JP6512231B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6512231B2
JP6512231B2 JP2017013673A JP2017013673A JP6512231B2 JP 6512231 B2 JP6512231 B2 JP 6512231B2 JP 2017013673 A JP2017013673 A JP 2017013673A JP 2017013673 A JP2017013673 A JP 2017013673A JP 6512231 B2 JP6512231 B2 JP 6512231B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
thickness
heat sink
joined
joint
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017013673A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018121037A (ja
Inventor
智 高萩
智 高萩
卓矢 門口
卓矢 門口
裕治 花木
裕治 花木
祥 舟野
祥 舟野
真悟 岩崎
真悟 岩崎
崇功 川島
崇功 川島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Motor Corp filed Critical Toyota Motor Corp
Priority to JP2017013673A priority Critical patent/JP6512231B2/ja
Priority to US15/855,210 priority patent/US10396008B2/en
Priority to CN201810072185.5A priority patent/CN108428685B/zh
Priority to DE102018101829.0A priority patent/DE102018101829B4/de
Publication of JP2018121037A publication Critical patent/JP2018121037A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6512231B2 publication Critical patent/JP6512231B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W40/00Arrangements for thermal protection or thermal control
    • H10W40/20Arrangements for cooling
    • H10W40/22Arrangements for cooling characterised by their shape, e.g. having conical or cylindrical projections
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W40/00Arrangements for thermal protection or thermal control
    • H10W40/20Arrangements for cooling
    • H10W40/22Arrangements for cooling characterised by their shape, e.g. having conical or cylindrical projections
    • H10W40/226Arrangements for cooling characterised by their shape, e.g. having conical or cylindrical projections characterised by projecting parts, e.g. fins to increase surface area
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W40/00Arrangements for thermal protection or thermal control
    • H10W40/70Fillings or auxiliary members in containers or in encapsulations for thermal protection or control
    • H10W40/77Auxiliary members characterised by their shape
    • H10W40/778Auxiliary members characterised by their shape in encapsulations
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/411Chip-supporting parts, e.g. die pads
    • H10W70/417Bonding materials between chips and die pads
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/461Leadframes specially adapted for cooling
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/464Additional interconnections in combination with leadframes
    • H10W70/466Tape carriers or flat leads
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/481Leadframes for devices being provided for in groups H10D8/00 - H10D48/00
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/30Die-attach connectors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/811Multiple chips on leadframes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/073Connecting or disconnecting of die-attach connectors
    • H10W72/07331Connecting techniques
    • H10W72/07334Using a reflow oven
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/073Connecting or disconnecting of die-attach connectors
    • H10W72/07331Connecting techniques
    • H10W72/07336Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/073Connecting or disconnecting of die-attach connectors
    • H10W72/07351Connecting or disconnecting of die-attach connectors characterised by changes in properties of the die-attach connectors during connecting
    • H10W72/07354Connecting or disconnecting of die-attach connectors characterised by changes in properties of the die-attach connectors during connecting changes in dispositions
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/076Connecting or disconnecting of strap connectors
    • H10W72/07631Techniques
    • H10W72/07636Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/30Die-attach connectors
    • H10W72/341Dispositions of die-attach connectors, e.g. layouts
    • H10W72/347Dispositions of multiple die-attach connectors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/30Die-attach connectors
    • H10W72/351Materials of die-attach connectors
    • H10W72/352Materials of die-attach connectors comprising metals or metalloids, e.g. solders
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/30Die-attach connectors
    • H10W72/381Auxiliary members
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/10Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition
    • H10W74/111Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition the semiconductor body being completely enclosed
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W76/00Containers; Fillings or auxiliary members therefor; Seals
    • H10W76/10Containers or parts thereof
    • H10W76/12Containers or parts thereof characterised by their shape
    • H10W76/13Containers comprising a conductive base serving as an interconnection
    • H10W76/138Containers comprising a conductive base serving as an interconnection having another interconnection being formed by a cover plate parallel to the conductive base, e.g. sandwich type
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/731Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors
    • H10W90/736Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/761Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of strap connectors
    • H10W90/766Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of strap connectors between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Description

本明細書が開示する技術は、半導体装置に関する。特に、2個の半導体素子を封止しているとともに、夫々の半導体素子の電極と導通している金属板が露出している半導体装置に関する。
2個の半導体素子を封止しているとともに、夫々の半導体素子の電極と導通している金属板が露出している半導体装置が知られている。例えば、特許文献1、2にそのような半導体装置が開示されている。半導体素子は、その両面に電極を備えている。一対の金属板が半導体素子を挟み込んでおり、夫々の電極に一対の金属板の夫々がハンダで接合されている。なお、「電極と金属板がハンダで接合されている」とは、電極とスペーサがハンダで接合され、そのスペーサの反対側で金属板がハンダで接合されている場合を含む。2個の半導体素子は樹脂パッケージに封止されている。一対の金属板は夫々の一方の面が樹脂パッケージから露出しており、放熱板の役割を果たす。説明の便宜上、2個の半導体素子を夫々、第1半導体素子、第2半導体素子と称する。第1半導体素子を挟み込んでいる一対の金属板を第1及び第2金属板と称し、第2半導体素子を挟み込んでいる一対の金属板を第3及び第4金属板と称する。第1金属板と第3金属板が樹脂パッケージの一方の面に露出しており、第2金属板と第4金属板が反対側の面に露出している。2個の半導体素子を電気的に接続するため、第1金属板の縁から第1継手が延びており、第1金属板とは反対側で樹脂パッケージから露出している第4金属板の縁から第2継手が延びており、両方の継手が樹脂パッケージの内部にてハンダで接合されている。
特開2015−170810号公報 特開2012−235081号公報
上記した半導体装置では、第1及び第2金属板の間にハンダが介在するとともに、第3及び第4金属板の間にもハンダが介在する。樹脂パッケージの両面の夫々に露出する第1及び第4金属板の縁から継手が延びており、それらがハンダで接合される。ハンダは凝固時に収縮する。金属板と半導体素子を接合する際、第1及び第2金属板の間でハンダが収縮し、第3及び第4金属板の間のハンダも収縮する。第1及び第4金属板の縁から延びている継手の間のハンダも収縮する。一対の金属板の間のハンダの合計の厚みと、継手の間のハンダの厚みが相違すると、収縮量が相違し、継手を備えた金属板が傾いてしまうおそれがある。近年は半導体素子の小型化が進み、電極面積も小さくなってきている。それゆえ、電極と金属板の接合面積と継手同士の接合面積の差が小さくなってきており、ハンダの厚みの相違による金属板の傾きが顕在化する傾向にある。ハンダの収縮に伴う金属板の傾斜を抑制する技術が望まれている。
本明細書が開示する半導体装置は、第1及び第2半導体素子と、第1−第4金属板と、樹脂パッケージを備えている。第1及び第2半導体素子の夫々は、両面に電極を備えている。第1及び第2金属板は、第1半導体素子を挟んでおり、夫々の金属板が第1半導体素子の夫々の電極とハンダで接合されている。第3及び第4金属板は、第2半導体素子を挟んでおり、夫々の金属板が第2半導体素子の夫々の電極とハンダで接合されている。樹脂パッケージは、第1半導体素子と第2半導体素子を封止している。樹脂パッケージの一面には第1金属板と第3金属板が露出しており、反対面には第2金属板と第4金属板が露出している。第1金属板の縁から第1継手が延びており、第2金属板の縁から第2継手が延びている。第1継手と第2継手が、第1金属板と第1半導体素子の積層方向からみて重なっており、両継手は樹脂パッケージの内部にてハンダで接合されている。説明の便宜上、第1金属板と第2金属板の間のハンダを第1ハンダと称し、第3金属板と第4金属板の間のハンダを第2ハンダと称し、第1継手と第2継手の間のハンダを第3ハンダと称する。第1ハンダの合計の厚みと、第3ハンダの厚みが異なっており、厚みの小さい方のハンダの凝固点が、厚みの大きい方のハンダの凝固点よりも高い。さらに、第2ハンダの合計の厚みと、第3ハンダの厚みが異なっており、厚みの小さい方のハンダの凝固点が、厚みの大きい方のハンダの凝固点よりも高い。
上記したハンダの厚みと凝固点の関係から、全てのハンダを加熱した後に冷却すると、厚みの薄い方のハンダ(凝固点の高いハンダ)が厚い方のハンダ(凝固点の低いハンダ)よりも先に凝固する。仮に、第1ハンダ(第2ハンダ)の厚みが第3ハンダの厚みよりも小さければ、継手の間のハンダ(第3ハンダ)が凝固する前に対向する金属板の間のハンダ(第1ハンダ又は第2ハンダ)が凝固する。継手の間のハンダが凝固する前に、即ち、継手同士が接合して拘束される前に、対向する金属板の間のハンダが凝固するので、対向する金属板は平行を維持したまま接合される。他方、第3ハンダの厚みが第1ハンダ(第2ハンダ)の厚みよりも小さければ、継手同士の間のハンダ(第3ハンダ)が対向する金属板間のハンダ(第1又は第2ハンダ)よりも先に収縮凝固する。このとき、継手の間のハンダ(第3ハンダ)は厚みが小さいので収縮量も小さく、継手を備える金属板の傾きに与える影響を抑えることができる。
なお、厚みの大きい方のハンダが先に収縮凝固してしまうと、その大きな収縮量により、凝固前の厚みの小さい方のハンダの厚みがさらに薄くなってしまい、十分なハンダ厚みを確保できないおそれがある。さらには、ハンダ厚みがゼロとなり、金属板と半導体素子、あるいは、継手同士が干渉してしまうおそれがある。厚みの小さい方のハンダが厚みの大きい方のハンダよりも先に収縮凝固することで、凝固後のハンダが厚み不足となることを回避できる。
本明細書が開示する半導体装置では、第1ハンダの合計の厚みが、第3ハンダの厚みよりも小さく、第2ハンダの合計の厚みが第3ハンダの厚みよりも小さいことが望ましい。先の凝固点の関係を含めると、第3ハンダの厚みが第1ハンダと第2ハンダの凝固点よりも低いことになる。即ち、対向する第1及び第2金属板の間のハンダ(第1ハンダ)と対向する第3及び第4金属板の間のハンダ(第2ハンダ)が継手の間のハンダ(第3ハンダ)よりも先に凝固することになる。金属板の縁から延びている継手の間のハンダ(第3ハンダ)が凝固する前、すなわち、継手が拘束される前に、対向する金属板の間のハンダが凝固することで、対向する金属板は平行を保持したまま接合される。
本明細書が開示する技術の詳細とさらなる改良は以下の「発明を実施するための形態」にて説明する。
半導体装置の斜視図である。 半導体装置の等価回路図である。 半導体装置の分解図である(1)。 半導体装置の分解図である(2)。 半導体素子と放熱板のアセンブリの斜視図である。 図1のVI−VI線に沿った断面図である。 図6において符号VIIが示す範囲の拡大図である。 放熱板と半導体素子のアセンブリを加熱/冷却する炉の温度プロファイルの一例を示すグラフである。 第1変形例の半導体装置の部分断面図である。 第2変形例の半導体装置の部分断面図である。
図面を参照して実施例の半導体装置2を説明する。図1に、半導体装置2の斜視図を示す。半導体装置2は、樹脂製のパッケージ(樹脂パッケージ9)に4個の半導体素子が封止されているデバイスである。半導体装置2の等価回路図を図2に示す。半導体装置2は、2個のトランジスタ103、105と2個のダイオード104、106で構成される回路を有している。2個のトランジスタ103、105と2個のダイオード104、106は、いずれも、電力変換に用いられるパワー半導体素子に属する。具体的には、トランジスタ103、105とダイオード104、106の夫々は、許容電流が100アンペア以上であり、主に電力変換に用いられる素子である。半導体装置2は、典型的には、電気自動車、ハイブリッド車、燃料電池車などにおいて、走行用モータに供給する交流電力を作るインバータに用いられる。
2個のトランジスタ103、105は直列に接続されている。ダイオード104はトランジスタ103に逆並列に接続されており、ダイオード106はトランジスタ105に逆並列に接続されている。説明の都合上、直列接続の両端の端子のうち、高電位側に接続される端子をHIGH端子と称し、低電位側に接続される端子をLOW端子と称する。また、直列接続の中点をOUT端子と称する。図1のP端子24がHIGH端子に相当し、図1のN端子34がLOW端子に相当し、図1のO端子14がOUT端子に相当する。また、トランジスタ105のゲート端子GHが図1の制御端子81aのうちの1本に相当する。トランジスタ103のゲート端子GLが図1の制御端子81bのうちの1本に相当する。制御端子81a、81bの残りの端子は、半導体素子の状態をモニタするための信号端子などである。
図1に示されているように、樹脂パッケージ9の一側面に放熱板15、25が露出している。放熱板15は、一方の面が樹脂パッケージ9の一側面に露出しており、他方の面が樹脂パッケージ9の内部で、後述する第1トランジスタ素子3及び第1ダイオード素子4と接合されている。放熱板25は、一方の面が樹脂パッケージ9の一側面に露出しており、他方の面が樹脂パッケージ9の内部で後述する第2トランジスタ素子5及び第2ダイオード素子6と接合されている。図1では隠れて見えないが、樹脂パッケージ9の他方の側面にも2個の放熱板12、22が露出している。放熱板12、15、22、25は金属製であり、より具体的には、銅で作られている。以下では、4枚の放熱板を区別する場合には、第1放熱板12、第2放熱板15、第3放熱板22、第4放熱板25と称する場合がある。
図3は、樹脂パッケージ9と放熱板15、25を除く半導体装置2の分解図である。図4は、放熱板15、25を分離した斜視図である。図5は、樹脂パッケージ9を除く半導体装置2(即ち、放熱板と半導体素子のアセンブリ2a)の斜視図である。なお、図3−図5では、N端子34、P端子24、O端子14と、制御端子81a、81bは、ランナー42a、42bで連結されており、一つの部品(リードフレーム42)を構成している。図5のアセンブリ2aに樹脂パッケージ9を成形した後にランナー42a、42bを切り離すと、図1の半導体装置2が完成する。説明の便宜上、図中の座標系のX軸正方向を「上」と称し、X軸負方向を「下」と称する。以降の図でも「上」、「下」との表現を用いる場合がある。
2枚の放熱板(第1放熱板12と第3放熱板22)が最も下側に位置する。第1放熱板12の一つの縁からO端子14が伸びており、別の縁から第1継手13が伸びている。第3放熱板22の一つの縁からP端子24が伸びている。O端子14とP端子24の間にはN端子34が配置されている。N端子34の縁からは、継手32が伸びている。先に述べたように、N端子34、P端子24(第3放熱板22)、O端子14(第1放熱板12)は、最初の段階では、制御端子81a、81bとともに、ランナー42a、42bで連結されており、相互の位置関係が固定されている。
第1放熱板12の上に、第1トランジスタ素子3が積層され、ハンダ(不図示)で接合される。第1放熱板12の上には、また、第1ダイオード素子4が積層され、ハンダ(不図示)で接合される。なお第1トランジスタ素子3は平板型であり、両面の夫々に電極が備えられている。第1トランジスタ素子3の下面にはコレクタ電極3a(後述する図6参照)が備えられており、上面にはエミッタ電極3bが備えられている。また、第1トランジスタ素子3の上面には、ゲート電極を含む信号端子3dが備えられている。第1ダイオード素子4の下面にはカソード電極が備えられており、上面にはアノード電極4bが備えられている。第1放熱板12は、第1トランジスタ素子3のコレクタ電極3aと第1ダイオード素子4のカソード電極を接続する。第1トランジスタ素子3の上面のエミッタ電極3bにはハンダ(不図示)を介してスペーサ7aが接合される。第1ダイオード素子4の上面のアノード電極4bにはハンダ(不図示)を介してスペーサ7bが接合される。スペーサ7aとスペーサ7bの上に、ハンダ(不図示)を介して第2放熱板15が接合される(図4参照)。第2放熱板15は、第1トランジスタ素子3のエミッタ電極3bと第1ダイオード素子4のアノード電極4bを接続する。第1トランジスタ素子3の上面のゲート電極を含む信号端子3dにはボンディングワイヤ82の一端が接合される(図4参照)。ボンディングワイヤ82の他端は制御端子81bに接合される。
第3放熱板22の上に、第2トランジスタ素子5が積層され、ハンダ(不図示)で接合される。第3放熱板22の上には、また、第2ダイオード素子6が積層され、ハンダ(不図示)で接合される。第2トランジスタ素子5も平板型であり、両面の夫々に電極が備えられている。第2トランジスタ素子5の下面にはコレクタ電極5a(後述する図6参照)が備えられており、上面にはエミッタ電極5bが備えられている。また、第2トランジスタ素子5の上面には、ゲート電極を含む信号端子5dが備えられている。第2ダイオード素子6の下面にはカソード電極が備えられており、上面にはアノード電極6bが備えられている。第3放熱板22は、第2トランジスタ素子5のコレクタ電極5aと第2ダイオード素子6のカソード電極を接続する。第2トランジスタ素子5の上面のエミッタ電極5bにはハンダ(不図示)を介してスペーサ7cが接合される。第2ダイオード素子6の上面のアノード電極6bにはハンダ(不図示)を介してスペーサ7dが接合される。スペーサ7cとスペーサ7dの上にハンダ(不図示)を介して第4放熱板25が接合される(図4参照)。第4放熱板25は、第2トランジスタ素子5のエミッタ電極5bと第2ダイオード素子6のアノード電極6bを接続する。第2トランジスタ素子5の上面のゲート電極を含む信号端子5dにはボンディングワイヤ82の一端が接合される。ボンディングワイヤ82の他端は制御端子81aに接合される。
第2放熱板15の縁から継手16が伸びている。第4放熱板25の縁から第2継手26が伸びている。第2放熱板15の継手16はN端子34の継手32と対向し、ハンダ(不図示)で接合される。第4放熱板25の第2継手26は第1放熱板12の第1継手13と対向し、ハンダで接合される。なお、第1継手13と第2継手26は、第1放熱板12と第1トランジスタ素子3と第2放熱板15の積層方向(図中のX方向)からみて重なっており、それらをハンダがつないでいる。以上の接続により、図2に示した回路が完成する。第1トランジスタ素子3が図2のトランジスタ103に対応し、第2トランジスタ素子5が図2のトランジスタ105に対応する。第1ダイオード素子4が図2のダイオード104に対応し、第2ダイオード素子6が図2のダイオード106に対応する。
図5のアセンブリ2aの周囲に樹脂パッケージ9が形成される。樹脂パッケージ9は、アセンブリ2aを金型に入れ、金型の内部に溶融樹脂を射出して作られる。即ち、樹脂パッケージ9は、樹脂の射出成形で作られる。樹脂パッケージ9は、第1トランジスタ素子3、第2トランジスタ素子5、第1ダイオード素子4、第2ダイオード素子6を封止している。第1放熱板12と第3放熱板22は樹脂パッケージ9の一方の面に露出しており、第2放熱板15と第4放熱板25は、反対側の面に露出している。
先に述べたように、第1トランジスタ素子3などの半導体素子と、放熱板12、15、22、25と、スペーサ7a−7dは、ハンダで接合される。図3−図5では、ハンダの図示を省略していた。以下、図6を参照して、第1トランジスタ素子3などの半導体素子と、放熱板12、15、22、25と、スペーサ7a−7dと、それらを接合するハンダについて説明する。
図6は、図1のVI−VI線に沿った断面図である。先に述べたように、第1トランジスタ素子3の下面にはコレクタ電極3aが備えられており、上面にはエミッタ電極3bが備えられている。第1放熱板12と第1トランジスタ素子3のコレクタ電極3aはハンダ18aによって接合されている。第1トランジスタ素子3のエミッタ電極3bとスペーサ7aはハンダ18bによって接合されている。スペーサ7aと第2放熱板15はハンダ18cによって接合されている。第2放熱板15は、ハンダ18b、18cとスペーサ7aによって第1トランジスタ素子3と接合されている。第1放熱板12と第2放熱板15は、第1トランジスタ素子3を挟み込んでおり、それらは、ハンダ18a、18b、18cとスペーサ7aによって第1トランジスタ素子3の電極と接合されている。以下、説明の便宜上、対向する第1放熱板12及び第2放熱板15の間に存在するハンダ18a、18b、18cを、第1ハンダ18と総称する。
第1放熱板12と第2放熱板15の間には、スペーサ7bと第1ダイオード素子4も挟まれている(図3−図5参照)。第1ダイオード素子4と第1放熱板12は、ハンダ18aと同じ材質同じ厚みのハンダで接合されている。第1ダイオード素子4とスペーサ7bは、ハンダ18bと同じ材質同じ厚みのハンダで接合されている。スペーサ7bと第2放熱板15は、ハンダ18cと同じ材質同じ厚みのハンダで接合されている。
第2トランジスタ素子5の下面にはコレクタ電極5aが備えられており、上面にはエミッタ電極5bが備えられている。第3放熱板22と第2トランジスタ素子5のコレクタ電極5aはハンダ28aによって接合されている。第2トランジスタ素子5のエミッタ電極5bとスペーサ7cはハンダ28bによって接合されている。スペーサ7cと第4放熱板25はハンダ28cによって接合されている。第4放熱板25は、ハンダ28b、28cとスペーサ7cによって第2トランジスタ素子5の電極と接合されている。第3放熱板22と第4放熱板25は、第2トランジスタ素子5を挟み込んでおり、それらは、ハンダ28a、28b、28cとスペーサ7cによって第2トランジスタ素子5の電極と接合されている。以下、説明の便宜上、対向する第3放熱板22及び第4放熱板25の間に存在するハンダ28a、28b、28cを、第2ハンダ28と総称する。
第3放熱板22と第4放熱板25の間には、スペーサ7dと第2ダイオード素子6も挟まれている(図3−図5参照)。第2ダイオード素子6と第3放熱板22は、ハンダ28aと同じ材質同じ厚みのハンダで接合されている。第2ダイオード素子6とスペーサ7dは、ハンダ28bと同じ材質同じ厚みのハンダで接合されている。スペーサ7dと第4放熱板25は、ハンダ28cと同じ材質同じ厚みのハンダで接合されている。
第1放熱板12の縁から第1継手13が延びており、第4放熱板25の縁から第2継手26が延びている。第1継手13と第2継手26は、第1放熱板12の法線方向(図中のX方向)からみて重なっており、両者はハンダ38で接合されている。ハンダ38を第1ハンダ18、第2ハンダ28と区別するため、第3ハンダ38と称する。
図6において符号VIIが示す範囲の拡大図を図7に示す。符号W1a、W1b、W1cは、夫々、ハンダ18a、18b、18cの厚みを示している。第1放熱板12と第2放熱板15の間の第1ハンダ18の合計の厚みW1は、W1=W1a+W1b+W1cとなる。符号W2a、W2b、W2cは、夫々、ハンダ28a、28b、28cの厚みを示している。第3放熱板22と第4放熱板25の間の第2ハンダ28の合計の厚みW2は、W2=W2a+W2b+W2cとなる。符号W3は、第3ハンダ38の厚みを示している。第3ハンダ38の厚みW3は、第1ハンダ18の合計の厚みW1よりも大きく、第2ハンダ28の合計の厚みW2よりも大きい。また、第3ハンダ38には、第1ハンダ18及び第2ハンダ28とは異なる材料が使われている。第1ハンダ18の凝固点T1は、第3ハンダ38の凝固点T3よりも高い。第2ハンダ28の凝固点T2は、第3ハンダ38の凝固点T3よりも高い。図7では、凝固点の高い第1ハンダ18と第2ハンダ28を、凝固点の低い第3ハンダ38よりも密度の高いドットハッチで表している。例えば、第1ハンダ18、第2ハンダ28には、Sn−0.7Cuのハンダ材料が用いられる。その凝固点は227[℃]である。また、第3ハンダ38には、例えば、Sn−3.0Ag−.5Cuのハンダ材が用いられる。その凝固点は217[℃]である。上記した厚みと凝固点の関係は、次の利点を与える。
ハンダは、凝固すると収縮する。厚みが大きいほど、厚み方向の収縮量は大きくなる。図7の構造の場合、第3ハンダ38の厚みW3が、第1ハンダ18の厚みW1と第2ハンダ28の厚みW2よりも大きい。仮に、第1ハンダ18、第2ハンダ28、第3ハンダ38が同じ凝固点を有すると、ハンダ18、28、38は、冷却時に同時に収縮を開始する。そうすると、厚みの大きい第3ハンダ38の収縮によって、第1継手13と第2継手26が近づき、第1放熱板12と第4放熱板25が傾いてしまう。しかし、実施例の半導体装置2では、厚みの小さい第1ハンダ18と第2ハンダ28が厚みの大きい第3ハンダよりも先に凝固する。即ち、第1継手13が第2継手26との接合によって拘束される前に第1ハンダ18(即ち、対向する第1及び第2放熱板12、15の間のハンダ)が凝固する。同様に、第2継手26が第1継手13との接合によって拘束される前に第2ハンダ28(即ち、対向する第3及び第4放熱板22、25の間のハンダ)が凝固する。このことにより、対向する第1及び第2放熱板12、15は、平行を保持したまま接合される。同様に、対向する第3及び第4放熱板22、25は、平行を保持したまま接合される。
半導体装置2におけるハンダの厚みと凝固点の関係は、さらに、次の利点も与える。仮に、厚みの大きい継手間の第3ハンダ38が先に収縮凝固してしまうと、対向する第1及び第2放熱板12、15の間隔、及び、対向する第3及び第4放熱板22、25の間隔が狭くなってしまう。そうすると、もともと厚みの小さい第1ハンダ18と第2ハンダ28は継手間の接合に伴って薄くされてから収縮凝固が開始されることになる。その結果、接合後の厚みがさらに小さくなってしまう。しかし、実施例の半導体装置2では、厚みの小さい第1ハンダ18、第2ハンダ28が厚みの大きい第3ハンダ38よりも先に収縮凝固するので、接合後の厚みが不足することが回避される。
先に述べたように、ダイオード素子と放熱板とスペーサの間のハンダは材料も厚みもトランジスタ素子と放熱板とスペーサの間の対応するハンダと同じであるので、上記の説明は、ダイオード素子を接合するハンダを考慮に入れても成立する。
図6、図7では、理解を助けるためにハンダの厚みを実際よりも厚く描いてある。ハンダの厚みは、50ミクロン−500ミクロン程度の範囲で定められる。
次に、半導体装置2の製造方法について説明する。ここでは、図5のアセンブリ2a(即ち、樹脂パッケージ9を成形する前の半導体装置2の半完成品)を炉に入れてハンダを溶融/凝固させる工程から説明する。なお、アセンブリ2aにおいて、放熱板と半導体素子とスペーサの間には、溶融前のハンダが配置されている。
図8に、アセンブリ2aを入れる炉の温度プロファイルを示す。図8の横軸は時間であり、縦軸は炉内温度である。温度T1は第1ハンダ18の凝固点(溶融温度)であり、温度T2は第2ハンダ28の凝固点(溶融温度)である。温度T3は第3ハンダ38の凝固点(溶融温度)である。ここでは、説明を容易にするために、凝固点と溶融温度は等しいと仮定する。
まず、炉内温度を第1ハンダ18、第2ハンダ28の凝固点(溶融温度)T1、T2よりも高い温度THまで昇温する。炉内温度を一定時間の間、温度THに維持することで、全てのハンダが溶融する。次に、炉内温度を下げていく。時刻t1で炉内温度が第1、第2ハンダ18、28の凝固点T1、T2まで下がり、時刻t2で炉内温度が第3ハンダ38の凝固点T3まで下がる。時刻t1からt2の間で第1ハンダ18と第2ハンダ28が凝固する。このとき、第3ハンダ38は溶融したままである。
時刻t2に達したときには第1ハンダ18と第2ハンダ28は凝固している。第3ハンダ38は、時刻t2以降で凝固する。こうして、厚みの小さい第1ハンダ18と第2ハンダ28が凝固した後に第3ハンダ38が凝固する。先に述べたように、厚みの小さい第1ハンダ18と第2ハンダ28を厚みの大きい第3ハンダ38よりも先に凝固させることで、第1放熱板12と第2放熱板15は平行を維持したまま接合される。第3放熱板22と第4放熱板25も同様に平行に維持したまま接合される。
全てのハンダが凝固した後、アセンブリ2aを炉から射出成形の金型へ移し、樹脂パッケージ9を成形する。次に、第1放熱板12と第3放熱板22が露出した面を研磨し、第1放熱板12と第3放熱板22と樹脂パッケージ9の面を面一にする。同様に、第2放熱板15と第4放熱板25が露出した面を研磨し、第2放熱板15と第4放熱板25と樹脂パッケージ9の反対側の面を面一にする。このとき、放熱板が傾いていないので、樹脂パッケージ9の表面と放熱板が面一となるまでの研磨を低コストで完遂することができる。
上記したように半導体装置2を製造する際、対向する放熱板の間のハンダ(第1ハンダ18、第2ハンダ28)と、継手の間のハンダ(第3ハンダ38)を別々に加熱/冷却させる必要はない。半導体装置2を製造する場合、第1−第4放熱板12、15、22、25と半導体素子(トランジスタ素子3、5、ダイオード素子4、6)のアセンブリを炉に入れて全てのハンダの融点よりも高い温度までアセンブリを昇温した後に全てのハンダの凝固点よりも低い温度までアセンブリの温度を下げればよい。そうすることで、厚みの薄い方のハンダ(凝固点の高いハンダ)が他方のハンダ(凝固点の低いハンダ)よりも先に凝固する。
(第1変形例)次に、図9を参照して第1変形例の半導体装置102を説明する。図9は、第1変形例の半導体装置102の部分断面図である。以下では、説明を簡単にするために、トランジスタ素子の電極と放熱板が接合されていることを、トランジスタ素子と放熱板が接合されている、と表現することにする。また、ダイオード素子と放熱板の間のハンダは、対応するトランジスタ素子と放熱板の間のハンダと同じ材料、同じ厚みであるとする。従って、ダイオード素子とその両側の放熱板の間のハンダについては説明を省略する。
この変形例では、第2放熱板15と第1トランジスタ素子3がスペーサなしにハンダ118bで直接に接合されている。第1トランジスタ素子3と第1放熱板12は、ハンダ118aで接合されている。ハンダ118aとハンダ118bが、第1放熱板12と第2放熱板15の間の第1ハンダ118に相当する。第4放熱板25と第2トランジスタ素子5は、スペーサなしにハンダ128bで直接に接合されている。第2トランジスタ素子5と第3放熱板22は、ハンダ128aで接合されている。ハンダ128aとハンダ128bが、第3放熱板22と第4放熱板25の間の第2ハンダ128に相当する。第1放熱板12の縁から延びる第1継手113と第4放熱板25の縁から延びる第2継手26は、第3ハンダ138で接合されている。
図9において符号W11aがハンダ118aの厚みを示しており、符号W11bがハンダ118bの厚みを示している。また、符号W12aがハンダ128aの厚みを示しており、符号W12bがハンダ128bの厚みを示している。第1ハンダ118の厚みW1は、W1=W11a+W11bである。第2ハンダ128の厚みW2は、W2=W12a+W12bである。符号W13が第3ハンダ138の厚みを示している。第1変形例の場合、第1ハンダ118の厚みW1は、第3ハンダ138の厚みW3よりも大きい。また、第2ハンダ128の厚みW2も、第3ハンダ138の厚みW3よりも大きい。この変形例の場合、厚みの小さい第3ハンダ138の凝固点T3は、厚みの大きい第1ハンダ118の凝固点T1よりも高く、厚みの大きい第2ハンダ128の凝固点T2よりも高い。図9では、凝固点の高い第3ハンダ138を、凝固点の低い第1ハンダ118、第2ハンダ128よりも密度の高いドットハッチで示してある。
第1変形例の半導体装置102では、上記の凝固点と厚みの関係により、放熱板12、15、22、25と半導体素子のアセンブリを加熱して冷却すると、厚みが最も薄い第3ハンダ138が先に凝固し、次いで厚みの大きい第1ハンダ118と第2ハンダ128が凝固する。この変形例では、継手の間のハンダ(第3ハンダ138)が、放熱板の間のハンダ(第1ハンダ118と第2ハンダ128)よりも先に凝固する。
第1放熱板12と第4放熱板25は、夫々の縁から延びる継手の間の第3ハンダ138が先に収縮凝固するので傾く。しかし、第3ハンダ138の厚みは第1ハンダ118、第2ハンダ128よりも小さいので、第1放熱板12と第4放熱板25の傾きに与える影響を抑えることができる。第1変形例の半導体装置102は、図3〜図7に示した半導体装置2ほどではないが、放熱板の傾きを抑える効果が期待できる。
(第2変形例)次に、図10を参照して第2変形例の半導体装置202を説明する。図10は、第2変形例の半導体装置202の部分断面図である。この変形例でも、ダイオード素子と放熱板の間のハンダは、対応するトランジスタ素子と放熱板の間のハンダと同じ材料、同じ厚みであるとする。従って、ダイオード素子とその両側の放熱板の間のハンダについては説明を省略する。
この第2変形例では、第2放熱板15と第1トランジスタ素子3がスペーサ207aとハンダ218b、218cで接合されている。スペーサ207aは、図3−図7に示したスペーサ7aよりも厚く、ハンダ218b、218cの厚みは、先のハンダ18b、18cの厚みよりも小さい。第1トランジスタ素子3と第1放熱板12は、ハンダ218aで接合されている。ハンダ218a、218b、218cが、第1放熱板12と第2放熱板15の間の第1ハンダ218に相当する。第4放熱板25と第2トランジスタ素子5は、スペーサなしにハンダ228bで直接に接合されている。第2トランジスタ素子5と第3放熱板22は、ハンダ228aで接合されている。ハンダ228aとハンダ228bが、第3放熱板22と第4放熱板25の間の第2ハンダ228に相当する。第1放熱板12の縁から延びる第1継手213と第4放熱板25の縁から延びる第2継手26は、第3ハンダ238で接合されている。
図10において符号W21aがハンダ218aの厚みを示しており、符号W21bがハンダ218bの厚みを示しており、符号W21cがハンダ218cの厚みを示している。また、符号W22aがハンダ228aの厚みを示しており、符号W22bがハンダ228bの厚みを示している。第1ハンダ218の厚みW1は、W1=W21a+W21b+W21cである。第2ハンダ228の厚みW2は、W2=W22a+W22bである。符号W23が第3ハンダ238の厚みを示している。第2変形例では、第3ハンダ238の厚みW3は、第2ハンダ228の厚みW2よりも小さい。また、第1ハンダ218の厚みW1は、第3ハンダ238の厚みW3よりも小さい。即ち、W2>W3>W1の関係が成立する。この変形例の場合、第3ハンダ138の凝固点T3は、厚みの最も大きい第2ハンダ228の凝固点T2よりも低く、厚みの最も小さい第1ハンダ218の凝固点T1よりも高い。図10では、凝固点が高いハンダほど、密度の高いドットハッチで描いてある。
第2変形例の場合、放熱板12、15、22、25と半導体素子のアセンブリを加熱して冷却すると、厚みが最も薄い第1ハンダ218がまず凝固し、次いで第3ハンダ238が凝固し、最後に厚みの最も大きい第2ハンダ228が凝固する。この変形例では、継手の間のハンダ(第3ハンダ238)が凝固する前に第1放熱板12と第2放熱板15の間の第1ハンダ218が凝固するので、第1放熱板12と第2放熱板15は、平行を維持したまま、第1トランジスタ素子3に接合される。
また、継手間の第3ハンダ238が凝固した後に、第3放熱板22と第4放熱板25の間の第2ハンダ228が凝固する。第2ハンダ228よりも厚みの小さい第3ハンダ238の収縮量は、第2ハンダ228の収縮量よりも小さいので、第4放熱板25の傾きが抑制される。この第2変形例の半導体装置202は、図3−図7で示した半導体装置2ほどではないが、第4放熱板25の傾斜を抑えることができる。
実施例で説明した技術に関する留意点を述べる。実施例の半導体装置2、102、202は、一対の放熱板12、15(22、25)の間に、トランジスタ素子とダイオード素子を挟んでいる。近年、トランジスタとダイオードの逆並列回路をワンチップ化した半導体素子が開発されている。そのような半導体素子の一例は、RC−IGBTと呼ばれる。トランジスタ素子とダイオードがワンチップ化された半導体素子を採用した場合、放熱板と半導体素子の電極との接合面積と、継手同士の接合面積の差が小さくなる。放熱板と半導体素子の電極との接合面積と、継手同士の接合面積の差が小さくなると、継手同士の接合が放熱板の傾きに与える影響が顕著になる。本明細書が開示する技術は、一対の放熱板の間に一つの小型の半導体素子が挟まれる半導体装置に特に有効である。また、図3−図7で示したように、継手の間のハンダ(第3ハンダ38)の厚みを、放熱板の間のハンダ(第1ハンダ18と第2ハンダ28)の厚みよりも大きくすることで、最も高い効果を得ることができる。
実施例の第1トランジスタ素子3と第1ダイオード素子4が第1半導体素子の一例に相当する。実施例の第2トランジスタ素子5と第2ダイオード素子6が第2半導体素子の一例に相当する。第1放熱板12、第2放熱板15、第3放熱板22、第4放熱板25が、夫々、第1金属板、第2金属板、第3金属板、第4金属板の一例に相当する。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
2、102、202:半導体装置
2a:アセンブリ
3:第1トランジスタ素子
4:第1ダイオード素子
5:第2トランジスタ素子
5b:エミッタ電極
6:第2ダイオード素子
7a−7d、207a:スペーサ
9:樹脂パッケージ
12、15、22、25:放熱板
13、113、213:第1継手
14:O端子
16:継手
18a、18b、18c、118a、118b:ハンダ(第1ハンダ)
28a、28b、28c、128a、128b:ハンダ(第2ハンダ)
38、138、238:ハンダ(第3ハンダ)
42:リードフレーム
218a、218b、218c:ハンダ(第1ハンダ)
228a、228b、228c:ハンダ(第2ハンダ)

Claims (2)

  1. 両面に電極を備えている第1半導体素子及び第2半導体素子と、
    前記第1半導体素子を挟んでおり、前記第1半導体素子の夫々の前記電極と第1ハンダで接合されている第1及び第2金属板と、
    前記第2半導体素子を挟んでおり、前記第2半導体素子の夫々の前記電極と第2ハンダで接合されている第3及び第4金属板と、
    前記第1半導体素子と前記第2半導体素子を封止している樹脂パッケージであって、その一面に前記第1金属板と前記第3金属板が露出しているとともに、反対面に前記第2金属板と前記第4金属板が露出している樹脂パッケージと、
    を備えており、
    前記第1金属板の縁から第1継手が延びているとともに前記第4金属板の縁から第2継手が延びており、前記第1継手と前記第2継手が、前記第1金属板と前記第1半導体素子の積層方向からみて重なっているとともに第3ハンダで接合されており、
    前記第1金属板と前記第2金属板の間の前記第1ハンダの合計の厚みと、前記第1継手と前記第2継手の間の前記第3ハンダの厚みが異なっており、厚みの小さい方のハンダの凝固点が、厚みの大きい方のハンダの凝固点よりも高く、
    前記第3金属板と前記第4金属板の間の前記第2ハンダの合計の厚みと、前記第3ハンダの厚みが異なっており、厚みの小さい方のハンダの凝固点が、厚みの大きい方のハンダの凝固点よりも高い、半導体装置。
  2. 前記第1ハンダの合計の厚みが、前記第3ハンダの厚みよりも小さく、前記第2ハンダの合計の厚みが前記第3ハンダの厚みよりも小さい、請求項1に記載の半導体装置。
JP2017013673A 2017-01-27 2017-01-27 半導体装置 Active JP6512231B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017013673A JP6512231B2 (ja) 2017-01-27 2017-01-27 半導体装置
US15/855,210 US10396008B2 (en) 2017-01-27 2017-12-27 Semiconductor device
CN201810072185.5A CN108428685B (zh) 2017-01-27 2018-01-25 半导体装置
DE102018101829.0A DE102018101829B4 (de) 2017-01-27 2018-01-26 Halbleitervorrichtung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017013673A JP6512231B2 (ja) 2017-01-27 2017-01-27 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018121037A JP2018121037A (ja) 2018-08-02
JP6512231B2 true JP6512231B2 (ja) 2019-05-15

Family

ID=62843545

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017013673A Active JP6512231B2 (ja) 2017-01-27 2017-01-27 半導体装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10396008B2 (ja)
JP (1) JP6512231B2 (ja)
CN (1) CN108428685B (ja)
DE (1) DE102018101829B4 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6586970B2 (ja) * 2017-03-09 2019-10-09 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
US11107761B2 (en) * 2018-02-06 2021-08-31 Denso Corporation Semiconductor device
JP7069787B2 (ja) * 2018-02-09 2022-05-18 株式会社デンソー 半導体装置
JP2019186403A (ja) 2018-04-11 2019-10-24 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP7168280B2 (ja) * 2018-06-26 2022-11-09 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 半導体装置、および、半導体チップの搭載方法
JP7077893B2 (ja) * 2018-09-21 2022-05-31 株式会社デンソー 半導体装置
KR102710615B1 (ko) 2019-04-25 2024-09-27 아메리칸 액슬 앤드 매뉴팩쳐링, 인코포레이티드 전기 구동 모듈
EP3975225A1 (en) 2020-09-24 2022-03-30 Infineon Technologies Austria AG Semiconductor module
EP4177942A1 (en) * 2021-10-18 2023-05-10 American Axle & Manufacturing, Inc. Electrical assembly having a heat sink that is unitarily and integrally formed with a lead of a power semiconductor
US20230361087A1 (en) 2022-05-04 2023-11-09 Infineon Technologies Ag Molded power semiconductor package

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3614079B2 (ja) * 2000-03-24 2005-01-26 株式会社デンソー 半導体装置及びその製造方法
US6897567B2 (en) * 2000-07-31 2005-05-24 Romh Co., Ltd. Method of making wireless semiconductor device, and leadframe used therefor
WO2004105129A1 (ja) * 2003-05-23 2004-12-02 Fujitsu Limited プリント基板ユニットおよびその製造方法
KR100962100B1 (ko) * 2005-12-08 2010-06-09 후지쯔 가부시끼가이샤 전자부품의 제조방법 및 열전도부재의 제조방법 및전자부품용 열전도부재의 실장방법
JP5407967B2 (ja) * 2010-03-19 2014-02-05 富士通株式会社 回路基板、電子機器、回路基板の製造方法、及び半導体装置の交換方法
JP5947537B2 (ja) 2011-04-19 2016-07-06 トヨタ自動車株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP5943795B2 (ja) * 2012-09-26 2016-07-05 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
JP5966979B2 (ja) * 2013-03-14 2016-08-10 株式会社デンソー 半導体装置及びその製造方法
JP6221542B2 (ja) * 2013-09-16 2017-11-01 株式会社デンソー 半導体装置
JP6154342B2 (ja) * 2013-12-06 2017-06-28 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP6294110B2 (ja) 2014-03-10 2018-03-14 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP6256145B2 (ja) * 2014-03-26 2018-01-10 株式会社デンソー 半導体装置及びその製造方法
JP6295768B2 (ja) * 2014-03-26 2018-03-20 株式会社デンソー 半導体装置の製造方法
JP6152842B2 (ja) * 2014-11-04 2017-06-28 トヨタ自動車株式会社 半導体装置とその製造方法
JP6578900B2 (ja) * 2014-12-10 2019-09-25 株式会社デンソー 半導体装置及びその製造方法
JP6394489B2 (ja) * 2015-05-11 2018-09-26 株式会社デンソー 半導体装置
JP6586970B2 (ja) * 2017-03-09 2019-10-09 トヨタ自動車株式会社 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE102018101829B4 (de) 2020-07-16
US10396008B2 (en) 2019-08-27
CN108428685A (zh) 2018-08-21
DE102018101829A1 (de) 2018-08-02
CN108428685B (zh) 2019-09-03
JP2018121037A (ja) 2018-08-02
US20180218960A1 (en) 2018-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6512231B2 (ja) 半導体装置
CN108573937B (zh) 半导体装置
CN107112294B (zh) 半导体装置以及功率模块
US9147673B2 (en) Semiconductor power converter and method of manufacturing the same
KR102574378B1 (ko) 파워모듈
US10903138B2 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP5966921B2 (ja) 半導体モジュールの製造方法
US12506045B2 (en) Semiconductor device
KR102730548B1 (ko) 양면 냉각형 파워모듈 및 그 제조 방법
JP2020188164A (ja) 半導体装置
JP2019068110A (ja) パワーモジュール
JPWO2018181727A1 (ja) 半導体装置およびその製造方法、ならびに電力変換装置
JP2005167075A (ja) 半導体装置
JP6358296B2 (ja) 半導体モジュールの製造方法
JP7111140B2 (ja) 半導体装置
US20240055316A1 (en) Semiconductor module and method of manufacturing the same
JP6182850B2 (ja) 電力変換装置
JP2011228604A (ja) 回路基板の製造方法及び回路基板
JP6299568B2 (ja) 半導体装置
JP5840933B2 (ja) 半導体装置
JP2019087613A (ja) 半導体装置の製造方法
JP6834673B2 (ja) 半導体モジュール
JP7017098B2 (ja) 半導体装置
US12191264B2 (en) Thermal performance improvement and stress reduction in semiconductor device modules
JP2023078915A (ja) 半導体装置およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180808

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190312

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190314

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190325

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6512231

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250