JP6331676B2 - 画像形成装置 - Google Patents
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Description
図10は、一般的な回転多面鏡の一の反射面に照射された光ビームによる線像を示す図である。図10において、X軸方向は反射面に垂直な方向を示す。
図9に示すように、回転多面鏡230は、光源から射出された光ビームの光束231を反射面(走査面)で反射し、反射後の光ビームの光束232として偏向する。光ビームは回転多面鏡230の反射面の中央付近(一点鎖線部分)の主走査方向に長さ数mm程度の線像233として結像され、その後、線像233の位置が回転多面鏡230の回転に伴い走査面の主走査方向に移動する。これにより、感光体の主走査方向に光ビームが走査される。
図11に示すように、アンダーフィルド光学系では、入射光束201の幅は回転多面鏡200における反射面の主走査方向の幅(長さ)よりも狭く(反射面幅>光束幅)、感光体の像高により、同一反射面内で入射光束201の走査位置が異なる。ここで像高とは、感光体に照射された光ビームの、感光体の基準位置(例えば露光開始位置)から主走査方向に離れた距離である。図11に示すように、偏向角が0°の時、入射光束201が反射面の中央付近に照射され、反射光束202は入射光束201と逆向きに反射する。偏向角が任意のθ°の時には、回転多面鏡200がθ°回転し、その回転に伴い入射光束201が反射する位置は反射面の中央付近から離れた位置に移動する。すなわち、回転多面鏡200は、像高に応じて反射面の一部を用いて光ビームの偏光を行うため、像高ごとに反射面の反射条件が異なる。
図13は、回転多面鏡の反射面が理想的な平面である場合の説明図であり、図13Aは反射面の主走査方向の中心を原点とした位置[mm]と反射面の基準平面位置を原点とした高さ方向(X軸方向)の誤差[nm]との関係例を示すグラフを示し、図13Bは感光体の被走査面に形成されるビームスポット形状を示し、図13Cは出力画像の例を示す。
図14は、回転多面鏡の反射面に凹凸がある場合の説明図であり、図14Aは反射面の主走査方向の位置[mm]と高さ方向(X軸方向)の誤差[nm]との関係例を示すグラフを示し、図14Bは被走査面でのビームスポット形状を示し、図14Cは出力画像の例を示す。
また、回転多面鏡の光ビームを反射している反射面を特定する反射面特定部と、回転多面鏡の各反射面の主走査方向における表面の状態に応じて求められた、各反射面の主走査方向の位置と対応する感光体の像高と各反射面に射出される光ビームの光量を補正する光量補正値とを対応づけた光量補正データを記憶する記憶部と、を備える。
さらに、記憶部から光量補正データを読み出し、読み出された光量補正データに基づいて、像高ごとに光源から射出される光ビームの光量を調整する制御部を備える。
[画像形成装置の構成例]
まず、本発明の一実施の形態に係る画像形成装置の概要について、図1を参照して説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係る画像形成装置を示す全体構成図である。
図2は、露光部43の光学系を示す構成図である。
図3は、露光部43が備える回転多面鏡の説明に供する図であり、図3Aは回転多面鏡の反射面を特定する方法の説明図を示し、図3Bは回転多面鏡の斜視図を示す。
入射光学系62は、例えば光源61から射出された光ビームを平行光に変換するコリメータレンズ、光ビームを線状に集光するシリンダレンズ等により構成される。
回転多面鏡63は、回転中心軸に垂直な断面の形状が正多角形であり、正多角形の辺に垂直であって、同一形状の複数の反射面を有するいわゆるポリゴンミラーである。図2の例では、一例として6つの反射面を有するポリゴンミラーを例示しているが、反射面の数はこの例に限られない。光ビームは回転多面鏡63の反射面で反射される。回転多面鏡63が等速回転することによって光ビームが偏向走査される。露光部43は、アンダーフィルド方式で動作する。すなわち、回転多面鏡63における反射面の主走査方向の幅が、該反射面に入射する光束幅よりも広い。
反射ミラー65は、走査光学系64と感光体41の間であって、感光体41の主走査方向への露光走査の開始位置に近い側と回転多面鏡63を結ぶ直線上又はその近傍に配置されている。反射ミラー65は、走査光学系64を介して回転多面鏡63により偏向された光ビームを、書き始め同期センサ66へ向けて反射する。
クリーニング部45は、トナー画像が中間転写ベルト50に転写された後に、感光体41の表面に残留しているトナーを除去する。
両面画像形成を行う場合は、切換ゲート24によって用紙を下方に案内した後に、用紙反転搬送部26によって表裏を反転し、再給紙路27により再び2次転写部70の転写位置へ送られる。
次に、画像形成装置1の制御系について、図4を参照して説明する。
図4は、画像形成装置1の制御系を示すブロック図である。
また、CPU101は、書き始め同期センサ66から検出信号を受信した時間と、その検出信号を受信してからクロック発生部101aが発生したクロック信号のカウント値に基づき、書き始め同期センサ66から検出信号を受信してからの経過時間を算出する。そして、書き始め同期センサ66から検出信号を受信してからの経過時間と、露光部43の主走査方向への走査速度に基づいて、現在の反射面における光ビームの主走査方向の位置(像高)を特定する。
図5は、回転多面鏡63の反射面及び像高ごとの光量補正値を、メモリ43mに格納する処理を示すフローチャートである。以下の処理は、一例として画像形成装置1の製造段階で行われる。
図6は、反射面における光ビーム強度の説明に供する図である。図6Aは回転多面鏡の反射面に凹凸(高低差)がある場合における光ビームの反射面の主走査方向の位置と光ビーム強度との関係を示すグラフを示し、図6Bは回転多面鏡の反射面が理想的な平面である場合における光ビームの反射面の主走査方向の位置と光ビーム強度との関係を示すグラフを示す。なお、図6A,図6Bにおいて、横軸は主走査方向の位置、縦軸は光ビームの強度を示す。また図6A,図6Bでは、横軸と縦軸のそれぞれの数値を正規化して表している。
以下、画像形成装置1が画像を形成する際の動作を説明する。
図7は、画像形成装置1による画像形成処理を示すフローチャートである。
CPU101は、ROM102に記録されたプログラムを実行することで、図7に示す処理を実現する。
図8に示す光ビームの強度分布93は、図6Aに例示した凹凸を有する反射面に照射する光ビームの光量を補正して得られた光ビームの強度分布である。光量補正後の光ビームの強度分布93は、強度が現像しきい値92を超える領域の面積が、理想的な平面の反射面における光ビームの強度分布91(図6B)と同等となるように補正が行われた結果、第1のピーク部93a及び第2のピーク部93bの強度が減少している。また、濃度むらの原因であった光ビームの強度分布90(図6A)の第2のピーク部90bに対応する第2のピーク部93bは、強度が現像しきい値92に近い値となり、この部分の現像後のトナー濃度が薄くなる。そして、光ビームの強度分布91に対応するビームスポットでは、その強度が現像しきい値92を超える領域の面積が、理想的な平面の反射面における光ビームの強度分布91と同等であるため、濃度むらが低減される。
Claims (3)
- 感光体を露光するための光ビームを射出する光源と、
前記光源から射出された光ビームが移動する主走査方向の長さが、前記光ビームにより形成される光束幅よりも長い反射面を複数有し、回転しながら、前記光源から射出された光ビームを前記反射面によって反射させて前記感光体を走査する回転多面鏡と、
前記回転多面鏡の前記光ビームを反射している反射面を特定する反射面特定部と、
前記回転多面鏡の各反射面の前記主走査方向における表面の状態に応じて求められた、各反射面の主走査方向の位置と対応する前記感光体の像高と各反射面に射出される前記光ビームの光量を補正する光量補正値とを対応づけた光量補正データを記憶する記憶部と、
前記記憶部から前記光量補正データを読み出し、読み出された前記光量補正データに基づいて、前記像高ごとに前記光源から射出される前記光ビームの光量を調整する制御部と、を備え、
前記光量補正値は、予め測定した前記回転多面鏡の各反射面の前記主走査方向における表面の状態から求められた、前記反射面ごとに、前記感光体の主走査方向に形成される光ビームのビームスポットの強度分布における現像しきい値以上である領域の面積が、前記反射面が理想的な平面である場合に前記感光体の主走査方向に形成される光ビームのビームスポットの強度分布における前記現像しきい値以上である領域の面積と同等となるように算出される
画像形成装置。 - 前記光量補正値は、前記反射面ごとに、前記感光体の主走査方向に形成される光ビームのビームスポットの強度分布の第1のピーク部、及び前記第1のピーク部よりも小さい第2のピーク部における前記現像しきい値以上である領域の面積が、前記反射面が理想的な平面である場合に前記感光体の主走査方向に形成される光ビームのビームスポットの強度分布における前記現像しきい値以上である領域の面積と同等となるように算出される
請求項1に記載の画像形成装置。 - 前記制御部は、前記光源から射出される前記光ビームの強度もしくは射出時間を変更することで前記像高ごとの光量を調整する
請求項1又は2に記載の画像形成装置。
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