JP6518445B2 - FLEXIBLE LAMINATE AND METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE LAMINATE - Google Patents
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Description
本発明は、液晶ポリマーからなる絶縁層と、金属層とが接着されたフレキシブル積層板、及びフレキシブル積層板の製造方法に関する。 The present invention relates to a flexible laminate in which an insulating layer made of a liquid crystal polymer and a metal layer are bonded, and a method of manufacturing the flexible laminate.
絶縁層と金属層とが接着されたフレキシブル積層板は、例えば、フレキシブルプリント配線基板を製造するための材料として用いられている。近年、フレキシブルプリント配線基板に対する高周波化の要求から、低誘電材料である液晶ポリマーを絶縁層として用いたフレキシブル積層板が注目されている。 A flexible laminate in which an insulating layer and a metal layer are bonded is used, for example, as a material for manufacturing a flexible printed wiring board. In recent years, a flexible laminate using a liquid crystal polymer, which is a low dielectric material, as an insulating layer has attracted attention from the demand for higher frequency of the flexible printed wiring board.
例えば、特許文献1には、ダブルベルトプレス装置を用いて、液晶ポリマーからなる絶縁フィルムの両面に金属箔を重ね、これを熱圧成形することにより、絶縁フィルムと金属箔とが熱圧着されたフレキシブル積層板を製造する技術が開示されている。また、熱圧成形時の加熱温度を、絶縁フィルムを構成する液晶ポリマーの融点以上、融点よりも20度高い温度以下の範囲に設定することにより、製造されたフレキシブル積層板について、絶縁層と金属箔との間のピール強度を維持しつつ、寸法歪みの発生等を低減することができる点が開示されている。 For example, in Patent Document 1, metal foils are laminated on both sides of an insulation film made of liquid crystal polymer using a double belt press apparatus, and the insulation film and the metal foil are thermocompression-bonded by heat and pressure molding this. Techniques for making flexible laminates are disclosed. Further, by setting the heating temperature at the time of hot-press molding in the range not lower than the melting point of the liquid crystal polymer constituting the insulating film and not higher than the melting point by 20 degrees, an insulating layer and metal are manufactured for the manufactured flexible laminate. It is disclosed that the occurrence of dimensional distortion and the like can be reduced while maintaining the peel strength with the foil.
ところで、近年、フレキシブルプリント配線基板に対する高密度実装の技術の進歩に伴って、寸法変化率の小さいフレキシブル積層板が求められている。具体的には、導体回路形成の前後や、各種素子を実装するためのリフロー半田付けの際の加熱工程の前後における寸法変化率の小さいフレキシブル積層板が求められている。 By the way, in recent years, with the advance of the technology of high density mounting on a flexible printed wiring board, a flexible laminated board with a small dimensional change rate is required. Specifically, flexible laminates having a small dimensional change rate before and after the formation of a conductor circuit and before and after a heating step in reflow soldering for mounting various elements are required.
この発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、寸法変化率の小さいフレキシブル積層板を提供することにある。 This invention is made in view of such a situation, The objective is to provide the flexible laminated board with a small dimensional change rate.
上記の目的を達成するためのフレキシブル積層板は、液晶ポリマーからなる絶縁層と、前記絶縁層の片面又は両面に形成された金属層とを備えるフレキシブル積層板であって、前記液晶ポリマーは、融点が250℃を超える液晶ポリマーであり、JIS C 6471に規定される寸法安定性試験において、加熱温度を250℃とした場合の寸法変化率が±0.05%の範囲内であり、前記絶縁層の幅方向における厚みの標準偏差が1.2μm以下である。 A flexible laminate for achieving the above object is a flexible laminate comprising an insulating layer made of liquid crystal polymer and a metal layer formed on one side or both sides of the insulating layer, and the liquid crystal polymer has a melting point Is a liquid crystal polymer exceeding 250.degree. C., and in the dimensional stability test defined in JIS C 6471, the dimensional change when the heating temperature is 250.degree. C. is in the range of ± 0.05%, the insulating layer The standard deviation of the thickness in the width direction is 1.2 μm or less.
上記の目的を達成するためのフレキシブル積層板の製造方法は、一対のエンドレスベルト間に、液晶ポリマーからなる絶縁フィルムと金属箔とを連続的に供給し、前記エンドレスベルト間で絶縁フィルムと金属箔とを熱圧着させてフレキシブル積層板を形成する熱圧着工程を有し、前記熱圧着工程において、前記フレキシブル積層板の最高温度が、前記絶縁フィルムを構成する液晶ポリマーの融点より45℃低い温度以上、同融点より5℃低い温度以下の範囲となるように前記フレキシブル積層板を加熱するとともに、前記エンドレスベルトから搬出される際の前記フレキシブル積層板の出口温度が、前記絶縁フィルムを構成する液晶ポリマーの融点より235℃低い温度以上、同融点より100℃低い温度以下の範囲となるように前記フレキシブル積層板を徐冷する。 In order to achieve the above object, a method of manufacturing a flexible laminate continuously supplies an insulating film made of a liquid crystal polymer and a metal foil between a pair of endless belts, and the insulating film and the metal foil are provided between the endless belts. And a thermocompression bonding step of forming a flexible laminate, wherein the maximum temperature of the flexible laminate is 45.degree. C. lower than the melting point of the liquid crystal polymer constituting the insulating film. And heating the flexible laminate to a temperature not more than 5 ° C. lower than the same melting point, and a liquid crystal polymer constituting the insulating film at the outlet temperature of the flexible laminate when carried out from the endless belt. Above the melting point of the melting point and a temperature not more than 100 ° C. of the melting point. Slowly cooling the reluctant laminate.
上記フレキシブル積層板の製造方法において、前記絶縁フィルムとして、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸とパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマーであって、その融点が250℃を超える液晶ポリマーから構成される絶縁フィルムを用いることが好ましい。 In the method for producing a flexible laminate, the insulating film is a liquid crystal polymer having 6-hydroxy-2-naphthoic acid and parahydroxybenzoic acid as structural units, and the liquid crystal polymer has a melting point exceeding 250 ° C. It is preferable to use an insulating film.
上記フレキシブル積層板の製造方法において、前記金属箔として、銅箔、アルミニウム箔、ステンレス箔、及び銅とアルミニウムとの合金からなる箔から選ばれる少なくとも一種の金属箔を用いることが好ましい。 In the method of manufacturing a flexible laminate, it is preferable to use, as the metal foil, at least one metal foil selected from copper foil, aluminum foil, stainless steel foil, and foil made of an alloy of copper and aluminum.
本発明によれば、寸法変化率の小さいフレキシブル積層板を得ることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the flexible laminated board with a small dimensional change rate can be obtained.
以下、本発明のフレキシブル積層板の製造方法を具体化した一実施形態について図1を参照して詳細に説明する。
本実施形態のフレキシブル積層板10の製造方法は、絶縁フィルム11の両面に金属箔12を連続的に熱圧着する熱圧着工程を有し、この熱圧着工程を通じてフレキシブル積層板10が製造される。
Hereinafter, one embodiment which materialized the manufacturing method of the flexible laminated board of the present invention is described in detail with reference to FIG.
The manufacturing method of the flexible laminated board 10 of this embodiment has a thermocompression-bonding process which thermocompression-bonds the metal foil 12 continuously on both surfaces of the insulating film 11, and the flexible laminated board 10 is manufactured through this thermocompression-bonding process.
まず、フレキシブル積層板10の製造に用いる絶縁フィルム11及び金属箔12について記載する。
絶縁フィルム11は、フレキシブル積層板10における絶縁層を構成する。絶縁フィルム11としては、融点が250℃を超える液晶ポリマーにより形成される絶縁フィルム11が用いられる。液晶ポリマーとしては、例えば、エチレンテレフタレートとパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマー、フェノール及びフタル酸とパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマー、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸とパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマー等が挙げられる。
First, the insulating film 11 and the metal foil 12 used for manufacturing the flexible laminate 10 will be described.
The insulating film 11 constitutes an insulating layer in the flexible laminate 10. As the insulating film 11, the insulating film 11 formed of a liquid crystal polymer whose melting point exceeds 250 ° C. is used. Examples of liquid crystal polymers include liquid crystal polymers having ethylene terephthalate and parahydroxybenzoic acid as structural units, liquid crystal polymers having phenol and phthalic acid and parahydroxybenzoic acid as structural units, 6-hydroxy-2-naphthoic acid and parahydroxyl The liquid crystal polymer etc. which make benzoic acid a structural unit are mentioned.
絶縁フィルム11の厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、6〜300μmの範囲であることが好ましく、12〜150μmの範囲であることがより好ましく、25〜100μmの範囲であることが更に好ましい。 The thickness of the insulating film 11 is not particularly limited, but is preferably in the range of 6 to 300 μm, more preferably in the range of 12 to 150 μm, and more preferably in the range of 25 to 100 μm. Is more preferred.
金属箔12は、フレキシブル積層板10における金属層を構成する。金属箔12としては、例えば、銅箔、アルミニウム箔、ステンレス箔、及び銅とアルミニウムとの合金からなる箔等の金属箔を用いることができ、特に、圧延銅箔、電解銅箔及びアルミニウム箔から選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。 The metal foil 12 constitutes a metal layer in the flexible laminate 10. As the metal foil 12, for example, metal foil such as copper foil, aluminum foil, stainless steel foil, and foil made of an alloy of copper and aluminum can be used, and in particular, from rolled copper foil, electrolytic copper foil and aluminum foil It is preferable to use at least one selected.
金属箔12の表面粗さは、特に限定されるものではないが、例えば、十点平均粗さ(Rz)において、0.5〜10μmの範囲であることが好ましく、0.5〜7μmの範囲であることがより好ましい。また、金属箔12の厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、1.5〜150μmの範囲であることが好ましく、2〜70μmの範囲であることがより好ましく、9〜35μmの範囲であることが更に好ましい。 The surface roughness of the metal foil 12 is not particularly limited. For example, the ten-point average roughness (Rz) is preferably in the range of 0.5 to 10 μm, and in the range of 0.5 to 7 μm. It is more preferable that The thickness of the metal foil 12 is not particularly limited, but is preferably in the range of 1.5 to 150 μm, more preferably in the range of 2 to 70 μm, and more preferably 9 to 35 μm. More preferably, it is in the range.
次に、本実施形態の製造方法における熱圧着工程について記載する。
図1に示すように、熱圧着工程は、ダブルベルトプレス装置20と、ダブルベルトプレス装置20へ絶縁フィルム11及び金属箔12をそれぞれ供給する繰出部30と、ダブルベルトプレス装置20から搬出されたフレキシブル積層板10を巻き取る巻取部40とを備えた製造ラインで実施される。
Next, the thermocompression-bonding process in the manufacturing method of this embodiment is described.
As shown in FIG. 1, in the thermocompression bonding step, the double belt press 20, the feeding unit 30 for supplying the insulating film 11 and the metal foil 12 to the double belt press 20, and the double belt press 20 were carried out. It carries out by the manufacturing line provided with the winding part 40 which winds up the flexible laminated board 10.
ダブルベルトプレス装置20は、搬送方向に所定の間隔をあけて並設された一対の上側ドラム21と、各上側ドラム21の下側において、同じく搬送方向に所定の間隔をあけて並設された一対の下側ドラム22とを備えている。一対の上側ドラム21には、エンドレスベルト23が架け渡されている。エンドレスベルト23は、一対の上側ドラム21が回転することにより回動するように構成されている。同様に、一対の下側ドラム22には、エンドレスベルト24が架け渡されている。エンドレスベルト24は、一対の下側ドラム22が回転することにより回動するように構成されている。なお、エンドレスベルト23、24は、例えば、ステンレス鋼、銅合金、アルミ合金等の金属材料により形成されている。 The double belt press apparatus 20 is also provided in parallel at a predetermined interval in the transport direction on the lower side of each upper drum 21 and a pair of upper drums 21 disposed in parallel at a predetermined interval in the transport direction. A pair of lower drums 22 are provided. An endless belt 23 is stretched over the pair of upper drums 21. The endless belt 23 is configured to rotate by rotation of the pair of upper drums 21. Similarly, an endless belt 24 is stretched over the pair of lower drums 22. The endless belt 24 is configured to rotate by rotation of the pair of lower drums 22. The endless belts 23 and 24 are formed of, for example, a metal material such as stainless steel, copper alloy, or aluminum alloy.
各エンドレスベルト23、24の内側には、エンドレスベルト23、24を挟んで上下に位置する熱圧装置25が設けられている。熱圧装置25は、エンドレスベルト23、24における熱圧装置25の間に位置する部位に所定の圧力を付与するとともに同部位を加熱するための装置である。そして、熱圧装置25は、搬送方向における所定範囲毎に加熱温度を調整可能に構成されている。例えば、図1に示す熱圧装置25は、搬送方向に沿って設けられた4つの部位25A〜25Dのそれぞれにおいて個別に加熱温度を調整することができる。 Inside the endless belts 23, 24, heat pressure devices 25 positioned above and below the endless belts 23, 24 are provided. The heat pressure device 25 is a device for applying a predetermined pressure to a portion of the endless belts 23 and 24 located between the heat pressure devices 25 and heating the same portion. And the heat-pressure apparatus 25 is comprised so that adjustment of heating temperature is possible for every predetermined range in a conveyance direction. For example, the heat-pressure apparatus 25 shown in FIG. 1 can adjust heating temperature separately in each of four site | part 25A-25D provided along the conveyance direction.
繰出部30には、長尺状をなす絶縁フィルム11がロール状に巻き取られた絶縁フィルムロール31、及び長尺状をなす金属箔12がロール状に巻き取られた二組の金属箔ロール32が備えられている。 In the feeding portion 30, an insulating film roll 31 in which a long insulating film 11 is wound in a roll, and two sets of metal foil rolls in which a long metal foil 12 is wound in a roll. 32 are provided.
熱圧着工程においては、まず、繰出部30の絶縁フィルムロール31から繰り出された絶縁フィルム11の両面に対して金属箔ロール32から繰り出された金属箔12がそれぞれ重ねられつつ、ダブルベルトプレス装置20に連続的に供給される。ダブルベルトプレス装置20に供給された絶縁フィルム11及び金属箔12は、エンドレスベルト23、24が回動することによって、エンドレスベルト23、24間に挟まれた状態で下流側へと搬送される。 In the thermocompression bonding step, first, the double-belt press device 20 while the metal foils 12 fed out from the metal foil rolls 32 are respectively superimposed on both surfaces of the insulation film 11 drawn out from the insulation film roll 31 of the feeding portion 30. Are supplied continuously. The insulating film 11 and the metal foil 12 supplied to the double belt press 20 are conveyed downstream while being sandwiched between the endless belts 23 and 24 by rotating the endless belts 23 and 24.
エンドレスベルト23、24間を通過する際に、絶縁フィルム11及び金属箔12には、熱圧装置25によって、エンドレスベルト23,24を介して所定の面圧が加えられる。同時に、熱圧装置25によって、エンドレスベルト23,24を介して、絶縁フィルム11及び金属箔12が加熱される。これにより、絶縁フィルム11が軟化し、絶縁フィルム11と金属箔12とが熱圧着されて、絶縁層の両面に金属層を有するフレキシブル積層板10が形成される。そして、ダブルベルトプレス装置20から搬出されたフレキシブル積層板10は、巻取部40において、ロール状に巻き取られることで回収される。 When passing between the endless belts 23, 24, a predetermined surface pressure is applied to the insulating film 11 and the metal foil 12 by the heat and pressure device 25 via the endless belts 23, 24. At the same time, the insulating film 11 and the metal foil 12 are heated by the heat and pressure unit 25 through the endless belts 23 and 24. Thereby, the insulating film 11 is softened, the insulating film 11 and the metal foil 12 are thermocompression-bonded, and the flexible laminate 10 having the metal layer on both sides of the insulating layer is formed. And the flexible laminated board 10 carried out from the double belt press apparatus 20 is collect | recovered by being wound up in roll shape in the winding part 40. As shown in FIG.
ここで、熱圧着工程における絶縁フィルム11及び金属箔12に対する加熱は、以下のようにして行われる。すなわち、エンドレスベルト23、24間における上流側の領域(加熱ゾーン)においては、絶縁フィルム11及び金属箔12を第1温度T1に達するように加熱する。そして、同下流側の領域(徐冷ゾーン)においては、絶縁フィルム11及び金属箔12に対する加熱を弱めて、絶縁フィルム11及び金属箔12を徐冷しながら、フレキシブル積層板10が、第1温度T1よりも低い第2温度T2にてダブルベルトプレス装置20から搬出されるように加熱する。換言すると、エンドレスベルト23、24間を通過する際のフレキシブル積層板10(絶縁フィルム11及び金属箔12)の最高温度を第1温度T1とするように加熱し、エンドレスベルト23、24から搬出されたときのフレキシブル積層板10の出口温度を第2温度T2とするように加熱する。なお、上記の加熱ゾーンと徐冷ゾーンとの境界部分においては、フレキシブル積層板10(絶縁フィルム11及び金属箔12)に所定の面圧が加えられた状態を維持しつつ、加熱の態様を変更する。 Here, heating of the insulating film 11 and the metal foil 12 in the thermocompression bonding step is performed as follows. That is, in the region (heating zone) on the upstream side between the endless belts 23 and 24, the insulating film 11 and the metal foil 12 are heated to reach the first temperature T1. And in the area | region (slow cooling zone) of the same downstream side, the heating with respect to the insulating film 11 and the metal foil 12 is weakened, and the flexible laminated board 10 is 1st temperature, annealing the insulating film 11 and the metal foil 12 gradually. It heats so that it may carry out of the double belt press apparatus 20 at 2nd temperature T2 lower than T1. In other words, the maximum temperature of the flexible laminate 10 (the insulating film 11 and the metal foil 12) when passing between the endless belts 23 and 24 is heated to the first temperature T1, and is carried out of the endless belts 23 and 24 It heats so that the exit temperature of the flexible laminated board 10 at the time of making may be 2nd temperature T2. In the boundary between the heating zone and the annealing zone, the mode of heating is changed while maintaining a state in which a predetermined surface pressure is applied to the flexible laminate 10 (the insulating film 11 and the metal foil 12). Do.
第1温度T1は、絶縁フィルム11を形成する液晶ポリマーの融点をmpとしたとき、「mp−45℃≦T1≦mp−5℃」の範囲である。つまり、液晶ポリマーの融点より45℃低い温度以上、同融点より5℃低い温度以下の範囲である。例えば、絶縁フィルム11を形成する液晶ポリマーの融点が335℃である場合、第1温度T1は「290℃≦T1≦330℃」の範囲となる。第1温度T1の下限である「mp−45℃」は、絶縁フィルム11と金属箔12とを十分に接着させるために必要な最小の温度である。 1st temperature T1 is the range of "mp-45 degreeC <= T1 <= mp-5 degreeC" when melting | fusing point of the liquid crystal polymer which forms the insulating film 11 is set to mp. That is, the temperature is 45 ° C. or more lower than the melting point of the liquid crystal polymer and 5 ° C. or less lower than the melting point. For example, when the melting point of the liquid crystal polymer forming the insulating film 11 is 335 ° C., the first temperature T1 is in the range of “290 ° C. ≦ T1 ≦ 330 ° C.”. The lower limit “mp −45 ° C.” of the first temperature T1 is the minimum temperature required to sufficiently bond the insulating film 11 and the metal foil 12.
また、第1温度T1の上限である「mp−5℃」は、絶縁フィルム11を形成する液晶ポリマーの溶融が抑制される最大の温度である。液晶ポリマーが一度、溶融すると、液晶ポリマーの流動により分子配向が乱れてしまい、応力が残った状態でフレキシブル積層板10が形成される。その結果、再度、フレキシブル積層板10を加熱処理した際に、大きな寸法変化が生じてしまう。第1温度T1の上限を「mp−5℃」として、液晶ポリマーの溶融及び流動を抑制することにより、こうした問題が起こり難くなり、加熱処理を行う前後におけるフレキシブル積層板10の寸法変化率を低減させることができる。 Further, “mp −5 ° C.” which is the upper limit of the first temperature T1 is the maximum temperature at which the melting of the liquid crystal polymer forming the insulating film 11 is suppressed. Once the liquid crystal polymer is melted, the flow of the liquid crystal polymer disturbs the molecular orientation, and the flexible laminate 10 is formed with the stress remaining. As a result, when the flexible laminate 10 is heat-treated again, a large dimensional change occurs. By suppressing the melting and flow of the liquid crystal polymer by setting the upper limit of the first temperature T1 to “mp-5 ° C.”, such problems are less likely to occur, and the dimensional change of the flexible laminate 10 before and after heat treatment is reduced. It can be done.
第2温度T2は、絶縁フィルム11を形成する液晶ポリマーの融点をmpとしたとき、「mp−235℃≦T2≦mp−100℃」の範囲である。つまり、液晶ポリマーの融点より235℃低い温度以上、同融点より100℃低い温度以下の範囲である。例えば、絶縁フィルム11を形成する液晶ポリマーの融点が335℃である場合、第2温度T2は「100℃≦T2≦235℃」の範囲となる。第2温度T2が上記範囲となるように徐冷を行うことにより、第1温度T1に達することにより生じた液晶ポリマーの流動による配向の変化の影響を小さく抑えることができる。その結果、加熱処理を行う前後におけるフレキシブル積層板10の寸法変化率を低減させることができる。 The second temperature T2 is in the range of “mp-235 ° C. ≦ T2 ≦ mp−100 ° C.” where the melting point of the liquid crystal polymer forming the insulating film 11 is mp. That is, it is in the range of not less than 235 ° C. than the melting point of the liquid crystal polymer and not more than 100 ° C. of the melting point. For example, when the melting point of the liquid crystal polymer forming the insulating film 11 is 335 ° C., the second temperature T2 is in the range of “100 ° C. ≦ T2 ≦ 235 ° C.”. By performing slow cooling so that the second temperature T2 falls within the above range, it is possible to suppress the influence of the change in alignment due to the flow of the liquid crystal polymer caused by reaching the first temperature T1. As a result, the dimensional change rate of the flexible laminate 10 before and after heat treatment can be reduced.
なお、第1温度T1は、熱圧装置25における、加熱温度が低下側へ切り替わる位置を通過する際のフレキシブル積層板10の温度を測定することにより確認することができる。例えば、図1に示す熱圧装置25において、部位25A〜25Bを加熱ゾーンとして、第1温度T1まで加熱すべく高温で加熱し、部位25C〜25Dを徐冷ゾーンとして、第2温度T2まで低下させるべく低温で加熱した場合、部位25Bと部位25Cとの境界に対応する位置を通過する際のフレキシブル積層板10の温度を測定することにより第1温度T1を確認する。また、第2温度T2は、エンドレスベルト23、24から搬出された直後のフレキシブル積層板10の温度を測定することにより確認することができる。 In addition, 1st temperature T1 can be confirmed by measuring the temperature of the flexible laminated board 10 at the time of passing the position where heating temperature switches to the fall side in the heat | fever pressure apparatus 25. FIG. For example, in the heat and pressure unit 25 shown in FIG. 1, the portions 25A to 25B are heated as the heating zone and heated to a high temperature to heat to the first temperature T1, and the portions 25C to 25D are reduced to the second temperature T2 as the slow cooling zone In the case of heating at a low temperature so as to cause the temperature, the first temperature T1 is confirmed by measuring the temperature of the flexible laminate 10 when passing through the position corresponding to the boundary between the portion 25B and the portion 25C. Moreover, 2nd temperature T2 can be confirmed by measuring the temperature of the flexible laminated board 10 immediately after being carried out from the endless belts 23 and 24. As shown in FIG.
さらに、第1温度T1と第2温度T2との差(T1−T2)は、55〜230℃の範囲であることが好ましい。また、第1温度T1と第2温度T2との比率(T1/T2)は、1.2〜3.3の範囲であることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the difference (T1-T2) of 1st temperature T1 and 2nd temperature T2 is the range of 55-230 degreeC. The ratio (T1 / T2) of the first temperature T1 to the second temperature T2 is preferably in the range of 1.2 to 3.3.
また、エンドレスベルト23、24間を通過する際に、絶縁フィルム11及び金属箔12に加えられる面圧は、例えば、0.5〜6.0MPaの範囲であることが好ましく、1.5〜5.0MPaの範囲であることがより好ましい。 Moreover, when passing between the endless belts 23 and 24, the surface pressure applied to the insulating film 11 and the metal foil 12 is preferably in the range of 0.5 to 6.0 MPa, for example, 1.5 to 5 More preferably, it is in the range of 0. 0 MPa.
上記熱圧着工程を通じて製造されたフレキシブル積層板10は、寸法変化率の小さいフレキシブル積層板となる。例えば、JIS C 6471に規定される寸法安定性試験において、加熱温度を250℃とした場合の寸法変化率が±0.05%の範囲内となる。また、フレキシブル積層板10は、厚みムラの小さいフレキシブル積層板となる。例えば、絶縁層の幅方向における厚みの標準偏差が1.2μm以下となる。 The flexible laminated board 10 manufactured through the said thermocompression bonding process turns into a flexible laminated board with a small dimensional change rate. For example, in the dimensional stability test defined in JIS C 6471, the dimensional change when the heating temperature is 250 ° C. is in the range of ± 0.05%. Moreover, the flexible laminated board 10 turns into a flexible laminated board with a small thickness nonuniformity. For example, the standard deviation of the thickness in the width direction of the insulating layer is 1.2 μm or less.
本実施形態の製造方法により得られたフレキシブル積層板10は、フレキシブルプリント基板に用いられ、TAB(Tape Automated Bonding)方式、COF(Chip on Film)方式等の実装方式に用いられるテープにも用いることができる。また、フレキシブル積層板10の装備された製品としては、例えば、カメラ、パソコン、液晶ディスプレイ、プリンタ、携帯機器等の電子機器が挙げられる。 The flexible laminated board 10 obtained by the manufacturing method of the present embodiment is also used as a tape used for a flexible printed circuit board and used for a mounting method such as a TAB (Tape Automated Bonding) method or a COF (Chip on Film) method. Can. Moreover, as a product equipped with the flexible laminated board 10, electronic devices, such as a camera, a personal computer, a liquid crystal display, a printer, a portable device, etc. are mentioned, for example.
次に、本実施形態の効果について記載する。
(1)フレキシブル積層板の製造方法は、一対のエンドレスベルト23,24間に、液晶ポリマーからなる絶縁フィルム11と金属箔12とを連続的に供給し、エンドレスベルト23,24間で絶縁フィルム11と金属箔12とを熱圧着させてフレキシブル積層板10を形成する熱圧着工程を有する。
Next, the effects of the present embodiment will be described.
(1) In the method of manufacturing a flexible laminate, the insulating film 11 made of liquid crystal polymer and the metal foil 12 are continuously supplied between a pair of endless belts 23 and 24, and the insulating film 11 is formed between the endless belts 23 and 24. And the metal foil 12 to form a flexible laminate 10 by thermocompression bonding.
熱圧着工程において、フレキシブル積層板10の最高温度(第1温度T1)が、絶縁フィルム11を構成する液晶ポリマーの融点より45℃低い温度以上、同融点より5℃低い温度以下の範囲となるようにフレキシブル積層板10を加熱し、エンドレスベルト23,24から搬出される際のフレキシブル積層板10の出口温度(第2温度T2)が、絶縁フィルム11を構成する液晶ポリマーの融点より235℃低い温度以上、同融点より100℃低い温度以下の範囲となるようにフレキシブル積層板10を徐冷する。 In the thermocompression bonding step, the maximum temperature (first temperature T1) of the flexible laminate 10 is in the range of 45 ° C. or more lower than the melting point of the liquid crystal polymer constituting the insulating film 11 and 5 ° C. lower than the melting point The outlet temperature (second temperature T2) of the flexible laminate 10 when it is carried out of the endless belts 23 and 24 by heating the flexible laminate 10 to a temperature that is 235.degree. C. lower than the melting point of the liquid crystal polymer constituting the insulating film 11. As described above, the flexible laminate 10 is gradually cooled to a temperature not higher than 100 ° C. lower than the melting point.
上記構成によれば、フレキシブル積層板10の寸法変化率、特に250℃の加熱処理の前後における寸法変化率を低減することができる。フレキシブル積層板10をフレキシブルプリント基板として用いる場合、導体回路の形成時や、各種素子を実装するためのリフロー半田付け時に、フレキシブル積層板10は250℃程度の高温下に曝される。このときのフレキシブル積層板10の寸法変化を抑制することが、高密度実装の観点において重要となる。そのため、250℃の加熱処理の前後における寸法変化率を低減させたフレキシブル積層板10は、高密度実装用のフレキシブルプリント基板の材料として有用である。 According to the above configuration, it is possible to reduce the dimensional change rate of the flexible laminate 10, particularly the dimensional change rate before and after the heat treatment at 250 ° C. When the flexible laminate 10 is used as a flexible printed board, the flexible laminate 10 is exposed to a high temperature of about 250 ° C. when forming a conductor circuit or during reflow soldering for mounting various elements. It is important from the viewpoint of high density mounting to suppress the dimensional change of the flexible laminate 10 at this time. Therefore, the flexible laminated board 10 in which the dimensional change rate before and after heat treatment at 250 ° C. is reduced is useful as a material of a flexible printed circuit board for high density mounting.
なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
上記実施形態では、絶縁フィルム11の両面に金属箔12を熱圧着させていたが、絶縁フィルム11の片面のみに金属箔12を熱圧着させて、絶縁層の片面に金属層を有するフレキシブル積層板10を形成してもよい。
In addition, it is also possible to change and implement this embodiment as follows.
In the above embodiment, the metal foil 12 is thermocompression-bonded to both sides of the insulation film 11, but the metal foil 12 is thermocompression-bonded to only one side of the insulation film 11 to form a flexible laminate having a metal layer on one side of the insulation layer. 10 may be formed.
例えば、図2に示すように、繰出部30について、長尺状をなす離型フィルム13がロール状に巻き取られた離型フィルムロール33を設ける。そして、熱圧着工程において、繰出部30の絶縁フィルムロール31から繰り出された絶縁フィルム11の片面に対して、金属箔ロール32から繰り出された金属箔12を重ねるとともに、絶縁フィルム11の反対側の片面に対して、離型フィルムロール33から繰り出された離型フィルム13を重ねつつ、これらをダブルベルトプレス装置20に連続的に供給する。ダブルベルトプレス装置20から搬出されたフレキシブル積層板10を、離型フィルム13が重ねられた状態のまま、巻取部40においてロール状に巻き取ることにより回収する。この熱圧着工程における加熱条件及び加圧条件は、上記実施形態と同じである。 For example, as shown in FIG. 2, a release film roll 33 in which a long release film 13 is taken up in a roll shape is provided for the feeding unit 30. Then, in the thermocompression bonding step, the metal foil 12 drawn out from the metal foil roll 32 is superimposed on one side of the insulation film 11 drawn out from the insulation film roll 31 of the drawing portion 30. These are continuously supplied to the double belt press 20 while overlapping the release film 13 drawn out from the release film roll 33 on one side. The flexible laminated board 10 carried out of the double belt press apparatus 20 is collected by being wound up in a roll shape in the winding unit 40 while the release film 13 is in a stacked state. The heating conditions and pressurizing conditions in this thermocompression bonding step are the same as those in the above embodiment.
離型フィルム13は、熱圧着工程において、軟化した絶縁フィルム11のダブルベルトプレス装置20への転写を抑制するためのフィルムである。離型フィルム13としては、フレキシブル積層板の製造に用いられる公知の離型フィルムを用いることができる。特に、耐熱性が高く、かつ離型性の良い柔軟な材料、例えば、非熱圧着性の耐熱性芳香族ポリイミド、フッ素樹脂、及びシリコーン樹脂から選ばれる少なくとも一種からなる離型フィルムを用いることが好ましい。 The release film 13 is a film for suppressing transfer of the softened insulating film 11 to the double belt press 20 in the thermocompression bonding process. As the release film 13, the well-known release film used for manufacture of a flexible laminated board can be used. In particular, using a flexible material having high heat resistance and good releasability, for example, a release film made of at least one selected from heat-resistant non-thermoplastic aromatic polyimides, fluorocarbon resins, and silicone resins preferable.
なお、離型フィルム13は、フレキシブル積層板10を使用する際に適宜、剥離される。また、巻取部40に、離型フィルム13を回収する回収ロールを別に設けて、ダブルベルトプレス装置20から搬出されたタイミングで、フレキシブル積層板10から離型フィルム13を剥離させつつ、フレキシブル積層板10と離型フィルム13と別々に回収してもよい。 In addition, when using the flexible laminated board 10, the mold release film 13 peels suitably. In addition, a recovery roll for recovering the release film 13 is separately provided in the winding unit 40, and flexible lamination is performed while peeling the release film 13 from the flexible laminate 10 at the timing of being carried out from the double belt press device 20. The plate 10 and the release film 13 may be collected separately.
次に、実施例及び比較例を挙げて上記実施形態をさらに具体的に説明する。
(実施例1〜13、比較例1〜12)
ダブルベルトプレス装置を用いて、熱圧着工程における種々の加熱条件を設定し、絶縁層の両面又は片面に金属層を有するフレキシブル積層板を製造し、得られたフレキシブル積層板についてその品質を評価した。熱圧着工程における加熱条件は、表1及び表2に示すとおりである。すなわち、各実施例は、第1温度T1が「mp−45℃<T1<mp−5℃」(290℃<T1<330℃)の範囲であり、かつ第2温度T2が「mp−235℃<T2<mp−100℃」(100℃<T2<235℃)の範囲である。各比較例は、第1温度T1及び第2温度T2の一方が上記の範囲から外れている。
Next, the embodiment will be more specifically described by way of examples and comparative examples.
(Examples 1 to 13, Comparative Examples 1 to 12)
Using a double belt press, various heating conditions in the thermocompression bonding process were set, a flexible laminate having a metal layer on both sides or one side of the insulating layer was manufactured, and the quality of the obtained flexible laminate was evaluated. . The heating conditions in the thermocompression bonding step are as shown in Tables 1 and 2. That is, in each example, the first temperature T1 is in the range of “mp-45 ° C. <T1 <mp-5 ° C.” (290 ° C. <T1 <330 ° C.), and the second temperature T2 is “mp-235 ° C. It is the range of <T2 <mp-100 degreeC "(100 degreeC <T2 <235 degreeC). In each comparative example, one of the first temperature T1 and the second temperature T2 is out of the above range.
また、材料等の加熱条件以外の製造条件は以下のとおりである。
金属箔:圧延銅箔(JX日鉱日石社製、BHYX−92−HA)。
絶縁フィルム:LCPフィルム(クラレ社製、ベクスターCTZ、融点335℃)。
Moreover, manufacturing conditions other than the heating conditions of materials etc. are as follows.
Metal foil: Rolled copper foil (JX manufactured by JI Nippon Mining & Co., Ltd., BHYX-92-HA).
Insulating film: LCP film (manufactured by Kuraray, Bexter CTZ, melting point 335 ° C.).
離型フィルム:ポリイミドフィルム(宇部興産社製、ユーピレックスS、厚さ25μm)。なお、離型フィルムは、熱圧着工程後にフレキシブル積層板から剥離した。
圧力:4.0MPa
なお、使用した金属箔及び絶縁フィルムの厚さは、表1及び表2に示すとおりである。
Release film: Polyimide film (manufactured by Ube Industries, UPILEX S, thickness 25 μm). In addition, the release film peeled from the flexible laminated board after the thermocompression-bonding process.
Pressure: 4.0MPa
In addition, the thickness of the used metal foil and insulating film is as showing in Table 1 and Table 2.
(寸法変化率の評価)
JIS C 6471に規定される寸法安定性試験に準拠し、加熱温度を150℃と250℃とに変更した場合におけるフレキシブル積層板の寸法変化率を測定した。その結果を表1及び表2に示す。
(Evaluation of dimensional change rate)
Based on the dimensional stability test prescribed | regulated to JISC6471, when heating temperature was changed into 150 degreeC and 250 degreeC, the dimensional-change rate of the flexible laminated board in was measured. The results are shown in Tables 1 and 2.
(厚みムラの評価)
実施例及び比較例のフレキシブル積層板から50mm×520mm幅のサンプルを採取し、このサンプルについて、金属層をエッチング処理により除去した。そして、残った絶縁層について、打点式厚み計を用いて、幅方向10mm間隔で52点における厚さを測定し、その標準偏差を算出した。その結果を表1及び表2に示す。
(Evaluation of uneven thickness)
A 50 mm × 520 mm wide sample was taken from the flexible laminates of Examples and Comparative Examples, and the metal layer was removed by etching for this sample. And about the insulating layer which remained, thickness at 52 points was measured at intervals of 10 mm in the width direction using a hitting type thickness meter, and its standard deviation was calculated. The results are shown in Tables 1 and 2.
(ピール強度の評価)
JIS C 6471に規定される試験方法を用いて、実施例及び比較例のフレキシブル積層板について、金属層の引き剥がし強度(ピール強度)を測定した。その結果を表1及び表2に示す。
(Evaluation of peel strength)
The peeling strength (peel strength) of the metal layer was measured about the flexible laminated board of an Example and a comparative example using the test method prescribed | regulated to JISC6471. The results are shown in Tables 1 and 2.
実施例2、4、6、8、10と比較例2、4、6、8、10との比較から、第2温度T2を「mp−100℃」(235℃)よりも高い温度とした場合には、150℃及び250℃の試験における寸法変化率が倍以上に大きく増加する、という結果が得られた。 From the comparison of Examples 2, 4, 6, 8, 10 and Comparative Examples 2, 4, 6, 8, 10, when the second temperature T2 is higher than "mp-100 ° C" (235 ° C) In the results, the dimensional change rate in the test at 150.degree. C. and 250.degree. C. was greatly increased more than twice.
実施例1と、比較例11、12との比較から、第1温度T1を「mp−5℃」(330℃)よりも高い温度とした場合には、150℃及び250℃の試験における寸法変化率が倍以上に大きく増加する、という結果が得られた。 From the comparison between Example 1 and Comparative Examples 11 and 12, when the first temperature T1 is set to a temperature higher than "mp-5 ° C" (330 ° C), the dimensional change in the test at 150 ° C and 250 ° C. The result is that the rate is greatly increased more than twice.
また、表1に示すように、各実施例については、厚みムラが1.2μm以下という小さい値を示すとともに、ピール強度が0.6N/m以上という高い値を示した。
これらの結果から、第1温度T1及び第2温度T2を上記範囲内とした場合には、厚みムラ、ピール強度といった品質を確保しつつ、250℃の加熱の前後における寸法変化率を低減できることが確認できた。また、フレキシブル積層板の量産性の観点においても問題がないことが確認できた。こうした効果は、絶縁フィルムの厚さを変更した場合(実施例11、12)、及び片面に金属層を有するフレキシブル積層板とした場合(実施例13)においても同様であった。さらに、詳細なデータは省略するが、金属箔として、厚さ12μmの電解銅箔(三井金属鉱業株式会社製、3EC−VLP)を用いた場合、絶縁フィルムとして、他のLCPフィルム(プライマテック株式会社製、BIAC−BC、融点315℃、厚さ50μm)を用いた場合についても同様の結果が得られた。
Further, as shown in Table 1, in each Example, the thickness unevenness showed a small value of 1.2 μm or less and the peel strength showed a high value of 0.6 N / m or more.
From these results, when the first temperature T1 and the second temperature T2 are in the above range, the dimensional change rate before and after heating at 250 ° C. can be reduced while securing the quality such as thickness unevenness and peel strength. It could be confirmed. In addition, it has been confirmed that there is no problem in terms of mass productivity of the flexible laminate. Such effects were the same as in the case where the thickness of the insulating film was changed (Examples 11 and 12), and in the case where a flexible laminate having a metal layer on one side was used (Example 13). Furthermore, although detailed data will be omitted, when using a 12 μm thick electrolytic copper foil (3EC-VLP manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) as a metal foil, another LCP film (Primatech Co., Ltd.) as an insulating film Similar results were obtained when using company company, BIAC-BC, melting point 315 ° C., thickness 50 μm).
10…フレキシブル積層板、11…絶縁フィルム、12…金属箔、13…離型フィルム、20…ダブルベルトプレス装置、21…上側ドラム、22…下側ドラム、23,24…エンドレスベルト、25…熱圧装置、30…繰出部、31…絶縁フィルムロール、32…金属箔ロール32、33…離型フィルムロール、40…巻取部。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Flexible laminated board, 11 ... Insulating film, 12 ... Metal foil, 13 ... Releasing film, 20 ... Double belt press apparatus, 21 ... Upper drum, 22 ... Lower drum, 23, 24 ... Endless belt, 25 ... Thermal Pressure device, 30: Delivery part, 31: Insulation film roll, 32: Metal foil roll 32, 33: Releasing film roll, 40: Take-up part.
Claims (4)
前記液晶ポリマーは、融点が250℃を超える液晶ポリマーであるとともに、エチレンテレフタレートとパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマー、フェノール及びフタル酸とパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマー、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸とパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマーから選ばれる液晶ポリマーであり、
JIS C 6471に規定される寸法安定性試験において、加熱温度を250℃とした場合の寸法変化率が±0.05%の範囲内であり、
前記絶縁層の幅方向における厚みの標準偏差が1.2μm以下であることを特徴とするフレキシブル積層板。 A flexible laminate comprising: an insulating layer made of liquid crystal polymer; and a metal layer formed on one side or both sides of the insulating layer,
The liquid crystal polymer, the liquid crystal polymer der Rutotomoni the melting point of higher than 250 ° C., ethylene terephthalate and a liquid crystal polymer with the structural unit parahydroxybenzoate, liquid crystal polymer as constituent units phenol and phthalic acid and p-hydroxybenzoic acid, A liquid crystal polymer selected from liquid crystal polymers having 6-hydroxy-2-naphthoic acid and parahydroxybenzoic acid as structural units,
In the dimensional stability test defined in JIS C 6471, the dimensional change when the heating temperature is 250 ° C. is in the range of ± 0.05%,
The flexible laminated board characterized by the standard deviation of the thickness in the width direction of the said insulating layer being 1.2 micrometers or less.
一対のエンドレスベルト間に、液晶ポリマーからなる絶縁フィルムと金属箔とを連続的に供給し、前記エンドレスベルト間で絶縁フィルムと金属箔とを熱圧着させてフレキシブル積層板を形成する熱圧着工程を有し、
前記液晶ポリマーは、エチレンテレフタレートとパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマー、フェノール及びフタル酸とパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマー、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸とパラヒドロキシ安息香酸を構成単位とする液晶ポリマーから選ばれる液晶ポリマーであり、
前記熱圧着工程において、
前記フレキシブル積層板の最高温度が、前記絶縁フィルムを構成する液晶ポリマーの融点より45℃低い温度以上、同融点より5℃低い温度以下の範囲となるように前記フレキシブル積層板を加熱するとともに、
前記エンドレスベルトから搬出される際の前記フレキシブル積層板の出口温度が、前記絶縁フィルムを構成する液晶ポリマーの融点より235℃低い温度以上、同融点より100℃低い温度以下の範囲となるように前記フレキシブル積層板を徐冷することを特徴とするフレキシブル積層板の製造方法。 A method of manufacturing a flexible laminate, comprising
An insulating film made of liquid crystal polymer and metal foil are continuously supplied between a pair of endless belts, and the insulating film and the metal foil are thermocompression-bonded between the endless belts to form a flexible laminated plate Have
The liquid crystal polymer is a liquid crystal polymer having ethylene terephthalate and parahydroxybenzoic acid as a constitutional unit, a liquid crystal polymer having phenol and phthalic acid and parahydroxybenzoic acid as a constitutional unit, 6-hydroxy-2-naphthoic acid and parahydroxybenzoic acid A liquid crystal polymer selected from liquid crystal polymers having
In the thermocompression bonding step,
The flexible laminate is heated such that the maximum temperature of the flexible laminate is in the range of 45 ° C. or more lower than the melting point of the liquid crystal polymer constituting the insulating film and 5 ° C. lower than the same melting point.
The outlet temperature of the flexible laminate at the time of being carried out from the endless belt is in the range of not less than 235 ° C. lower than the melting point of the liquid crystal polymer constituting the insulating film and not more than 100 ° C. lower than the melting point. A method of manufacturing a flexible laminate, comprising: slow cooling the flexible laminate.
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