JP6237780B2 - 酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 - Google Patents
酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6237780B2 JP6237780B2 JP2015542561A JP2015542561A JP6237780B2 JP 6237780 B2 JP6237780 B2 JP 6237780B2 JP 2015542561 A JP2015542561 A JP 2015542561A JP 2015542561 A JP2015542561 A JP 2015542561A JP 6237780 B2 JP6237780 B2 JP 6237780B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium oxide
- particle dispersion
- fine particle
- tungsten oxide
- copper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/72—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/84—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/85—Chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/888—Tungsten
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
- B01J35/39—Photocatalytic properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/40—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by dimensions, e.g. grain size
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/40—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by dimensions, e.g. grain size
- B01J35/45—Nanoparticles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/0009—Use of binding agents; Moulding; Pressing; Powdering; Granulating; Addition of materials ameliorating the mechanical properties of the product catalyst
- B01J37/0027—Powdering
- B01J37/0036—Grinding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/04—Mixing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/08—Heat treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
- C01G23/047—Titanium dioxide
- C01G23/053—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G41/00—Compounds of tungsten
- C01G41/02—Oxides; Hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/02—Ingredients treated with inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/66—Additives characterised by particle size
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2235/00—Indexing scheme associated with group B01J35/00, related to the analysis techniques used to determine the catalysts form or properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/70—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their crystalline properties, e.g. semi-crystalline
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/50—Solid solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/50—Solid solutions
- C01P2002/52—Solid solutions containing elements as dopants
- C01P2002/54—Solid solutions containing elements as dopants one element only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2237—Oxides; Hydroxides of metals of titanium
- C08K2003/2241—Titanium dioxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2258—Oxides; Hydroxides of metals of tungsten
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/005—Additives being defined by their particle size in general
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Geology (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Description
〔1〕水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)酸化タングステン微粒子との2種類の光触媒微粒子が分散されていることを特徴とする酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔2〕i)の酸化チタン微粒子及びii)の酸化タングステン微粒子の分散径が、レーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で、それぞれ5〜30nm及び5〜1,000nmであることを特徴とする〔1〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔3〕i)の酸化チタン微粒子中の銅成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Cu)で1〜1,000であることを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔4〕i)の酸化チタン微粒子中に銅成分が固溶されていることを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔5〕i)の酸化チタン微粒子に、3mW/cm2、ピーク波長365nmの紫外線を200時間照射するか、又は500℃下2時間加熱して劣化処理した後であっても、前記劣化処理前に対して、
エネルギー9,000eV近傍のCu−K端XAFS(X線吸収端微細構造)スペクトルの測定において、
1)XANES(X線吸収端近傍構造)スペクトルの8,970〜9,000eVの範囲内に認められる吸収スペクトルの極大ピークについて、相対吸収量が0.1以上変化せず、かつ吸収エネルギー値が5%以上変化せず、
2)同測定結果のk3χ(k)Cu−K端EXAFS(広域X線吸収微細構造)スペクトルを高速フーリエ変換して得られる動径構造関数において、Cuの第1〜第2配位圏と判断される2〜3Åの範囲内の極大ピーク位置が5%以上変化しないこと
の2つを同時に満たすことを特徴とする〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔6〕更に、バインダーを含有することを特徴とする〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔7〕バインダーが、ケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする〔6〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔8〕〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材。
〔9〕(1)原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、0.12〜4.5MPa下、80〜250℃で1〜300分間加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(3)上記(2)の工程で製造した銅含有酸化チタン微粒子分散液と、酸化タングステン微粒子分散液とを混合する工程
を有することを特徴とする酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。
〔10〕上記(3)の工程で使用する酸化タングステン微粒子分散液が、ビーズミルにより、酸化タングステン粉末を水性分散媒中で微粉砕・分散させて製造したものであることを特徴とする〔9〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。
〔11〕上記(2)の工程で得られた銅含有酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分の含有量が、酸化チタン微粒子に対して0.05〜2質量%であることを特徴とする〔9〕又は〔10〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。
〔12〕ビーズミルに使用されるビーズが、直径5〜100μmのジルコニア製球状ビーズであることを特徴とする〔10〕又は〔11〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。
〔1〕水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)酸化タングステン微粒子との2種類の光触媒微粒子が分散されている酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液であって、
i)の酸化チタン微粒子中に銅成分が固溶されており、
銅含有酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分の含有量が、酸化チタン微粒子の全量に対して0.05〜2質量%であり、
i)の酸化チタン微粒子及びii)の酸化タングステン微粒子の分散径が、レーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で、それぞれ5〜30nm及び5〜1,000nmであって、
可視光(400〜800nm)のみでも光触媒活性を発現することを特徴とする酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔2〕i)の酸化チタン微粒子中の銅成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Cu)で1〜1,000であることを特徴とする〔1〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔3〕i)の酸化チタン微粒子に、3mW/cm2、ピーク波長365nmの紫外線を200時間照射するか、又は500℃下2時間加熱して劣化処理した後であっても、前記劣化処理前に対して、
エネルギー9,000eV近傍のCu−K端XAFS(X線吸収端微細構造)スペクトルの測定において、
1)XANES(X線吸収端近傍構造)スペクトルの8,970〜9,000eVの範囲内に認められる吸収スペクトルの極大ピークについて、相対吸収量が0.1以上変化せず、かつ吸収エネルギー値が5%以上変化せず、
2)同測定結果のk3χ(k)Cu−K端EXAFS(広域X線吸収微細構造)スペクトルを高速フーリエ変換して得られる動径構造関数において、Cuの第1〜第2配位圏と判断される2〜3Åの範囲内の極大ピーク位置が5%以上変化しないこと
の2つを同時に満たすことを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔4〕更に、バインダーを含有することを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔5〕バインダーが、ケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする〔4〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔6〕ケイ素化合物系バインダーが、固体状又は液体状のケイ素化合物を水性分散媒中に含んでなるケイ素化合物の、コロイド分散液、溶液又はエマルジョンであって、コロイダルシリカ;ケイ酸塩類溶液;シラン、シロキサン加水分解物エマルジョン;シリコーン樹脂エマルジョン;シリコーン樹脂とアクリル樹脂又はウレタン樹脂との共重合体のエマルジョンから選ばれるものであることを特徴とする〔5〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
〔7〕〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材。
〔8〕(1)原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、0.12〜4.5MPa下、80〜250℃で1〜300分間加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(3)上記(2)の工程で製造した銅含有酸化チタン微粒子分散液と、酸化タングステン微粒子分散液とを混合する工程
を有する酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法であって、
上記(2)の工程の酸化チタン微粒子中に銅成分が固溶されており、
上記(2)の工程の銅含有酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分の含有量が、酸化チタン微粒子の全量に対して0.05〜2質量%であり、
上記(3)の工程の酸化チタン微粒子及び酸化タングステン微粒子の分散径が、レーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で、それぞれ5〜30nm及び5〜1,000nmであって、
可視光(400〜800nm)のみでも光触媒活性を発現することを特徴とする酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。
〔9〕上記(3)の工程で使用する酸化タングステン微粒子分散液が、ビーズミルにより、酸化タングステン粉末を水性分散媒中で微粉砕・分散させて製造したものであることを特徴とする〔8〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。
〔10〕
ビーズミルに使用されるビーズが、直径5〜100μmのジルコニア製球状ビーズであることを特徴とする〔9〕に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。
このような酸化チタン微粒子中の銅成分の含有量は、酸化チタンとのモル比(Ti/Cu)で1〜1,000、好ましくは10〜200、より好ましくは20〜100である。これは、モル比が1未満の場合、酸化チタン結晶の含有割合が低下し光触媒効果が十分発揮されないことがあり、1,000超過の場合、可視光応答性が不十分となることがあるためである。
ここで、銅成分は、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されるのではなく、可及的に酸化チタン微粒子から分離、脱離しないように含有させることが好ましく、特に酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることが好ましい。これは、銅成分を固溶することによって、熱や紫外線曝露に対して銅の配位状態が安定で変性し難く、耐久性が高い光触媒薄膜を形成することができるためである。このような銅成分の固溶形態は、後述する酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法により得ることができる。尚、一部の銅成分が、酸化チタン微粒子から分離、脱離し、分散液中に溶解及び/又は分散してもよい。
特に、後述する酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法における(1)、(2)の工程で得られた銅含有酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分の含有量は、酸化チタン微粒子の全量に対して、0.05〜2質量%、好ましくは0.05〜1質量%である。これは、濃度が0.05質量%未満の場合、酸化チタン微粒子が凝集し易くなることがあり、2質量%超過の場合、該分散液から得られる光触媒薄膜の光触媒効果が不十分となることがあるためである。
尚、i)の酸化チタン微粒子及びii)の酸化タングステン微粒子のそれぞれの平均粒子径の測定は、通常、複合化前(混合前であって、それぞれの微粒子を含む分散液の状態)において測定される。
本発明の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法は、最終的に、水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)酸化タングステン微粒子との2種類の光触媒微粒子が分散された状態で得られるものであり、以下の工程(1)〜(3)を有するものである。
(1)原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、0.12〜4.5MPa下、80〜250℃で加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(3)上記(2)の工程で製造した銅含有酸化チタン微粒子分散液と、酸化タングステン微粒子分散液とを混合する工程。
工程(1)では、原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質及び過酸化水素を水性分散媒中で反応させることにより、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する。反応方法としては、水性分散媒中の原料チタン化合物に塩基性物質を添加して水酸化チタンとし、不純物イオンを除去し、過酸化水素を添加して溶解せしめた後に銅化合物を添加して、銅化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でも、水性分散媒中の原料チタン化合物に銅化合物を添加した後に塩基性物質を添加して銅含有水酸化チタンとし、不純物イオンを除去したのち過酸化水素を添加して溶解し銅化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でもよい。
工程(2)では、上記(1)の工程で得られた銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃、好ましくは100〜250℃、より好ましくは120〜250℃の温度において水熱反応に供する。反応温度は、反応効率と反応の制御性の観点から80〜250℃が適切であり、その結果、銅含有酸化チタン微粒子として析出する。この場合、圧力は、0.12〜4.5MPa程度、好ましくは0.15〜4.5MPa程度、より好ましくは0.20〜4.5MPa程度の高圧とし、反応時間は、1分〜300分間、より好ましくは1分〜240分間とする。
また、銅含有酸化チタン微粒子分散液の酸化チタン微粒子の濃度は、0.01〜20質量%が好ましく、特に0.5〜10質量%が好ましい。これは、後述する工程(3)において、酸化タングステン微粒子分散液と共に混合せしめ、最終的な酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液を得る際、その最終的な酸化チタン微粒子と酸化タングステン微粒子との合計の濃度範囲に収まるよう予め揃えておいた方が、例えば分散液の保管、管理等作業上も都合がよいからである。
1)XANES(X線吸収端近傍構造)スペクトルの8,970〜9,000eVの範囲内に認められる吸収スペクトルの極大ピークについて、相対吸収量が0.1以上変化せず、かつ吸収エネルギー値が5%以上、好ましくは4%以上、更に好ましくは3%以上変化せず、
2)同測定結果のk3χ(k)Cu−K端EXAFS(広域X線吸収微細構造)スペクトルを高速フーリエ変換して得られる動径構造関数において、Cuの第1〜第2配位圏と判断される2〜3Åの範囲内の極大ピーク位置が5%以上、好ましくは4%以上、更に好ましくは3%以上変化しないこと
の2つを同時に満たすものである。
このようなCu配位状態の安定性は、銅成分が、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されているのではなく、酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることによってもたらされるものである。
工程(3)では、上記(2)の工程で製造した銅含有酸化チタン微粒子分散液と、これとは別に予め用意された酸化タングステン微粒子分散液とを混合することによって、最終的な酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液を得る。混合方法は、特に限定されず、攪拌機で撹拌する方法でも、超音波分散機で分散させる方法でもよい。混合時の温度は20〜100℃、時間は1分〜3時間であることが好ましい。混合比率は、質量比で(TiO2:Cu)/WO3で99〜0.01が好ましく、より好ましくは9〜0.1、更に好ましくは4〜0.25である。上記質量比が99超過若しくは0.01未満の場合、可視光活性が不十分となることがある。
尚、ここでいう、文言上の「複合」とは、前述の酸化チタン微粒子と酸化タングステン微粒子との混合物であることを指す。つまり、酸化チタン微粒子と酸化タングステン微粒子とが、別々の粒子として、同じ分散媒中に存在していることを意味する。但し、一部において、酸化チタン微粒子と酸化タングステン微粒子とが、相互に吸着、結合等して一体化して存在していてもよい。
また、酸化タングステン微粒子分散液の酸化タングステン微粒子の濃度は、0.01〜20質量%が好ましく、特に0.5〜10質量%が好ましい。これは、工程(3)において、酸化チタン微粒子分散液と共に混合せしめ、最終的な酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液を得る際、その最終的な酸化チタン微粒子と酸化タングステン微粒子との合計の濃度範囲に収まるよう予め揃えておいた方が、例えば分散液の保管、管理等作業上も都合がよいからである。
本発明の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液は、各種部材の表面に光触媒膜を形成させるために使用することができる。ここで、各種部材は、特に制限されないが、部材の材料としては、例えば、有機材料、無機材料が挙げられる。これらは、それぞれの目的、用途に応じた様々な形状を有することができる。
非金属無機材料としては、例えば、ガラス、セラミック、石材等が挙げられる。これらは、タイル、硝子、ミラー、壁、意匠材等の様々な形に製品化されていてもよい。
酸化チタン微粒子及び酸化タングステンの平均粒子径(D50)は、粒度分布測定装置(商品名“ナノトラック粒度分析計UPA−EX150”、日機装(株))を用いて測定した。
酸化チタン微粒子中に含有されるペルオキソチタン成分の存在は、ペルオキソ基中のO−O結合の存在の有無によって確認した。具体的には、得られた酸化チタン微粒子分散液を室温で自然乾燥することで得た酸化チタン微粒子の粉末を、赤外分光光度計(商品名“SYSTEM2000”、PerkinElmer社)で測定し、900cm-1付近のO−O結合のピークの有無を確認した。
酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分濃度は、過酸化水素吸光光度法によって測定した。具体的には、酸化チタン微粒子分散液を硫酸酸性としてペルオキソチタン成分と反応、呈色させた後、紫外可視近赤外分光光度計(商品名“LAMBDA950”、Perkin Elmer社)を用いて410nmの波長の強度を測定し、Ti標準液との相対強度から算出した。
銅含有酸化チタン乾燥粉末に対し、UV−LED(商品型番“HLDL−432×336UV365−FN”、シーシーエス(株))で、該サンプル表面での紫外線強度が3mW/cm2、ピーク波長365nmになるように調整した紫外光を200時間照射した。
銅含有酸化チタン乾燥粉末を電気炉にて500℃下2時間熱暴露した。
銅含有酸化チタンのCu配位状態の評価には、X線吸収分光法(XAS)を用いた。即ち、以下のa)〜c)の手順に従い、財団法人高輝度光科学センターの大型放射光施設SPring−8のビームラインBL14B2を用い、備え付けの透過法測定ユニットを使用してCu−K殻吸収端のXAFS(X線吸収端微細構造)スペクトル測定を行った。
a)試料調製:
各試料すべて乾燥粉末にし、厚さ0.5mmのペレットにした際に吸収係数μtが1となるように、所定量のBN(窒化ホウ素、関東化学製試薬グレード)と混合し、錠剤成型機にて厚さ0.5mmのペレットに成型した。
b)測定:
上記ペレットを透明PP袋に封入し、BL14B2のハッチ内オートサンプラーに全てセットし、8,800〜9,600eV近傍のX線吸収スペクトルを透過法にてすべて測定した。
c)解析:
得られたスペクトルデータは、IfeFFitのGUIフロントエンド“Athena”,“Artemis”を使用して解析した。XANES領域はスペクトル比較評価とし、特にスペクトルの8,970〜9,000eVの範囲内に認められる吸収スペクトルの極大ピークについて、劣化処理前と比較して相対吸収量が0.1以上変化せず、かつ吸収エネルギー値が元の5%以上変化しない場合に○、いずれかを満たさずにスペクトル変化が認められた場合には×と記載した。
EXAFS関数k3χ(k)については高速フーリエ変換によって動径構造関数を得、Cuの第二配位圏2から3Å内に認められるピークの位置をブランクと比較評価した。
分散液を塗布、乾燥することで作製した光触媒薄膜の活性を、アセトアルデヒドガスの分解反応により評価した。評価はバッチ式ガス分解性能評価法により行った。
具体的には、容積5Lの石英ガラス窓付きステンレス製セル内にA4サイズのPETフィルム上に50mgの光触媒薄膜を形成した評価用サンプルを設置したのち、該セルを湿度50%に調湿した濃度5ppmのアセトアルデヒドガスで満たし、該セル上部に設置したLED(商品型番“TH−211×200SW”、シーシーエス(株)、分光分布:400〜800nm)で照度30,000LUXになるように光を照射した。薄膜上の光触媒によりアセトアルデヒドガスが分解すると、該セル中のアセトアルデヒドガス濃度が低下する。そこで、その濃度を測定することで、アセトアルデヒドガス分解量を求めることができる。アセトアルデヒドガス濃度は光音響マルチガスモニタ(商品名“INNOVA1412”、LumaSense社製)を用いて測定し、12時間照射後の残存アセトアルデヒドガス濃度を比較することで評価した。
上記(7)で作製した評価用サンプルをUV−LED(商品型番“HLDL−432×336UV365−FN”、シーシーエス(株))で、該サンプル表面での紫外線強度が3mW/cm2になるように調整した紫外光を200時間照射した。
200時間照射後のサンプルのLED照射下でのアセトアルデヒドガス分解性能試験を上記(7)と同様に実施し、UV曝露前と曝露後のサンプルの分解率を比較し、次の基準で評価した。
UV曝露前サンプルのアセトアルデヒドガス分解割合−UV曝露後サンプルのアセトアルデヒドガス分解割合
良好(○と表示) ・・・ 差が30%以下。
やや不良(△と表示)・・・ 差が30%を超え、50%以下。
不良(×と表示) ・・・ 差が50%を超える。
<酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液(α)の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(t−i)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(t−i)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、銅含有酸化チタン微粒子分散液(T−i)を得た。
こうして得られた銅含有酸化チタン微粒子分散液(T−i)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。また、酸化チタン微粒子分散液を100℃で加熱乾燥することにより、酸化チタン乾燥粉末を得ると共に、そのままのもの、上述の紫外線暴露したもの、及び上述の熱暴露したものについて、それぞれXAFSスペクトルの測定を行った。
こうして得られた酸化タングステン微粒子分散液(W−i)から、酸化タングステン微粒子の平均粒子径の測定を行った。
大腸菌に対する抗菌力試験では抗菌活性値Rが3.52、黄色ブドウ球菌に対する抗菌力試験では抗菌活性値Rが5.17であり、高い抗菌性を示した。
<酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液(β)の調製>
銅含有酸化チタン微粒子分散液(T−i)と酸化タングステン微粒子分散液(W−i)との混合比(質量比)を(T−i):(W−i)=90:10となるように混合した以外は、実施例1と同様にして、酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液(β)を得て、光触媒活性評価を行った。
<酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液(γ)の調製>
銅含有酸化チタン微粒子分散液(T−i)と酸化タングステン微粒子分散液(W−i)との混合比(質量比)を(T−i):(W−i)=30:70となるように混合した以外は、実施例1と同様にして、酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液(γ)を得て、光触媒活性評価を行った。
<酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液(δ)の調製>
酸化タングステン微粒子(W−i)に代えて、ルミレッシュ(W−ii)(Cu/WO3系光触媒、昭和電工(株)製、固形分濃度1wt%)を使用した以外は、実施例1と同様にして、酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液(δ)を得て、光触媒活性評価を行った。
<酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒分散液(ε)の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が200となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(t−ii)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(t−ii)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(T−ii)を得た。
こうして得られた酸化チタン微粒子分散液(T−ii)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。また、酸化チタン微粒子分散液を100℃で加熱乾燥することにより、酸化チタン乾燥粉末を得ると共に、そのままのもの、上述の紫外線暴露したもの、及び上述の熱暴露したものについて、それぞれXAFSスペクトルの測定を行った。
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液を純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄色透明のペルオキソチタン酸溶液(t−iii)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(t−iii)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(T−iii)を得た。
こうして得られた酸化チタン微粒子分散液(T−iii)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。
銅含有酸化チタン微粒子分散液(T−i)の光触媒活性評価を実施例1と同様に行った。
酸化タングステン微粒子分散液(W−i)の光触媒活性評価を実施例1と同様に行った。
酸化タングステン微粒子分散液(W−i)に、塩化銅(II)をW/Cu(モル比)が20となるように添加して、酸化タングステン微粒子分散液(W−iii)を得て、光触媒活性評価を実施例1と同様に行った。
酸化チタン微粒子分散液(T−iii)と酸化タングステン微粒子分散液(W−i)とを質量比で(T−iii):(W−i)=50:50となるように混合することにより、光触媒微粒子分散液(ζ)を得て、光触媒活性評価を実施例1と同様に行った。
ペルオキソチタン酸溶液(t−i)を、0.5MPa下、150℃、420分間水熱処理したこと以外は、実施例1と同様に銅含有酸化チタン微粒子分散液(T−iv)を得た。
こうして得られた酸化チタン微粒子分散液(T−iv)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。
Claims (10)
- 水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)酸化タングステン微粒子との2種類の光触媒微粒子が分散されている酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液であって、
i)の酸化チタン微粒子中に銅成分が固溶されており、
銅含有酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分の含有量が、酸化チタン微粒子の全量に対して0.05〜2質量%であり、
i)の酸化チタン微粒子及びii)の酸化タングステン微粒子の分散径が、レーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で、それぞれ5〜30nm及び5〜1,000nmであって、
可視光(400〜800nm)のみでも光触媒活性を発現することを特徴とする酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。 - i)の酸化チタン微粒子中の銅成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Cu)で1〜1,000であることを特徴とする請求項1に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
- i)の酸化チタン微粒子に、3mW/cm2、ピーク波長365nmの紫外線を200時間照射するか、又は500℃下2時間加熱して劣化処理した後であっても、前記劣化処理前に対して、
エネルギー9,000eV近傍のCu−K端XAFS(X線吸収端微細構造)スペクトルの測定において、
1)XANES(X線吸収端近傍構造)スペクトルの8,970〜9,000eVの範囲内に認められる吸収スペクトルの極大ピークについて、相対吸収量が0.1以上変化せず、かつ吸収エネルギー値が5%以上変化せず、
2)同測定結果のk3χ(k)Cu−K端EXAFS(広域X線吸収微細構造)スペクトルを高速フーリエ変換して得られる動径構造関数において、Cuの第1〜第2配位圏と判断される2〜3Åの範囲内の極大ピーク位置が5%以上変化しないこと
の2つを同時に満たすことを特徴とする請求項1又は2に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。 - 更に、バインダーを含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
- バインダーが、ケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする請求項4に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
- ケイ素化合物系バインダーが、固体状又は液体状のケイ素化合物を水性分散媒中に含んでなるケイ素化合物の、コロイド分散液、溶液又はエマルジョンであって、コロイダルシリカ;ケイ酸塩類溶液;シラン、シロキサン加水分解物エマルジョン;シリコーン樹脂エマルジョン;シリコーン樹脂とアクリル樹脂又はウレタン樹脂との共重合体のエマルジョンから選ばれるものであることを特徴とする請求項5に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材。
- (1)原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、0.12〜4.5MPa下、80〜250℃で1〜300分間加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(3)上記(2)の工程で製造した銅含有酸化チタン微粒子分散液と、酸化タングステン微粒子分散液とを混合する工程
を有する酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法であって、
上記(2)の工程の酸化チタン微粒子中に銅成分が固溶されており、
上記(2)の工程の銅含有酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分の含有量が、酸化チタン微粒子の全量に対して0.05〜2質量%であり、
上記(3)の工程の酸化チタン微粒子及び酸化タングステン微粒子の分散径が、レーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で、それぞれ5〜30nm及び5〜1,000nmであって、
可視光(400〜800nm)のみでも光触媒活性を発現することを特徴とする酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。 - 上記(3)の工程で使用する酸化タングステン微粒子分散液が、ビーズミルにより、酸化タングステン粉末を水性分散媒中で微粉砕・分散させて製造したものであることを特徴とする請求項8に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。
- ビーズミルに使用されるビーズが、直径5〜100μmのジルコニア製球状ビーズであることを特徴とする請求項9に記載の酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013215381 | 2013-10-16 | ||
| JP2013215381 | 2013-10-16 | ||
| PCT/JP2014/075857 WO2015056556A1 (ja) | 2013-10-16 | 2014-09-29 | 酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2015056556A1 JPWO2015056556A1 (ja) | 2017-03-09 |
| JP6237780B2 true JP6237780B2 (ja) | 2017-11-29 |
Family
ID=52828005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015542561A Active JP6237780B2 (ja) | 2013-10-16 | 2014-09-29 | 酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9833776B2 (ja) |
| JP (1) | JP6237780B2 (ja) |
| KR (1) | KR102170489B1 (ja) |
| CN (1) | CN105636689B (ja) |
| TW (1) | TWI637788B (ja) |
| WO (1) | WO2015056556A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107427818B (zh) * | 2015-03-23 | 2021-02-02 | 信越化学工业株式会社 | 可见光响应型光催化氧化钛微粒分散液、其制造方法和在表面具有光催化薄膜的构件 |
| JP2018168008A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 富士ゼロックス株式会社 | 酸化チタン粒子、酸化チタン粒子の製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、及び構造体 |
| EP3673995A4 (en) * | 2017-08-22 | 2020-09-09 | Mitsubishi Electric Corporation | PHOTOCATALYZER, PHOTOCATALYZER SUPPORT, PHOTOCATALYZER MANUFACTURING PROCESS AND PHOTOCATALYZER SUPPORT MANUFACTURING PROCESS |
| JP7000753B2 (ja) | 2017-09-08 | 2022-01-19 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 酸化チタンエアロゲル粒子、酸化チタンエアロゲル粒子の製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、及び構造体 |
| US10538434B2 (en) | 2017-09-08 | 2020-01-21 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Titanium oxide aerogel particle, photocatalyst forming composition, and photocatalyst |
| DE102017121439A1 (de) * | 2017-09-15 | 2019-03-21 | Hecosol Gmbh | Anti-mikrobielle Beschichtung |
| JP6953965B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2021-10-27 | 信越化学工業株式会社 | 抗菌・抗カビ性を有する光触媒・合金微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒・合金薄膜を表面に有する部材 |
| CN107917351A (zh) * | 2017-10-27 | 2018-04-17 | 中山市汉庭照明科技有限公司 | 一种具有除甲醛效果的 led 灯泡及制备方法 |
| CN108373577A (zh) * | 2018-02-27 | 2018-08-07 | 张家港外星人新材料科技有限公司 | 含微粒、增塑剂、助溶剂和至少四种助剂的分散液及制法 |
| JP7190265B2 (ja) * | 2018-06-19 | 2022-12-15 | シャープ株式会社 | 光触媒コート剤、光触媒コート剤の製造方法、及び光触媒担持磁性体 |
| JP7096743B2 (ja) * | 2018-09-13 | 2022-07-06 | 株式会社東芝 | 光触媒複合材料、光触媒複合材料の製造方法および光触媒装置 |
| CN110193283A (zh) * | 2019-05-15 | 2019-09-03 | 上海杉盛空气净化技术有限公司 | 一种全光谱光催化空气净化液及其制备方法 |
| US20220395439A1 (en) * | 2019-11-22 | 2022-12-15 | Medipool Co., Ltd. | Antibacterial deodorant composition and production method therefor |
| JP7089785B2 (ja) * | 2019-12-06 | 2022-06-23 | 株式会社イリス | 親水性材料の製造方法 |
| JP7328165B2 (ja) * | 2020-03-11 | 2023-08-16 | シャープ株式会社 | 光触媒分散液、光触媒被覆部材、光触媒フィルタ及び光触媒層の形成方法 |
| KR20220052481A (ko) * | 2020-10-21 | 2022-04-28 | 성균관대학교산학협력단 | 이산화티타늄 복합체 및 이의 제조 방법 |
| JP7549519B2 (ja) * | 2020-12-21 | 2024-09-11 | シャープ株式会社 | フィルム |
| CN113087966B (zh) * | 2021-03-30 | 2022-04-26 | 浙江华帅特新材料科技有限公司 | 红外线吸收剂分散液、透明隔热有机玻璃及其制造方法 |
| JP7044442B1 (ja) * | 2021-08-18 | 2022-03-30 | 株式会社三井E&Sマシナリー | 触媒塗膜形成材料が形成されたステンレス金属シート、ステンレス金属配管及び尿素scr排ガス処理装置 |
| CN117800396B (zh) * | 2023-12-29 | 2026-04-24 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种WO3/TiO2复合材料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0733255B2 (ja) | 1986-09-22 | 1995-04-12 | 石原産業株式会社 | チタニアゾル及びその製造方法 |
| JP2820251B2 (ja) | 1986-10-29 | 1998-11-05 | 触媒化成工業株式会社 | 酸化チタンゾル |
| JP2783417B2 (ja) | 1989-03-30 | 1998-08-06 | 触媒化成工業株式会社 | ルチル型酸化チタンゾルの製造法 |
| JPH0737363B2 (ja) | 1992-08-19 | 1995-04-26 | 工業技術院長 | 抗菌抗カビ性セラミックス及びその製造方法 |
| JPH06279725A (ja) | 1993-03-24 | 1994-10-04 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 酸化チタン分散液の製造方法 |
| JP2852487B2 (ja) | 1994-03-15 | 1999-02-03 | 石原産業株式会社 | 二酸化チタン水性分散体 |
| JP2776259B2 (ja) | 1994-08-31 | 1998-07-16 | 松下電工株式会社 | 抗菌性無機塗料 |
| JP2875993B2 (ja) | 1996-05-07 | 1999-03-31 | 佐賀県 | アナターゼ分散液およびその製造方法 |
| JP4979151B2 (ja) | 1998-02-19 | 2012-07-18 | アスカテック株式会社 | 抗菌・脱臭材料およびその製造方法 |
| JP2002177775A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-25 | Himeka Engineering Kk | 可視光反応型光触媒とその製造方法 |
| TW200422260A (en) * | 2002-11-07 | 2004-11-01 | Sustainable Titania Technology | Titania-metal complex and method for preparation thereof, and film forming method using dispersion comprising the complex |
| JP4483172B2 (ja) | 2002-12-05 | 2010-06-16 | 住友化学株式会社 | 酸化チタン分散液 |
| JP4540971B2 (ja) | 2003-12-05 | 2010-09-08 | 石原産業株式会社 | 中性酸化チタンゾルおよびその製造方法 |
| JP2006021991A (ja) * | 2004-06-09 | 2006-01-26 | Kansai Paint Co Ltd | 金属ドープ酸化チタン微粒子の製造方法 |
| JP5147176B2 (ja) | 2005-11-08 | 2013-02-20 | 日揮触媒化成株式会社 | 抗菌剤 |
| CN101448742B (zh) * | 2007-07-27 | 2013-01-09 | 新加坡科技研究局 | 含有二氧化钛和过氧化钛络合物的颗粒的溶液及其制备 |
| CN101406836A (zh) * | 2007-10-09 | 2009-04-15 | 住友化学株式会社 | 光催化体分散液及其制造方法 |
| JP4730400B2 (ja) * | 2007-10-09 | 2011-07-20 | 住友化学株式会社 | 光触媒体分散液 |
| JP5161555B2 (ja) | 2007-12-20 | 2013-03-13 | 住友化学株式会社 | 酸化タングステン光触媒体の製造方法 |
| JP4977051B2 (ja) | 2008-01-30 | 2012-07-18 | テイカ株式会社 | 中性領域で安定な酸化チタン分散液 |
| JP5775248B2 (ja) | 2008-03-21 | 2015-09-09 | 国立大学法人 東京大学 | 光触媒材料、有機物分解方法、内装部材、空気清浄装置、酸化剤製造装置 |
| JP5142081B2 (ja) * | 2008-06-18 | 2013-02-13 | 信越化学工業株式会社 | 酸化チタン系光触媒薄膜の製造法 |
| JP2010274142A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-12-09 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 光触媒粒子の分散液及びその製法 |
| KR20120024606A (ko) * | 2009-05-01 | 2012-03-14 | 사스티나부르 . 테크노로지 가부시키가이샤 | 광투과성 기체의 투과 가시광량 증가제 및 그것을 이용한 고광투과성 기체의 제조 방법 |
| JP5710444B2 (ja) | 2011-10-17 | 2015-04-30 | 本田技研工業株式会社 | 光触媒及びその製造方法 |
| JP5655827B2 (ja) * | 2011-11-14 | 2015-01-21 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型酸化チタン微粒子分散液、その製造方法及び該分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材 |
-
2014
- 2014-09-29 CN CN201480056745.8A patent/CN105636689B/zh active Active
- 2014-09-29 WO PCT/JP2014/075857 patent/WO2015056556A1/ja not_active Ceased
- 2014-09-29 KR KR1020167012348A patent/KR102170489B1/ko active Active
- 2014-09-29 JP JP2015542561A patent/JP6237780B2/ja active Active
- 2014-09-29 US US15/029,902 patent/US9833776B2/en active Active
- 2014-10-13 TW TW103135369A patent/TWI637788B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201529158A (zh) | 2015-08-01 |
| WO2015056556A1 (ja) | 2015-04-23 |
| CN105636689A (zh) | 2016-06-01 |
| US9833776B2 (en) | 2017-12-05 |
| KR20160071420A (ko) | 2016-06-21 |
| TWI637788B (zh) | 2018-10-11 |
| CN105636689B (zh) | 2018-11-02 |
| JPWO2015056556A1 (ja) | 2017-03-09 |
| US20160250621A1 (en) | 2016-09-01 |
| KR102170489B1 (ko) | 2020-10-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6237780B2 (ja) | 酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 | |
| JP5896034B2 (ja) | 可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 | |
| JP5655827B2 (ja) | 可視光応答型酸化チタン微粒子分散液、その製造方法及び該分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材 | |
| TWI732752B (zh) | 可見光應答型光觸媒氧化鈦微粒子分散液、其製造方法、及於表面具有光觸媒薄膜之構件 | |
| US8986580B2 (en) | Visible-light-responsive titanium oxide microparticle dispersion, and process for production thereof | |
| JP5447178B2 (ja) | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液及びその製造方法 | |
| TW202102442A (zh) | 氧化鈦微粒子混合物、其分散液、光觸媒薄膜、表面具有光觸媒薄膜之構件及氧化鈦微粒子分散液之製造方法 | |
| JP5212353B2 (ja) | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 | |
| TW202102441A (zh) | 氧化鈦微粒子、其分散液及該分散液之製造方法 | |
| JP5447177B2 (ja) | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液及びその製造方法 | |
| JP5633571B2 (ja) | ルチル型酸化チタン微粒子分散液の製造方法 | |
| JP5282735B2 (ja) | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 | |
| CN116113494A (zh) | 氧化钛粒子、其分散液、光催化剂薄膜、表面具有光催化剂薄膜的构件和氧化钛粒子分散液的制造方法 | |
| JP5741490B2 (ja) | アナターゼ型酸化チタン微粒子分散液の製造方法 | |
| JP2013129586A (ja) | ルチル型酸化チタン微粒子分散液の製造方法及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161205 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170509 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170623 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171003 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171016 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6237780 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
