JP5246679B2 - 架橋性シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 - Google Patents
架橋性シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5246679B2 JP5246679B2 JP2007125074A JP2007125074A JP5246679B2 JP 5246679 B2 JP5246679 B2 JP 5246679B2 JP 2007125074 A JP2007125074 A JP 2007125074A JP 2007125074 A JP2007125074 A JP 2007125074A JP 5246679 B2 JP5246679 B2 JP 5246679B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- independently
- crosslinkable
- hydrogen
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいシクロアルキルを表し;R1及びR2は独立して炭素数1〜40のアルキル、任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいアリール、又はアリールにおける任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいアリールアルキルを表す。前記炭素数1〜40のアルキルにおいて、任意の水素は独立してフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は独立して−O−又はシクロアルキレンで置き換えられてもよい。前記アリール又はアリールアルキルの置換基である炭素数1〜20のアルキルにおいて、任意の水素は独立してフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は独立して−O−、シクロアルキレン又はフェニレンで置き換えられてもよい。前記アリールアルキルのアルキレンにおいて、その炭素数は1〜10であり、任意の水素は独立してフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は独立して−O−、−CH=CH−又はシクロアルキレンで置き換えられてもよい。
キサンポリマー。
前記一般式(2)中、R3は炭素数1〜20のアルキル又は炭素数6〜30のアリールを表す。前記一般式(2)中、R4は、独立して、ハロゲン、炭素数1〜15のアシル、炭素数1〜15のアルコキシル、炭素数1〜15のオキシム、炭素数0〜15の置換基を有していてもよいアミノ、炭素数0〜15の置換基を有していてもよいアミド、炭素数0〜15の置換基を有していてもよいアミノキシ、及び炭素数0〜15の置換基を有していてもよいビニルアルコール残基を表す。
橋することを妨げなければ特に限定されず、このような置換基には例えばアルキル、ハロゲン化アルキル、アルケニル、ハロゲン化アリール、フェニル、シクロアルキル、アクリル、メタクリル基、ビニル、アミノ、エポキシ、メルカプト等が挙げられる。
トキシを有するシロキサンポリマーとの少なくとも二つが存在し、あるシロキサンポリマーの水酸基と他のシロキサンポリマーのアセトキシとがさらに酢酸を生成しながら縮合することによって、架橋性シロキサンポリマーが架橋する。
水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、ジエチルエーテル、テトラハイドロフラン(THF)、ジオキサン等のエーテル系溶剤、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶剤、及び酢酸エチル等のエステル系溶剤が挙げられる。前記溶剤は単一の溶剤でもよいし、二以上の溶剤であってもよい。
前記一般式(1)におけるR0がフェニルでありR1がメチルである下記構造式で示される15.00g(12.65mmol)のシルセスキオキサンを反応容器へ収容して水分除去のための真空加熱を行い、窒素雰囲気で反応容器を0℃に冷却し、100mLの脱水トルエン及び31.80mL(228.00mmol)のトリエチルアミンを反応容器に添加し、無色透明の溶液を得た。得られた溶液に3.63mL(12.65mmol)の1,5−ジクロロヘキサメチルトリシロキサンを添加して0℃にて反応を開始した。2時間後、反応温度を40℃に上げ、四日間攪拌を続けた後に反応を停止した。この反応によって粘性を有する乳白色の溶液を得た。
<測定条件>
カラム:Shodex KF−806M 300×8.0mm
移動相:THF
流速:1.0ml/min
温度:35℃
検出器:UV(256nm)
分子量標準サンプル:分子量既知のポリスチレン
窒素雰囲気中、4.191gの前記シロキサンポリマーを8.38mLのアセトンに溶解し、得られた溶液の四つの試薬びんに2mL(プレポリマーを0.1mmol)ずつ分け、各試薬びんにメチルトリス(メチルエチルケトキシム)シラン(架橋剤1)を所定量添加してプレポリマー1の溶液1〜4を得た。具体的には、試薬びん1にはシロキサンポリマーと等モルの架橋剤1を添加し、試薬びん2にはシロキサンポリマーに対して10倍モルの架橋剤1を添加し、試薬びん3にはシロキサンポリマーに対して0.63倍モルの架橋剤1を添加し、試薬びん4にはシロキサンポリマーと等モルの架橋剤1と数滴のシリコーンオイルとを添加した。
<測定条件>
測定装置:示差熱熱重量同時測定装置EXSTAR6000 TG/DTA6300(セイコーインスツル株式会社製)
パン:Pt
標準試料:酸化アルミニウム(10mg)
サンプル質量:約10mg
温度プログラム:30〜1,000℃
昇温速度:10℃/min
雰囲気:酸素
窒素雰囲気中、三つの試薬びん5〜7のそれぞれに所定量のメチルトリアセトキシシラン(架橋剤2)を投入し、一方で合成例1で得られた前記シロキサンポリマーのアセトン溶液を適当な濃度で調製しておき、各試薬びん5〜7中の架橋剤2の重量に合わせて設定した比率になるよう、濃度既知の前記ポリマー溶液を所定量添加し、架橋剤2とポリマー溶液とを試薬びん中で混合してプレポリマー2の溶液5〜7を得た。
Claims (9)
- 下記一般式(1)で表されるケイ素化合物と、このケイ素化合物中の水酸基と縮合反応を生じる基又は原子を3以上有する架橋性ケイ素化合物とから得られる架橋性シロキサンポリマー。
(一般式(1)中、mは独立して0〜30の整数を表し;nは7〜1,000の整数を表し;R0は独立して、任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキル
で置き換えられてもよいアリール、又は任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいシクロアルキルを表し;R1及びR2は独立して炭素数1〜40のアルキル、任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいアリール、又はアリールにおける任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいアリールアルキルを表し;前記炭素数1〜40のアルキルにおいて、任意の水素は独立してフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は独立して−O−又はシクロアルキレンで置き換えられて
もよく;前記アリール又はアリールアルキルの置換基である炭素数1〜20のアルキルにおいて、任意の水素は独立してフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は独立
して−O−、シクロアルキレン又はフェニレンで置き換えられてもよく;前記アリールアルキルのアルキレンにおいて、その炭素数は1〜10であり、任意の水素は独立してフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は独立して−O−、−CH=CH−
又はシクロアルキレンで置き換えられてもよい。)
- 前記架橋性ケイ素化合物が、下記一般式(2)〜(4)で表される化合物、及び3以上の水素、ハロゲン又は水酸基が結合するケイ素を含む化合物からなる群から選ばれる一以上であることを特徴とする請求項1記載の架橋性シロキサンポリマー。
R3−Si(R4)3 (2)
(一般式(2)中、R3は炭素数1〜20のアルキル又は炭素数6〜30のアリールを表し、R4は、独立して、ハロゲン、炭素数1〜15のアシル、炭素数1〜15のアルコキシル、炭素数1〜15のオキシム、炭素数0〜15の置換基を有していてもよいアミノ、炭素数0〜15の置換基を有していてもよいアミド、炭素数0〜15の置換基を有していてもよいアミノキシ、及び炭素数0〜15の置換基を有していてもよいビニルアルコール残基を表す。)
(一般式(3)及び(4)中、R5及びR6はそれぞれ独立して炭素数1〜15のアルキル及び炭素数6〜30のアリールを表し、aは1以上の整数を表し、bは2以上の整数を表す。) - 前記一般式(2)で表される化合物がメチルトリス(メチルエチルケトキシム)シラン又はメチルトリアセトキシシランであることを特徴とする請求項2記載の架橋性シロキサンポリマー。
- 前記R0がフェニルであり、前記R1及びR2がメチルであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の架橋性シロキサンポリマー。
- 下記一般式(1)で表されるケイ素化合物と、このケイ素化合物中の水酸基と縮合反応を生じる基又は原子を3以上有する架橋性ケイ素化合物とを含有する架橋性組成物。
(一般式(1)中、mは独立して0〜30の整数を表し;nは7〜1,000の整数を表し;R0は独立して、任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキル
で置き換えられてもよいアリール、又は任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいシクロアルキルを表し;R1及びR2は独立して炭素数1〜40のアルキル、任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいアリール、又はアリールにおける任意の水素が独立してハロゲン若しくは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいアリールアルキルを表し;前記炭素数1〜40のアルキルにおいて、任意の水素は独立してフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は独立して−O−又はシクロアルキレンで置き換えられて
もよく;前記アリール又はアリールアルキルの置換基である炭素数1〜20のアルキルにおいて、任意の水素は独立してフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は独立
して−O−、シクロアルキレン又はフェニレンで置き換えられてもよく;前記アリールアルキルのアルキレンにおいて、その炭素数は1〜10であり、任意の水素は独立してフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は独立して−O−、−CH=CH−
又はシクロアルキレンで置き換えられてもよい。) - 前記架橋性ケイ素化合物が、下記一般式(2)〜(4)で表される化合物、及び3以上の水素、ハロゲン又は水酸基が結合するケイ素を含む化合物からなる群から選ばれる一以上であることを特徴とする請求項5記載の架橋性組成物。
R3−Si(R4)3 (2)
(一般式(2)中、R3は炭素数1〜20のアルキル又は炭素数6〜30のアリールを表し、R4は、独立して、ハロゲン、炭素数1〜15のアシル、炭素数1〜15のアルコキシル、炭素数1〜15のオキシム、炭素数0〜15の置換基を有していてもよいアミノ、炭素数0〜15の置換基を有していてもよいアミド、炭素数0〜15の置換基を有していてもよいアミノキシ、及び炭素数0〜15の置換基を有していてもよいビニルアルコール残基を表す。)
(一般式(3)及び(4)中、R5及びR6はそれぞれ独立して炭素数1〜15のアルキル及び炭素数6〜30のアリールを表し、aは1以上の整数を表し、bは2以上の整数を表す。) - 前記一般式(2)で表される化合物がメチルトリス(メチルエチルケトキシム)シラン又はメチルトリアセトキシシランであることを特徴とする請求項6記載の架橋性組成物。
- 前記R0がフェニルであり、前記R1及びR2がメチルであることを特徴とする請求項5〜7のいずれか一項に記載の架橋性組成物。
- 請求項5〜8のいずれか一項に記載の架橋性組成物の膜が硬化してなるシリコーン膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007125074A JP5246679B2 (ja) | 2007-05-09 | 2007-05-09 | 架橋性シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007125074A JP5246679B2 (ja) | 2007-05-09 | 2007-05-09 | 架橋性シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008280420A JP2008280420A (ja) | 2008-11-20 |
| JP2008280420A5 JP2008280420A5 (ja) | 2010-06-24 |
| JP5246679B2 true JP5246679B2 (ja) | 2013-07-24 |
Family
ID=40141508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007125074A Expired - Fee Related JP5246679B2 (ja) | 2007-05-09 | 2007-05-09 | 架橋性シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5246679B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5403730B2 (ja) * | 2008-03-07 | 2014-01-29 | 株式会社Adeka | 低誘電性絶縁膜、プラズマディスプレイおよびその製造方法 |
| JP5369629B2 (ja) * | 2008-11-12 | 2013-12-18 | Jnc株式会社 | 架橋性ケイ素化合物、その製造方法、架橋性組成物、シロキサンポリマー、シリコーン膜、該架橋性ケイ素化合物の原料となるケイ素化合物、及びその製造方法 |
| JP5610379B2 (ja) * | 2008-11-12 | 2014-10-22 | Jnc株式会社 | シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 |
| JP2011190413A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Kumamoto Univ | シロキサンポリマー架橋硬化物 |
| JP6218757B2 (ja) * | 2012-03-09 | 2017-10-25 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | 樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの組成物 |
| CN103030812B (zh) * | 2013-01-07 | 2015-03-04 | 山东省科学院新材料研究所 | 一种改性苯基倍半硅氧烷及其制备方法 |
| JP2015155541A (ja) * | 2015-02-25 | 2015-08-27 | 国立大学法人 熊本大学 | シロキサンポリマー架橋硬化物 |
| CN110603295A (zh) * | 2017-05-24 | 2019-12-20 | 陶氏东丽株式会社 | 固体有机硅材料、使用其而成的层积体和发光器件 |
| KR20200014742A (ko) | 2017-05-31 | 2020-02-11 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 규소 화합물 및 그 제조 방법 |
| JP2021155462A (ja) * | 2018-06-29 | 2021-10-07 | Jnc株式会社 | シロキサンポリマー架橋硬化物 |
| JP7766390B2 (ja) * | 2018-12-04 | 2025-11-10 | Jnc株式会社 | 縮合硬化型樹脂組成物、硬化物、成形体、及び半導体装置 |
| WO2022030353A1 (ja) | 2020-08-06 | 2022-02-10 | Jnc株式会社 | シロキサンポリマー、シロキサンポリマー組成物および成形体 |
| JP7610398B2 (ja) * | 2020-12-01 | 2025-01-08 | Jnc株式会社 | シロキサンポリマー |
| CN118003727B (zh) * | 2024-02-04 | 2024-09-20 | 深圳市精恒光电科技有限公司 | 一种防窥膜及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69620575T2 (de) * | 1995-08-15 | 2002-10-31 | Dow Corning Asia, Ltd. | Härtbare polymethylsilsesquioxanzusammensetzung |
| JP4800460B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2011-10-26 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびその硬化物 |
| JP4742216B2 (ja) * | 2004-07-08 | 2011-08-10 | Jnc株式会社 | ケイ素化合物 |
| JP2007070600A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-03-22 | Asahi Kasei Corp | 封止材用組成物及び光学デバイス |
-
2007
- 2007-05-09 JP JP2007125074A patent/JP5246679B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008280420A (ja) | 2008-11-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5246679B2 (ja) | 架橋性シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 | |
| JP5610379B2 (ja) | シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 | |
| JP5369629B2 (ja) | 架橋性ケイ素化合物、その製造方法、架橋性組成物、シロキサンポリマー、シリコーン膜、該架橋性ケイ素化合物の原料となるケイ素化合物、及びその製造方法 | |
| JP4742216B2 (ja) | ケイ素化合物 | |
| JP6528203B2 (ja) | 架橋性ケイ素化合物の製造方法 | |
| JP2011190413A (ja) | シロキサンポリマー架橋硬化物 | |
| US20020016408A1 (en) | Polyimide silicone resin, its solution composition, and polyimide silicone resin film | |
| JP4781779B2 (ja) | 高分子量オルガノポリシロキサンの製造方法、該高分子量オルガノポリシロキサンを含む組成物およびその硬化物で封止された光半導体装置 | |
| JP2015155541A (ja) | シロキサンポリマー架橋硬化物 | |
| WO2012057298A1 (ja) | ベンゾオキサジン系組成物、およびその熱硬化物とワニス | |
| JP6164123B2 (ja) | 硬化性組成物、メソゲン基含有硬化物及びその製造方法 | |
| JP6256775B2 (ja) | シリコーン重合体の製造方法 | |
| TWI431041B (zh) | Coved release type siloxane resin with functional group and its manufacturing method | |
| WO2020004545A1 (ja) | シロキサンポリマー架橋硬化物 | |
| JP2008280534A (ja) | 光関連デバイス封止用樹脂組成物およびその硬化物ならびに半導体素子の封止方法 | |
| CN111601843B (zh) | 交联剂化合物、包含其的光敏组合物和使用其的光敏材料 | |
| CN119241827A (zh) | 具有长效抗静电性能的聚碳酸酯薄膜及其制备方法 | |
| JP7810112B2 (ja) | シロキサンポリマー、シロキサンポリマー組成物および成形体 | |
| KR20180065185A (ko) | 자가-치유가 가능한 폴리실세스퀴옥산 및 이를 이용한 하이브리드 필름 | |
| JP2638396B2 (ja) | 硬化性シリコーン組成物及びその硬化物 | |
| JP2007293160A (ja) | 感光性かご状シルセスキオキサン化合物 | |
| US3562212A (en) | Random poly-m-carboranylenesiloxane copolymers | |
| JP6313136B2 (ja) | ポリシロキサン化合物、その製造方法及び有機無機複合組成物 | |
| JPH08245880A (ja) | 耐熱性フィルム及びその製造方法 | |
| TWI854544B (zh) | 化合物、包括其之塗覆組成物、化合物製備方法以及電子元件 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100507 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100507 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100720 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20110331 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110331 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111102 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120731 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120925 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120928 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121029 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121120 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130205 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130214 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130312 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130403 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5246679 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |
