JP6526219B2 - 試料保持具 - Google Patents

試料保持具 Download PDF

Info

Publication number
JP6526219B2
JP6526219B2 JP2017543044A JP2017543044A JP6526219B2 JP 6526219 B2 JP6526219 B2 JP 6526219B2 JP 2017543044 A JP2017543044 A JP 2017543044A JP 2017543044 A JP2017543044 A JP 2017543044A JP 6526219 B2 JP6526219 B2 JP 6526219B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bonding layer
sample holder
sample
base
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017543044A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2017056835A1 (ja
Inventor
鶴丸 尚文
尚文 鶴丸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Publication of JPWO2017056835A1 publication Critical patent/JPWO2017056835A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6526219B2 publication Critical patent/JP6526219B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本開示は、試料保持具に関するものである。
半導体製造装置等に用いられる試料保持具として、例えば、特開2006−13302号公報(以下、特許文献1ともいう)に記載の基板載置装置が知られている。特許文献1に記載の基板載置装置においては、一方の面に基板載置面を持つ、板状のセラミック基材と、セラミック基材の他方の面上に形成された接合層とを備えている。接合層は、面内を複数の領域に分けられており、領域ごとに熱伝導率の異なる接合材が配置されている。特許文献1に記載の基板載置装置においては、領域ごとに熱伝導率の異なる接合材を用いることによって、基板温度の均熱性を向上させている。
本開示の試料保持具は、セラミックスを含んでおり上面に試料保持面を有する基体と、金属を含んでおり上面で前記基体の下面を覆う支持体と、前記基体の下面および前記支持体の上面を接合する接合層とを備えている。前記接合層は、少なくとも一部が中央側に設けられた第1部分と、前記接合層の外周側に位置するとともに前記第1部分に隣接し、前記第1部分と熱伝導率が異なる第2部分とを有する。前記試料保持面に垂直な断面を見たときに、前記第1部分と前記第2部分との境界が前記試料保持面に垂直な方向に対して傾斜しており、前記第2部分が前記中央側に向かうにつれて厚みが薄くなる部分を有するとともに、前記厚みが薄くなる部分が前記第1部分に挟まれている。
本開示の試料保持具によれば、第1部分と第2部分との境界が試料保持面に垂直な方向に対して傾斜している。これにより、接合層における熱伝度率の変化を緩やかにすることができる。そのため、試料保持面のうち第1部分と第2部分との境界の直上において、熱の分布の偏りを低減することができる。その結果、試料温度の均熱性を向上させることができる。
本開示の一例の試料保持具を示す断面図である。 図1に示す試料保持具のうち吸着電極を示す平面透視図である。 試料保持具の他の例を示す断面図である。 試料保持具の他の例を示す断面図である。 試料保持具の他の例を示す断面図である。 試料保持具の他の例を示す断面図である。 試料保持具の他の例を示す断面図である。
以下、試料保持具10について、図面を参照して説明する。
図1は試料保持具10を示す断面図である。図1に示すように、本開示の試料保持具10は、上面に試料保持面11を有する基体1と、金属を含んでおり上面で基体1の下面を覆う支持体4と、基体1の下面および支持体4の上面を接合する接合層5とを備えている。また、試料保持具10は、基体1の下面に設けられた発熱抵抗体2と、基体1の内部に設けられた吸着電極3とを備えている。なお、ここでいう「上面」および「下面」とは、説明の都合上、用いた表現であって、試料保持具10の使用方法を限定するものではない。すなわち、試料保持具10は、例えば、上面を下側になるようにして(下面を上側になるようにして)用いてもよいし、上面が横側になるようにして用いてもよい。
基体1は、上面に試料保持面11を有する板状の部材である。基体1は、上面の試料保持面11において、例えば、シリコンウエハ等の試料を保持する。試料保持具10は、平面視したときの形状が円形状の部材である。ここでいう、平面視とは、基体1の上面に対して垂直な方向から見ることを意味している。基体1は、例えばアルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素またはイットリア等のセラミック材料を含んでいる。基体1の下面には、発熱抵抗体2が設けられている。基体1の寸法は、例えば、径を200〜500mm、厚みを2〜15mmに設定できる。
基体1を用いて試料を保持する方法としては様々な方法を用いることができる。本開示の試料保持具10は静電気力によって試料を保持する。そのため、試料保持具10は基体1の内部に吸着電極3を備えている。図2に示すように、吸着電極3は、2つの電極を有する。2つの電極は、一方が電源の正極に接続され、他方が負極に接続される。2つの電極は、それぞれの形状が略半円板状であるとともに、略半円形状の弦同士が対向するように、基体1の内部に位置している。それら2つの電極が合わさって、吸着電極3全体の外形が略円形状となっている。この吸着電極3全体による円形状の外形の中心は、同じく円形状の基体1の外形の中心と同一である。吸着電極3は、例えば白金、タングステンまたはモリブデン等の金属材料を有する。
発熱抵抗体2は、基体1の上面の試料保持面11に保持された試料を加熱するための部材である。発熱抵抗体2は、基体1の下面に設けられている。発熱抵抗体2に電圧を印加することによって、発熱抵抗体2を発熱させることができる。発熱抵抗体2で発せられた熱は、基体1の内部を伝わって、基体1の上面における試料保持面11に到達する。これにより、試料保持面11に保持された試料を加熱することができる。発熱抵抗体2の形状は、例えば、複数の折り返し部を有する線状である。発熱抵抗体2は、例えば、膜状である。発熱抵抗体2は、基体1の下面のほぼ全面に設けられている。これにより、試料保持具10の上面において熱分布にばらつきが生じることを低減できる。なお、本開示の試料保持具10においては、発熱抵抗体2は基体1の下面に設けられているが、これに限られない。例えば、発熱抵抗体2は、基体1の内部において試料保持面11に平行な面に設けられていてもよい。また、発熱抵抗体2は、基体1の内部において試料保持面11に対向する面に設けられていてもよい。
発熱抵抗体2は、導体成分およびガラス成分を含んでいる。導体成分としては、例えば銀パラジウム、白金、アルミニウムまたは金等の金属材料を含んでいる。ガラス成分が発泡してしまうことを低減するために、金属材料としては大気中で焼結可能な金属を用いてもよい。また、ガラス成分としては、ケイ素、アルミニウム、ビスマス、カルシウム、ホウ素および亜鉛等の材料の酸化物を含んでいる。また発熱抵抗体2が基体1の内部に設けられる場合は、導体成分はタングステンまたは炭化タングステン等であってもよい。
試料保持具10の温度制御には以下の方法を用いることができる。具体的には、基体1に熱電対を接触させることによって温度を測定できる。また、基体1に、測温抵抗体を接触させて抵抗を測定することによっても発熱抵抗体2の温度を測定できる。以上のようにして測定した発熱抵抗体2の温度に基づいて、発熱抵抗体2に印加する電圧を調整することによって、試料保持具10の温度が一定になるように発熱抵抗体2の発熱を制御することができる。
支持体4は、基体1を支持するために設けられている。支持体4は、金属を含んでいる。支持体4は、上面で基体1の下面を覆っている。基体1の下面と支持体4の上面とは接合層3によって接合されている。支持体4を構成する金属は特に制限されない。ここでいう「金属」とは、セラミックスと金属との複合材料および繊維強化金属等の、金属を含む複合材料も含んでいる。一般的に、ハロゲン系の腐食性ガス等に曝される環境下において試料保持具10を用いる場合には、支持体4に用いられる金属として、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、ステンレス鋼またはニッケル(Ni)あるいはこれらの金属の合金を使用することができる。また、支持体4の構造は、特に限定されるものではないが、気体または液体等の熱媒体を循環させるための冷却用の流路を備えていてもよい。この場合には、熱媒体として水またはシリコーンオイル等の液体あるいはヘリウム(He)または窒素(N)等の気体を用いることができる。
接合層5は、基体1と支持体4とを接合するために設けられている。接合層5は、基体1の下面および支持体4の上面を接合している。接合層5の厚みは、例えば、0.1〜1mm程度に設定される。
ここで、接合層5は、少なくとも一部が中央側に設けられた第1部分51と、接合層5の外周側に位置するとともに第1部分51に隣接し、第1部分51と熱伝導率が異なる第2部分52とを有している。基体1の下面の形状が円形状の場合には、接合層5のうち第1部分51は基体1の下面の中心に接している。
試料保持面11に垂直な断面を見たときに、第1部分51と第2部分52との境界が試料保持面11に垂直な方向に対して傾斜している。言い換えると、試料保持面11に垂直な方向において第1部分51と第2部分52とが部分的に重なる領域を有している。なお、図1においては、第1部分51と第2部分52との境界が直線状であるとともに、この直線状である境界が試料保持面11に垂直な方向に対して傾斜しているが、これに限られない。具体的には、第1部分51と第2部分52との境界が曲線状であっても、折れ線状であってもよい。このような場合には、第1部分51と第2部分52の境界が、試料保持面11に垂直な方向に対して傾いている部分を有していれば良い。
これにより、接合層5における熱伝度率の変化を緩やかにすることができる。そのため、試料保持面11のうち第1部分51と第2部分52との境界の直上において、熱の分布の偏りを低減することができる。その結果、試料温度の均熱性を向上させることができる。
接合層5が直径200〜500mmの円形状の場合には、第1部分51の形状および寸法および第2部分52の形状および寸法は、以下の通り設定できる。第1部分51は直径150〜450mmの円形状に設定できる。第2部分52は幅25mmの円環状に設定できる。なお、ここでいう形状および寸法は、接合層5のうち基体1の下面と支持体4の上面との中間に位置する領域における第1部分51、第2部分52または接合層5の直径を意味している。
試料保持面11に垂直な方向で見たときに第1部分51と第2部分52とが重なっている領域の幅は0.1〜10mm程度に設定できる。また、第1部分51の寸法は、例えば、直径を接合層5の直径に対して75〜90%に設定できる。第2部分52の寸法は、例えば、幅を接合層5の直径に対して5〜12.5%に設定できる。
また、第1部分51の熱伝導率よりも第2部分52の熱伝導率が小さくてもよい。これにより、接合層5の外周側への熱の伝達を低減することができるので、接合層5の外周面からの外部への熱引けを低減することができる。第1部分51に用いられる材料としては、例えば、シリコン樹脂またはエポキシ樹脂等を用いることができる。第1部分51にシリコン樹脂を用いた場合には、第1部分51の熱伝導率を0.1〜10W/mKにすることができる。また、第2部分52に用いられる材料としては、例えば、エポキシ樹脂等を用いることができる。第2部分52にエポキシ樹脂を用いた場合には、第2部分52の熱伝導率を0.1〜5W/mKにすることができる。
また、第1部分51と第2部分52とが、共に主成分が同じ材料であってもよい。このような場合には、フィラー(骨材)を添加する量を第1部分51よりも第2部分52の方を少なくすることによって、第1部分51の熱伝導率よりも第2部分52の熱伝導率を小さくすることができる。なお、ここでいう主成分とは、第1部分51が有する材料または第2部分52が有する材料のうち、最も含有量(質量%)が多いものを意味している。
フィラーとしては、第1部分51および第2部分52の主成分よりも熱伝導率が高いものを用いることができる。フィラーとしては、例えば、セラミック材料または金属材料等を用いることができる。接合層5における絶縁性を考慮するのであれば、フィラーとしては、セラミック材料を用いることができる。セラミック材料としては、例えば、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素またはイットリア等を用いることができる。
また、図3に示すように、試料保持面11に垂直な断面を見たときに、第1部分51が第2部分52と基体1との間に入り込むとともに、境界が第1部分51が凹むように弧状に曲がっていてもよい。第1部分51と第2部分52との境界を弧状にしておくことによって、ヒートサイクル下において境界において熱応力が生じたときに、クラック等が生じるおそれを低減できる。
また、図4に示すように、試料保持面11に垂直な断面を見たときに、第1部分51が第2部分52と支持体4との間に入り込むとともに、境界が第1部分51が凹むように弧状に曲がっていてもよい。基体1の下面にヒータが設けられており、かつ、支持体4に冷却用の流路が設けられている場合には、接合層5のうち特に支持体4の近くに位置する部分において大きな熱応力が生じることになる。このとき、第1部分51が第2部分52と支持体4との間に入り込んでいることによって、第1部分51と第2部分52の境界を支持体4の近くにおいて(支持体4の上面に対して)緩やかに傾斜させることができる。これにより、第1部分51と第2部分52と支持体4との間に生じる熱応力を低減できる。
また、図5に示すように、試料保持面11に垂直な断面を見たときに、第2部分52が第1部分51と基体1との間に入り込むとともに、境界が第2部分52が凹むように弧状に曲がっていてもよい。境界が弧状であることによって、ヒートサイクル下において境界において熱応力が生じたときに、クラック等が生じるおそれを低減できる。特に、外部への熱引きが大きいような環境で用いる際には、第1部分51が第2部分52と比較して大きく熱膨張することになるので、境界を第2部分52が凹むような弧状にしておくことによって、第1部分51の熱膨張で生じた応力を第2部分52で吸収しやすくできる。
また、図6に示すように、試料保持面11に垂直な断面を見たときに、第2部分52が第1部分51と支持体4との間に入り込むとともに、境界が第2部分52が凹むように弧状に曲がっていてもよい。基体1の下面にヒータが設けられており、かつ、支持体4に冷却用の流路が設けられている場合には、接合層5のうち特に支持体4の近くに位置する部分において大きな熱応力が生じることになる。このとき、第2部分52が第1部分51と支持体4との間に入り込んでいることによって、第1部分51と第2部分52の境界を支持体4の近くにおいて(支持体4の上面に対して)緩やかに傾斜させることができる。これにより、第1部分51と第2部分52と支持体4との間に生じる熱応力を低減できる。
さらに、中心側に位置する第1部分51は、第2部分52と比較して熱がこもりやすいことから、熱膨張しやすい。ここで、第2部分52が第1部分51と支持体4との間に入り込んでいることによって、第1部分51で生じた熱膨張を第2部分52で吸収しやすくできる。その結果、クラック等が生じるおそれを低減できる。
また、図7に示すように、第2部分52が中央側に向かうにつれて厚みが薄くなる部分を有するとともに、厚みが薄くなる部分が第1部分51に挟まれていてもよい。第1部分51が第2部分52を挟み込むことによって、第2部分52で生じた熱膨張を第1部分51で抑え込むように低減することができる。
また、第1部分51が、外周側に向かうに連れて厚みが薄くなるとともに、厚みが薄くなっている部分が第2部分52に挟まれていてもよい。第2部分52が第1部分51を挟み込むことによって、第1部分51で生じた熱膨張を第2部分52で抑え込むように低減することができる。
また、第2部分52が、接合層5の外周の全周にわたって設けられていてもよい。第2部分52が接合層5の全周に設けられていることによって、試料保持具10の均熱性を向上できる。特に、上記の構成に加えて、第2部分52の熱伝導率が第1部分51よりも小さい場合には、熱引けを小さくし、外周側の温度低下を一様に低減できる。その結果、試料保持具10の均熱性を向上できる。
1:基体
2:発熱抵抗体
3:吸着電極
4:支持体
5:接合層
51:第1部分
52:第2部分
10:試料保持具
11:試料保持面

Claims (3)

  1. セラミックスを含んでおり上面に試料保持面を有する基体と、金属を含んでおり上面で前記基体の下面を覆う支持体と、前記基体の下面および前記支持体の上面を接合する接合層とを備えており、
    前記接合層は、少なくとも一部が中央側に設けられた第1部分と、前記接合層の外周側に位置するとともに前記第1部分に隣接し、前記第1部分と熱伝導率が異なる第2部分とを有しており、
    前記試料保持面に垂直な断面を見たときに、前記第1部分と前記第2部分との境界が前記試料保持面に垂直な方向に対して傾斜しており、前記第2部分が前記中央側に向かうにつれて厚みが薄くなる部分を有するとともに、前記厚みが薄くなる部分が前記第1部分に挟まれている試料保持具。
  2. 前記第1部分の熱伝導率よりも前記第2部分の熱伝導率が小さい請求項1に記載の試料保持具。
  3. 前記第2部分が、前記接合層の外周の全周にわたって設けられている請求項1または2に記載の試料保持具。
JP2017543044A 2015-09-29 2016-08-31 試料保持具 Active JP6526219B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015191133 2015-09-29
JP2015191133 2015-09-29
PCT/JP2016/075464 WO2017056835A1 (ja) 2015-09-29 2016-08-31 試料保持具

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2017056835A1 JPWO2017056835A1 (ja) 2018-03-15
JP6526219B2 true JP6526219B2 (ja) 2019-06-05

Family

ID=58423327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017543044A Active JP6526219B2 (ja) 2015-09-29 2016-08-31 試料保持具

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6526219B2 (ja)
WO (1) WO2017056835A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019082875A1 (ja) * 2017-10-26 2019-05-02 京セラ株式会社 試料保持具
JP6462192B1 (ja) * 2018-04-10 2019-01-30 新電元工業株式会社 電力変換装置および電力変換装置の製造方法
JP6995019B2 (ja) * 2018-06-27 2022-01-14 京セラ株式会社 試料保持具

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5978202A (en) * 1997-06-27 1999-11-02 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck having a thermal transfer regulator pad
JP2000096244A (ja) * 1998-09-28 2000-04-04 Ebara Corp 基板載置台及び成膜装置
JP4409373B2 (ja) * 2004-06-29 2010-02-03 日本碍子株式会社 基板載置装置及び基板温度調整方法
JP6320694B2 (ja) * 2013-07-03 2018-05-09 住友電工プリントサーキット株式会社 電気部品及びその製造方法
JP6413646B2 (ja) * 2014-10-31 2018-10-31 住友大阪セメント株式会社 静電チャック装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2017056835A1 (ja) 2018-03-15
WO2017056835A1 (ja) 2017-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5823915B2 (ja) 静電チャックの製造方法
JP2021525454A5 (ja)
CN108353469B (zh) 加热器
JP6526219B2 (ja) 試料保持具
JP5276751B2 (ja) 静電チャック及びそれを含む基板処理装置
JP6597437B2 (ja) 静電チャック装置
JP6231443B2 (ja) 接合体およびこれを用いたウエハ支持部材
KR102224133B1 (ko) 시료 유지구
JP2017147312A (ja) 保持装置および保持装置の製造方法
JPWO2018180329A1 (ja) 試料保持具
JP6317242B2 (ja) 試料保持具
JP4744016B2 (ja) セラミックヒータの製造方法
JP6603153B2 (ja) 試料保持具
JP2017228627A (ja) 加熱冷却モジュール
JP7723346B2 (ja) ウエハ保持体
WO2004049762A1 (ja) 金属ヒータ
JP6829087B2 (ja) 試料保持具
JP6743299B2 (ja) 試料保持具
JP2022094466A (ja) 静電チャック装置
JP2016225355A (ja) 試料保持具およびこれを用いたプラズマエッチング装置
JP6856357B2 (ja) ヒータ
JP2019117745A (ja) ヒータ
JP2018107238A (ja) 試料保持具
JP2004139964A (ja) 金属ヒータ
JP2019062137A (ja) 試料保持具

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20171121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190125

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190402

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190507

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6526219

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150