JP6097128B2 - 遠赤外線遮光層形成用組成物 - Google Patents

Description

本発明は、遠赤外線遮光層形成用組成物に関する。

従来から、測定対象物から輻射により放射される赤外線を非接触で検知して測定対象物の温度を測定する温度センサとして、赤外線センサが使用されている。例えば、赤外線アレイセンサの場合、赤外線を感知する部分には、画素がアレイ状に配置されており、画素の受光部は薄膜状の構造体になっている。
このような赤外線センサなど各種赤外線に関連した用途に使用される赤外線遮光材料（赤外線吸収材料）としては、特許文献１に記載されるような有機顔料がよく知られている。

特開２０１０−０９０３１３号公報

一方、近年、赤外線センサにおいてはその性能向上の要求に伴い、遠赤外線の遮光能がより優れた材料の開発が望まれている。
本発明者らが、特許文献１に記載されるような有機顔料を用いて、その遠赤外線の遮光能を検討したところ、その性能は必ずしも昨今要求されるレベルに到達しておらず、さらなる改良が必要であることが知見された。

本発明は、上記実情に鑑みて、遠赤外線遮光性に優れる層を形成することができる遠赤外線遮光層形成用組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

（１） 無機微粒子と分散剤とを少なくとも含有する遠赤外線遮光層形成用組成物。
（２） 無機微粒子が、導電性無機微粒子である、（１）に記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
（３） 無機微粒子の３６５〜４０５ｎｍの透過率（％）が１０％以上である、（１）または（２）に記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
（４） 無機微粒子が、酸化インジウムスズである、（１）〜（３）のいずれか１つに記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
（５） 分散剤が、ｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘを有する繰り返し単位と、側鎖に原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙとを有し、かつ塩基性窒素原子を含有する樹脂、または、重量平均分子量１０，０００以下の後述する一般式（１）で表される高分子化合物を含む、（１）〜（４）のいずれか１つに記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
（６） さらに、重合開始剤、重合性モノマー、および、バインダーポリマーを含む、（１）〜（５）のいずれか１つに記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
（７） 酸化インジウムスズの含有量が全固形分中に５０質量％以上である、（４）〜（６）のいずれか１つに記載に遠赤外線遮光層形成用組成物。

本発明によれば、遠赤外線遮光性に優れる層を形成することができる遠赤外線遮光層形成用組成物を提供することができる。

以下、本発明の遠赤外線遮光層形成用組成物の好適実施態様について説明する。
遠赤外線遮光層形成用組成物（以後、単に「組成物」とも称する）には、無機微粒子と分散剤とが少なくとも含有される。
なお、本明細書において、遠赤外線とは波長３μｍより長く２５μｍ以下の光を意図する。
以下では、まず、組成物に含まれる各成分について詳述する。

＜無機微粒子＞
無機微粒子は、主に、遠赤外線を遮光（吸収）する役割を果たす粒子である。
無機微粒子としては、遠赤外線遮光性がより優れる点で、導電性を有する無機微粒子（導電性無機微粒子）を使用することが好ましい。
また、後述するように、遠赤外線遮光層形成用組成物に重合性モノマーが含まれる際に、そのパターン解像性がより優れる点で、３６５〜４０５ｎｍの透過率（％）が１０％以上である無機微粒子であることが好ましい。なお、無機微粒子の３６５〜４０５ｎｍの透過率（％）が１０％以上とは、遠赤外線遮光層形成用組成物を用いて形成される遠赤外線遮光層（硬膜膜）の波長１０μｍにおける透過率が１０％のとき、遠赤外線遮光層形成用組成物の３６５〜４０５ｎｍにおける透過率が１０％以上であることを意味する。

無機微粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、三酸化アンチモン（ＡＴＯ）、アルミニウムによりドープされていてもよい酸化亜鉛（ＡｌによりドープされてもよいＺｎＯ）、フッ素ドープ二酸化スズ（ＦドープＳｎＯ₂）、ニオブドープ二酸化チタン（ＮｂドープＴｉＯ₂）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、および、ニッケル（Ｎｉ）よりなる群から選ばれた１種または複数種の材料よりなる無機微粒子を挙げることができる。なお、遠赤外遮光性とフォトリソ性を両立するためには、露光波長（３６５−４０５ｎｍ）の透過率が高い方が望ましい。よって、フォトリソ性がより優れる点で、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が好ましい。
無機微粒子の粒子の形状は特に制限されず、球状、非球状を問わず、シート状、ワイヤー状、チューブ状であってもよい。
無機微粒子は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

無機微粒子の平均粒子径は特に制限されないが、遠赤外線遮光性がより優れる点で、１〜２００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがより好ましい。
なお、平均粒子径とは、電子顕微鏡などの顕微鏡により、少なくとも３００個以上の無機微粒子の粒子径（直径）を測定し、それらを算術平均したものである。なお、無機微粒子が楕円状である場合、長径を直径として測定する。
また、無機微粒子がシート状粒子の場合にはシート状粒子の平均厚さを上記平均粒子径の数値範囲内であることが好ましく、無機微粒子がワイヤー状やチューブ状の粒子の場合にはワイヤー状やチューブ状の平均直径が上記平均粒子径の数値範囲内であることが好ましい。なお、上記平均厚み、または、平均直径を求める際には、少なくとも３００個の非球状粒子の厚みまたは直径を測定し、それらを算術平均する。

組成物中における無機微粒子の含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分（以後、組成物全固形分とも称する）に対して、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましい。含有量の上限は特に制限はないが、組成物全固形分に対して、９５質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましい。
なお、上記組成物全固形分とは、組成物中に含まれる遠赤外線遮光層を構成する成分の合計量を意図し、溶媒などは含まれない。

＜分散剤＞
分散剤は、組成物中の無機微粒子の分散性を担保するための化合物である。
分散剤の種類は特に制限されず、上述した無機微粒子の種類に応じて、適宜最適な化合物が選択される。なかでも、組成物中において無機微粒子を高濃度で分散させることができ、形成される遠赤外線遮光層の薄膜化が達成できる点で、後述する樹脂、および、後述する一般式（１）で表される高分子化合物が好ましく挙げられる。
以下、樹脂および高分子化合物について詳述する。

（樹脂（以後、分散樹脂とも称する））
分散樹脂は、ｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘを有する繰り返し単位と、側鎖に原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙとを有し、かつ塩基性窒素原子を含有する。

後に詳述するように分散樹脂中の窒素原子と基Ｘが有するｐＫａ１４以下の官能基との双方で無機微粒子と相互作用し、さらに分散樹脂が原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙを有するために、オリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙが立体反発基として機能することにより、良好な分散性を発揮して、無機微粒子を均一に分散することができる。また、組成物が室温等で長期間保存された場合にも、オリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙと溶媒とが相互作用を行うことにより、無機微粒子の沈降を長期間抑制することができる。さらに、オリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙが立体反発基として機能することで無機微粒子の凝集が防止されるため、無機微粒子の含有量を高くしても、上記のように、分散性および分散安定性が損なわれにくい。

ここで、塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はないが、分散樹脂がｐＫｂ１４以下の窒素原子を有する構造を含有することが好ましく、ｐＫｂ１０以下の窒素原子を有する構造を含有することがより好ましい。
本発明において塩基強度ｐＫｂとは、水温２５℃でのｐＫｂをいい、塩基の強さを定量的に表すための指標のひとつであり、塩基性度定数と同義である。塩基強度ｐＫｂと、酸強度ｐＫａとは、ｐＫｂ＝１４−ｐＫａの関係にある。
ｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘについては、分散樹脂２−１について後述する基Ｘと同義である。
分散樹脂が側鎖に有する原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙとしても、分散樹脂について後述する原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙと同義である。
分散樹脂としては、下記式で表されるｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘを有する繰り返し単位、下記式で表される塩基性窒素原子を有する繰り返し単位、および下記式で表される原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙを有する繰り返し単位（下記繰り返し単位の構造の左から順に対応する。）を含有する樹脂などが挙げられる。

上記式中、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ繰り返し単位の重合モル比を示し、ｘは５〜５０、ｙは５〜６０、ｚは１０〜９０であることが好ましい。ｌはポリエステル鎖の連結数を示し、原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖を形成し得る整数であり、７０〜２０００であることが好ましい。
分散樹脂は、ｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘが結合する窒素原子を含有する繰り返し単位と、側鎖に原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙとを有する樹脂であることが好ましい。
分散樹脂は、（ｉ）ポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、およびポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも１種の、窒素原子を含有する繰り返し単位であって、窒素原子に結合し、かつｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘを有する繰り返し単位と、側鎖に（ｉｉ）原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙとを有する分散樹脂（以下、適宜、「分散樹脂２−１」と称する）であることが特に好ましい。

（（ｉ）ポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、およびポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも１種の窒素原子を含有する繰り返し単位）
分散樹脂２−１は、ポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、およびポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも１種の窒素原子を含有する繰り返し単位（ｉ）を有する。これにより、無機微粒子表面への吸着力が向上し、かつ、無機微粒子間の相互作用が低減できる。
ポリ（低級アルキレンイミン）は鎖状であっても網目状であってもよい。
ポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、およびポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも１種の窒素原子を含有する繰り返し単位（ｉ）を重合して得られる主鎖の数平均分子量、すなわち、分散樹脂２−１から側鎖のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙ部分を除いた部分の数平均分子量は、１００〜１０，０００が好ましく、２００〜５，０００がより好ましく、３００〜２，０００が最も好ましい。主鎖部の数平均分子量は、核磁気共鳴分光法で測定した末端基と主鎖部の水素原子積分値の比率から求めるか、原料であるアミノ基を含有するオリゴマーまたはポリマーの分子量の測定により求めることができる。

窒素原子を含有する繰り返し単位（ｉ）としては、特にポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、またはポリアリルアミン系繰り返し単位であることが好ましい。なお、本発明において、ポリ（低級アルキレンイミン）における低級とは炭素数が１〜５であることを示し、低級アルキレンイミンとは炭素数１〜５のアルキレンイミンを表す。この構造を明示すれば、分散樹脂２−１は、後述する一般式（Ｉ−１）で表される繰り返し単位および一般式（Ｉ−２）で表される繰り返し単位を有する構造、または、後述する一般式（ＩＩ−１）で表される繰り返し単位および一般式（ＩＩ−２）で表される繰り返し単位を有する構造を含むことが好ましい。

（一般式（Ｉ−１）で表される繰り返し単位および一般式（Ｉ−２）で表される繰り返し単位）
分散樹脂２−１の好ましい構成成分である一般式（Ｉ−１）で表される繰り返し単位および一般式（Ｉ−２）で表される繰り返し単位について詳細に説明する。

上記一般式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）中、Ｒ¹およびＲ²は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表す。ａは、各々独立に、１〜５の整数を表す。＊は繰り返し単位間の連結部を表す。
ＸはｐＫａ１４以下の官能基を有する基を表す。
Ｙは原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖を表す。

分散樹脂２−１は、一般式（Ｉ−１）または一般式（Ｉ−２）で表される繰り返し単位に加えて、さらに一般式（Ｉ−３）で表される繰り返し単位を共重合成分として有することが好ましい。このような繰り返し単位を併用することで、無機微粒子の分散性能がさらに向上する。

上記一般式（Ｉ−３）中、＊、Ｒ¹、Ｒ²およびａは一般式（Ｉ−１）と同義である。
Ｙ’は、アニオン基を有する原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖を表す。
上記一般式（Ｉ−３）で表される繰り返し単位は、主鎖部に一級または二級アミノ基を有する樹脂に、アミンと反応して塩を形成する基を有するオリゴマーまたはポリマーを添加して反応させることで形成することが可能である。

一般式（Ｉ−１）、一般式（Ｉ−２）および一般式（Ｉ−３）において、Ｒ¹およびＲ²は特に水素原子であることが好ましい。ａは２であることが原料入手の観点から好ましい。

分散樹脂２−１は、一般式（Ｉ−１）、一般式（Ｉ−２）および一般式（Ｉ−３）で表される繰り返し単位以外に、低級アルキレンイミンを繰り返し単位として含んでいてもよい。前述と同様に、低級アルキレンイミンとは、炭素数１〜５のアルキレンイミンを表す。分散樹脂２−１は、そのような低級アルキレンイミン繰り返し単位を含有していても、含有していなくてもよいが、含有する場合、低級アルキレンイミン繰り返し単位は、分散樹脂２−１に含まれる全繰り返し単位中、１〜７０モル％含有することが好ましい。なお、そのような低級アルキレンイミン繰り返し単位における窒素原子には、さらに、上記Ｘ、ＹまたはＹ’で示される基が結合していてもよい。このような主鎖構造に、Ｘで示される基が結合した繰り返し単位とＹが結合した繰り返し単位の双方を含む樹脂もまた、分散樹脂２−１に包含される。

一般式（Ｉ−１）で表される繰り返し単位は、ｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘが結合する窒素原子を含有する繰り返し単位であり、このような窒素原子を含有する繰り返し単位は、保存安定性・現像性の観点から、分散樹脂２−１に含まれる全繰り返し単位中、１〜８０モル％含有することが好ましい。
一般式（Ｉ−２）で表される繰り返し単位は、原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖を有する繰り返し単位であり、このような繰り返し単位は、保存安定性の観点から、分散樹脂２−１の全繰り返し単位中、１０〜９０モル％含有することが好ましい。
両者の含有比について検討するに、分散安定性および親疎水性のバランスの観点からは、繰り返し単位（Ｉ−１）：（Ｉ−２）はモル比で１０：１〜１：１００の範囲であることが好ましい。

なお、所望により併用される一般式（Ｉ−３）で表される繰り返し単位は原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖を含む部分構造が、主鎖の窒素原子にイオン的に結合しているものであり、分散樹脂２−１の全繰り返し単位中、効果の観点からは、０．５〜２０モル％含有することが好ましい。

（一般式（ＩＩ−１）で表される繰り返し単位および（ＩＩ−２）で表される繰り返し単位）
分散樹脂２−１の他の好ましい構成成分である一般式（ＩＩ−１）で表される繰り返し単位および一般式（ＩＩ−２）で表される繰り返し単位について詳細に説明する。

一般式（ＩＩ−１）及び（ＩＩ−２）中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を表す。＊、ＸおよびＹは一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中の＊、Ｘ及びＹと同義である。

分散樹脂２−１は、一般式（ＩＩ−１）で表される繰り返し単位、一般式（ＩＩ−２）で表される繰り返し単位に加えて、さらに一般式（ＩＩ−３）で表される繰り返し単位を共重合成分として含むことが好ましい。このような繰り返し単位を併用することで、無機微粒子の分散性能が更に向上する。

一般式（ＩＩ−３）中、＊、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は一般式（ＩＩ−１）と同義である。Ｙ’は一般式（Ｉ−３）中のＹ’と同義である。

一般式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）及び（ＩＩ−３）において、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は水素原子であることが原料の入手性の観点から好ましい。

一般式（ＩＩ−１）はｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘが結合する窒素原子を含有する繰り返し単位であり、このような窒素原子を含有する繰り返し単位は、保存安定性・現像性の観点から、分散樹脂２−１に含まれる全繰り返し単位中、１〜８０モル％含有することが好ましい。
一般式（ＩＩ−２）は原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙを有する繰り返し単位であり、このような繰り返し単位は、保存安定性の観点から、分散樹脂２−１の全繰り返し単位中、１０〜９０モル％含有することが好ましい。

両者の含有比について検討するに、分散安定性および親疎水性のバランスの観点からは、繰り返し単位（ＩＩ−１）：（ＩＩ−２）はモル比で１０：１〜１：１００の範囲であることが好ましい。
所望により併用される一般式（ＩＩ−３）で表される繰り返し単位は分散樹脂２−１の全繰り返し単位中、０．５〜２０モル％含有することが好ましい。
分散樹脂２−１においては、分散性の観点から、特に一般式（Ｉ−１）で表される繰り返し単位と一般式（Ｉ−２）で表される繰り返し単位の双方を含むことが最も好ましい。

＜ｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘ＞
Ｘは水温２５℃でのｐＫａが１４以下の官能基を有する。「ｐＫａ１４以下の官能基」は、物性がこの条件を満たすものであれば、その構造などは特に限定されず、公知の官能基でｐＫａが上記範囲を満たすものが挙げられるが、特にｐＫａが１２以下である官能基が好ましく、ｐＫａが１１以下である官能基が最も好ましい。具体的には、例えば、カルボン酸（ｐＫａ ３〜５程度）、スルホン酸（ｐＫａ −３〜−２程度）、−ＣＯＣＨ₂ＣＯ−（ｐＫａ ８〜１０程度）、−ＣＯＣＨ₂ＣＮ（ｐＫａ ８〜１１程度）、−ＣＯＮＨＣＯ−、フェノール性水酸基、−Ｒ_FＣＨ₂ＯＨまたは−（Ｒ_F）₂ＣＨＯＨ（Ｒ_Fはペルフルオロアルキル基を表す。ｐＫａ ９〜１１程度）、スルホンアミド基（ｐＫａ ９〜１１程度）等が挙げられる。
上記基Ｘが有する官能基のｐＫａが１４以下であることにより、無機微粒子との相互作用を達成することができる。
このｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘは、窒素原子を含有する繰り返し単位における窒素原子に直接結合することが好ましいが、窒素原子を含有する繰り返し単位の窒素原子とＸとは、共有結合のみならず、イオン結合して塩を形成する態様で連結していてもよい。

本発明におけるｐＫａ１４以下の官能基を含有する基Ｘとしては、特に一般式（Ｖ−１）、一般式（Ｖ−２）または一般式（Ｖ−３）で表される構造を有するものが好ましい。

上記一般式（Ｖ−１）、一般式（Ｖ−２）中、Ｕは単結合または２価の連結基を表す。ｄおよびｅは、それぞれ独立して０または１を表す。
上記一般式（Ｖ−３）中、Ｑはアシル基またはアルコキシカルボニル基を表す。

Ｕで表される２価の連結基としては、例えば、アルキレン（より具体的には、例えば、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨＭｅ−、−（ＣＨ₂）₅−、−ＣＨ₂ＣＨ（ｎ−Ｃ₁₀Ｈ₂₁）−等）、酸素を含有するアルキレン（より具体的には、例えば、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−等）、アリーレン基（例えば、フェニレン、トリレン、ビフェニレン、ナフチレン、フラニレン、ピロリレン等）、アルキレンオキシ（例えば、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、フェニレンオキシ等）、アルケニレン基（例えば、ビニレン基）等が挙げられる。また、生産性の観点から、ｄは１が好ましく、また、ｅは０が好ましい。

Ｑは、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表す。Ｑは、特にアシル基が好ましく、アセチル基が製造のし易さ、原料（Ｘの前駆体Ｘ’）の入手性の観点から好ましい。

本発明における基Ｘは、窒素原子を含有する繰り返し単位の窒素原子と結合していることが好ましい。これにより、無機微粒子の分散性・分散安定性が飛躍的に向上する。

さらに、基Ｘはそこに部分構造としてｐＫａ１４以下の官能基を含むものであるため、アルカリ可溶性基としても機能する。それにより、未硬化領域のアルカリ現像液への現像性が向上し、分散性・分散安定性・現像性の鼎立が可能になったと考えられる。

ＸにおけるｐＫａ１４以下の官能基の含有量は特に制限がないが、分散樹脂（１ｇ）に対し、０．０１〜５ｍｍｏｌであることが好ましい。この範囲において、無機微粒子の分散性、分散安定性が向上し、且つ、未硬化部の現像性に優れることになる。また、酸価の観点からは、分散樹脂の酸価が５〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇ程度となる量、含まれることが、現像性の観点から好ましい。

（原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙ）
Ｙとしては、分散樹脂の主鎖部と連結できるポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ（メタ）アクリル酸エステル等の公知のポリマー鎖が挙げられる。Ｙの分散樹脂との結合部位は、オリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙの末端であることが好ましい。

Ｙは、ポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、およびポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも１種の窒素原子を含有する繰り返し単位の窒素原子と結合していることが好ましい。ポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、およびポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも１種の窒素原子を含有する繰り返し単位などの主鎖部とＹとの結合様式は、共有結合、イオン結合、または、共有結合及びイオン結合の混合である。Ｙと主鎖部の結合様式の比率は、共有結合：イオン結合＝１００：０〜０：１００であるが、９５：５〜５：９５が好ましい。この範囲外であると、分散性・分散安定性が悪化し、且つ溶剤溶解性が低くなる。
Ｙは、窒素原子を含有する繰り返し単位の窒素原子とアミド結合、またはカルボン酸塩としてイオン結合していることが好ましい。

オリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙの原子数としては、分散性・分散安定性・現像性の観点から、５０〜５，０００であることが好ましく、６０〜３，０００であることがより好ましい。
オリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙ１本あたりの原子数が４０未満では、グラフト鎖が短いため、立体反発効果が小さくなり分散性が低下する場合がある。一方、オリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙ１本あたりの原子数が１００００を超えると、オリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙが長くなりすぎ、無機微粒子への吸着力が低下して分散性が低下する場合がある。
また、Ｙの数平均分子量はＧＰＣ法によるポリスチレン換算値により測定することができる。Ｙの数平均分子量は、特に１，０００〜５０，０００が好ましく、１，０００〜３０，０００が分散性・分散安定性・現像性の観点から最も好ましい。
Ｙで示される側鎖構造は、主鎖連鎖に対し、樹脂１分子中に、２つ以上連結していることが好ましく、５つ以上連結していることが最も好ましい。

特に、Ｙは一般式（ＩＩＩ−１）で表される構造を有するものが好ましい。

一般式（ＩＩＩ−１）中、Ｚはポリエステル鎖を部分構造として有するポリマーまたはオリゴマーであり、下記一般式（ＩＶ）で表される遊離のカルボン酸を有するポリエステルからカルボキシル基を除いた残基を表す。

一般式（ＩＶ）中、Ｚは一般式（ＩＩＩ−１）中のＺと同義である。
分散樹脂２−１が一般式（Ｉ−３）または（ＩＩ−３）で表される繰り返し単位を含有する場合、Ｙ’が一般式（ＩＩＩ−２）であることが好ましい。

一般式（ＩＩＩ−２）中、Ｚは一般式（ＩＩＩ−１）のＺと同義である。

片末端にカルボキシル基を有するポリエステル（一般式（ＩＶ）で表わされるポリエステル）は、（ＩＶ−１）カルボン酸とラクトンの重縮合、（ＩＶ−２）ヒドロキシ基含有カルボン酸の重縮合、（ＩＶ−３）二価アルコールと二価カルボン酸（もしくは環状酸無水物）の重縮合などにより得ることができる。

（ＩＶ−１）カルボン酸とラクトンの重縮合反応において用いるカルボン酸は、脂肪族カルボン酸（炭素数１〜３０の直鎖又は分岐のカルボン酸が好ましい。これらカルボン酸は混合して用いてもよい。ラクトンは、公知のラクトンを用いることができる。
これらラクトンは複数種を混合して用いてもよい。
カルボン酸とラクトンの反応時の仕込みモル比率は、目的のポリエステル鎖の分子量によるため一義的に決定できないが、カルボン酸：ラクトン＝１：１〜１：１，０００が好ましく、１：３〜１：５００が最も好ましい。

（ＩＶ−２）ヒドロキシ基含有カルボン酸の重縮合におけるヒドロキシ基含有カルボン酸は、（ＩＶ−１）におけるヒドロキシ基含有カルボン酸と同様であり、好ましい範囲も同様である。
（ＩＶ−３）二価アルコールと二価カルボン酸（もしくは環状酸無水物）の重縮合反応における二価アルコールとしては、直鎖または分岐の脂肪族ジオール（炭素数２〜３０のジオールが好ましい。
二価カルボン酸としては、直鎖または分岐の二価の脂肪族カルボン酸（炭素数１〜３０の二価の脂肪族カルボン酸が好ましい。
二価カルボン酸と二価アルコールは、モル比で１：１で仕込むことが好ましい。これにより、末端にカルボン酸を導入することが可能となる。
ポリエステル製造時の重縮合は、触媒を添加して行うことが好ましい。触媒としては、ルイス酸として機能する触媒が好ましい。

ポリエステルの数平均分子量はＧＰＣ法によるポリスチレン換算値として測定することができる。ポリエステルの数平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００であるが、２，０００〜１００，０００が好ましく、３，０００〜５０，０００が最も好ましい。分子量がこの範囲にある場合、分散性・現像性の両立ができる。

Ｙにおけるポリマー鎖を形成するポリエステル部分構造は、特に、（ＩＶ−１）カルボン酸とラクトンの重縮合、および、（ＩＶ−２）ヒドロキシ基含有カルボン酸の重縮合、により得られるポリエステルであることが、製造容易性の観点から好ましい。

分散樹脂の具体的態様〔（Ａ−１）〜（Ａ−６１）〕を、樹脂が有する繰り返し単位の具体的構造とその組合せにより以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記式中、ｋ、ｌ、ｍ、およびｎはそれぞれ繰り返し単位の重合モル比を示し、ｋは１〜８０、ｌは１０〜９０、ｍは０〜８０、ｎは０〜７０であり、且つｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ＝１００である。ｐおよびｑはポリエステル鎖の連結数を示し、それぞれ独立に５〜１００，０００を表す。Ｒ’は水素原子またはアルキルカルボニル基を表す。

分散樹脂を合成する方法としては、特願２０１１−１９０１８０号の公開公報に記載の方法で合成することができる。

分散樹脂は、ＧＰＣ法により測定された重量平均分子量が３，０００〜１００，０００であることが好ましく、５，０００〜５５，０００であることがより好ましい。分子量が上記範囲において、高現像性・高保存安定性を達成しうるという利点を有する。また、分散樹脂における窒素原子を含有する繰り返し単位（ｉ）における窒素原子の存在は、酸滴定等の方法により確認することができ、ｐＫａが１４以下である官能基の存在、および、その官能基が上記繰り返し単位の窒素原子と結合していることは塩基滴定・核磁気共鳴分光法・赤外分光法等の方法により確認することができる。また、（ｉｉ）原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙを側鎖に有する点については、核磁気共鳴分光法・ＧＰＣ法等の方法で確認することができる。

以下に、分散樹脂の具体例をその分子量とともに記載する。Ｒ’はアルキル基を表す。

（高分子化合物）
分散剤としては、一般式（１）で表される高分子化合物が好ましく挙げられる。

上記一般式（１）中、Ｒ¹は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｒ²は単結合または２価の連結基を表す。Ａ¹は、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基および水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ¹およびＲ²は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
ｍは８以下の正の数、ｎは１〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
Ｐ¹はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ¹は、同一であっても、異なっていてもよい。

一般式（１）で表される分散剤が有する１価の置換基Ａ¹は、無機微粒子と相互作用することができる。よって、一般式（１）で表される分散剤は、ｎ個（１〜９個）の置換基Ａ¹を有することにより無機微粒子と強固に相互作用することができる。
また、一般式（１）で表される分散剤がｍ個有するポリマー鎖Ｐ¹は立体反発基として機能することができ、ｍ個有することにより良好な立体反発力を発揮して無機微粒子を均一に分散することができる。さらに、一般式（１）で表される分散剤は分子構造的に、従来のグラフトランダム構造の分散剤で生じ得た粒子間架橋による粒子の凝集などの弊害が生じることもないものと推定される。

以下、一般式（１）における各基について詳細に説明する。なお、一般式（１）で表される分散剤は特開２００７−２７７５１４（特願２００６−２６９７０７）にも同様の分散剤が開示されており、その記載で説明されている内容および好適な構造は下記の説明でも適用でき、重複する記載については適宜省略する。
Ａ¹は、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基および水酸基のような無機微粒子に対する吸着能を有する官能基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。
なお、以下、この無機微粒子に対する吸着能を有する部位（上記官能基）を、適宜、「吸着部位」と総称して、説明する。

吸着部位は、１つのＡ¹の中に、少なくとも１種含まれていればよく、２種以上を含んでいてもよい。
また、本発明において、「吸着部位を少なくとも１種有する１価の置換基」は、前述の吸着部位と、１から２００個までの炭素原子、０個から２０個までの窒素原子、０個から１００個までの酸素原子、１個から４００個までの水素原子、および、０個から４０個までの硫黄原子から成り立つ連結基とが結合してなる１価の置換基である。なお、吸着部位自体が１価の置換基を構成しうる場合には、吸着部位そのものがＡ¹で表される１価の置換基であってもよい。
まず、Ａ¹を構成する吸着部位について以下に説明する。

上記「酸基」として、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホウ酸基が好ましい例として挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基がより好ましく、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基が更に好ましく、カルボン酸基が特に好ましい。

上記「ウレア基」として、例えば、−ＮＲ¹⁵ＣＯＮＲ¹⁶Ｒ¹⁷（ここで、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、およびＲ¹⁷は各々独立に、水素原子、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が好ましい例として挙げられ、−ＮＲ¹⁵ＣＯＮＨＲ¹⁷（ここで、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁷は、各々独立に、水素原子、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）がより好ましく、−ＮＨＣＯＮＨＲ¹⁷（ここで、Ｒ¹⁷は水素原子、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が特に好ましい。

上記「ウレタン基」として、例えば、−ＮＨＣＯＯＲ¹⁸、−ＮＲ¹⁹ＣＯＯＲ²⁰、−ＯＣＯＮＨＲ²¹、−ＯＣＯＮＲ²²Ｒ²³（ここで、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰、Ｒ²¹、Ｒ²²およびＲ²³は、各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが好ましい例として挙げられ、−ＮＨＣＯＯＲ¹⁸、−ＯＣＯＮＨＲ²¹（ここで、Ｒ¹⁸、Ｒ²¹は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などがより好ましく、−ＮＨＣＯＯＲ¹⁸、−ＯＣＯＮＨＲ²¹（ここで、Ｒ¹⁸、Ｒ²¹は、各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが特に好ましい。

上記「配位性酸素原子を有する基」としては、例えば、アセチルアセトナト基、クラウンエーテルなどが挙げられる。

上記「塩基性窒素原子を有する基」として、例えば、アミノ基（−ＮＨ₂）、置換イミノ基（−ＮＨＲ⁸、−ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、ここで、Ｒ⁸、Ｒ⁹、およびＲ¹⁰は、各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）、下記式（ａ１）で表されるグアニジル基、下記式（ａ２）で表されるアミジニル基などが好ましい例として挙げられる。

式（ａ１）中、Ｒ¹¹およびＲ¹²は、各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。
式（ａ２）中、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。

これらの中でも、アミノ基（−ＮＨ₂）、置換イミノ基（−ＮＨＲ⁸、−ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、ここで、Ｒ⁸、Ｒ⁹、およびＲ¹⁰は、各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。）、式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ¹¹およびＲ¹²は、各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、または、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕などがより好ましい。
特に、アミノ基（−ＮＨ₂）、置換イミノ基（−ＮＨＲ⁸、−ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、ここで、Ｒ⁸、Ｒ⁹、およびＲ¹⁰は、各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。）、式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ¹¹およびＲ¹²は、各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕、または、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕などが好ましく用いられる。
「アルキルオキシカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基などが挙げられる。
「アルキルアミノカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
「カルボン酸塩基」としては、カルボン酸のアンモニウム塩からなる基などが挙げられる。
「スルホンアミド基」としては、窒素原子に結合する水素原子がアルキル基（メチル基等）、アシル基（アセチル基、トリフルオロアセチル基など）などで置換されていてもよい。

「複素環基」としては、例えば、チオフェン基、フラン基、キサンテン基、ピロール基、ピロリン基、ピロリジン基、ジオキソラン基、ピラゾール基、ピラゾリン基、ピラゾリジン基、イミダゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、オキサジアゾール基、トリアゾール基、チアジアゾール基、ピラン基、ピリジン基、ピペリジン基、ジオキサン基、モルホリン基、ピリダジン基、ピリミジン基、ピペラジン基、トリアジン基、トリチアン基、イソインドリン基、イソインドリノン基、ベンズイミダゾロン基、ベンゾチアゾール基、コハクイミド基、フタルイミド基、ナフタルイミド基等のイミド基、ヒダントイン基、インドール基、キノリン基、カルバゾール基、アクリジン基、アクリドン基、アントラキノン基が好ましい例として挙げられる。

なお、「複素環基」は、更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から２０までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。

「アルコキシシリル基」としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。
「エポキシ基」としては、置換または無置換のオキシラン基（エチレンオキシド基）が挙げられる。

吸着部位と結合する連結基としては、単結合、または、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ連結基が好ましく、この有機連結基は、無置換でも置換基を更に有していてもよい。

上記の中では、Ａ¹として、酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基および配位性酸素原子を有する基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であることが好ましい。
特に、無機微粒子との相互作用を良好にし、かつ組成物の粘度を低減する観点から、Ａ¹は、ｐＫａ５〜１４の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基であることがより好ましい。
ここでいう「ｐＫａ」とは、化学便覧（ＩＩ）（改訂４版、１９９３年、日本化学会編、丸善株式会社）に記載されている定義のものである。
上記ｐＫａ５〜１４の官能基としては、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基または配位性酸素原子を有する基が挙げられる。
具体的には、例えば、ウレア基（ｐＫａ １２〜１４程度）、ウレタン基（ｐＫａ １１〜１３程度）、配位性酸素原子としての−ＣＯＣＨ₂ＣＯ−（ｐＫａ ８〜１０程度）、スルホンアミド基（ｐＫａ ９〜１１程度）等が挙げられる。

Ａ¹は、下記一般式（４）で表される１価の置換基として表されることが好ましい。

一般式（４）中、Ｂ¹は上記吸着部位（即ち、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基または水酸基）を表し、Ｒ²⁴は単結合または（ａ＋１）価の連結基を表す。ａは、１〜１０の整数を表し、一般式（４）中にａ個存在するＢ¹は同一であっても、異なっていてもよい。

Ｂ¹で表される吸着部位としては、前述の一般式（１）のＡ¹を構成する吸着部位と同様のものが挙げられ、好ましい例も同様である。
中でも、酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基または配位性酸素原子を有する基であることが好ましく、ｐＫａ５〜１４の官能基であることがより好ましい観点から、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基または配位性酸素原子を有する基であることがより好ましい。

Ｒ²⁴は、単結合または（ａ＋１）価の連結基を表し、ａは１〜１０を表す。好ましくは、ａは１〜７であり、より好ましくは、ａは１〜５であり、特に好ましくは、ａは１〜３である。
（ａ＋１）価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。

Ｒ²⁴としては、単結合、または、１から５０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２５個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ（ａ＋１）価の連結基が好ましく、単結合、または、１から３０個までの炭素原子、０個から６個までの窒素原子、０個から１５個までの酸素原子、１個から５０個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ（ａ＋１）価の連結基がより好ましく、単結合、または、１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ（ａ＋１）価の連結基が特に好ましい。

上記のうち、（ａ＋１）価の連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。

一般式（１）中、Ｒ²は単結合あるいは２価の連結基を表す。ｎ個のＲ²は、同一であっても、異なっていてもよい。
２価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。

Ｒ²としては、単結合、または、１から５０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２５個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基が好ましく、単結合、または、１から３０個までの炭素原子、０個から６個までの窒素原子、０個から１５個までの酸素原子、１個から５０個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基がより好ましく、単結合、または、１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基が特に好ましい。

上記のうち、２価の連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。

一般式（１）中、Ｒ¹は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
Ｒ¹で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。

Ｒ¹で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基の具体的な例としては、以下の特開２００７−２７７５１４号公報の段落００８２および００８に開示の具体例（１）〜（１７）が挙げられる。

一般式（１）中、ｍは８以下の正の数を表す。ｍとしては、０．５〜５が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
また、一般式（１）中、ｎは１〜９を表す。ｎとしては、２〜８が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６が特に好ましい。

一般式（１）中、Ｐ¹はポリマー鎖を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。ｍ個のＰ¹は、同一であっても、異なっていてもよい。
ポリマーの中でも、ポリマー鎖を構成するには、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、およびこれらの変性物、または共重合体〔例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニルモノマーの重合体の共重合体など（ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。）を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、およびこれらの変性物または共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体が特に好ましい。

ポリマー鎖Ｐ¹が少なくとも１種の繰り返し単位を含有することが好ましい。
ポリマー鎖Ｐ¹における、少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し数ｋが、立体反発力を発揮し分散性を向上する観点から、３以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましい。
また、一般式（１）で表される分散剤の嵩張りを抑え、遠赤外線遮光層中に無機微粒子を密に存在させる観点から、少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し単位数ｋは、５０以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましく、３０以下であることが更に好ましい。

なお、ポリマー鎖は有機溶媒に可溶であることが好ましい。有機溶媒との親和性が低いと、分散媒との親和性が弱まり、分散安定化に十分な吸着層を確保できなくなることがある。

一般式（１）で表される分散剤の中でも、下記一般式（２）で表される分散剤が好ましい。

一般式（２）において、Ａ²は、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基および水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ²は同一であっても、異なっていてもよい。
なお、Ａ²は、一般式（１）におけるＡ^１と同義であり、好ましい態様も同様である。

一般式（２）において、Ｒ⁴、Ｒ⁵は、各々独立に、単結合または２価の連結基を表す。ｎ個のＲ⁴は、同一であっても、異なっていてもよい。また、ｍ個のＲ⁵は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｒ⁴、Ｒ⁵で表される２価の連結基としては、一般式（１）のＲ²で表される２価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。より具体的には、２価の連結基としては、２価の脂肪族炭化水素基（好ましくは炭素数１〜８）、２価の芳香族炭化水素基（好ましくは炭素数６〜１２）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−Ｎ(Ｒ)−（Ｒ：アルキル基）、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、またはこれらを組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。

一般式（２）において、Ｒ³は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
Ｒ³で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
Ｒ³で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基として、具体的には、一般式（１）のＲ¹で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。

一般式（２）中、ｍは８以下の正の数を表す。ｍとしては、０．５〜５が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
また、一般式（２）中、ｎは１〜９を表す。ｎとしては、２〜８が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６が特に好ましい。

また、一般式（２）中のＰ²は、ポリマー鎖を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。ｍ個のＰ²は、同一であっても、異なっていてもよい。ポリマーの好ましい態様については、前記一般式（１）におけるＰ¹と同様である。

一般式（２）で表される分散剤のうち、以下に示すＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｐ²、ｍ、およびｎを全て満たすものが最も好ましい。
Ｒ³：具体例（１）、（２）、（１０）、（１１）、（１６）、または（１７）
Ｒ⁴：単結合、または、下記の構造単位若しくは該構造単位が組み合わさって構成される「１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子」から成り立つ２価の連結基（置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。）

Ｒ⁵：単結合、エチレン基、プロピレン基、下記基（ａ）、または下記基（ｂ）
なお、下記基中、Ｒ¹²は水素原子またはメチル基を表し、ｌは１または２を表す。

Ｐ²：ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマーおよびこれらの変性物
ｍ：１〜３
ｎ：３〜６

一般式（１）または（２）で表される分散剤の酸価は特に制限はないが、分散性の観点から、酸価が４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましい。
なお、酸価の下限値としては特に制限はないが、無機微粒子の分散安定性の観点から、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。

ここで、一般式（１）または（２）で表される分散剤の酸価は、固形分酸価である。
本発明において、一般式（１）または（２）で表される分散剤の酸価は、例えば、一般式（１）または（２）で表される分散剤中における酸基の平均含有量から算出することができる。
一般式（１）または（２）で表される分散剤の分子量としては、重量平均分子量で、１０００〜５００００が好ましく、３０００〜３００００がより好ましく、３０００〜２００００が特に好ましい。特に、１００００以下が最も好ましい。重量平均分子量が上記範囲内であると、ポリマーの末端に導入された複数の吸着部位の効果が十分に発揮され、無機微粒子表面への吸着性に優れた性能を発揮し得る。

なお、一般式（１）または（２）で表される分散剤の合成方法は特に制限されないが、特開２００７−２７７５１４号公報段落０１１４〜０１４０および０２６６〜０３４８に記載の合成方法に準じて合成することができる。

組成物中における分散剤の含有量は特に制限されないが、分散剤の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、１質量％〜９０質量％であることが好ましく、３質量％〜５０質量％であることがより好ましく、４質量％〜４０質量％であることが更に好ましい。
分散剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

＜その他の成分＞
本発明の組成物には、上記無機微粒子および分散剤以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、バインダーポリマー、重合性モノマー、重合開始剤、界面活性剤、密着促進剤、紫外線吸収剤、溶媒、重合禁止剤、連鎖移動剤、増感剤などが挙げられる。
以下に、それらの成分について詳述する。

（バインダーポリマー）
本発明の組成物は、形成される遠赤外線遮光層の皮膜特性の向上などの観点から、更にバインダーポリマーを含有することが好ましい。
バインダーポリマーとしては、線状有機ポリマーを用いることが好ましい。線状有機ポリマーとしては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは、水現像または弱アルカリ水現像を可能とするために、水または弱アルカリ水に可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水または有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５４−９２７２３号公報公報、特開昭５９−５３８３６号公報、特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独もしくは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独もしくは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解、ハーフエステル化、もしくはハーフアミド化させた樹脂、または、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸および酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、４−カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
また、同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。

本発明において、バインダーポリマーとして、共重合体を用いる場合、共重合させる化合物として、先にあげたモノマー以外の他のモノマーを用いることもできる。他のモノマーの例としては、下記（１）〜（１２）の化合物が挙げられる。

（１）２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸エステル類。
（２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、２−フェニルビニルアクリレート、１−プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、２−アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート。

（３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、２−フェニルビニルメタクリレート、１−プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
（４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。

（５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレン等のスチレン類。
（８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。

（１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（１２）α位にヘテロ原子が結合したメタクリル酸系モノマー。例えば、特開２００２−３０９０５７号、特開２００２−３１１５６９号等の各公報に記載の化合物を挙げることができる。

本発明において、これらのモノマーは本発明の範囲内において特に制限なく組み合わせることによって、共重合体の合成に適用できる。例えば、下記にこれらのモノマーを含む単量体成分を重合してなる共重合体の一例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記に示す例示化合物の組成比はモル％である。

バインダーポリマーには、下記一般式（ＥＤ）で表される化合物（以下「エーテルダイマー」と称することもある。）の単量体成分を重合してなる繰り返し単位を含むことが好ましい。

式（ＥＤ）中、Ｒ₁およびＲ₂は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。

エーテルダイマーを示す一般式（ＥＤ）中、Ｒ₁およびＲ₂で表される置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ステアリル、ラウリル、２−エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔ−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２−メチル−２−アダマンチル等の脂環式基；１−メトキシエチル、１−エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい１級または２級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。

エーテルダイマーの具体例としては、例えば、ジメチル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｎ−プロピル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソプロピル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｎ−ブチル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソブチル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔ−ブチル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔ−アミル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ステアリル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ラウリル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（２−エチルヘキシル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（１−メトキシエチル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（１−エトキシエチル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジフェニル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔ−ブチルシクロヘキシル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ジシクロペンタジエニル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（トリシクロデカニル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソボルニル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジアダマンチル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（２−メチル−２−アダマンチル）−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジメチル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエートが好ましい。これらエーテルダイマーは、１種のみ使用してもよいし、２種以上使用してもよい。また、一般式（ＥＤ）で示される化合物由来の構造体は、その他のモノマーを共重合させてもよい。

エーテルダイマーと共に共重合しうるその他の単量体としては、例えば、酸基を導入するための単量体、ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体、エポキシ基を導入するための単量体、および、これら以外の他の共重合可能な単量体が挙げられる。このような単量体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

酸基を導入するための単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー、Ｎ−ヒドロキシフェニルマレイミド等のフェノール性水酸基を有するモノマー、無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー等が挙げられる。これらの中でも特に、（メタ）アクリル酸が好ましい。
また、酸基を導入するための単量体は、重合後に酸基を付与しうる単量体であってもよく、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する単量体、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有する単量体、２−イソシアナートエチル（メタ）アクリレート等のイソシアネート基を有する単量体等が挙げられる。ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体を用いる場合、重合後に酸基を付与しうる単量体を用いる場合、重合後に酸基を付与する処理を行うことが要求され得る。重合後に酸基を付与する処理は、単量体の種類によって異なり、例えば、次の処理が挙げられる。水酸基を有する単量体を用いる場合であれば、例えば、コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無水物等の酸無水物を付加させる処理が挙げられる。エポキシ基を有する単量体を用いる場合であれば、例えば、Ｎ−メチルアミノ安息香酸、Ｎ−メチルアミノフェノール等のアミノ基と酸基を有する化合物を付加させか、または、例えば（メタ）アクリル酸のような酸を付加させた後に生じた水酸基に、例えば、コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無水物等の酸無水物を付加させる処理が挙げられる。イソシアネート基を有する単量体を用いる場合であれば、例えば、２−ヒドロキシ酪酸等の水酸基と酸基を有する化合物を付加させる処理が挙げられる。

一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が、酸基を導入するための単量体を含む場合、その含有割合は、特に制限されないが、全単量体成分中、５〜７０質量％が好ましく、より好ましくは１０〜６０質量％である。

ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー；グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−（またはｍ−、またはｐ−）ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエポキシ基を有するモノマー；等が挙げられる。ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体を用いる場合、重合後にラジカル重合性二重結合を付与するための処理を行う必要がある。重合後にラジカル重合性二重結合を付与するための処理は、用いるラジカル重合性二重結合を付与しうるモノマーの種類によって異なり、例えば、次の処理が挙げられる。（メタ）アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマーを用いる場合であれば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−（またはｍ−、またはｐ−）ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエポキシ基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させる処理が挙げられる。無水マレイン酸や無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマーを用いる場合であれば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させる処理が挙げられる。グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−（またはｍ−、またはｐ−）ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエポキシ基を有するモノマーを用いる場合であれば、（メタ）アクリル酸等の酸基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させる処理が挙げられる。

一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が、ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体を含む場合、その含有割合は、特に制限されないが、全単量体成分中、５〜７０質量量％が好ましく、より好ましくは１０〜６０質量％である。

エポキシ基を導入するための単量体としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−（またはｍ−、またはｐ−）ビニルベンジルグリシジルエーテル等が挙げられる。
一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が、エポキシ基を導入するための単量体を含む場合、その含有割合は、特に制限されないが、全単量体成分中、５〜７０質量％が好ましく、より好ましくは１０〜６０質量％である。

他の共重合可能な単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸メチル２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類；ブタジエン、イソプレン等のブタジエンまたは置換ブタジエン化合物；エチレン、プロピレン、塩化ビニル、アクリロニトリル等のエチレンまたは置換エチレン化合物；酢酸ビニル等のビニルエステル類；等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレンが、透明性が良好で、耐熱性を損ないにくい点で好ましい。

一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が、他の共重合可能な単量体を含む場合、その含有割合は特に制限されないが、９５質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましい。

一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体の重量平均分子量は、特に制限されないが、遠赤外遮光材料組成物の粘度、および該組成物により形成される塗膜の耐熱性の観点から、好ましくは２０００〜２０００００、より好ましくは５０００〜１０００００であり、更に好ましくは５０００〜２００００である。
また、一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が酸基を有する場合には、酸価が、好ましくは２０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇであるのがよい。

一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体は、少なくとも、エーテルダイマーを含む前記の単量体を重合することにより、容易に得ることができる。このとき、重合と同時にエーテルダイマーの環化反応が進行してテトラヒドロピラン環構造が形成される。
一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体の合成に適用される重合方法としては、特に制限はなく、従来公知の各種重合方法を採用することができるが、特に、溶液重合法によることが好ましい。詳細には、例えば、特開２００４−３００２０４号公報に記載されるポリマー（ａ）の合成方法に準じて、一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体を合成することができる。

以下、一般式（ＥＤ）で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体の例示化合物を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記に示す例示化合物の組成比はモル％である。

本発明では特に、ジメチル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート（以下「ＤＭ」と称する）、ベンジルメタクリレート（以下「ＢｚＭＡ」と称する）、メタクリル酸メチル（以下「ＭＭＡ」と称する）、メタクリル酸（以下「ＭＡＡ」と称する）、２−ヒドロキシプロピレングリコールジメタクリレート（以下「Ｘ」と称する）を共重合させた重合体が好ましい。特に、ＤＭ：ＢｚＭＡ：ＭＭＡ：ＭＡＡ：Ｘのモル比が５〜１５：４０〜５０：５〜１５：５〜１５：２０〜３０であることが好ましい。本発明で用いる共重合体を構成する成分の９５質量％以上がこれらの成分であることが好ましい。また、かかる重合体の重量平均分子量は９０００〜２００００であることが好ましい。

本発明の組成物で使用しうるバインダーポリマーの重量平均分子量（ＧＰＣ法で測定されたポリスチレン換算値）としては、好ましくは３，０００以上であり、より好ましくは３０００以上３０万以下の範囲であり、更に好ましくは３，０００以上１５万以下の範囲である。分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好ましくは１．１以上１０以下の範囲である。
これらのバインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。

本発明で用いうるバインダーポリマーは、従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独でまたは２種以上混合して用いられる。
バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。
本発明の組成物において、バインダーポリマーは、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

組成物中にバインダーポリマーが含まれる場合、バインダーポリマーの含有量は、組成物全固形分に対して、１〜６０質量％であることが好ましく、３〜５０質量％であることがより好ましく、５〜４５質量％であることが更に好ましい。上記範囲内であれば、形成される遠赤外線遮光層の機械的強度と遠赤外線遮光性とのバランスに優れる。
バインダーポリマーは、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

（重合性モノマー（重合性化合物））
組成物中には、重合性モノマーが含まれていてもよい。重合性モノマーが含まれることにより、形成される遠赤外線遮光層の機械的強度が向上すると共に、パターン形成が可能となる。
重合性モノマーとして、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物を使用することが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物を使用することがより好ましい。このような化合物は当該技術分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。

また、重合性モノマーとしては、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物も好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレートおよびこれらの混合物を挙げることができ、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートであることが好ましい。

中でも、重合性モノマー等としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、Ａ−ＴＭＭＴ；新中村化学工業株式会社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬株式会社製）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬株式会社製）が好ましく、ペンタエリスリトールテトラアクリレートがより好ましい。

重合性モノマーとしては、多官能モノマーであって、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。従って、エチレン性化合物が、上記のように混合物である場合のように未反応のカルボキシル基を有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、上述のエチレン性化合物のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入してもよい。この場合、使用される非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸が挙げられる。

酸基を有するモノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであり、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、Ｍ−５２０などが挙げられる。
酸基を有する多官能モノマーの好ましい酸価としては、０．１〜４０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであり、特に好ましくは５〜３０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇである。異なる酸基の多官能モノマーを２種以上併用する場合、或いは酸基を有しない多官能モノマーを併用する場合、全体の多官能モノマーとしての酸価が上記範囲に入るように調製することが必須である。

これらの重合性モノマーについて、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、遠赤外線遮光層の強度を高くするためには３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、組成物に含有される他の成分（例えば、重合開始剤、無機微粒子等）との相溶性、分散性に対しても、重合性モノマーの選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の他の成分の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板などの硬質表面との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもあり得る。

組成物中に重合性モノマーが含有される場合、重合性モノマーの含有量は、組成物全固形分に対して、１〜４０質量％の範囲であることが好ましく、３〜３５質量％の範囲であることがより好ましく、５〜３０質量％の範囲であることが更に好ましい。この範囲内であると、硬化性が良好で好ましい。
重合性モノマーは、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

（重合開始剤）
組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。重合開始剤が含まれることにより、硬化性が向上される。
重合開始剤としては、重合性モノマーの重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の重合開始剤の中から適宜選択することができる。
また、後述する組成物の硬化処理における硬化を良好にする観点などから、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感放射線性を有するもの（光重合開始剤）が好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、重合開始剤は、約３００ｎｍ〜８００ｎｍ（３３０ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましい。）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する化合物を、少なくとも１種含有していることが好ましい。

重合開始剤としては、オキシム系化合物であることが好ましく、オキシムエステル系化合物であることがより好ましい。
オキシム系開始剤の具体例としては、特開２００１−２３３８４２号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報記載の化合物、特開２００６−３４２１６６号公報記載の化合物を用いることができる。

重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、および２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。

オキシムエステル化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２−２３２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ（２０１２年）ｐｐ．７２５−７３１、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３４２１６６号公報の各公報に記載の化合物などが挙げられる。

また上記記載以外のオキシムエステル化合物として、カルバゾールＮ位にオキシムが連結した特表２００９−５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許７６２６９５７号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０−１５０２５号公報および米国特許公開２００９−２９２０３９号記載の化合物、国際公開特許２００９−１３１１８９号公報に記載のケトオキシム系化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許７５５６９１０号公報に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９−２２１１１４号公報記載の化合物などを用いてもよい。

さらに、特開２００７−２３１０００号公報、および、特開２００７−３２２７４４号公報に記載される環状オキシム化合物も好適に用いることができる。環状オキシム化合物の中でも、特に特開２０１０−３２９８５号公報、特開２０１０−１８５０７２号公報に記載されるカルバゾール色素に縮環した環状オキシム化合物は、高い光吸収性を有し高感度化し得る。
また、オキシム化合物の特定部位に不飽和結合を有する特開２００９−２４２４６９号公報に記載の化合物も、重合不活性ラジカルから活性ラジカルを再生することで高感度化を達成できる。
他にも、特開２００７−２６９７７９号公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開２００９−１９１０６１号公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。
なかでも、重合開始剤としては、下記一般式（Ａ）で表されるオキシムエステル系化合物であることが特に好ましい。

上記一般式（Ａ）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、各々独立に、１価の置換基を表す。
なお、オキシムのＮ−Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であっても、（Ｚ）体のオキシム化合物であっても、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。
Ｒ¹についての１価の置換基としては特に制限はないが、アリール基、複素環基等が挙げられる。また、これらの基は１以上の更なる置換基を有していてもよい。
アリール基としては、炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、具体的には、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、９−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、キシリル基、ｏ−クメニル基、ｍ−クメニル基およびｐ−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、並びに、オバレニル基が例示できる。
複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子若しくはリン原子を含む、芳香族または脂肪族の複素環が好ましい。
具体的には、チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ナフト［２，３−ｂ］チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、２Ｈ−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、３Ｈ−インドリル基、インドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、４Ｈ−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、４ａＨ−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、および、チオキサントリル基が例示できる。
Ｒ¹についてのアリール基、複素環基が有し得る更なる置換基としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、複素環基、ハロゲン原子等が挙げられる。
Ｒ¹として、なかでも、特に好ましくは以下に示す構造Ｓｕｂ−１〜Ｓｕｂ−１１である。
なお、以下に示される基において、「＊」は、一般式（Ａ）におけるカルボニル基との結合位置を示し、各基は１以上の更なる置換基を有していてもよい。更なる置換基としては前述の通りである。

Ｒ²についての１価の置換基としては、特に制限はないが、アルキル基、シクロアルキル基、アルキニル基等が挙げられ、炭素数１〜１２であることが好ましく、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−エチルペンチル基等）であることがより好ましい。また、これらの基は１以上の更なる置換基を有していてもよい。
Ｒ²についてのアルキル基、シクロアルキル基、アルキニル基が有し得る更なる置換基としてはヘキシル基、Ｒ¹についてのアリール基、複素環基が有し得る更なる置換基として前述した更なる置換基等が挙げられるが、アリールチオ基であることが好ましく、該更なる置換基としてのアリールチオ基が、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換または無置換のフェニルチオ基であることがより好ましく、以下に示す構造であることが感度の点で更に好ましい。なお、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。

Ｒ³についての１価の置換基としては特に制限はないが、アルキル基、アリール基等が挙げられる。また、これらの基は１以上の更なる置換基を有していてもよい。
Ｒ³についてのアルキル基としては、Ｒ²についての１価の置換基として前述したアルキル基が挙げられる。
Ｒ³についてのアリール基としては、Ｒ¹についての１価の置換基として前述したアリール基が挙げられる。
Ｒ³についてのアルキル基、アリール基が有し得る更なる置換基としては、Ｒ¹についてのアリール基、複素環基が有し得る更なる置換基として前述した更なる置換基が挙げられる。

好適に用いられるオキシム化合物の具体例（ＰＩｏｘ−１）〜（ＰＩｏｘ−１３）を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）が好適に用いられ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）であることが特に好ましい。
オキシム化合物は、３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、３６０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものであることが好ましく、３６５ｎｍおよび４５５ｎｍの吸光度が高いものが特に好ましい。
オキシム化合物は、３６５ｎｍまたは４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００〜３００，０００であることが好ましく、２，０００〜３００，０００であることがより好ましく、５，０００〜２００，０００であることが特に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｒｙ−５ ｓｐｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

重合開始剤は、必要に応じて２種以上を組み合わせて使用しても良い。
本発明の組成物を用いて、微細なパターンをシャープな形状で形成することが要求される場合があり、そのような場合は、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、重合開始剤としてはオキシム化合物を使用することが特に好ましい。

組成物中に重合開始剤が含有される場合、重合開始剤の含有量は、組成物全固形分に対して、０．１〜４０質量％の範囲であることが好ましく、０．５〜２０質量％の範囲であることがより好ましく、１〜１５質量％の範囲であることが更に好ましい。この範囲内であると、硬化性が良好で好ましい。この範囲で、良好な硬化性と、良好な感度とパターン形成性とが得られる。
重合開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

（界面活性剤）
本発明の組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
特に、本発明の組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３質量％〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５質量％〜３０質量％であり、特に好ましくは７質量％〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。

ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレートおよびプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）等が挙げられる。

カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体（商品名：ＥＦＫＡ−７４５、森下産業（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。

アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「ＴＳＦ−４４４０」、「ＴＳＦ−４３００」、「ＴＳＦ−４４４５」、「ＴＳＦ−４４６０」、「ＴＳＦ−４４５２」、信越シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。

組成物に界面活性剤が含まれる場合、界面活性剤の含有量は、組成物全質量に対して、０．００１質量％〜２．０質量％が好ましく、０．００５質量％〜１．０質量％がより好ましい。
界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

（密着促進剤）
本発明の組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、密着促進剤が含まれていてもよい。密着促進剤が含まれることにより、遠赤外線遮光層が配置される基材と、遠赤外線遮光層との密着性がより向上する。
密着促進剤としては、例えば、３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、１−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノグリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−メチルジメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 KBM-602）、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 KBM-603、信越化学工業社製）、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン（信越化学工業社製商品名 KBE-602）、γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 KBM-903）、γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン（信越化学工業社製商品名 KBE-903）等が挙げられる。
他には、特開２００８−２４３９４５号公報の段落番号［００４８］に記載の化合物が使用される。
組成物に密着促進剤が含有される場合、密着促進剤の含有量は、組成物全固形分に対して、１０質量％以下が好ましく、０．００５〜５質量％がより好ましい。
密着促進剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

（紫外線吸収剤）
本発明の組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、紫外線吸収剤が含有されていてもよい。
紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系の紫外線吸収剤を使用することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−イソブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。

置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤の例としては、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。さらに、トリアジン系紫外線吸収剤の例としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのモノ（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロピルオキシフェニル）−６−（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのビス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジンなどのトリス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物等が挙げられる。

以下、紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、これに限定されるものではない。

本発明においては、各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
組成物に紫外線吸収剤が含まれる場合、紫外線吸収剤の含有量は、組成物全固形分に対して、０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜３質量％がより好ましい。
紫外線吸収剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

（溶媒）
本発明の組成物には、溶媒が含まれていてもよい。該溶媒は、種々の有機溶媒を用いて構成することができる。
有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。
これらの有機溶剤は、単独あるいは混合して使用することができる。
組成物に溶媒が含まれる場合、組成物における固形分の濃度は、２〜６０質量％であることが好ましい。
溶媒は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

＜フィルターろ過＞
本発明の遠赤外線遮光層形成用組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルターで濾過することが好ましい。
フィルターろ過に用いるフィルターとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルターであれば特に限定されることなく用いることができる。
フィルターの材質の例としては、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂；ナイロン−６、ナイロン−６，６等のポリアミド系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）；等が挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）が好ましい。
フィルターの孔径には特に限定はないが、例えば０．０１〜２０．０μｍ程度であり、好ましくは０．1〜１０μｍ程度であり、更に好ましくは０．１〜５．０μｍ程度である。
フィルターの孔径を上記範囲とすることにより、微細な粒子をより効果的に取り除くことができ、濁度をより低減することができる。
ここで、フィルターの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルターとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
フィルターろ過では、２種以上のフィルターを組み合わせて用いてもよい。
例えば、まず第１のフィルターを用いてろ過を行い、次に、第１のフィルターとは孔径が異なる第２のフィルターを用いてろ過を行うことができる。
その際、第１のフィルターでのフィルタリング及び第２のフィルターでのフィルタリングは、それぞれ、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
第２のフィルターは、上述した第１のフィルターと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。

＜遠赤外線遮光層＞
上述した成分を含有する遠赤外線遮光層形成用組成物を用いることにより、遠赤外線遮光層が形成される。
遠赤外線遮光層の形成方法は特に制限されないが、上記組成物を所定の基材上に塗布して、必要に応じて、硬化処理を実施する方法が挙げられる。
塗布方法は特に制限されず、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法などが挙げられる。
なお、塗布後必要に応じて、溶媒を除去するために、加熱乾燥処理を実施してもよい。加熱乾燥処理の条件は特に制限されないが、生産性の点から、５０〜２００℃（好ましくは６０〜１５０℃）で３０秒〜１５分間（好ましくは６０秒〜５分間）加熱処理を実施することが好ましい。

硬化処理の方法は特に制限されず、組成物に含まれる成分に応じて最適な方法が選択される。硬化処理としては、主に、露光処理または加熱処理が実際される。
特に、組成物に重合性モノマーが含まれ、パターン状に遠赤外線遮光層を形成する場合は、露光処理を実施した後、未露光部分を除去する現像処理を実施してもよい。
なお、現像処理の方法は特に制限されず、未露光部分の組成物が溶解する現像液（溶液）で処理する方法が挙げられる。

形成される遠赤外線遮光層の層厚は特に制限されないが、赤外線アレイセンサなどへの応用の点からは、０．１〜２０μｍが好ましく、０．５〜１０μｍがより好ましい。
なお、上述した組成物を使用した場合は、無機微粒子の濃度を高めることができるため、遠赤外線遮光層の薄膜化が可能となる。特に、分散剤として、分散樹脂、または、一般式（１）で表される高分子化合物を使用した場合は、薄膜の遠赤外線遮光層を容易に製造できる。
また、上述した組成物を使用した場合、パターン状の遠赤外線遮光層を精度よく形成することができる。つまり、解像性に優れる。特に、分散剤として、上記樹脂または上記一般式（１）で表される高分子を使用すると、より効果が優れる。

本発明の組成物より形成される遠赤外線遮光層は、種々の用途に適用することができる。例えば、赤外線アレイセンサが挙げられる。より具体的には、赤外線アレイセンサの受光部上に遠赤外線遮光層を形成することによって感度向上が期待される。
また、上記組成物より形成される遠赤外線遮光層は、優れた熱容量、耐アルカリ性、耐傷性を示すため、上記赤外線アレイセンサに好適に使用できる。
つまり、赤外線アレイセンサに上記遠赤外線遮光層を適用する場合、遠赤外線遮光層の熱容量が優れると、光熱変換時に発生した熱が赤外線アレイセンサの測温接点へと効率的に移動することができる。より具体的には、遠赤外線遮光層の熱容量の範囲としては、０．１〜２Ｊ／（g・Ｋ）が好ましく、０．１〜１．５Ｊ／（g・Ｋ）がより好ましい。
また、遠赤外線遮光層の耐アルカリ性が優れると、プロセス適性の観点から好ましい。
また、遠赤外線遮光層の耐傷性が優れると、半導体プロセス適性に優れるという観点から好ましい。

以下に本発明の実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［錫ドープ酸化インジウム分散液aの調製］
錫ドープ酸化インジウム粉末（三菱マテリアル（株）製、Ｐ４−ＩＴＯ）２８．１質量部と、分散剤a（固形分３０％、溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテル）１８．８質量部、溶媒（シクロヘキサノン）２８．１質量部を予め混合した後、ペイントシェーカー（浅田鉄工株式会社製）で、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズを用い、５時間分散して、錫ドープ酸化インジウム分散物aを調製した。

上記式中、ｎは１４であり、分散剤aのポリスチレン換算の重量平均分子量は６４００であり、酸価は８０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。分散剤aは、特開２００７−２７７５１４号公報の段落０１１４〜０１４０および０２６６〜０３４８に記載の合成方法に準じて合成した。

［錫ドープ酸化インジウム分散液ｂの調製］
錫ドープ酸化インジウム粉末（三菱マテリアル（株）製、Ｐ４−ＩＴＯ）２８．１質量部と、分散剤ｂ（固形分２０％、溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１８．８質量部、溶媒（シクロヘキサノン）１８．８質量部を予め混合した後、ペイントシェーカー（浅田鉄工株式会社製）で、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズを用い、５時間分散して、錫ドープ酸化インジウム分散物ｂを調製した。

分散剤ｂの重量平均分子量（Ｍｗ）は９０００であり、共重合比（モル比）は上記の通りであった。分散剤ｂは、特開２０１２−２５５１２８号の公開公報に記載の方法で合成した。

［錫ドープ酸化インジウム分散液ｃの調製］
錫ドープ酸化インジウム粉末（三菱マテリアル（株）製、Ｐ４−ＩＴＯ）２８．１質量部と、分散剤ｃ（ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ３７５００、ルーブリゾーブ社製、固形分４１．６％、溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１３．５質量部、溶媒（シクロヘキサノン）３３．３質量部を予め混合した後、ペイントシェーカー（浅田鉄工株式会社製）で、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズを用い、５時間分散して、錫ドープ酸化インジウム分散物cを調製した。

＜実施例１＞
下記組成を混合し、混合組成物をMembrane Filters（孔径：６μｍ、日本ポール株式会社製）とMembrane Filters（孔径：２．５μｍ、日本ポール株式会社製）でろ過することによって、遠赤外線遮光層形成用組成１を調製した。
ＩＴＯ分散液ａ ７１．０質量部
バインダーポリマー（ＡＣＡ２３０ＡＡ、ダイセル・サイテック(株)、固形分５５％、溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテル） １６．８質量部
光重合開始剤：Ｉｒａｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦジャパン社製） ２．８質量部
重合性化合物：アロニックスＭ−５１０（ＴＯ−７５６）(商品名：東亞合成（株）製：４官能重合性化合物) ９．４質量部
シランカップリング材 ＫＢＭ−６０２（信越シリコーン製） ０．１１質量部
界面活性剤：メガファックＦ−７８０（ＤＩＣ株式会社製） ０．１１質量部

＜実施例２＞
ＩＴＯ分散液ａの代わりにＩＴＯ分散液ｂを用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、遠赤外線遮光層形成用組成物２を調製した。

＜実施例３＞
ＩＴＯ分散液ａの代わりにＩＴＯ分散液ｃを用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、遠赤外線遮光層形成用組成物３を調製した。

＜実施例４＞
紫外線吸収剤としてＵＶ−５０３（大東化学株式会社製）０．５３質量部をさらに加えた以外は、実施例１と同様の手順に従って、遠赤外線遮光層形成用組成物４を調製した。

＜比較例１＞
ＩＴＯ分散液aの代わりにＩＴＯ粉末（三菱マテリアル（株）製、Ｐ４−ＩＴＯ)を用いた以外は、実施例１と同様の成分を用いて、比較組成物１を調製した。
なお、比較組成物１には、分散剤が含まれていない。

＜比較例２＞
［赤色顔料分散液Ｒ１の調製］
着色剤としてＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔレッド２５４（ＰＲ２５４）１１７部、分散剤（アジスパーＰＢ８２１、味の素ファインテクノ（株）製）を７０部、ＰＧＭＥＡを固形分濃度１８．７％となるように用い、ビーズミルにより１２時間混合・分散して、赤色顔料分散液Ｒ１を調製した。
[赤色顔料分散液Ｒ２の調製]
着色剤としてＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔレッド１７７（ＰＲ１７７）１５１部、分散剤（アジスパーＰＢ８２１、味の素ファインテクノ（株）製）を４６部、ＰＧＭＥＡを固形分濃度１９．７％となるように用い、ビーズミルにより１２時間混合・分散して、赤色顔料分散液Ｒ２を調製した。

（比較組成物２の調製）
下記の成分を攪拌混合することによって、比較組成物２を調製した。
赤色顔料分散液Ｒ１ １８．６３質量部
赤色顔料分散液Ｒ２ ７．１５質量部
重合性化合物：アロニックスＴＯ−２３５９（東亞合成（株）製） ２．４６質量部
重合開始剤：化合物Ｃ ０．２８質量部
増感剤：Ｋａｙａｃｕｒｅ ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬製のチオキサントン系化合物） ０．４７質量部
バインダーポリマー：ＢｚＭＡ／ＭＡＡ＝７０／３０[モル比]のランダム共重合体（分子量３０，０００）の固形分４０％ＰＧＭＥＡ溶液 ３．４５質量部
溶媒：ＥＥＰ（３−エトキシプロピオン酸エチル） ７．４１質量部
多官能性メルカプタン系化合物：カレンズＭＴＢＤ１（昭和電工（株）製）０．３７８部
重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール ０．００１２質量部
界面活性剤：メガファックＦ−５５４（ＤＩＣ（株）製） ０．０３質量部
化合物Ｃ：特開２００７−２３１０００号公報の記載に従って、下記化合物を合成した。

＜遠赤外線遮光層の形成＞
上記で得られた遠赤外線遮光層形成用組成物を４インチシリコンウエハー上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で１００℃にて２分間加熱して膜厚５μｍの塗布膜を得た。この塗布膜を、５μｍの線形パターンを有するマスクを介してウシオ電機（株）製超高圧水銀ランプ「ＵＳＨ−５００ＢＹ」により１００ｍＪ/ｃｍ²で露光した。
これをアルカリ性現像液（ＦＨＤ−５）（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて、室温にて６０秒間、パドル現像した後、さらに２０秒間スピンシャワーにて純水でリンスを行った。その後、高速回転にて基盤を乾燥させ、パターンを形成した。

＜遠赤外線透過率の測定＞
遠赤外線透過率測定は、Ｓｉ上に膜厚の異なる遠赤外線遮光層を上記方法にて４点作製し、ＮＩＣＯＬＥＴ６７００ＦＴ−ＩＲ（テルモ製）を使用して測定を行った。
測定条件は、透過率、空気補正は無い条件でバックグラウンドを測定した。
測定結果を膜厚と吸光度のプロットから最小二乗法により、傾きと切片を求めた。
ランバートベール式：Ａ＝αＣＬ＋Ｂ（Ａ：吸光度、α：吸光係数、Ｃ：濃度、Ｌ：膜厚、Ｂ：Ｓｉ基板の吸光度）に当てはめることで、膜厚５μｍにおける波長１０μｍの透過率を求めた。結果を表１にまとめて示す。

上記表１に示すように、本発明の組成物より得られる遠赤外線遮光層は、遠赤外線に対する優れた遮光性を示すことが確認された。
一方、分散剤を使用していない比較例１においては、測定可能な層を形成することができなかった。また、無機微粒子を使用していない比較例２においては、遠赤外線の遮光性が実施例に比べ、劣っていた。

Claims (8)

1. 無機微粒子と分散剤とバインダーポリマーとを少なくとも含有する遠赤外線遮光層形成用組成物であって、
   前記バインダーポリマーが、側鎖にカルボキシル基を有するラジカル重合体である、カルボキシル基を有するモノマーを単独または共重合させた樹脂であって、
   前記バインダーポリマーの含有量が前記遠赤外線遮光層形成用組成物の全固形分に対して１〜６０質量％であり、
   赤外線アレイセンサ用の遠赤外線遮光層の形成に用いられる、遠赤外線遮光層形成用組成物。
2. さらに、重合性モノマーを含有し、
   前記重合性モノマーは、カルボキシル基を有する多官能モノマーである、請求項１に記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
3. 前記無機微粒子が、導電性無機微粒子である、請求項１又は２に記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
4. 前記無機微粒子の３６５〜４０５ｎｍの透過率（％）が１０％以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
5. 前記無機微粒子が、酸化インジウムスズである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
6. 前記分散剤が、ｐＫａ１４以下の官能基を有する基Ｘを有する繰り返し単位と、側鎖に原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖またはポリマー鎖Ｙとを有し、かつ塩基性窒素原子を含有する樹脂、または、重量平均分子量１０，０００以下の以下一般式（１）で表される高分子化合物を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
   
   （一般式（１）中、Ｒ¹は（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。Ｒ²は、単結合または２価の連結基を表す。Ａ¹は、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基および水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ¹およびＲ²は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
   ｍは８以下の正の数、ｎは１〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
   Ｐ¹は、ポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ¹は、同一であっても、異なっていてもよい。）
7. さらに、重合開始剤を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の遠赤外線遮光層形成用組成物。
8. 前記酸化インジウムスズの含有量が全固形分中５０質量％以上である、請求項５〜７のいずれか１項に記載に遠赤外線遮光層形成用組成物。