JPS5914209B2 - 改良された絶縁体層を持つたゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケ−ブルの製造方法 - Google Patents
改良された絶縁体層を持つたゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケ−ブルの製造方法Info
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- JPS5914209B2 JPS5914209B2 JP52117356A JP11735677A JPS5914209B2 JP S5914209 B2 JPS5914209 B2 JP S5914209B2 JP 52117356 A JP52117356 A JP 52117356A JP 11735677 A JP11735677 A JP 11735677A JP S5914209 B2 JPS5914209 B2 JP S5914209B2
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- G21K5/10—Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C71/00—After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor
- B29C71/04—After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor by wave energy or particle radiation, e.g. for curing or vulcanising preformed articles
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
- H01B13/003—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables using irradiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
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- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0866—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation
- B29C2035/0877—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation using electron radiation, e.g. beta-rays
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- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子線照射により、ゴムまたはプラスチック絶
縁体層の機械特性、熱的特性が改善され35たゴムまた
ぱプラスチック絶縁電線またはケーブルの製造方法の改
良に関するものである。
縁体層の機械特性、熱的特性が改善され35たゴムまた
ぱプラスチック絶縁電線またはケーブルの製造方法の改
良に関するものである。
機械的、熱的に優れた特性を持つたゴムまたはプラスチ
ツク絶縁電線またはケーブルを得る目的で、ゴムまたは
プラスチツク絶縁体層に放射線を照射することが実用化
されている。
ツク絶縁電線またはケーブルを得る目的で、ゴムまたは
プラスチツク絶縁体層に放射線を照射することが実用化
されている。
かかる目的での電線またはケーブル類への放射線照射に
あたつては比較的容易に大線量が得られることから、一
般に電子線が応用されて居り、例えばポリエチレン絶縁
電線またはケーブルでは−般に、1×106rad/!
)程度の線量率にて 1〜50Mradの線量が照射さ
れる。
あたつては比較的容易に大線量が得られることから、一
般に電子線が応用されて居り、例えばポリエチレン絶縁
電線またはケーブルでは−般に、1×106rad/!
)程度の線量率にて 1〜50Mradの線量が照射さ
れる。
またその照射方法としては、電線ケーブルには中心に電
導体が存在するため一方向からの一回の照射では全被覆
層を処理することができないため、走線中の電線または
ケーブルの片面から照射処理したのち、反転裏返しさせ
、反対面から再度照射処理するという照射処理方法が一
般に実施されている。ところが、この様に電子線照射処
理したゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケーブル
に卦いて、比較的、その絶縁体層が厚いものに卦いて、
被照射絶縁体層内に微少なクラツクが生成し、電線また
はケーブルの耐圧特性を著しく低下させることが起きた
。
導体が存在するため一方向からの一回の照射では全被覆
層を処理することができないため、走線中の電線または
ケーブルの片面から照射処理したのち、反転裏返しさせ
、反対面から再度照射処理するという照射処理方法が一
般に実施されている。ところが、この様に電子線照射処
理したゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケーブル
に卦いて、比較的、その絶縁体層が厚いものに卦いて、
被照射絶縁体層内に微少なクラツクが生成し、電線また
はケーブルの耐圧特性を著しく低下させることが起きた
。
このクラツク発生原因についてはまだ解明されて卦らな
いため、絶縁体層の厚い大サイズ、または、高圧用のゴ
ム、またはプラスチツク絶縁電線またはケーブル類に電
子線照射改質法を適用することは不向きと考えられてい
た。
いため、絶縁体層の厚い大サイズ、または、高圧用のゴ
ム、またはプラスチツク絶縁電線またはケーブル類に電
子線照射改質法を適用することは不向きと考えられてい
た。
発明者らは電子線照射されたゴムまたはプラスチツクの
機械的、熱的特性が優れたものとなる点に着目し、かか
る改質技術を大サイズあるいは高圧用のゴムまたはプラ
スチツク絶縁電線またはケーブルの製造に応用しようと
考え、電子線照射により随伴して発生する絶縁体層内の
微少クラツク発生の防止方法について鋭意研究を続けて
きたところ、電子線の透過方向に卦ける絶縁体層の最大
厚みが4聴以上であるゴムまたはブラスチツク絶縁体層
をもつたゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケーブ
ルに電子線を照射して、改質された絶縁体層をもつたゴ
ムまたはブラスチツク絶縁電線またはケーブルを製造す
るにあたり、電子線照射器のスキヤンナ一の下を被照射
電線またはケーブルの同一部分が照射されたのら該部分
が10秒以内に再度照射されるように被照射電線または
ケーブルに所定の回転を与えつつこれを走行させ、これ
に該照射器より加速エネルギーが1MeV以上で、かつ
被照射絶縁体中に卦ける電子の最大飛程が被照射電線ま
たはケーブルの絶縁体層の厚さより大きい電子線エネル
ギーを照射することによ夕上述の如き問題が生起せず機
械的卦よび熱的特性の改善されたゴムまたはプラスチツ
ク絶縁電線またはケーブルが得られることを見いだした
ものである。
機械的、熱的特性が優れたものとなる点に着目し、かか
る改質技術を大サイズあるいは高圧用のゴムまたはプラ
スチツク絶縁電線またはケーブルの製造に応用しようと
考え、電子線照射により随伴して発生する絶縁体層内の
微少クラツク発生の防止方法について鋭意研究を続けて
きたところ、電子線の透過方向に卦ける絶縁体層の最大
厚みが4聴以上であるゴムまたはブラスチツク絶縁体層
をもつたゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケーブ
ルに電子線を照射して、改質された絶縁体層をもつたゴ
ムまたはブラスチツク絶縁電線またはケーブルを製造す
るにあたり、電子線照射器のスキヤンナ一の下を被照射
電線またはケーブルの同一部分が照射されたのら該部分
が10秒以内に再度照射されるように被照射電線または
ケーブルに所定の回転を与えつつこれを走行させ、これ
に該照射器より加速エネルギーが1MeV以上で、かつ
被照射絶縁体中に卦ける電子の最大飛程が被照射電線ま
たはケーブルの絶縁体層の厚さより大きい電子線エネル
ギーを照射することによ夕上述の如き問題が生起せず機
械的卦よび熱的特性の改善されたゴムまたはプラスチツ
ク絶縁電線またはケーブルが得られることを見いだした
ものである。
本発明方法にて電線またはケーブルに所定の回転を与え
つつ電子線を照射する際に絶縁体層の被照射部分が照射
されてより再度照射される時間が10秒以内にならしめ
ることによる微少クラツク発生を抑制できるその作用機
構は詳らかでないが、電荷の発生とその拡散が複雑に影
響することによるものと考えられる。
つつ電子線を照射する際に絶縁体層の被照射部分が照射
されてより再度照射される時間が10秒以内にならしめ
ることによる微少クラツク発生を抑制できるその作用機
構は詳らかでないが、電荷の発生とその拡散が複雑に影
響することによるものと考えられる。
即ち電子線照射時に絶縁体層中でこの作用が働き、クラ
ツク発生を抑制せしめ、照射終了後もある一定時間この
作用が残留し、照射時と同様にクラツク発生を抑制せし
めるものであろう。したがつて絶縁体層の被照射部分が
照射されてより再度照射される時間はできるだけ短い方
が、クラツク発生抑制の作用は大きく働く。発明者らが
種々検討した結果、絶縁体層の被照射部分が照射されて
より再度照射される時間が10秒以内であれば上記効果
は有効に作用するが、上記範囲を逸脱した場合は効果が
発揮されない。本発明方法に卦いて被照射電線またはケ
ーブルの絶縁体層の被照射部分が照射されたのち該部分
が10秒以内に再度照射されるように該電線またはケー
ブルに所定の回転を与える理由卦よびその具体的な方法
について、図にしたがつて説明する。第1図に示すよう
に導体径が2r2の導体イにゴムまたはプラスチツク組
成物口を被覆した外径2r1のゴムまたはプラスチツク
絶縁電線またはケーブルに該ケーブル絶縁体層中に卦け
る最大飛程がRmaxであるような電子線を照射する場
合、電子線照射器のスキヤナ一の下で、該ケーブルが断
面方向からみて右に回転するとすればケーブルの照射部
分は徐々に変化する。いま、ケーブルを固定して照射方
向が徐々に変化すると考えれば、照射方向は左方向(第
1図の実線の矢印で示す方印に移動する。まず初期に卦
いて電子線がAlO方向(図の1点鎖線の矢印で示す方
向。0はケーブルの中心を示す。
ツク発生を抑制せしめ、照射終了後もある一定時間この
作用が残留し、照射時と同様にクラツク発生を抑制せし
めるものであろう。したがつて絶縁体層の被照射部分が
照射されてより再度照射される時間はできるだけ短い方
が、クラツク発生抑制の作用は大きく働く。発明者らが
種々検討した結果、絶縁体層の被照射部分が照射されて
より再度照射される時間が10秒以内であれば上記効果
は有効に作用するが、上記範囲を逸脱した場合は効果が
発揮されない。本発明方法に卦いて被照射電線またはケ
ーブルの絶縁体層の被照射部分が照射されたのち該部分
が10秒以内に再度照射されるように該電線またはケー
ブルに所定の回転を与える理由卦よびその具体的な方法
について、図にしたがつて説明する。第1図に示すよう
に導体径が2r2の導体イにゴムまたはプラスチツク組
成物口を被覆した外径2r1のゴムまたはプラスチツク
絶縁電線またはケーブルに該ケーブル絶縁体層中に卦け
る最大飛程がRmaxであるような電子線を照射する場
合、電子線照射器のスキヤナ一の下で、該ケーブルが断
面方向からみて右に回転するとすればケーブルの照射部
分は徐々に変化する。いま、ケーブルを固定して照射方
向が徐々に変化すると考えれば、照射方向は左方向(第
1図の実線の矢印で示す方印に移動する。まず初期に卦
いて電子線がAlO方向(図の1点鎖線の矢印で示す方
向。0はケーブルの中心を示す。
)から照射されるとすれば、弧ClBl,B,BOBl
卦よびB5lC′,の線まで電子線は到達する。ここで
、弧ClB,C′1B1は、AlOの延長線上の点であ
つてかつ002=Rmaxである点02を中心にしてr
の半径で画いた円弧である。このときの絶縁体中の被照
射部はAlClBlBlCiとなる。照射方向が左方向
に回転してCが被照射部を脱した状態について考えてみ
ると、その一例は、0を中心として002すなわちRm
axを半径として画いた弧C3B3B!Cイの線まで電
子線が到達することになり、その結果B1もC1ととも
に最初の被照射部分より脱することになる。さらに照射
方向が左に回転してCIが再照射を受けはじめた状態に
つき考えると、この状態では、0を中心としてRmax
を半径として画いた円周上の点04を中心として半径r
1で画いた弧C4B4B二CZ,C!の線まで電子線が
到達することになるので、CfはB1よりも早く再照射
を受けることになる。したがつてAlC,B,B7CI
の部分で最も早くから照射部分を脱しかづ再照射部分に
入るのが最も遅い点はBfである。しかしてB1が再照
射を受けたときの照射方向はA2O方向(点線の矢印で
示す方向)である。照射方向がAlO力ちA2Oへ回転
する回転角を2θ(ラジアン)とすれば、LO2OB2
=θとなる。(ここで弧C2B2B6ChはA2Oの延
長線上の点であつてかつ001=Rmaxである点01
粧心にしてr1の半径で画いた円弧である。)02B2
=Rl,OB2=R2,OO2=Rmaxであるから、
(但しこのときRmax2≦R,2−R22である)で
ある。
卦よびB5lC′,の線まで電子線は到達する。ここで
、弧ClB,C′1B1は、AlOの延長線上の点であ
つてかつ002=Rmaxである点02を中心にしてr
の半径で画いた円弧である。このときの絶縁体中の被照
射部はAlClBlBlCiとなる。照射方向が左方向
に回転してCが被照射部を脱した状態について考えてみ
ると、その一例は、0を中心として002すなわちRm
axを半径として画いた弧C3B3B!Cイの線まで電
子線が到達することになり、その結果B1もC1ととも
に最初の被照射部分より脱することになる。さらに照射
方向が左に回転してCIが再照射を受けはじめた状態に
つき考えると、この状態では、0を中心としてRmax
を半径として画いた円周上の点04を中心として半径r
1で画いた弧C4B4B二CZ,C!の線まで電子線が
到達することになるので、CfはB1よりも早く再照射
を受けることになる。したがつてAlC,B,B7CI
の部分で最も早くから照射部分を脱しかづ再照射部分に
入るのが最も遅い点はBfである。しかしてB1が再照
射を受けたときの照射方向はA2O方向(点線の矢印で
示す方向)である。照射方向がAlO力ちA2Oへ回転
する回転角を2θ(ラジアン)とすれば、LO2OB2
=θとなる。(ここで弧C2B2B6ChはA2Oの延
長線上の点であつてかつ001=Rmaxである点01
粧心にしてr1の半径で画いた円弧である。)02B2
=Rl,OB2=R2,OO2=Rmaxであるから、
(但しこのときRmax2≦R,2−R22である)で
ある。
Rmax2〉Rl2−R22の場合は導体により電子線
が遮蔽され、導体の裏側は常に照射を受けないから回転
角2θは常にπである。
が遮蔽され、導体の裏側は常に照射を受けないから回転
角2θは常にπである。
したがつてこの場合は α袷θ=0この回転角2θの変
位を10秒以内でしなければならず、そのためには照射
方向の回転速度を6夕(R.p.m)以上で移動しなけ
ればならない。
位を10秒以内でしなければならず、そのためには照射
方向の回転速度を6夕(R.p.m)以上で移動しなけ
ればならない。
つまりケーブルが中心軸を軸と、して6Z(R.p.m
)以±の回転速度で回転しなければならない。即ら、被
照射電線またはケーブルをその中ノυ咄を軸として6%
(R.p.m)以上の速度で回転せしめることにより、
微少クラツク発生を抑制し、本発明目的を達成すること
ができる。
)以±の回転速度で回転しなければならない。即ら、被
照射電線またはケーブルをその中ノυ咄を軸として6%
(R.p.m)以上の速度で回転せしめることにより、
微少クラツク発生を抑制し、本発明目的を達成すること
ができる。
但し、ここで
である。
またこの回転速度をN(R.p.m)とし、被照射電線
またはケーブルの走線方向に卦ける電子線の照射野の長
さをL(m)とすれば該電線またはケーブルの走線速度
はN−L(≠)以下でなければならない。
またはケーブルの走線方向に卦ける電子線の照射野の長
さをL(m)とすれば該電線またはケーブルの走線速度
はN−L(≠)以下でなければならない。
走線速度がN−Lを越える場合は該電線またはケーブル
の絶縁体層の被照射部分が照射されてより回転して再度
照射されるまでに電子線の照射野を過ぎてしまい、該絶
縁体層に照射を受けない部分ができ、また上記クラツク
発生の抑制作用が発揮されない。さらに被照射電線また
はケーブル絶縁体の電子線処理の均一性からみれば、該
電線またはケーブルが回転しつつ走線する場合、絶縁体
層各部が少なくとも4回照射されることが望ましい。
の絶縁体層の被照射部分が照射されてより回転して再度
照射されるまでに電子線の照射野を過ぎてしまい、該絶
縁体層に照射を受けない部分ができ、また上記クラツク
発生の抑制作用が発揮されない。さらに被照射電線また
はケーブル絶縁体の電子線処理の均一性からみれば、該
電線またはケーブルが回転しつつ走線する場合、絶縁体
層各部が少なくとも4回照射されることが望ましい。
即ち走線速度は(N−L)/3(戦偏)未満であること
が望ましい。(N−L)A以上の場合は該絶縁体層の照
射による吸収線量の不均一性がみられ、例えば架橋処理
の場合照射ムラがみられる。以上説明した如き被照射電
線またはケーブルに所定の回転を与えつつこれを所定の
走線速度をもって走線せしめる具体的な方法としては、
被照射電線の送出装置卦よび照射処理後の電線ケーブル
の巻取装置を各々同一方向に回転させて作動させて行う
ことが実操業上最も好適な方法である。
が望ましい。(N−L)A以上の場合は該絶縁体層の照
射による吸収線量の不均一性がみられ、例えば架橋処理
の場合照射ムラがみられる。以上説明した如き被照射電
線またはケーブルに所定の回転を与えつつこれを所定の
走線速度をもって走線せしめる具体的な方法としては、
被照射電線の送出装置卦よび照射処理後の電線ケーブル
の巻取装置を各々同一方向に回転させて作動させて行う
ことが実操業上最も好適な方法である。
本発明方法に卦いて使用する電子線をそのエネルギーの
最大飛程が被照射処理電線またはケーブルのゴムまたは
プラスチツク絶縁体層の厚さ以上のものと限定した理由
は、エネルギーの最大飛程が被照射処理絶縁体層厚未満
の小さいものであると、該電線またはケーブルの中心軸
を軸にして回転する速度をいかに速くしても照射電子線
による電離作用が絶縁体層内で不連続となり、従ってこ
の部分にクラツクが発生し易〈なるためである。な卦、
本発明で云う電子線の最大飛程とは、物質中を透過して
進む電子線の進行可能な距離の限度を意味するもので、
例えば比重が1のゴムまたはプラスチツクスに対し加速
エネルギーが1eV,2MeV,3MeVの電子線の最
大飛程はそれぞれ約4rwt111rrr1n117−
である。また、本発明方法にて電子線のエネルギーを1
MeV以上と限定した理由は1MeV未満のエネルギー
のものでは本発明で目的とする電子線の透過方向に卦け
る最大厚みが4rfrm以上のゴムまたはプラスチツク
絶縁体層に均一な照射効果を与えて、十分に改質された
ものを得難いためである。な卦、線量率については、1
02r1にEc−JO9rad/<Ecの範囲が使用さ
れるが、工業的には104rad×(代)〜107ra
d/s(イ)の範囲が好ましい。
最大飛程が被照射処理電線またはケーブルのゴムまたは
プラスチツク絶縁体層の厚さ以上のものと限定した理由
は、エネルギーの最大飛程が被照射処理絶縁体層厚未満
の小さいものであると、該電線またはケーブルの中心軸
を軸にして回転する速度をいかに速くしても照射電子線
による電離作用が絶縁体層内で不連続となり、従ってこ
の部分にクラツクが発生し易〈なるためである。な卦、
本発明で云う電子線の最大飛程とは、物質中を透過して
進む電子線の進行可能な距離の限度を意味するもので、
例えば比重が1のゴムまたはプラスチツクスに対し加速
エネルギーが1eV,2MeV,3MeVの電子線の最
大飛程はそれぞれ約4rwt111rrr1n117−
である。また、本発明方法にて電子線のエネルギーを1
MeV以上と限定した理由は1MeV未満のエネルギー
のものでは本発明で目的とする電子線の透過方向に卦け
る最大厚みが4rfrm以上のゴムまたはプラスチツク
絶縁体層に均一な照射効果を与えて、十分に改質された
ものを得難いためである。な卦、線量率については、1
02r1にEc−JO9rad/<Ecの範囲が使用さ
れるが、工業的には104rad×(代)〜107ra
d/s(イ)の範囲が好ましい。
本発明方法にて云う、ゴムまたはプラスチツク絶縁電線
またはケーブルとは、例えば銅やアルミ合金の如き良電
導性金属導体を天然ゴム、エチレン、プロピレン共重合
体系ゴム、ポリジエン系ゴム、ポリシロキサン系ゴム、
エチレン酢酸ビニル共重合体系ゴム、クロロスルホン化
ポリエチレン系ゴム、塩素化ポリエチレン系ゴム、など
のゴム類、またはポリエチレン、ポリ塩化ピニル、ポリ
プロピレン、ポリ弗化ビニリデン、エチレン一四弗化エ
チレン共重合体などのブラスチツクス類にて、電子線の
透過方向に卦ける被覆最大厚み4『以上に被覆し絶縁体
層とした電線、ケーブル類を指すものである。該最大厚
みが4m未満の場合にはクラツクの発生が起り難く実用
上問題とならないためである。な卦、本発明方法に卦け
る電子線照射処理時の環境温度としては高温であると被
照射体の発泡或いは変形などの問題が併記するので60
℃以下の低温にて行うことが好ましい。実施例 1 老化防止剤を配合した低密度ポリエチレン組成物を導体
径12r!Rlnの撚線導体上に被覆厚さ6mに押出被
覆した外径24rrrmのポリエチレン絶縁ケーブル1
に対して、送出装置2、巻取装置3を第2図のように配
し、コツククロフトワルトン型電子線加速器4の照射窓
5の下を図のようにスキヤニング方向に走線しっつかつ
送出装置卦よび巻取装置を回転させて該ケーブルが照射
野の中で中心軸を軸にして回転しながら、該ケーブルに
電子線を照射する。
またはケーブルとは、例えば銅やアルミ合金の如き良電
導性金属導体を天然ゴム、エチレン、プロピレン共重合
体系ゴム、ポリジエン系ゴム、ポリシロキサン系ゴム、
エチレン酢酸ビニル共重合体系ゴム、クロロスルホン化
ポリエチレン系ゴム、塩素化ポリエチレン系ゴム、など
のゴム類、またはポリエチレン、ポリ塩化ピニル、ポリ
プロピレン、ポリ弗化ビニリデン、エチレン一四弗化エ
チレン共重合体などのブラスチツクス類にて、電子線の
透過方向に卦ける被覆最大厚み4『以上に被覆し絶縁体
層とした電線、ケーブル類を指すものである。該最大厚
みが4m未満の場合にはクラツクの発生が起り難く実用
上問題とならないためである。な卦、本発明方法に卦け
る電子線照射処理時の環境温度としては高温であると被
照射体の発泡或いは変形などの問題が併記するので60
℃以下の低温にて行うことが好ましい。実施例 1 老化防止剤を配合した低密度ポリエチレン組成物を導体
径12r!Rlnの撚線導体上に被覆厚さ6mに押出被
覆した外径24rrrmのポリエチレン絶縁ケーブル1
に対して、送出装置2、巻取装置3を第2図のように配
し、コツククロフトワルトン型電子線加速器4の照射窓
5の下を図のようにスキヤニング方向に走線しっつかつ
送出装置卦よび巻取装置を回転させて該ケーブルが照射
野の中で中心軸を軸にして回転しながら、該ケーブルに
電子線を照射する。
このとき電子線の加速エネルギーは2MeV1線量率は
6×105ra↓毫Ecで、ケーブルの回転速度は30
r.p.m、走線速度は0.6rrV!In、加速器の
照射野の長さは60CTIで、ケーブル絶縁体表面の照
射線量は20Mradであった。而して得たポリエチレ
ン絶縁ケーブルについて、絶縁体層のゲル分率、加熱変
形率、絶縁破壊電圧、卦よびクラツク発生の有無等を調
べた。得られた結果を第1表に示す。比較例 1 実施例1にて用いたと同一構成のポリエチレン絶縁ケー
ブル1を実施例1と同様の電子線加速器4の照射窓5の
下を第3図のようにタスキ架け方式にて走線速度1.2
rr1/Ninで走線しつつ該加速器から加速エネルギ
ー2.0MeV、線量率6×105raVsec、照射
野の長さ60cmで照射し、次いで該ケーブルをターン
シーブ6にて反転させて、該ケーブル反対方向から同様
に照射した。
6×105ra↓毫Ecで、ケーブルの回転速度は30
r.p.m、走線速度は0.6rrV!In、加速器の
照射野の長さは60CTIで、ケーブル絶縁体表面の照
射線量は20Mradであった。而して得たポリエチレ
ン絶縁ケーブルについて、絶縁体層のゲル分率、加熱変
形率、絶縁破壊電圧、卦よびクラツク発生の有無等を調
べた。得られた結果を第1表に示す。比較例 1 実施例1にて用いたと同一構成のポリエチレン絶縁ケー
ブル1を実施例1と同様の電子線加速器4の照射窓5の
下を第3図のようにタスキ架け方式にて走線速度1.2
rr1/Ninで走線しつつ該加速器から加速エネルギ
ー2.0MeV、線量率6×105raVsec、照射
野の長さ60cmで照射し、次いで該ケーブルをターン
シーブ6にて反転させて、該ケーブル反対方向から同様
に照射した。
な卦ケーブル絶縁体の平均吸収線量は20Mradであ
つた。而して得たポリエチレン絶縁ケーブルについて実
施例と同様に諸特性を調べた。
つた。而して得たポリエチレン絶縁ケーブルについて実
施例と同様に諸特性を調べた。
得られた結果を第1表に併記した。※1 ケーブル絶縁
体層より5点採取し、沸とうキシレン中に100時間浸
漬したときの不溶解残渣分 ※2 ケーブルより絶縁体層を剥取、温度120℃、荷
重3K9で測定※3 父流50Hzでの破壊電圧 ※4 ケーブル絶縁体層を採取し、肉眼にてまたは薄層
に切り出して顕微鏡にて観察した実施例品に卦(・ては
ケーブルを回転しながら走線して照射することによりケ
ーブル絶縁体層の同一部分が常に10秒以内で再度照射
を受けている。
体層より5点採取し、沸とうキシレン中に100時間浸
漬したときの不溶解残渣分 ※2 ケーブルより絶縁体層を剥取、温度120℃、荷
重3K9で測定※3 父流50Hzでの破壊電圧 ※4 ケーブル絶縁体層を採取し、肉眼にてまたは薄層
に切り出して顕微鏡にて観察した実施例品に卦(・ては
ケーブルを回転しながら走線して照射することによりケ
ーブル絶縁体層の同一部分が常に10秒以内で再度照射
を受けている。
したがって微少クラツクは何ら発生していず、絶縁破壊
電圧値は極めて良好である。これに対して比較例品では
2方向からの反復照射であるため微少クラツクが発生し
、また照射の不均一性によるゲル分率の差も大きく、実
用ケーブルとしては供し得ないものであつた。実施例2
〜4卦よび比較例2〜4 エチレンプロピレンコポリマー、炭酸カルシウム卦よび
安定剤を配合したエチレンプロピレンコポリマー組成物
を導体径4.4rfrmの撚線導体上に被覆厚さ4.0
wrmに押出被覆して製作した外径12.4瓢のエチレ
ンプロピレンゴム絶縁ケーブル1を第2図に示すように
、実施例1と同様に走線させながらケーブルの中心軸を
軸にして回転しつつ電子線を照射した。
電圧値は極めて良好である。これに対して比較例品では
2方向からの反復照射であるため微少クラツクが発生し
、また照射の不均一性によるゲル分率の差も大きく、実
用ケーブルとしては供し得ないものであつた。実施例2
〜4卦よび比較例2〜4 エチレンプロピレンコポリマー、炭酸カルシウム卦よび
安定剤を配合したエチレンプロピレンコポリマー組成物
を導体径4.4rfrmの撚線導体上に被覆厚さ4.0
wrmに押出被覆して製作した外径12.4瓢のエチレ
ンプロピレンゴム絶縁ケーブル1を第2図に示すように
、実施例1と同様に走線させながらケーブルの中心軸を
軸にして回転しつつ電子線を照射した。
な卦このとき電子線の加速エネルギーは1.2MeV1
照射野の長さLは1.5mであり、回転速度N、走線速
度、線量率、ケーブル絶縁体表面の照射線量は第2表に
示した如く変えて行なつた。而して得た各々のエチレン
プロピレンゴム絶縁ケーブルについて、加熱変形率、絶
縁破壊電圧卦よびクラツク発生の有無を測定し第2表に
併記した。
照射野の長さLは1.5mであり、回転速度N、走線速
度、線量率、ケーブル絶縁体表面の照射線量は第2表に
示した如く変えて行なつた。而して得た各々のエチレン
プロピレンゴム絶縁ケーブルについて、加熱変形率、絶
縁破壊電圧卦よびクラツク発生の有無を測定し第2表に
併記した。
このケーブルは外径(2r1)12.4珊、内径(2r
2)4.4w1:mであり、用いた電子線の最大飛程(
Rmax)は5mnである。
2)4.4w1:mであり、用いた電子線の最大飛程(
Rmax)は5mnである。
したがつてθ=0.63πラジアンとなり、微少クラツ
クを起さない回転速度は6Z=3.8(R.p.m)即
ち4r.p.m以上である。また走線速度はN−L(m
/i)以下でなければならない。実施例2〜4はいずれ
も上記範囲に人つて卦り極めて良好な製品である。また
実施例2と3/Fj.同じ回転速度であるが、実施例2
の方が3より走線速度が遅く、N−V3(m/!Nn)
以下であるので照射の均一性が優れていることにより加
熱変形率がより低く良好な製品である。比較例2は回転
速度が4r.p.m以下であり、微少ノラツクの発生が
みられた。
クを起さない回転速度は6Z=3.8(R.p.m)即
ち4r.p.m以上である。また走線速度はN−L(m
/i)以下でなければならない。実施例2〜4はいずれ
も上記範囲に人つて卦り極めて良好な製品である。また
実施例2と3/Fj.同じ回転速度であるが、実施例2
の方が3より走線速度が遅く、N−V3(m/!Nn)
以下であるので照射の均一性が優れていることにより加
熱変形率がより低く良好な製品である。比較例2は回転
速度が4r.p.m以下であり、微少ノラツクの発生が
みられた。
比較例3で、さらに走行速度を遅くして線量率を低くし
て照射したが、加熱変形率は低くなったにもかかわらず
微少クラツクの発生は認められた。比較例4は回転速度
は大きいが、走線速度も速く、N−L以上であるので照
射の不均一性がみられ加熱変形率は大きく実用ケーブル
として供し得ないものであつた。
て照射したが、加熱変形率は低くなったにもかかわらず
微少クラツクの発生は認められた。比較例4は回転速度
は大きいが、走線速度も速く、N−L以上であるので照
射の不均一性がみられ加熱変形率は大きく実用ケーブル
として供し得ないものであつた。
第1図は電線またはケーブルの断面で、軸を中心にして
回転しながら電子線照射されるときの説明図、第2図は
本発明方法の実施例を示す概略図、第3図は従来の製造
方法を示す概略図である。
回転しながら電子線照射されるときの説明図、第2図は
本発明方法の実施例を示す概略図、第3図は従来の製造
方法を示す概略図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 電子線の透過方向におけろ絶縁体層の最大厚みが4
mm以上であるゴムまたはプラスチック絶縁体層を持つ
たゴムまたはプラスチック絶縁電線またはケーブルに電
子線を照射して改良された絶縁体層を持つたゴムまたは
プラスチック絶縁電線またはケーブルを製造する方法に
おいて、電子線照射器のスキヤンナーの下を被照射電線
またはケーブルの同一部分が10秒以内に再度照射を受
けるように被照射電線またはケーブルに所定の回転を与
えつつこれを走行させ、これに該照射器より加速エネル
ギーが1MeV以上で、かつ被照射絶縁体中における電
子の最大飛程が被照射電線またはケーブルの絶縁体層の
厚さより大きい電子線エネルギーを照射することを特徴
とする改良された絶縁体層を持つたゴムまたはプラスチ
ック絶縁電線またはケーブルの製造方法。 2 被照射電線またはケーブルをその中心軸を軸として
¥6θ/πr.p.m¥以上の速度但し ▲数式、化学式、表等があります▼(Rmax^2≦r
^2_1−r^2_2のとき) θ=π/2(Rmax^2>r^2_1−r^2_2の
とき)Rmax:電子線の最大飛程2r_1:被照射電
線ケーブルの外径 2r_2:被照射電線ケーブルの内径 で回転せしめることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の方法。 3 被照射電線またはケーブルへの回転の付与を該照射
電線またはケーブルの送出装置および巻取装置を回転さ
せることにより付与せしめることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52117356A JPS5914209B2 (ja) | 1977-09-30 | 1977-09-30 | 改良された絶縁体層を持つたゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケ−ブルの製造方法 |
| US05/944,782 US4226687A (en) | 1977-09-30 | 1978-09-22 | Method of preventing fine cracks from occuring in rubber or plastic insulation of an insulated wire or cable exposed to electron beam irradiation |
| DE19782842579 DE2842579A1 (de) | 1977-09-30 | 1978-09-29 | Verfahren zur herstellung von isolierten elektrischen leitungen oder kabeln |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52117356A JPS5914209B2 (ja) | 1977-09-30 | 1977-09-30 | 改良された絶縁体層を持つたゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケ−ブルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5453280A JPS5453280A (en) | 1979-04-26 |
| JPS5914209B2 true JPS5914209B2 (ja) | 1984-04-03 |
Family
ID=14709650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52117356A Expired JPS5914209B2 (ja) | 1977-09-30 | 1977-09-30 | 改良された絶縁体層を持つたゴムまたはプラスチツク絶縁電線またはケ−ブルの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4226687A (ja) |
| JP (1) | JPS5914209B2 (ja) |
| DE (1) | DE2842579A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56114224A (en) * | 1980-02-13 | 1981-09-08 | Nippon Denso Co | Method of manufacturing low static capacity high voltage resistance wire |
| US4482811A (en) * | 1982-09-30 | 1984-11-13 | Radiation Dynamics, Inc. | Apparatus for guiding cable through a radiation chamber with reduced leakage therefrom |
| US4520260A (en) * | 1983-11-02 | 1985-05-28 | Eaton Corporation | Semi-conductive heating cable |
| DE3528810C1 (de) * | 1985-08-10 | 1987-04-02 | Freudenberg Carl Fa | Verfahren zum Herstellen eines tiefgezogenen Formteiles aus teilkristallinem Kunststoff |
| US5311027A (en) * | 1993-02-26 | 1994-05-10 | Raychem Corporation | Apparatus and method for uniformly irradiating a strand |
| FR2726150B1 (fr) * | 1994-10-25 | 1997-01-03 | Alcatel Cable | Dispositif de traitement par rayonnement ultra-violet |
| US6180951B1 (en) | 1999-08-06 | 2001-01-30 | Nutek Corporation | Process for irradiation producing constant depth/dose profile |
| FR2803243B1 (fr) * | 1999-12-30 | 2002-08-23 | Ass Pour Les Transferts De Tec | Procede d'obtention d'une piece en materiau polymere, par exemple d'une piece prototype, ayant des caracteristiques ameliorees par exposition a un flux electronique |
| FR2944982B1 (fr) * | 2009-04-30 | 2011-10-14 | Commissariat Energie Atomique | Procede de preparation d'un substrat metallise,ledit substrat et ses utilisations |
| WO2011100577A2 (en) * | 2010-02-12 | 2011-08-18 | Procure Treatment Centers, Inc. | Robotic mobile anesthesia system |
| CN102896785B (zh) * | 2012-10-18 | 2015-07-08 | 北京印刷学院 | 一种聚乙烯薄膜改性装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE544324A (ja) * | 1955-01-11 | |||
| US3683179A (en) * | 1970-03-11 | 1972-08-08 | John R Norman | Means for irradiating materials |
| US3725230A (en) * | 1971-03-29 | 1973-04-03 | Gen Cable Corp | Insulated electrical cables and method of making them |
| JPS5549177B2 (ja) * | 1971-10-09 | 1980-12-10 | ||
| US3925671A (en) * | 1972-11-07 | 1975-12-09 | Bell Telephone Labor Inc | Irradiating strand material |
| US3833814A (en) * | 1973-06-20 | 1974-09-03 | Energy Sciences Inc | Apparatus for simultaneously uniformly irradiating a region using plural grid controlled electron guns |
| GB1454817A (en) * | 1973-09-11 | 1976-11-03 | Sumitomo Electric Industries | Irradiation apparatus |
-
1977
- 1977-09-30 JP JP52117356A patent/JPS5914209B2/ja not_active Expired
-
1978
- 1978-09-22 US US05/944,782 patent/US4226687A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-09-29 DE DE19782842579 patent/DE2842579A1/de not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4226687A (en) | 1980-10-07 |
| DE2842579A1 (de) | 1979-04-19 |
| JPS5453280A (en) | 1979-04-26 |
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