JP5654570B2 - 酸化処理を用いて固体支持体の表面に有機膜を調製するための方法 - Google Patents
酸化処理を用いて固体支持体の表面に有機膜を調製するための方法 Download PDFInfo
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Description
i)前記表面部分を酸化処理にかける工程;
ii)ラジカル化学的グラフト化によって前記表面部分に有機膜をグラフト化させる工程。
−ポリオレフィン、たとえば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン/プロピレンコポリマー、ポリブチレン、ポリメチルペンテン、エチレン/酢酸ビニルコポリマー、エチレン/ビニルアルコールコポリマー、それらの誘導体の1種、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種、およびそれらの組合せの1種;
−ポリエステル、たとえば、(場合によってはグリコールによって変性された)ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリラクチド、ポリカーボネート、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種、およびそれらの組合せの1種;
−ポリエーテル、たとえば、ポリ(オキシメチレン)、ポリ(オキシエチレン)、ポリ(オキシプロピレン)、ポリ(フェニレンエーテル)、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−ビニルポリマー、たとえば、(場合によっては塩素化された)ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ(酢酸ビニル)、ポリ(ビニルアセタール)、ポリ(ビニルホルマール)、ポリフッ化ビニル、ポリ(塩化ビニル/酢酸ビニル)、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−ビニリデンポリマー、たとえば、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリフッ化ビニリデン、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−スチレンポリマー、たとえば、ポリスチレン、ポリ(スチレン/ブタジエン)、ポリ(アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン)(ABS)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン−ポリカーボネート(ABS/PC)、ポリ(アクリロニトリル/スチレン)、ポリ(アクリロニトリル/エチレン/プロピレン/スチレン)、ポリ(アクリロニトリル/スチレン/アクリレート)、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−(メタ)アクリル系ポリマー、たとえば、ポリアクリロニトリル、ポリ(アクリル酸メチル)、ポリ(メタクリル酸メチル)、それらの誘導体の1種、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−ポリアミド、たとえば、ポリ(カプロラクタム)、ポリ(ヘキサメチレンアジパミド)、ポリ(ラウロアミド)、ポリエーテル−ブロック−アミド、ポリ(メタキシリレンアジパミド)、ポリ(メタフェニレンイソフタルアミド)、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−フルオロポリマー(またはポリフルオロエテン)、たとえば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ペルフルオロ化ポリ(エチレン/プロピレン)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、それらのコポリマーの1種[たとえば、テトラフルオロエチレンとテトラフルオロプロピレンとのコポリマー(FEP)、エチレンとテトラフルオロエチレンとのコポリマー(ETFE)、ヘキサフルオロプロペンとフッ化ビニリデンとのコポリマー(HFP−co−VDF)、フッ化ビニリデンとトリフルオロエチレンとのコポリマー(VDF−co−TrFE)、およびフッ化ビニリデンとトリフルオロエチレンとモノクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー(VDF−co−TrFE−co−chloro−TrFE)]、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−セルロースポリマー、たとえば、酢酸セルロース、硝酸セルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−ポリ(アリーレンスルホン)、たとえば、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリールスルホン、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−ポリスルフィド、たとえば、ポリ(フェニレンスルフィド);
−ポリ(アリールエーテル)ケトン、たとえば、ポリ(エーテルケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)、ポリ(エーテルケトンケトン)、それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種;
−ポリアミド−イミド;
−ポリ(エーテル)イミド;
−ポリベンズイミダゾール;
−ポリ(インデン/クマロン);
−ポリ(パラキシリレン);
−それらのコポリマーの1種、それらのブレンド物の1種およびそれらの組合せの1種。
Fe2++H2O2 → Fe3++・OH+OH−
R6−N2 +A− (I)
[式中、
−Aは、1価のアニオンを表し、そして
−R6は、アリール基を表す。]
a)少なくとも1種の溶媒の存在下に、少なくとも1種のモノマー(特に先に定義されたもの)を、前記モノマー(特に先に定義されたもの)とは異なる少なくとも1種の接着プライマーを含む溶液に添加する工程、
b)工程(a)において得られた溶液を、その接着プライマーからラジカルエンティティを生成させることを可能とする、非電気化学的条件下に置く工程、
c)固体支持体の表面を、工程(b)の溶液と接触させる工程。
a’)少なくとも1種の溶媒の存在下に、固体支持体の表面を、少なくとも1種の接着プライマー(特に先に定義されたもの)と、場合によっては前記接着プライマー(特に先に定義されたもの)とは異なる少なくとも1種のモノマーとを含む溶液と接触させる工程、
b’)その固体支持体の表面を、前記接着プライマーからラジカルエンティティを生成させることを可能とする非電気化学的条件下に、工程(a’)の溶液と接触状態に置く工程、
c’)場合によっては、前記接着プライマー(特に先に定義されたもの)とは異なる少なくとも1種のモノマーを工程(b’)で得られた溶液に添加する工程。
工程(a’)の溶液の中にはモノマーは存在せず、工程(c’)においてのみ添加する。このシナリオは、使用するモノマーが、特に水溶液中において、極めて溶解性が高い訳ではないという場合;そのモノマーが水に不溶性であり、接着プライマーがジアゾニウム塩である場合には、特に有利である。したがって、工程(c’)においては、そのモノマーを、溶液中、特に工程(a’)において採用されたのと同じ溶媒の中に、そして有利には超音波または界面活性剤を使用して予め製造しておいたエマルションまたは分散体の形態で添加することができる。
工程(a’)の溶液の中にモノマーが存在し、そのプロセスには、工程(c’)がない。このシナリオは、そのプライマーがジアゾニウム塩である場合、そしてそのモノマーが水溶性である場合に特にあてはまる。第一の代替えの形態に従ったプロセスも、このシナリオで使用することもできる。
モノマーの一部が、工程(a’)の溶液の中に存在し、そして(本質的に同一であったも、異なっていてもよい)モノマーの他の部分が、工程(c’)の中にのみ添加される。
R6−NH2 (III)
[R6は、先に定義されたものである。]
−プロトン性溶媒、すなわち、プロトンの形態で放出されることが可能な少なくとも1個の水素原子を含む溶媒であって、有利には、水、脱イオン水、蒸留水(それらの水は酸性化されていても、塩基性であってもよい)、酢酸、ヒドロキシル化溶媒たとえばメタノールおよびエタノール、低分子量液状グリコールたとえばエチレングリコール、およびそれらの混合物からなる群より選択される溶媒か;
−または、非プロトン性溶媒、すなわち、プロトンを放出することができないか、または極端な条件以外ではそれらの一つを受け入れることができない溶媒であって、有利には、ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトン、アセトニトリル、およびジメチルスルホキシド(DMSO)から選択される溶媒;
−または、少なくとも1種のプロトン性溶媒と少なくとも1種の非プロトン性溶媒との混合物。
−熱重合開始剤、その最も一般的なものは、ペルオキシド化合物またはアゾ化合物である。熱の作用が加わると、これらの化合物が分解して、フリーラジカルとなる。この場合においては、その反応は、重合開始剤から生ずるラジカルの発生のために必要とされる温度に相当する、最低温度で実施される。このタイプの化学的重合開始剤は、一般的には、それらの分解の動力学に従って、ある種の温度範囲内に限定して使用される;
−放射線によって(一般的にはUV照射線によるが、γ線または電子ビームによっても)引き起こされる照射によって励起される、光化学的重合開始剤または放射化学的重合開始剤は、多少なりとも複雑なメカニズムによって、ラジカルの発生を可能とする。光化学的重合開始剤または放射化学的重合開始剤としては、Bu3SnHおよびI2が挙げられる;
−本質的に化学的重合開始剤、このタイプの重合開始剤は、迅速かつ標準温度圧力条件で接着プライマーに作用して、それからラジカルを生成させる。そのような重合開始剤は、一般的には、反応条件下では使用される接着プライマーの還元電位よりも低い酸化/還元電位を有している。したがって、接着プライマーの性質に従って、それらは、接着プライマーの不安定化を起こさせるに十分な割合の、たとえば、還元性金属、たとえば鉄、亜鉛、またはニッケル;メタロセン;有機還元剤、たとえば次亜リン酸(H3PO2)またはアスコルビン酸;または有機もしくは無機塩基であってよい。
実施例1.1:鉄(II)テトラフルオロボレートから出発するフェントン反応による酸化
鉄(II)テトラフルオロボレート(1.69g、5×10−2mol)を、水中0.001M硫酸100mLの中に溶解させた。プラスチックおよび/またはポリマーのサンプルをこの溶液の中に浸漬させた。次いで、pH3一定に保ちながら、12mL(0.125mol)の35%過酸化水素水溶液を添加した。25分後に、ミリQ(Milli−Q)水を用いてサンプルを洗い流し、水中で10分間超音波をかけてから、乾燥させた。
硫酸鉄(II)(3.475g、5×10−2mol)を、0.001M硫酸水溶液25mLの中に溶解させた。プラスチックのサンプルおよび/またはポリマーをこの溶液の中に浸漬させた。次いで、pH3一定に保ちながら、5mL(0.062mol)の35%過酸化水素水溶液を添加した。25分後に、ミリQ(Milli−Q)水を用いてサンプルを洗い流し、水中で10分間超音波をかけてから、乾燥させた。
4g(7.1×10−2mol)の水酸化カリウムを、20mLの95%エタノールの中に溶解させた。この溶液の中に、ポリマーのサンプルを、典型的には20分〜2時間の間で変化させた時間のあいだ、浸漬させた。ミリQ(Milli−Q)水を用いてサンプルを洗い流し、水中で10分間超音波をかけてから、乾燥させた。
各種のプラスチックおよびポリマーを、10分間、オゾンの流れに置いた(オゾン雰囲気に曝露させた)。
0.75gの過マンガン酸カリウム(5×10−3mol)を、25mLの3.3M硫酸溶液に添加した。プラスチックおよび/またはポリマーのサンプルをこの溶液の中に15分間浸漬させた。各種のサンプルを、順次、ミリQ(Milli−Q)水を用いて洗い流し、ミリQ(Milli−Q)水中で超音波をかけてから、乾燥させた。
実施例1.5に記載された形態に従って、この実施例を実施した。そうして調製されたサンプルを、次いで、フェントン反応のための実施例1.2に記載された反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
手順:
フェントン反応に従った処理をしていないプラスチック(ABS、ABS/PC、PP、およびPA)を、超音波下に石けん水を用いて10分間、次いで、MQ水を用いて10分間かけて清浄化した。
4−アミノ安息香酸(2.7g、2×10−2mol)を、塩酸溶液(100mL、0.5M)の中に溶解させた。100mLのNaNO2の水溶液(1.38g、2×10−2mol)を、その溶液に添加した。
手順1:
この手順は、実施例2.1の場合と同じであるが、ただし、4−アミノ安息香酸を、1,4−ジアミノフェニレン(2.13g、2×10−2mol)に置き換えた。
4−アミノ安息香酸(1.07g、1×10−2mol)を、塩酸溶液(100mL、0.5M)の中に溶解させた。100mLのNaNO2の水溶液(0.69g、1×10−2mol)を、この溶液に添加した。100mLのアクリル酸AA(1.46mol)および次いで15g(0.27mol)の鉄の削り屑を、このジアゾニウム塩の溶液に添加した。
その手順は、実施例2.1の場合と同じである。4−アミノ安息香酸を4−ニトロベンゼンジアゾニウムテトラフルオロボレート(4.7g、2×10−2mol)に置き換えたが、NaNO2の存在下にジアゾニウム塩前駆体をジアゾニウム塩に転換させる工程はもはや必要ない。
その手順は、実施例2.1の場合と同じである。アクリル酸AAを、12.5mLのメタクリル酸2−ヒドロキシエチル(10−1mol)に置き換えた。
その手順は、実施例2.1の場合と同じである。アクリル酸AAを、100mLの水中0.1Mの4−ビニルピリジン(4−VP)および1MのH2SO4の溶液に置き換えた。
実施例3.1:フェントン酸化(実施例1.1)とそれに続く、4−アミノ安息香酸から出発する、国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載のプロセスによるPAA膜のグラフト化(実施例2.1)
実施例1.1に記載された形態に従って、実施例を実施した。調製されたサンプルを、次いで、グラフト化にかけるために、実施例2.1に記載の反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
実施例1.1に記載された形態に従って、実施例を実施した。調製されたサンプルを、次いで、グラフト化にかけるために、実施例2.2に記載の反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
実施例1.1に記載された形態に従って、実施例を実施した。調製されたサンプルを、次いで、グラフト化にかけるために、実施例2.3に記載の反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
実施例1.3に記載された形態に従って、実施例を実施した。調製されたサンプルを、次いで、グラフト化にかけるために、実施例2.1に記載の反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
実施例1.5に記載された形態に従って、実施例を実施した。調製されたサンプルを、次いで、グラフト化にかけるために、実施例2.2(第二の手順)に記載の反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
実施例1.4に記載された形態に従って、実施例を実施した。調製されたサンプルを、次いで、グラフト化にかけるために、実施例2.1に記載の反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
実施例1.1に記載された形態に従って、実施例を実施した。調製されたサンプルを、次いで、グラフト化にかけるために、実施例2.4に記載の反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
実施例1.1に記載された形態に従って、実施例を実施した。調製されたサンプルを、次いで、グラフト化にかけるために、実施例2.5に記載の反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
実施例1.5に記載された形態に従って、実施例を実施した。調製されたサンプルを、次いで、グラフト化にかけるために、実施例2.2(第二の手順)に記載の反応媒体の中に導入すると、その結果として、それらが清浄化されたので、上述のようにして乾燥させた。
4.1:国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載のプロセスによるPAA膜のグラフト化に対する酸化的前処理の改良
フェントン酸化を介しての酸化的前処理をすることによって、国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載の方法によるポリアクリル酸のグラフト化を向上させることが可能となる。この向上効果は、ブランクのABS、ABS/PC、PVDFまたはPETから作られている支持体、または国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載のプロセスによってグラフト化されたABS、ABS/PC、PVDFまたはPETから作られている支持体の上に載せた液滴に比較して、前処理をされ、次いで国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載のプロセスによってグラフト化されたABS、ABS/PC、PVDFまたはPETから作られている支持体の上に載せた液滴について測定された接触角が顕著に小さくなるということに反映されている(図1)。
フェントン酸化を介しての酸化的前処理をすることによって、国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載の方法によるpHEMAのグラフト化を向上させることが可能となる。この向上効果は、ブランクのABS、ABS/PC、またはPPから作られている支持体、または国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載のプロセスによってグラフト化されたABS、ABS/PC、またはPPから作られている支持体の上に載せた液滴に比較して、前処理をされ、次いで国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載のプロセスによってグラフト化されたABS、ABS/PC、またはPPから作られている支持体の上に載せた液滴について測定された接触角が顕著に小さくなるということに反映されている(図4)。
フェントン酸化を介しての酸化的前処理をすることによって、国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載の方法によるp(4−VP)のグラフト化を向上させることが可能となる。この向上効果は、ブランクのPPから作られている支持体、または国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載のプロセスによってグラフト化されたPPから作られている支持体に比較して、前処理をされ、次いで国際公開第2008/078052号パンフレット[4]に記載のプロセスによってグラフト化されたPPから作られている支持体の上に載せた液滴について測定された接触角が顕著に小さくなるということに反映されている(図5)。
[1]パラシン(Palacin)ら、「分子−金属結合:導電性表面上のポリマーの電気グラフト化(Molecule−to−metal bonds:Electrografting polymers on conducting surfaces)」、ケミカル・フィジックス・ケミストリー(Chem.Phys.Chem.)、2004、5(10)、1469〜1481。
[2]デニアウ(Deniau)ら、「炭素−金属結合:2−ブテンニトリルの電解還元」、サーフェス・サイエンス(Surf.Sci.)、2006、600(3)、675〜684。
[3]国際公開第03/018212号パンフレット(出願人:CEA,公開日:2003年3月6日)。
[4]国際公開第2008/078052号パンフレット(出願人:CEA、公開日:2008年7月3日)。
[5]ナウディン(Naudin)、「ポリマーの命名、分類および化学式(Nomenclature,classificaiton et formules chimques des polymeres[Nomenclature,Classification and Chemical Formulae of Polymers])」、テクニークス・ド・リンゲイヌール(Techniques de l’Ingenieur)、1995、A3035。
[6]ブルーズ(Brewis)およびダーム(Dahm)、「総説:ポリマーの電気化学的前処理(A review of electrochemical pretreatments of polymes)」、インターナショナル・ジャーナル・オブ・アドヘージョン・アンド・アドヘーシブズ(Intl.J.of Adhesion & Adhesives)、2001、21、397〜409。
[7]国際公開第2007/042659号パンフレット(出願人:Alchimer,公開日:2007年4月19日)。
[8]ゼンキエビッチ(Zenkiewicz)ら、「ポリマー複合材料の表面酸化に及ぼす電子ビーム照射の影響(Effects of electron−beam irradiation on surface oxidation of polymer composites)」、アプライド・サーフェス・サイエンス(Applied Surface Science)、2007、253(22)、8992〜8999。
[9]国際公開第2005/033378号パンフレット(出願人:CEA、公開日:2005年4月14日)。
[10]国際公開第2006/097611号パンフレット(出願人:CEA、公開日:2006年9月21日)。
Claims (15)
- (コ)ポリマーから作られている固体支持体の表面の一部の上に有機膜を調製するための方法であって、それが、
i)前記表面部分を酸化処理にかける工程、
ii)アリールジアゾニウム塩を用いたラジカル化学的グラフト化によって前記表面部分に有機膜をグラフト化させる工程、
からなる連続的な工程を含むことを特徴とする、有機膜の調製方法。 - 前記酸化処理が、化学的酸化処理であることを特徴とする、請求項1に記載の有機膜の調製方法。
- 前記化学的酸化処理が、フェントン化学反応、アルコール性水酸化カリウムを用いた処理、強酸を用いた処理、水酸化ナトリウムを用いた処理、強酸化剤を用いた処理、オゾンを用いた処理、およびそれらの組合せからなる群より選択されることを特徴とする、請求項2に記載の有機膜の調製方法。
- 前記強酸化剤が、塩酸、硫酸または硝酸中のKMnO4、K2Cr2O7、KClO3、CrO3、およびそれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする、請求項3に記載の有機膜の調製方法。
- 前記酸化処理が、物理的酸化処理であることを特徴とする、請求項1に記載の有機膜の調製方法。
- 前記酸化処理が、化学的酸化処理に、さらに物理的酸化処理を組み合わせた酸化処理であることを特徴とする、請求項2〜4のいずれか1項に記載の有機膜の調製方法。
- 前記物理的酸化処理が、火炎処理、コロナ作用による処理、プラズマ処理、UV照射線を用いた処理、X線またはγ線を用いた処理、電子を用いるかまたは重イオンを用いた照射処理、およびそれらの組合せからなる群より選択されることを特徴とする、請求項5または請求項6に記載の有機膜の調製方法。
- 前記固体支持体の前記表面が、マスクを備えていることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機膜の調製方法。
- 前記有機膜が、ラジカル経路によって重合可能な、いくつかの同一および/または異なったモノマー単位から主として得られた(コ)ポリマーであることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の有機膜の調製方法。
- 請求項9または請求項10において定義された1種または複数のモノマーとは異なる前記アリールジアゾニウム塩から得られた分子実体が、前記固体支持体の前記表面に対して共有結合により結合され、そして前記有機膜に対してはまた別の共有結合によって結合されていることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の有機膜の調製方法。
- 前記工程(ii)が、以下の:
a)少なくとも1種の溶媒の存在下に、請求項9または請求項10において定義された少なくとも1種のモノマーを、少なくとも1種のアリールジアゾニウム塩を含む溶液に添加する工程、
b)工程(a)において得られた溶液を、前記アリールジアゾニウム塩からラジカル実体を生成させることを可能とする、非電気化学的条件下に置く工程、
c)前記固体支持体の表面を、工程(b)の溶液と接触させる工程、
からなる工程を含むことを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機膜の調製方法。 - 前記工程(ii)が、以下の:
a’)前記固体支持体の表面を、少なくとも1種のアリールジアゾニウム塩を含む溶液に、少なくとも1種の溶媒の存在下で、接触させる工程、
b’)前記固体支持体の表面を、前記アリールジアゾニウム塩からラジカル実体を生成させることを可能とする非電気化学的条件下に、工程(a’)の前記溶液と接触状態に置く工程、
を含む工程であって、
前記アリールジアゾニウム塩と異なる少なくとも1種のモノマーが、工程(a’)における溶液もしくは工程(b’)における溶液に添加されるか、または、前記アリールジアゾニウム塩と異なる複数のモノマーが、工程(a’)における溶液および工程(b’)における溶液に添加されることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機膜の調製方法。 - 工程(b)または(b’)の際に、1種(または複数)の化学的重合開始剤を使用することを特徴とする、請求項12または請求項13に記載の有機膜の調製方法。
- 前記1種(または複数)の化学的重合開始剤が、金属ウールまたは金属の削り屑であることを特徴とする、請求項14に記載の有機膜の調製方法。
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| CN107313086B (zh) * | 2017-06-26 | 2019-04-05 | 重庆理工大学 | 一种超细晶/纳米晶Cr涂层的复合制备工艺 |
| WO2019108200A1 (en) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Anti-coalescing agent for three-dimensional printing |
| WO2019108730A1 (en) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | The Trustees Of Princeton University | Adhesion layer bonded to an activated surface |
| EP3784822A1 (en) | 2018-04-24 | 2021-03-03 | CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement | Method of metal plating of polymer-containing substrates |
| FR3082206B1 (fr) * | 2018-06-08 | 2020-07-10 | Brgm | Procede de traitement d'un melange de plastiques par oxydation menagee |
| CN108796474B (zh) * | 2018-06-15 | 2020-05-12 | 电子科技大学 | 一种基于溶液法同质外延MgO薄膜的制备方法 |
| CN110029331B (zh) * | 2019-04-24 | 2020-09-18 | 南昌大学 | 一种用于非金属材料化学镀铜的敏化液及其敏化工艺 |
| CN110690467B (zh) * | 2019-10-13 | 2020-10-23 | 浙江大学 | 单原子钯催化剂的制备及其在直接甲酸燃料电池中的应用 |
| CN111500991A (zh) * | 2020-06-03 | 2020-08-07 | 苏州卫鹏机电科技有限公司 | 一种镀银抗菌织物的制备方法与装置 |
| CN114736552B (zh) * | 2022-04-22 | 2022-11-22 | 广东希贵光固化材料有限公司 | 一种uv固化返修水 |
| CN115322014B (zh) * | 2022-09-14 | 2023-04-11 | 东华大学 | 含有金属涂层的陶瓷基底及其制备方法 |
Family Cites Families (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5023A (en) * | 1847-03-20 | Stocking-loom | ||
| US3607536A (en) * | 1968-11-07 | 1971-09-21 | Usm Corp | Treatment of resin surfaces to improve adhesive bonding, adhesive bonding process and resin bodies with treated surfaces |
| JPS5914209B2 (ja) * | 1977-09-30 | 1984-04-03 | 日本原子力研究所 | 改良された絶縁体層を持つたゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケ−ブルの製造方法 |
| US4593050A (en) * | 1983-07-25 | 1986-06-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Ultraviolet light assisted fluorination of polymer surfaces |
| US4666569A (en) * | 1984-12-28 | 1987-05-19 | Standard Oil Commercial Development Company | Method of making multilayer ohmic contact to thin film p-type II-VI semiconductor |
| KR910005235B1 (ko) * | 1988-12-01 | 1991-07-24 | 재단법인 한국화학연구소 | 흡수성 고분자 물질 및 그의 제조방법 |
| US4981715A (en) * | 1989-08-10 | 1991-01-01 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Method of patterning electroless plated metal on a polymer substrate |
| EP0430545B1 (en) * | 1989-11-21 | 1996-07-10 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Surface irradiation of articles molded from polypropylene compositions |
| JPH04259381A (ja) * | 1991-02-14 | 1992-09-14 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 表面改質した合成樹脂材料の製造方法 |
| GB9112267D0 (en) * | 1991-06-07 | 1991-07-24 | Biocompatibles Ltd | Polymeric coating |
| US5397863A (en) * | 1991-09-13 | 1995-03-14 | International Business Machines Corporation | Fluorinated carbon polymer composites |
| JP3227002B2 (ja) * | 1993-01-28 | 2001-11-12 | 倉敷紡績株式会社 | フッ素樹脂表面の改質法 |
| EP0665430B1 (en) * | 1994-01-28 | 1998-04-15 | Hewlett-Packard GmbH | Capillary made of plastics material for use in capillary electrophoresis and process for its production |
| JP3206310B2 (ja) * | 1994-07-01 | 2001-09-10 | ダイキン工業株式会社 | 表面改質されたフッ素樹脂成形品 |
| US7255954B2 (en) * | 1998-08-27 | 2007-08-14 | Cabot Corporation | Energy devices |
| EP1135219B1 (de) * | 1998-10-28 | 2004-01-28 | Ciba SC Holding AG | Verfahren zur herstellung haftfester oberflächenbeschichtungen |
| FR2792500B1 (fr) * | 1999-04-23 | 2004-05-21 | Internat Redox Dev | Composition aqueuse, notamment sous forme de gel, a base de ho2f , acides et ions metalliques, procede de preparation notamment quand lesdits ions sont ag2+ et utilisation dans le domaine de la desinfection et/ou du traitement de surface |
| JP2001002738A (ja) * | 1999-06-17 | 2001-01-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | 陰イオン交換体及びその製造方法 |
| JP4512281B2 (ja) | 2001-02-22 | 2010-07-28 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版 |
| US7179506B2 (en) * | 2001-08-24 | 2007-02-20 | Mount Holyoke College | Surface modification of solid phase objects by poly(vinyl alcohol) |
| FR2829046B1 (fr) | 2001-08-28 | 2005-01-14 | Commissariat Energie Atomique | Procede de greffage et de croissance d'un film organique conducteur sur une surface |
| WO2004051782A1 (en) * | 2002-06-28 | 2004-06-17 | Dubitsky Yuri A | Fuel cell incorporating a polymer electrolyte membrane grafted by irradiation |
| FR2851181B1 (fr) * | 2003-02-17 | 2006-05-26 | Commissariat Energie Atomique | Procede de revetement d'une surface |
| EP1598374A4 (en) * | 2003-02-25 | 2008-04-02 | Japan Government | PROCESS FOR PRODUCING POLYMERS |
| FR2852016B1 (fr) * | 2003-03-03 | 2006-07-07 | Atofina | Procede de fabrication de pvdf thermiquement stable |
| US7417079B2 (en) * | 2003-07-28 | 2008-08-26 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Use of styrene-maleic anhydride copolymer to control black-to-color bleed |
| FR2860523B1 (fr) | 2003-10-01 | 2006-01-13 | Commissariat Energie Atomique | Procede de formation d'un film polymere sur une surface conductrice ou semi-conductrice de l'electricite par electro-greffage, surfaces obtenues et applications |
| US7273531B2 (en) * | 2003-11-05 | 2007-09-25 | 3M Innovative Properties Company | Method of modifying a fluoropolymeric substrate and composite articles thereby |
| US20050233203A1 (en) * | 2004-03-15 | 2005-10-20 | Hampden-Smith Mark J | Modified carbon products, their use in fluid/gas diffusion layers and similar devices and methods relating to the same |
| US20080124552A1 (en) * | 2004-05-24 | 2008-05-29 | Nisshinbo Industries, Inc. | Particle With Rough Surface For Plating Or Vapor Deposition |
| FR2871162B1 (fr) * | 2004-06-02 | 2007-06-29 | Univ Paris 7 Denis Diderot | Materiau de surface modifiee, son procede de preparation et ses utilisations |
| FR2883299B1 (fr) | 2005-03-15 | 2007-06-15 | Commissariat Energie Atomique | Formation de films ultraminces greffes sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'electricite |
| JP4712420B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2011-06-29 | 富士フイルム株式会社 | 表面グラフト材料、導電性材料およびその製造方法 |
| US7547849B2 (en) * | 2005-06-15 | 2009-06-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Compositions useful in electronic circuitry type applications, patternable using amplified light, and methods and compositions relating thereto |
| FR2891834B1 (fr) * | 2005-10-11 | 2007-12-14 | Alchimer Sa | Procede de modification de surfaces de polymeres, notamment d'hydroxylation de surfaces de polymeres, et produits tels qu'obtenus |
| FR2891835B1 (fr) | 2005-10-11 | 2007-12-14 | Alchimer Sa | Procede de modification de surfaces de polymeres, notamment d'hydroxylation de surfaces de polymeres, et produits tels qu'obtenus |
| US9725602B2 (en) | 2006-12-19 | 2017-08-08 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Method for preparing an organic film at the surface of a solid support under non-electrochemical conditions, solid support thus obtained and preparation kit |
| FR2910010B1 (fr) * | 2006-12-19 | 2009-03-06 | Commissariat Energie Atomique | Procede de preparation d'un film organique a la surface d'un support solide dans des conditions non-electrochimiques, support solide ainsi obtenu et kit de preparation |
| JP2008256754A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-23 | Fujifilm Corp | グラフトポリマーパターン形成方法、導電性パターン形成方法、及び有機el表示装置 |
| FR2921518B1 (fr) * | 2007-09-26 | 2009-12-11 | Commissariat Energie Atomique | Procede d'elaboration de membranes conductrices de protons de pile a combustible par radiogreffage |
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