m），4.01（2H，m），4.07（2H，m），4.18（2H，m），4.21（2H，m），4.44（1H，m），4.46（4H，s），4.52（1H，d，J = 10.7Hz），4.61（1H，d，J = 11.8Hz），4.66（2H，s），4.69（1H，d，J = 11.8Hz），4.75（1H，d，J = 10.7Hz），4.84（3H，m），4.98（1H，d，J = 10.7Hz），4.99（1H，d，J = 11.0Hz），5.08（1H，d，J = 3.6Hz），5.11（1H，d，J = 3.6Hz），7.16-7.38（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.1，22.4，22.5，22.6，24.8，24.9，27.4，27.5，29.4，29.5，31.1，31.8，49.6，49.8，62.2，69.1，71.8，72.9，73.0，75.3，75.7，79.5，79.6，80.0，80.2，81.5，94.0，127.4，127.5，127.6(2C)，127.8，127.9，128.0，128.3，128.4，128.5，137.8，138.0，138.5，138.6，138.7，174.2，174.3
FABMS m/z（%）1539（3 M⁺+1+Na），551(8)，443(7)，271(35)）^x15，181(29)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₉₆H₁₂₃O₁₅Na（M⁺+1+Na）1538.8760，実測値：1538.8756

製造例Ｅ−１４−１
６−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−６で得た（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカン酸（４０．０ｍｇ、１１５μｍｏｌ）およびトレハロース化合物（２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジルオキシ−α，α’−トレハロース（１０２ｍｇ、１１６μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、モノエステル体である標記化合物（１１４ｍｇ、８１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +66.9^o（c 1.0）
FT-IR（neat）3504，3088，3063，3031，2926，2857，1956，1878，1800，1736 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.83（3H，t，J = 7.1Hz），0.86（3H，t，J = 6.6Hz），1.12-1.68（22H，m），2.68（1H，ddd，J = 10.7Hz，6.9Hz，3.3Hz），3.53（6H，m），3.62（1H，m），4.03（4H，m），4.23（2H，m），4.45(1H，m)，4.47（2H，m），4.67（4H，m），4.71（1H，m），4.78（1H，d，J = 10.4Hz），4.85（2H，d，J = 10.7Hz），4.86（2H，d，J = 10.4Hz），4.98（2H，d，J = 11.0Hz），5.07（1H，d，J = 3.6Hz），5.12（1H，d，J = 3.6Hz），7.16-7.38（35H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，14.1，22.6(2C)，24.7，27.6，29.2，29.3，29.7，30.9，31.6，31.7，49.7，61.5，62.1，69.1，71.1，71.8，72.8，73.0，75.0，75.2，75.5，75.7，77.3，77.8，79.4，79.5，80.0，81.5，93.7，93.9，127.3，127.4，127.5(2C)，127.6，127.7，127.8，127.9，128.0，128.1，128.3，128.4，137.8，137.9(2C)，138.1，138.5，138.6，138.7，174.1
FABMS m/z（%）1250（1 M⁺+Na），669(1)，471(1)，345(3)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₇₇H₉₄O₁₃Na（M⁺+Na）1249.6592，実測値：1249.6595

製造例Ｅ−１４−２
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１４−１で得た６−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１０７ｍｇ、８７．２μｍｏｌ）および製造例Ｄ−５で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカン酸（３３．３ｍｇ、９５．５μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（１１１ｍｇ、８１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +63.7^o（c 1.2）
FT-IR（neat）3088，3063，3031，2927，2856，1948，1869，1807，1737 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.84（12H，m），1.10-1.72（44H，m），2.66（1H，m），2.69（1H，m），3.48（1H，dd，J = 8.9Hz，3.6Hz），3.51（1H，m），3.55（2H，t，J = 9.8Hz），3.61（1H，m），3.62（1H，m），4.01（2H，t，J = 9.8Hz），4.09（2H，m），4.18（2H，m），4.21（2H，m），4.44（1H，m），4.46（4H，s），4.52（1H，d，J = 10.9Hz），4.61（1H，d，J = 11.7Hz），4.66（2H，s），4.70（1H，d，J = 11.7Hz），4.75（1H，d，J = 10.6Hz），4.83（3H，m），4.97（1H，d，J = 10.9Hz），4.98（1H，d，J = 11.0Hz），5.08（1H，d，J = 3.5Hz），5.11（1H，d，J = 3.5Hz），7.16-7.36（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，24.7，24.8，27.6，27.7，29.2(2C)，29.6，29.7，30.9，31.0，31.5，31.6，31.7，49.6，49.7，62.1，62.2，69.1，71.8，72.9(2C)，75.1，75.5，75.6，77.7，79.5，79.6，79.9，80.2，81.4，93.8，127.3(3C)，127.5，127.6，127.7，127.8(2C)，128.1，128.3，128.4，137.8，137.9，138.5，138.6(2C)，174.1，174.2

製造例Ｅ−１５
６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−３で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナン酸（１５９ｍｇ、４７６μｍｏｌ）およびジアミン体（６，６’−ジアミノ−６，６’−ジデオキシ−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジルオキシ−α，α’−トレハロース）（１８２ｍｇ、２０７μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（２５４ｍｇ、８１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +59.5^o（c 0.4）
FT-IR（neat）3386，3087，3063，3031，2928，2858，1950，1873，1807，1726，1672 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.84（12H，m），1.08-1.76（36H，m），2.29（2H，dt，J = 9.6Hz，5.2Hz），2.93（2H，m），3.30（2H，dd，J = 9.8Hz，3.3Hz），3.31（2H，t，J = 9.8Hz），3.55（2H，q，J = 5.8Hz），3.97（2H，t，J = 9.8），4.06（4H，m），4.44（2H，d，J = 11.1Hz），4.52（2H，d，J = 12.1Hz），4.56（2H，d，J = 11.1Hz），4.58（2H，d，J = 12.1Hz），4.60（2H，d，J = 9.9Hz），4.75（2H，d，J = 9.9Hz），4.85（2H，d，J = 11.1Hz），4.90（2H，d，J = 3.6Hz），4.94（2H，d，J = 11.1Hz），6.36(NH，br d，J = 7.5Hz)，7.20-7.38（40H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.1，22.5，22.6，25.2，27.4，29.5，29.9，31.8(2C)，32.4，38.5，52.4，69.5，72.9(2C)，75.4，77.2，78.4，79.3，80.5，81.3，93.8，127.3，127.4，127.7，127.8，128.3(2C)，128.4，128.5，137.9，138.1，138.5，138.8，174.3
FABMS m/z（%）1537（3 M⁺+1+Na），1406(11)）^x15，749(2)，641(7)，181(24)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₉₆H₁₂₄O₁₃N₂Na(M⁺+Na)1535.9001，実測値：1535.9033

製造例Ｅ−１６
６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｄ−９で得た（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナン酸（１２０ｍｇ、４６４μｍｏｌ）および製造例Ｅ−１５で用いたジアミン体（１８４ｍｇ、２０９μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（２２８ｍｇ、８０％）を得た。
[α]_D ²⁰ +30.7^o（c 0.5）
FT-IR（neat）3429，3380，3088，3063，3031，2935，2858，1950，1873，1808，1673 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.85（12H，m），1.16-1.69（36H，m），2.22（2H，dt，J = 9.9Hz，5.5Hz），3.07（2H，m），3.25（2H，m），3.30（6H，s），3.35（2H，t，J = 9.6Hz），3.46（2H，dd，J = 9.6Hz，3.6Hz），3.96（2H，m），4.04（2H，t，J = 9.3Hz），4.12(2H，m)，4.64（4H，d，J = 10.7Hz），4.70（2H，d，J = 10.7Hz），4.80（2H，d，J = 10.7Hz），4.88（2H，d，J = 11.0Hz），4.97（2H，d，J = 11.0Hz），5.11（2H，d，J = 3.3Hz），6.24(NH，br d，J = 6.0Hz)，7.20-7.38（30H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5(2C)，25.0，27.3，29.5，29.8，31.7(2C)，31.8，38.7，52.1，58.4，69.6，73.0，75.4(2C)，78.5，79.2，81.3，82.0，93.5，127.4，127.5，127.7(2C)，128.3，128.4(2C)，137.8，138.1，138.8，174.2
FABMS m/z（%）1384（15 M⁺+Na），1362(7 M⁺+1)）^x15，672(5)，564(9)，181(7)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₈₄H₁₁₇O₁₃N₂（M⁺+1）1361.8556，実測値：1361.8560

製造例Ｅ−１７
６，６’−ビス−Ｎ−（２−ヘキシルオクタノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
２−ヘキシルオクタン酸（１０９ｍｇ、４７７μｍｏｌ）および製造例Ｅ−１５で用いたジアミン体（２００ｍｇ、２２７μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（２４８ｍｇ、８４％）を得た。
[α]_D ²⁰ +44.9^o（c 1.1）
FT-IR（neat）3426，3339，3088，3063，3031，2927，2855，1949，1873，1807，1677 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.85（12H， m），1.23（32H，m），1.36（4H，m），1.53（4H，m），1.84（2H，m），3.00（2H，m），3.30（2H t，J = 9.6Hz），3.47（2H，dd，J = 9.6Hz，3.5Hz），3.93（2H,m），4.05（2H，t，J = 9.6Hz），4.12（2H，m），4.63（4H，m），4.74（2H，d，J = 12.0Hz），4.81（2H，d，J = 10.2Hz），4.89（2H，d，J = 11.0Hz），4.98（2H，d，J = 11.0Hz），5.08（2H，d，J = 3.5Hz），5.30（NH，br d，J = 6.1Hz），7.22-7.40（30H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，27.6，27.7，29.3(2C)，31.7，32.8，33.0，38.5，48.2，69.6，73.1，75.2，75.5，78.3，79.4，81.5，93.9，127.2，127.5，127.7，127.8，128.3，128.4，128.5，137.8，138.0，138.5，175.8
FABMS m/z（%）1302（4 M⁺+1），1194(2)，642(25)，534(60)，432(12)，282(10)，181(42)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₈₂H₁₁₃O₁₁N₂（M⁺+1）1301.8345，実測値：1301.8300

製造例Ｅ−１８
６，６’−ビス−Ｎ−（２−ペンチルノナノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロースの製造
２−ペンチルノナン酸（１３０ｍｇ、５６９μｍｏｌ）および製造例Ｅ−１５で用いたジアミン体（２２４ｍｇ、２５５μｍｏｌ）を用い、上記製造例Ｅ−１と同様にして、標記化合物（２９９ｍｇ、９０％）を得た。
[α]_D ²⁰ +34.6^o（c 0.7）
FT-IR（neat）3426，3334，3088，3063，3031，2938，2857，1949，1870，1807，1681 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CDCl₃）δ0.86（12H，m），1.23（36H，m），1.54（4H，m），1.84（2H，m)，2.99（2H，m），3.30（2H t，J = 9.6Hz），3.47（2H，dd，J = 9.6Hz，3.6Hz），3.94（2H,m），4.04（2H，t，J = 9.6Hz），4.11（2H，m），4.63（4H，m），4.73（2H，d，J = 12.1Hz），4.81（2H，d，J = 9.9Hz），4.90（2H，d，J = 11.0Hz），4.98（2H，d，J = 11.0Hz），5.08（2H，d，J = 3.6Hz），5.29（NH，br d，J = 8.5Hz），7.22-7.42（30H，m）
¹³C-NMR（75 MHz in CDCl₃）δ14.0，22.5，22.6，27.3，27.5，27.7，27.8，29.2(2C)，29.6(2C)，31.8(2C)，32.8，32.9，33.0，38.5，48.2，69.6，73.1，75.3，75.5(2C)，78.3，79.4，81.5，93.9，127.3，127.5，127.7(2C)，127.9，128.3，128.4，128.5，137.8，138.0，138.6，175.9
FABMS m/z（%）1302（2 M⁺+1），1194(2)）^x15，642(3)，534(6)，181(5)，91(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₈₂H₁₁₃O₁₁N₂（M⁺+1）1301.8344，実測値：1301.8363

製造例Ｆ−１
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１で得た６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１５０ｍｇ、９９．０μｍｏｌ）をクロロホルム：メタノール：酢酸（１：１：０．１、３ｍｌ）に溶解し、水酸化パラジウム（２０ｗ／ｗ％、３０．０ｍｇ、４２．９μｍｏｌ）を加え、１気圧水素下で６時間撹拌した。反応混合液を濃縮し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル：４ｇ、ジクロロメタン：メタノール＝９：２）で精製して、標記化合物（６６．３ｍｇ、８４％）を得た。
[α]_D ²⁰ +103.9^o（c 3.3 MeOH）
FT-IR（neat）3390，2932，2858，1731 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H， m），1.14-1.68（36H，m），2.39（2H，ddd，J = 11.3Hz，7.2Hz，4.4Hz），3.29（2H，m），3.42（2H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz），3.64（2H，m），3.74（2H，t，J = 9.8Hz），4.02（2H，ddd，J = 10.0Hz，5.2Hz，1.9Hz），4.14（2H，dd，J = 12.0Hz，5.2Hz），4.38（2H，dd，J = 12.0Hz，1.9Hz），5.00（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.4，14.5，23.5，23.7，26.6，28.3，29.8，30.4，32.9，33.0，35.6，54.2，64.4，71.4，72.0，73.1，73.6，74.3，95.4，176.1
FABMS m/z（%）818（100），817(5 M⁺+Na)，816(8)，591(6)，573(5)，429(10)，227(18)，55(60)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₄O₁₅Na（M⁺+Na）817.4926，実測値：817.4948

製造例Ｆ−２
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−２６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１４０ｍｇ、９２．４μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（５８．０ｍｇ、７９％）を得た。
[α]_D ²⁰ +74.0^o（c 2.9 MeOH）
FT-IR（neat）3418，2956，2859，1732 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.86（12H，m），1.14-1.68（36H，m），2.39（2H，ddd，J =10.3Hz，7.4Hz，4.3Hz），3.30（2H，dd，J = 10.0Hz，9.8Hz），3.43（2H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz），3.64（2H，m），3.74（2H，t，J = 9.8Hz），3.99（2H，ddd，J = 10.0Hz，5.2Hz，1.9Hz），4.15（2H，dd，J = 11.8Hz，5.2Hz），4.39（2H，dd，J = 11.8Hz，1.9Hz），5.01（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.4，14.5，23.5，23.7，26.5，28.3，29.8，30.4，32.9，33.0，35.6，54.2，64.3，71.5，71.9，73.1，73.5，74.4，95.3，176.2
FABMS m/z（%）818（100），817(5 M⁺+Na)，816(10)，591(5)，573(4)，429(6)，411(5)，227(11)，55(44)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₄O₁₅Na（M⁺+Na）817.4926，実測値：817.4948

製造例Ｆ−３
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−３で得た６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１５０ｍｇ、９９．０μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（６９．３ｍｇ、８８％）を得た。
[α]_D ²⁰ +86.5^o（c 3.3 MeOH）
FT-IR（neat）3373，2954，2929，2858，1732 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H，m），1.12-1.72（36H，m），2.34（2H，ddd，J =10.2Hz，7.3Hz，4.0Hz），3.28（2H，dd，J = 9.8Hz，8.9Hz），3.42（2H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz），3.60（2H，dt，J = 7.8Hz，3.7Hz），3.74（2H，t，J = 9.2Hz），3.99（2H，ddd，J = 10.0Hz，5.2Hz，1.8Hz），4.13（2H，dd，J = 12.0Hz，5.2Hz），4.38（2H，dd，J = 12.0Hz，1.8Hz），5.00（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.4，14.5，23.5，23.7，26.9，28.4，29.3，30.3，33.0(2C)，36.2，54.2，64.4，71.4，72.0，73.1，73.3，74.5，95.3，176.3
FABMS m/z（%）818（100），817(5 M⁺+Na)，816(12)，591(6)，573(4)，429(6)，227(15)，55(46)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₄O₁₅Na（M⁺+Na）817.4925，実測値：817.4919

製造例Ｆ−４
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−４６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１５０ｍｇ、９９．０μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（７０．１ｍｇ、８９％）を得た。
[α]_D ²⁰ +87.3^o（c 3.3 MeOH）
FT-IR（neat）3389，2955，2930，2859，1731 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H，m），1.12-1.74（36H，m），2.34（2H，ddd，J =10.3Hz，7.6Hz，4.0Hz），3.31（2H，dd，J = 10.0Hz，8.8Hz），3.42（2H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz），3.59（2H，dt，J = 7.8Hz，2.9Hz），3.74（2H，t，J = 8.9Hz），3.99（2H，ddd，J = 10.0Hz，4.8Hz，2.1Hz），4.17（2H，dd，J = 12.0Hz，4.8Hz），4.33（2H，dd，J= 12.0Hz，2.1Hz），5.00（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.4，14.5，23.5，23.7，26.9，28.4，29.5，30.3，32.9，33.0，36.1，54.3，64.2，71.4，71.8，73.1，73.3，74.5，95.4，176.3
FABMS m/z（%）818（100），817(5 M⁺+Na)，816(11)，591(6)，573(5)，429(7)，411(4)，227(10)，55(41)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₄O₁₅Na（M⁺+Na）817.4925，実測値：817.4919

製造例Ｆ−５
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−２−ヘキシル−３−ヒドロキシデカノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−５で得た６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１５０ｍｇ、９５．５μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（６６．６ｍｇ、８２％）を得た。
[α]_D ²⁰ +97.2^o（c 2.1 MeOH）
FT-IR（neat）3379，2927，2857，1731 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（6H，t，J = 6.1Hz），0.87（6H，t，J = 5.2Hz），1.16-1.63（44H，m），2.39（2H，ddd，J = 10.3Hz，6.1Hz，3.2Hz），3.29（2H，m），3.42（2H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz)，3.63（2H，m），3.74（2H，t，J = 9.8Hz），4.02（2H，ddd，J = 9.8Hz，5.4Hz，2.2Hz），4.14（2H，dd，J = 11.8Hz，5.4Hz），4.38（2H，dd，J = 11.8Hz，2.2Hz），5.00（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.5，23.7(2C)，26.7，28.6，29.8，30.3，30.4，30.6，32.8，33.0，35.6，54.2，64.5，71.4，72.0，73.1，73.6，74.4，95.4，176.2
FABMS m/z（%）874（40 M⁺+Na），485(8)，255(20)，215(10)，165(15)，154(45)，69(90)，55(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₄H₈₂O₁₅Na（M⁺+Na）873.5551，実測値：873.5533

製造例Ｆ−６
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヘキシル−３−ヒドロキシデカノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−６で得た６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１５０ｍｇ、９５．５μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（６９．９ｍｇ、８６％）を得た。
[α]_D ²⁰ +60.5^o（c 1.2 MeOH）
FT-IR（neat）3366，2926，2856，1731 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（6H，t，J = 6.7Hz），0.86（6H，t，J = 7.1Hz），1.12-1.64（44H，m），2.39（2H，ddd，J = 10.4Hz，6.1Hz，3.0Hz），3.30（2H，dd，J = 10.0Hz，9.8Hz），3.43（2H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz），3.64（2H，m），3.74（2H，t，J = 9.8Hz），3.99（2H，ddd，J = 10.0Hz，5.4Hz，2.1Hz），4.15（2H，dd，J = 10.1Hz，5.4Hz），4.38（2H，dd，J = 10.1Hz，2.1Hz），5.01（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.5，23.7(2C)，26.6，28.6，29.9，30.3，30.4，30.7，32.8，33.0，35.6，54.2，64.3，71.5，72.0，73.2，73.6，74.4，95.3，176.2
FABMS m/z（%）874(50 M⁺+Na)，619(8)，457(8)，255(15)，169(10)，145(10)，127(20)，97(30)，83(50)，69(89)，55(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₄H₈₂O₁₅Na（M⁺+Na）873.5551，実測値：873.5533

製造例Ｆ−７
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−７で得た６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１８９ｍｇ、１３９μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（１０２ｍｇ、８９％）を得た。
[α]_D ²⁰ +92.3^o（c 4.6 MeOH）
FT-IR（neat）3298，2955，2930，2859，1743 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H，m），1.14-1.64（36H，m），2.57（2H，ddd，J =10.5Hz，7.0Hz，3.4Hz），3.27（6H，s），3.30（2H，m），3.38（2H，m），3.42（2H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz），3.75（2H,t，J = 9.4Hz），3.99（2H，ddd，J = 10.2Hz，5.1Hz，1.9Hz），4.17（2H，dd，J = 11.8Hz，5.1Hz），4.34（2H，dd，J = 11.8Hz，1.9Hz），5.01（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.5(2C)，23.5，23.6，25.8，28.4，28.5，28.7，30.5，31.6，32.9(2C)，50.8，57.9，64.4，71.3，71.9，73.1，74.5，83.4，95.1，175.9
FABMS m/z（%）846(100 M⁺+Na)，844(10)，587(5)，443(8)，303(12)，241(18)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₂H₇₈O₁₅Na（M⁺+Na）845.5239，実測値：845.5253

製造例Ｆ−８
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ブチルヘキサノイル）−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−８で得た６，６’−ビス−Ｏ−（２−ブチルヘキサノイル）−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（２００ｍｇ、１６８μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（９９．５ｍｇ、９１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +108.4^o（c 1.0 Me OH）
FT-IR（neat）3341，2958，2861，1744 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H，t，J = 7.0Hz），1.25（16H，m），1.43（4H，m），1.55（4H，m），2.32（2H，m），3.30（2H，m），3.41（2H，dd，J = 9.1Hz，3.7Hz），3.75（2H，t，J = 9.1Hz），3.97（2H，ddd，J = 9.9Hz，5.1Hz，2.1Hz），4.16（2H，dd，J =11.8Hz，5.1Hz），4.35（2H，dd，J = 11.8Hz，2.1Hz），5.01（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.3，23.6，30.6，30.7，33.3(2C)，47.0，64.1，71.4，71.9，73.1，74.5，95.0，178.0
FABMS m/z（%）673(100 M⁺+Na)，629(5)，573(5)，501(5)，317(6)，299(4)，173(4)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₃₂H₅₈O₁₃Na（M⁺+Na）673.3776，実測値：673.3795

製造例Ｆ−９
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルヘプタノイル）−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−９で得た６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルヘプタノイル）−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（２２０ｍｇ、１７６μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（１１１ｍｇ、８９％）を得た。
[α]_D ²⁰ +97.5^o（c 5.2 MeOH）
FT-IR（neat）3308，2932，2859，1746 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H， t，J = 6.5Hz），1.24（24H，m），1.42（4H，m），1.54（4H，m），2.32（2H，m），3.29（2H，m），3.41（2H，dd，J = 9.8Hz，3.9Hz），3.74（2H，t，J = 9.8Hz），3.97（2H，ddd，J = 9.8Hz，5.0Hz，1.8Hz），4.16（2H，dd，J = 12.0Hz，5.0Hz），4.33（2H，dd，J = 12.0Hz，1.8Hz），5.01（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.4，23.5，28.1，28.2，32.9，33.6，47.1，64.2，71.4，71.9，73.1，74.5，95.0，178.0
FABMS m/z（%）729(100 M⁺+Na)，727(10)，671(6)，529(6)，345(7)，155(10)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₃₆H₆₆O₁₃Na（M⁺+Na）729.4401，実測値：729.4410

製造例Ｆ−１０
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ヘキシルオクタノイル）−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１０で得た６，６’−ビス−Ｏ−（２−ヘキシルオクタノイル）−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（２０２ｍｇ、１５５μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（１０１ｍｇ、８５％）を得た。
[α]_D ²⁰ +90.3^o（c 4.2 MeOH）
FT-IR（neat）3296，2927，2857，1742 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H， t，J = 6.9Hz），1.24（32H，m），1.42（4H，m），1.54（4H，m），2.32（2H，m），3.29（2H，m），3.41（2H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz），3.74（2H，t，J = 9.8Hz），3.97（2H，ddd，J = 10.0Hz，5.2Hz，2.0Hz），4.16（2H，dd，J= 12.0Hz，5.2Hz），4.32（2H，dd，J = 12.0Hz，2.0Hz），5.01（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.5，23.7，28.4，28.5，30.3，32.8，33.6，47.1，64.2，71.4，71.9，73.1，74.5，95.0，178.0
FABMS m/z（%）786(100 M⁺+Na)，784(11)，713(7)，557(7)，413(5)，165(6)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₄O₁₃Na（M⁺+Na）785.5027，実測値：785.5057

製造例Ｆ−１１
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルノナノイル）−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１１で得た６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルノナノイル）−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（２３０ｍｇ、１７７μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（１１９ｍｇ、８８％）を得た。
[α]_D ²⁰ +88.7^o（c 3.6 MeOH）
FT-IR（neat）3311，2928，2857，1742 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H，t，J = 7.2Hz），1.24（32H，m），1.42（4H，m），1.54（4H，m），2.32（2H，m），3.29（2H，t，J = 9.5Hz），3.41（2H，dd，J = 9.5Hz，3.7Hz），3.74（2H，t，J = 9.5Hz），3.97（2H，ddd，J = 9.5Hz，5.2Hz，1.9Hz），4.16（2H，dd，J = 12.0Hz，5.2Hz），4.33（2H，dd，J = 12.0Hz，1.9Hz），5.01（1H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.4，14.5，23.6，23.7，28.2(2C)，28.5(2C)，30.3，30.6，33.0(2C)，33.6，47.1，64.2，71.4，72.0，73.2，74.6，95.0，178.1
FABMS m/z（%）786(100 M⁺+Na)，784(10)，557(5)，413(5)，373(6)，183(10)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₄O₁₃Na（M⁺+Na）785.5027，実測値：785.5021

製造例Ｆ−１２
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−２−ブチル−３−ヒドロキシオクタノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−２−ブチル−３−ヒドロキシオクタノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１２−２で得た６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ブチルオクタノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１３０ｍｇ、８９．１μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（５３．３ｍｇ、８１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +97.1^o（c 4.8）
FT-IR（neat）3390，2955，2932，2860，1718 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.91（12H，m），1.20-1.69（28H，m），2.43（2H，m），3.35（2H，m），3.46（1H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz），3.47（1H，dd，J = 9.8Hz，3.7Hz），3.67（2H，m），3.78（2H，m），4.04（2H，m），4.19（1H，dd，J = 11.8Hz，5.5Hz），4.20（ 1H，dd，J = 11.8Hz，5.8Hz），4.43（2H，m），5.05（1H，d，J = 3.7Hz），5.06（1H，d，J=3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.3，14.4，23.6(2C)，23.7，26.2，26.3，29.5，30.8(2C)，32.9，35.5，54.1(2C)，64.2，64.4，71.4，71.5，71.8，72.0，73.0，73.1，73.5，73.6，74.3，95.4，176.2(2C)
FABMS m/z（%）761（13 M⁺+Na），307(14)，289(10)，154(100)，136(80)，89(25)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₃₆H₆₆O₁₅Na（M⁺+Na）761.4300，実測値：761.4277

製造例Ｆ−１３
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１３−２で得た６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１１０ｍｇ、７２．６μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（４４．４ｍｇ、７７％）を得た。
[α]_D ²⁰ +84.5^o（c 1.2 MeOH）
FT-IR（neat）3374，2928，2858，1716 cm^-1
¹H-NMR（600 MHz in C₅D₅N）δ0.82（12H，m），1.23（20H，m），1.38（2H，m），1.43（2H，m），1.52（4H，m），1.63-1.83（6H，m），1.92（2H，m），2.86（2H，ddd，J = 11.0Hz，7.4Hz，4.1Hz），4.17（4H，m），4.26（2H，m），4.70（1H，t，J = 8.8Hz），4.71（1H，t，J = 9.1Hz），4.80（1H，dd，J = 11.8Hz，5.2Hz），4.86（1H，dd，J = 12.1Hz，5.8Hz），5.08（2H，ddd，J = 10.2Hz，4.9Hz，2.2Hz），5.15（2H，m），5.21（1H，dd，J = 10.2Hz，1.9Hz），5.85（ 1H，d，J = 3.6Hz），5.86（1H，d，J = 3.6Hz），6.25（OH，d，J = 6.3Hz），6.31（OH，d，J = 6.6Hz），7.03（OH，m），7.24（OH，br s），7.27（OH，br s）
¹³C-NMR（150 MHz in C₅D₅N）δ14.2(2C)，22.7，22.9，26.1，26.2，27.7，27.8，29.3，29.7，32.1(2C)，32.2，35.4，53.9，54.1，63.9，64.2，71.6，71.7，72.1，72.2，72.4，72.5，73.3，73.4，74.7，95.9，111.6，175.1，175.2
FABMS m/z（%）818（100），817(3 M⁺+Na)，816(13)，645(4)，591(5)，499(5)，429(7)，289(5)，227(12)，55(69)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₄O₁₅Na（M⁺+Na）817.4925，実測値：817.4906

製造例Ｆ−１４
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ヘキシルデカノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ヘキシルデカノイル］−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１４−２で得た６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−ヘキシルデカノイル］−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１０２ｍｇ、６４．９μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（４４．７ｍｇ、８１％）を得た。
[α]_D ²⁰ +89.1^o（c 0.8 MeOH）
FT-IR（neat）3364，2927，2857，1732 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.90（12H，t，J = 5.9Hz），1.16-1.70（44H，m），2.44（2H，ddd，J = 11.4Hz，6.9Hz，4.0Hz），3.35（2H，m），3.46（1H，dd，J = 9.8Hz，3.6Hz），3.47（1H，dd，J = 9.6Hz，3.6Hz），3.68（2H，m），3.78（2H，t，J = 9.8Hz），4.04（1H，m），4.09（1H，m），4.19（1H，dd，J = 11.8Hz，5.2Hz），4.20（1H，dd，J = 11.8Hz，5.2Hz），4.42（1H，dd，J = 11.8Hz，2.5Hz），4.43（ 1H，dd，J = 11.8Hz，2.5Hz），5.05（1H，d，J = 3.6Hz），5.06（1H，d，J = 3.6Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.5，23.7(2C)，26.6，26.7，28.5，28.6，29.8，30.3，30.4，30.7，32.8，33.0，35.6，54.2(2C)，64.3，64.5，71.4，71.5，71.9，72.1，73.1，73.2，73.6(2C)，74.4，95.4，176.2(2C)
FABMS m/z（%）874(60 M⁺+Na)，744(5)，674(5)，619(8)，485(6)，457(8)，255(19)，169(10)，127(20)，55(100)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₄H₈₂O₁₅Na（M⁺+Na）873.5551，実測値：873.5526

製造例Ｆ−１５
６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１５で得た６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ベンジルオキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（２００ｍｇ、１３２μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（８６．９ｍｇ、８３％）を得た。
[α]_D ²⁰ +85.6^o（c 1.8 MeOH）
FT-IR（neat）3357，2930，2858，1634，1556 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.86（12H，t，J = 6.1Hz），1.14-1.64（36H，m），2.18（2H，dt，J = 10.0Hz，4.8Hz），3.10（2H，t，J = 9.8Hz），3.34（2H，dd，J = 14.0Hz，6.6Hz），3.40（2H，dd，J = 9.8Hz，3.6Hz），3.53（2H，dd，J = 14.0Hz，2.9Hz），3.58（2H，m），3.71（2H，t，J = 9.8Hz），3.89（2H，ddd，J = 10.0Hz，6.7Hz，2.9Hz），5.02（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.5，23.6，23.7，26.7，28.3，30.4，30.8，33.0(2C)，36.1，41.4，54.1，72.0，73.3，73.5，74.1，95.8，178.1
FABMS m/z（%）816(100 M⁺+Na)，815(5)，814(12)，589(5)，428(10)，388(12)，322(4)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₆O₁₃N₂Na（M⁺+Na）815.5245，実測値：815.5226

製造例Ｆ−１６
６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１６で得た６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（１９０ｍｇ、１４０μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（９９．７ｍｇ、８７％）を得た。
[α]_D ²⁰ +59.7^o（c 4.2 MeOH）
FT-IR（neat）3347，2929，2858，1644，1550 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.86（12H，m），1.12-1.68（36H，m），2.35（2H，ddd，J =10.2Hz，6.9Hz，3.9Hz），3.12（2H，t，J = 9.1Hz），3.29（6H，s），3.38-3.52（8H，m），3.76（2H，t，J = 9.1Hz），3.84（2H，ddd，J = 9.2Hz，5.9Hz，3.0Hz），5.03（2H，d，J = 3.9Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.5，23.6(2C)，25.8，28.3，30.1，30.6，32.1，32.9，33.0，41.5，52.4，58.6，71.9，73.3，73.4，74.1，83.3，95.5，177.6
FABMS m/z（%）844(100 M⁺+Na)，812(3)，713(3)，470(3)，442(10)，344(9)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₂H₈₀O₁₃N₂Na（M⁺+Na）843.5558，実測値：843.5537

製造例Ｆ−１７
６，６’−ビス−Ｎ−（２−ヘキシルオクタノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１７で得た６，６’−ビス−Ｎ−（２−ヘキシルオクタノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（２０１ｍｇ、１５４μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（９７．６ｍｇ、８３％）を得た。
[α]_D ²⁰ +55.7^o（c 1.0 MeOH）
FT-IR（neat）3358，2936，2858，1645，1539 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H，t，J = 6.7Hz），1.24（32H，m），1.35（4H，m），1.50（4H，m），2.17（2H，m），3.11（2H，t，J = 9.1Hz），3.34（2H，m），3.40（2H，dd，J = 9.1Hz，3.7Hz），3.52（2H，m），3.76（2H，t，J = 9.1Hz），3.84（2H，ddd，J = 9.1Hz，5.5Hz，2.9Hz），5.00（2H，d，J = 3.7Hz），7.83（NH，br t，J = 6.2Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.5，23.7(2C)，28.5，28.7，30.4(2C)，32.8，34.1，41.2，48.3，72.0，73.1，73.3，74.0，95.5，179.8
FABMS m/z（%）784(100 M⁺+Na)，627(7)，412(11)，372(12)，354(6)，105(19)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₆O₁₁N₂Na（M⁺+Na）783.5347，実測値：783.5353

製造例Ｆ−１８
６，６’−ビス−Ｎ−（２−ペンチルノナノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−α，α’−トレハロースの製造
製造例Ｅ−１８で得た６，６’−ビス−Ｎ−（２−ペンチルノナノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサベンジル−α，α’−トレハロース（２１０ｍｇ、１６１μｍｏｌ）を用い、製造例Ｆ−１と同様にして、標記化合物（９６．８ｍｇ、７９％）を得た。
[α]_D ²⁰ +54.6^o（c 5.3 MeOH）
FT-IR（neat）3328，2929，2857，1644，1549 cm^-1
¹H-NMR（300 MHz in CD₃OD）δ0.85（12H，m），1.24（36H，m），1.50（4H，m），2.17（2H，m），3.11（2H，t，J = 9.6Hz），3.35（2H，m），3.40（2H，dd，J = 9.6Hz，3.7Hz），3.52（2H，m），3.75（2H，t，J = 9.6Hz），3.84（2H，ddd，J = 9.6Hz，5.4Hz，2.9Hz），5.01（2H，d，J = 3.7Hz）
¹³C-NMR（75 MHz in CD₃OD）δ14.5，23.5，23.6，23.7，28.3，28.4，28.6，28.7，30.3，30.7，33.0，34.1，41.1，48.2，72.0，73.1，73.4，74.0，95.5，179.7
FABMS m/z（%）784(100 M⁺+Na)，627(5)，412(10)，372(9)，344(2)
HRMS(FAB⁺)m/z 計算値：C₄₀H₇₆O₁₁N₂Na（M⁺+Na）783.5346，実測値：783.5364

試験例１アデノシンＡ３受容体に対する親和性の試験
製造例Ｆ−１〜１８で得たトレハロース化合物のアデノシンＡ３受容体に対する親和性を、Molecular Pharmacology，５３巻，８８６〜８９３頁（１９９８年）に記載のアデノシンＡ１受容体結合実験の方法に準じ、測定した。

具体的には、ヒト組み換えアデノシンＡ３受容体を発現させた、チャイニーズハムスターの卵巣Ｋ１細胞（Ｅｕｒｏｓｃｒｅｅｎ社から入手。以下、「ＣＨＯ−Ｋ１」という）を、Ｃａ²⁺とＭｇ²⁺フリーの改変ＨＥＰＥＳバッファー中で培養した。次に、培養したＣＨＯ−Ｋ１を掻き取り、氷冷した５０ｍＭのＴｒｉｓ−ＨＣｌ（ｐＨ７．４）中でホモジェナイズした。これを、４８，０００×ｇで１５分間遠心分離することにより細胞膜ペレットを得た。得られた細胞膜ペレットを新しい改変ＨＥＰＥＳバッファーで２回洗浄し、再度遠心分離した。この洗浄した細胞膜ペレットを、少量の５０ｍＭＴｒｉｓ−ＨＣｌ（ｐＨ７．４）に再懸濁した。

上記細胞膜ペレットにおけるアデノシンＡ３受容体の濃度を、以下の通り測定した。上記細胞膜ペレットの懸濁液２０μＬ（タンパク質を２μｇ含有）へ、０．５ｎＭの［¹²⁵Ｉ］ＡＢ−ＭＥＣＡ（Ａ３／Ａ１受容体の選択的放射性リガンド（Ｎ^６−（４−アミノ−３−ヨードベンジル）−５’−（Ｎ−メトキシカルバモイル）アデノシン）を加え、２５℃で６０分間インキュベートした。その後、氷冷した５０ｍＭＴｒｉｓ−ＨＣｌ（ｐＨ７．４）を加えて反応を停止し、細胞膜ペレットをグラスファイバーフィルターで濾別した。濾別された細胞膜ペレットから過剰のリガンドを除去するため、氷冷したバッファーで３回洗浄し、フィルター上の細胞膜ペレットの放射活性を、シンチレーションカウンター（Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ社製、Ｔｙｐｅ１４７０ＡｕｔｏｍａｔｉｃＣｏｕｔｅｒ）で測定した。

別途、［¹²⁵Ｉ］ＡＢ−ＭＥＣＡのアデノシンＡ３受容体以外への非特異的な結合を測定するため、上記結合実験において、細胞膜ペレットの懸濁液へさらに１μＭの［¹²⁵Ｉ］ＩＢ−ＭＥＣＡ（Ａ３受容体の選択的放射性アゴニスト、Ｎ^６−（３−ヨードベンジル）−５’−（Ｎ−メトキシカルバモイル）アデノシン）を加えて同様の測定を行なった。得られた結果より、［¹²⁵Ｉ］ＡＢ−ＭＥＣＡのアデノシンＡ３受容体への特異的な結合の平均値を算出した。結果を以下に示す。
Ｋｄ：５．９ｎＭ
Ｂｍａｘ：１８００ｆｍｏｌ／ｍｇタンパク質
特異的結合：８３％

製造例Ｆ−１〜１８で得たトレハロース化合物のアデノシンＡ３受容体に対する親和性は、上記細胞膜ペレットの懸濁液へ３μＭまたは１０μのトレハロース化合物を加え、同様の測定を行ない、各トレハロース化合物の親和性を求めた。また、比較例として、非特許文献１および非特許文献２に記載の化合物（表１の化学構造式において、Ｒ¹＝Ｒ³＝オクチル、Ｒ²＝Ｒ⁴＝ヘプチル、Ｘ＝Ｘ’＝ＯＨ、Ｙ＝Ｙ’＝Ｏ）についても同様に試験した。結果を、表１に示す。

上記結果から、本発明のトレハロース化合物とアデノシンＡ３受容体との親和性は高いこと、および、公知のトレハロース化合物とアデノシンＡ３受容体との親和性が低いことが明らかである。従って、本発明のトレハロース化合物は、公知のトレハロース化合物に比し、アデノシンＡ３受容体に対して格段に高い親和性を有することが実証された。

Claims

一般式（１）

［式中、
ＸおよびＸ’は、同一または異なって、水素原子、水酸基またはＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基を示す。
ＹおよびＹ’は、同一または異なって、酸素原子または−ＮＲ⁵−を示す。ここでＲ⁵は、水素原子またはＣ₁−Ｃ₆アルキル基を示す。
Ｒ¹およびＲ³は、各々Ｃ₁−Ｃ₇アルキル基を示す。
Ｒ²およびＲ⁴は、各々Ｃ₃−Ｃ₆アルキル基を示す。］
で表されるトレハロース化合物。
ＸおよびＸ’が共に水素原子である請求項１に記載のトレハロース化合物。
ＸおよびＸ’が共に水酸基である請求項１に記載のトレハロース化合物。
ＸおよびＸ’が共にメトキシ基である請求項１に記載のトレハロース化合物。
ＹおよびＹ’が共に酸素原子である請求項１〜４の何れかに記載のトレハロース化合物。
ＹおよびＹ’が共に−ＮＨ−である請求項１〜４の何れかに記載のトレハロース化合物。
Ｒ¹およびＲ³が共にｎ−ヘキシル基である請求項１〜６の何れかに記載のトレハロース化合物。
Ｒ²およびＲ⁴が共にｎ−ペンチル基である請求項１〜６の何れかに記載のトレハロース化合物。
６，６’−ビス−Ｎ−（２−ペンチルノナノイルアミノ）−６，６’−ジデオキシ−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−Ｏ−（２−ペンチルヘプタノイル）−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイルアミノ］−６，６’−ジデオキシ−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−メトキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース、
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース、
６−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−６’−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース、および
６，６’−ビス−Ｏ−［（２Ｓ，３Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ペンチルノナノイル］−α,α’−トレハロース
からなる群から選択される何れかのトレハロース化合物である請求項１に記載のトレハロース化合物。
請求項１〜９の何れかに記載のトレハロース化合物を含有する医薬。
請求項１〜９の何れかに記載のトレハロース化合物を含有するアデノシンＡ３受容体のアンタゴニスト。