JP6898403B2 - 基板搬送システム、基板処理装置、及び基板搬送方法 - Google Patents
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Description
Claims (7)
- 基板搬送システムであって、
基板を基板容器から移送するように構成されるフロントエンドユニットと、
前記フロントエンドユニットに接合する移送モジュールと、
前記移送モジュールの前記フロントエンドユニットとは反対側において前記移送モジュールに結合されている基板処理チャンバであって、前記移送モジュール及び前記処理チャンバが前記フロントエンドユニットから基板を搬送するための前記フロントエンドユニットの搬送経路に沿って実質的に直列の配置を有する基板処理チャンバと、
前記フロントエンドユニットから基板を移送するために、前記フロントエンドユニットの搬送経路に沿って前記移送モジュールと実質的にインライン配列を有するように前記移送モジュールに結合された基板処理チャンバと、
駆動部を含む基板搬送機と、を含み、
前記駆動部は、固定位置において前記移送モジュール、2つのアームリンク及び少なくとも1つのエンドエフェクタと結合されており、前記2つのアームリンク及び前記少なくとも1つのエンドエフェクタは、前記移送モジュール内に配されかつ互いに直列に結合され、
前記2つのアームリンクは、各々第1のアームリンク及び第2のアームリンクであり、
前記第1のアームリンクは、前記移送モジュールのハウジングに第1のアームリンク回転軸周りに枢動可能に接続されており、
前記第2のアームリンクは、前記第1のアームリンクに第2のアームリンク回転軸周りに枢動可能に接続され、
前記基板搬送機は、前記基板搬送機の前記2つのアームリンク及び前記少なくとも1つのエンドエフェクタの前記第1のアームリンク回転軸周りに回転するユニットとしての共同の同時の同一回転方向の回転無しに、前記2つのアームリンク及び前記少なくとも1つのエンドエフェクタを直線経路に沿った2方向に伸展して、前記基板搬送機の前記2つのアームリンク及び前記少なくとも1つのエンドエフェクタが、前記移送モジュールを通り抜けて前記移送モジュールを跨いだ両側に存在し、直線でありかつ前記移送モジュールを通って互いにアラインメントされている前記直線経路に沿った連続した直線動作を行って、前記処理チャンバと前記フロントエンドユニットとの間の前記直線経路に沿って基板を搬送するように構成され、
前記直線経路は、前記移送モジュールの各々を通って伸長しかつ前記移送モジュールの各々の中心に近接した中心線軸を有し、
前記第1のアームリンクは、第1の端部において前記の移送モジュールの前記ハウジングに前記第1のアームリンク回転軸周りに枢動可能に接合され、前記第1のアームリンクは第1の長さを有し、
前記第2のアームリンクの第1の端部は、前記第1のアームリンクの第2端部に前記第2のアームリンク回転軸周りに枢動可能に結合され、前記第2のアームリンクは前記第1の長さとは異なる第2の長さを有し、前記第2のアームリンクの回転は前記第1のアームリンクの回転に従属し、
前記少なくとも1つのエンドエフェクタは、前記第2のアームリンクの第2端部に枢動可能に接合され、少なくとも1つの基板を保持するように構成され、前記第1および第2リンクと独立して回転できるように駆動されることを特徴とするシステム。 - 前記フロントエンドユニットがそれぞれ実質的に平行な複数の作業経路を備え、移送モジュールが前記の複数作業経路のそれぞれに接続されていることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送システム。
- 前記移送モジュールが、少なくとも1つの基板をバッファするためのバッファ部と、前記基板搬送機の少なくとも一部を格納する搬送部を備えていることを特徴とする請求項1
に記載の基板搬送システム。 - 前記移送モジュールが、前記バッファ部を前記搬送部から隔離可能な雰囲気を有するロードロックに転換するよう構成される着脱自在の弁インサートをさらに備えていることを特徴とする請求項3に記載の基板搬送システム。
- 前記バッファ部および搬送部が、前記処理チャンバおよびフロントエンドユニットから選択可能に隔離可能な単一のチャンバ単体を形成していることを特徴とする請求項3に記載の基板搬送システム。
- 前記移送モジュールに少なくとも1つの基板バッファと、基板冷却装置と、基板アライナとを含むことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送システム。
- 基板搬送システムであって、
基板を基板容器から移送するように構成されるフロントエンドユニットと、
前記フロントエンドユニットに接合する移送モジュールと、
前記移送モジュールの前記フロントエンドユニットとは反対側において前記移送モジュールに結合されている基板処理チャンバであって、前記移送モジュール及び前記処理チャンバが前記フロントエンドユニットから基板を搬送するための前記フロントエンドユニットの搬送経路に沿って実質的に直列の配置を有する基板処理チャンバと、
前記フロントエンドユニットから基板を移送するために、前記フロントエンドユニットの搬送経路に沿って前記移送モジュールと実質的にインライン配列を有するように前記移送モジュールに結合された基板処理チャンバと、
駆動部を含む基板搬送機と、を含み、
前記駆動部は、固定位置において前記移送モジュール、2つのアームリンク及び1つのエンドエフェクタまたは2つエンドエフェクタと結合されており、前記2つのアームリンク及び前記1つのエンドエフェクタまたは2つのエンドエフェクタは、前記移送モジュール内に配されかつ互いに直列に結合され、
前記駆動部は複数の駆動源を有し、前記複数の駆動源は前記1のエンドエフェクタ及び2つのエンドエフェクタの一方と共に構成された前記基板搬送機に共通であり、
前記2つのアームリンクは、各々第1のアームリンク及び第2のアームリンクであり、
前記第1のアームリンクは、前記移送モジュールのハウジングに第1のアームリンク回転軸周りに枢動可能に接続されており、
前記第2のアームリンクは、前記第1のアームリンクに第2のアームリンク回転軸周りに枢動可能に接続され、
前記基板搬送機は、前記基板搬送機の前記2つのアームリンク及び前記1つのエンドエフェクタまたは前記2つのエンドエフェクタの前記第1のアームリンク回転軸周りに回転するユニットとしての共同の同時の同一回転方向の回転無しに、前記共通の複数の駆動源を用いて前記2つのアームリンク及び前記1つのエンドエフェクタまたは前記2つのエンドエフェクタを、前記基板搬送機が前記1つのエンドエフェクタを有するかまたは前記2つのエンドエフェクタを有するかにかかわらず、直線経路に沿った2方向に伸展して、前記基板搬送機の前記2つのアームリンク及び前記1つのエンドエフェクタまたは前記2つのエンドエフェクタが、前記移送モジュールを通り抜けて前記移送モジュールを跨いだ両側に存在し、直線でありかつ前記移送モジュールを通って互いにアラインメントされている前記直線経路に沿った連続した直線動作を行って、前記処理チャンバと前記フロントエンドユニットとの間の前記直線経路に沿って基板を搬送するように構成され、
前記直線経路は、前記移送モジュールの各々を通って伸長しかつ前記移送モジュールの各々の中心に近接した中心線軸を有し、
前記第1のアームリンクは、第1の端部において前記の移送モジュールの前記ハウジングに前記第1のアームリンク回転軸周りに枢動可能に接合され、前記第1のアームリンクは第1の長さを有し、
前記第2のアームリンクの第1の端部は、前記第1のアームリンクの第2端部に前記第2のアームリンク回転軸周りに枢動可能に結合され、前記第2のアームリンクは前記第1の長さとは異なる第2の長さを有し、前記第2のアームリンクの回転は前記第1のアームリンクの回転に従属し、
前記1つのエンドエフェクタまたは前記2つのエンドエフェクタは、前記第2のアームリンクの第2端部に枢動可能に接合され、少なくとも1つの基板を保持するように構成され、前記1つのエンドエフェクタまたは前記2つのエンドエフェクタは、前記第1および第2リンクと独立して回転できるように駆動されることを特徴とするシステム。
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Families Citing this family (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6918731B2 (en) | 2001-07-02 | 2005-07-19 | Brooks Automation, Incorporated | Fast swap dual substrate transport for load lock |
| US10086511B2 (en) * | 2003-11-10 | 2018-10-02 | Brooks Automation, Inc. | Semiconductor manufacturing systems |
| EP2659506B1 (en) * | 2010-12-29 | 2021-08-25 | Evatec AG | Vacuum treatment apparatus and a method for manufacturing |
| CN110620473B (zh) * | 2011-09-16 | 2025-05-06 | 柿子技术公司 | 具有被动转子的机器人驱动器 |
| US9202733B2 (en) * | 2011-11-07 | 2015-12-01 | Persimmon Technologies Corporation | Robot system with independent arms |
| KR101271794B1 (ko) * | 2011-12-01 | 2013-06-07 | 박호현 | 로드락 챔버 |
| JP5885528B2 (ja) * | 2012-02-14 | 2016-03-15 | 株式会社安川電機 | 搬送装置 |
| US9149936B2 (en) | 2013-01-18 | 2015-10-06 | Persimmon Technologies, Corp. | Robot having arm with unequal link lengths |
| US10224232B2 (en) | 2013-01-18 | 2019-03-05 | Persimmon Technologies Corporation | Robot having two arms with unequal link lengths |
| KR102214943B1 (ko) * | 2013-01-18 | 2021-02-10 | 퍼시몬 테크놀로지스 코포레이션 | 상이한 링크 길이를 가지는 아암이 구비되는 로봇 |
| WO2014116681A2 (en) | 2013-01-22 | 2014-07-31 | Brooks Automation, Inc. | Substrate transport |
| TWI623994B (zh) | 2013-07-08 | 2018-05-11 | 布魯克斯自動機械公司 | 具有即時基板定心的處理裝置 |
| US10348172B2 (en) | 2013-11-13 | 2019-07-09 | Brooks Automation, Inc. | Sealed switched reluctance motor |
| WO2015073647A1 (en) | 2013-11-13 | 2015-05-21 | Brooks Automation, Inc. | Sealed robot drive |
| TWI695447B (zh) * | 2013-11-13 | 2020-06-01 | 布魯克斯自動機械公司 | 運送設備 |
| KR20230116962A (ko) | 2013-11-13 | 2023-08-04 | 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 | 브러쉬리스 전기 기계 제어 방법 및 장치 |
| WO2015170972A1 (en) * | 2014-05-07 | 2015-11-12 | Mapper Lithography Ip B.V. | Enclosure for a target processing machine |
| CN114367970B (zh) | 2015-03-12 | 2024-04-05 | 柿子技术公司 | 具有从动末端执行器运动的机器人 |
| CN106298583B (zh) * | 2015-05-27 | 2019-12-03 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 处理腔、处理腔和真空锁组合以及基片处理系统 |
| US9564350B1 (en) * | 2015-09-18 | 2017-02-07 | Globalfoundries Inc. | Method and apparatus for storing and transporting semiconductor wafers in a vacuum pod |
| US9881820B2 (en) | 2015-10-22 | 2018-01-30 | Lam Research Corporation | Front opening ring pod |
| US20170115657A1 (en) * | 2015-10-22 | 2017-04-27 | Lam Research Corporation | Systems for Removing and Replacing Consumable Parts from a Semiconductor Process Module in Situ |
| US10124492B2 (en) | 2015-10-22 | 2018-11-13 | Lam Research Corporation | Automated replacement of consumable parts using end effectors interfacing with plasma processing system |
| US10062599B2 (en) | 2015-10-22 | 2018-08-28 | Lam Research Corporation | Automated replacement of consumable parts using interfacing chambers |
| JP7158133B2 (ja) * | 2017-03-03 | 2022-10-21 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 雰囲気が制御された移送モジュール及び処理システム |
| JP7251673B2 (ja) * | 2017-06-16 | 2023-04-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| JP6939335B2 (ja) * | 2017-09-27 | 2021-09-22 | Tdk株式会社 | ロードポート装置、ロードポート装置の駆動方法 |
| TWI628133B (zh) * | 2017-11-03 | 2018-07-01 | 東台精機股份有限公司 | 雙向搬運臺車 |
| US11380564B2 (en) * | 2018-09-19 | 2022-07-05 | Applied Materials, Inc. | Processing system having a front opening unified pod (FOUP) load lock |
| KR102108312B1 (ko) * | 2018-10-31 | 2020-05-12 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
| US20200395232A1 (en) * | 2019-06-14 | 2020-12-17 | Brooks Automation, Inc. | Substrate process apparatus |
| US11031269B2 (en) * | 2019-08-22 | 2021-06-08 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Substrate transport robot, substrate transport system, and substrate transport method |
| US11823932B2 (en) * | 2020-08-26 | 2023-11-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate processing system and substrate processing apparatus |
| KR102625679B1 (ko) * | 2021-11-05 | 2024-01-17 | 프리시스 주식회사 | 로드락모듈 및 이를 포함하는 기판처리시스템 |
| JP7582232B2 (ja) | 2022-03-03 | 2024-11-13 | 村田機械株式会社 | 保管装置及び保管方法 |
Family Cites Families (53)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0590381A (ja) * | 1991-09-26 | 1993-04-09 | Tokyo Electron Ltd | 搬送装置 |
| US5102280A (en) | 1989-03-07 | 1992-04-07 | Ade Corporation | Robot prealigner |
| IT1251017B (it) | 1991-05-21 | 1995-04-28 | Ugo Crippa | Meccanismo per compiere traiettorie prefissate assimilabili ad ellittiche |
| JP3429786B2 (ja) * | 1991-05-29 | 2003-07-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置 |
| JPH0536809A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体基板処理装置に於ける半導体基板搬送アーム |
| US5334761A (en) * | 1992-08-28 | 1994-08-02 | Life Technologies, Inc. | Cationic lipids |
| JPH0697258A (ja) * | 1992-09-17 | 1994-04-08 | Hitachi Ltd | 連続真空処理装置 |
| JPH06285780A (ja) * | 1993-04-06 | 1994-10-11 | Kokusai Electric Co Ltd | 搬送用ロボット |
| KR100267617B1 (ko) | 1993-04-23 | 2000-10-16 | 히가시 데쓰로 | 진공처리장치 및 진공처리방법 |
| JPH07142551A (ja) * | 1993-11-20 | 1995-06-02 | Tokyo Electron Ltd | 搬送アーム装置及びこれを用いた処理室集合装置 |
| JP3554534B2 (ja) | 1995-12-12 | 2004-08-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体処理装置の基板支持機構及び基板交換方法、並びに半導体処理装置及び基板搬送装置 |
| US5944857A (en) | 1997-05-08 | 1999-08-31 | Tokyo Electron Limited | Multiple single-wafer loadlock wafer processing apparatus and loading and unloading method therefor |
| JPH11129175A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-18 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 多関節ロボット |
| US6491491B1 (en) | 1997-10-30 | 2002-12-10 | Sankyo Seiki Mfg. Co., Ltd. | Articulated robot |
| US6042623A (en) | 1998-01-12 | 2000-03-28 | Tokyo Electron Limited | Two-wafer loadlock wafer processing apparatus and loading and unloading method therefor |
| US6431807B1 (en) | 1998-07-10 | 2002-08-13 | Novellus Systems, Inc. | Wafer processing architecture including single-wafer load lock with cooling unit |
| US6375746B1 (en) | 1998-07-10 | 2002-04-23 | Novellus Systems, Inc. | Wafer processing architecture including load locks |
| KR100283425B1 (ko) | 1998-09-24 | 2001-04-02 | 윤종용 | 반도체소자의금속배선형성공정및그시스템 |
| US6960057B1 (en) * | 1998-09-30 | 2005-11-01 | Brooks Automation, Inc. | Substrate transport apparatus |
| JP2000150618A (ja) * | 1998-11-17 | 2000-05-30 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理システム |
| TW442891B (en) | 1998-11-17 | 2001-06-23 | Tokyo Electron Ltd | Vacuum processing system |
| JP4256551B2 (ja) * | 1998-12-25 | 2009-04-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理システム |
| JP4312965B2 (ja) * | 1999-01-12 | 2009-08-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
| US6318945B1 (en) | 1999-07-28 | 2001-11-20 | Brooks Automation, Inc. | Substrate processing apparatus with vertically stacked load lock and substrate transport robot |
| JP2001135704A (ja) | 1999-11-09 | 2001-05-18 | Sharp Corp | 基板処理装置及び基板搬送用トレイの搬送制御方法 |
| US6977014B1 (en) | 2000-06-02 | 2005-12-20 | Novellus Systems, Inc. | Architecture for high throughput semiconductor processing applications |
| KR100364656B1 (ko) | 2000-06-22 | 2002-12-16 | 삼성전자 주식회사 | 실리사이드 증착을 위한 화학 기상 증착 방법 및 이를수행하기 위한 장치 |
| JP4576694B2 (ja) * | 2000-10-11 | 2010-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の処理システムの搬送位置合わせ方法及び被処理体の処理システム |
| JP2002158272A (ja) * | 2000-11-17 | 2002-05-31 | Tatsumo Kk | ダブルアーム基板搬送装置 |
| JP2002164402A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Meidensha Corp | 基板搬送用ロボット |
| US6918731B2 (en) * | 2001-07-02 | 2005-07-19 | Brooks Automation, Incorporated | Fast swap dual substrate transport for load lock |
| US20030014155A1 (en) | 2001-07-12 | 2003-01-16 | Applied Material, Inc. | High temperature substrate transfer robot |
| JP3962609B2 (ja) * | 2002-03-05 | 2007-08-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送装置 |
| US6932871B2 (en) | 2002-04-16 | 2005-08-23 | Applied Materials, Inc. | Multi-station deposition apparatus and method |
| KR100483428B1 (ko) | 2003-01-24 | 2005-04-14 | 삼성전자주식회사 | 기판 가공 장치 |
| WO2004093166A2 (en) | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Lam Research Corporation | Chamber and associated methods for wafer processing |
| US7458763B2 (en) * | 2003-11-10 | 2008-12-02 | Blueshift Technologies, Inc. | Mid-entry load lock for semiconductor handling system |
| JP4673548B2 (ja) | 2003-11-12 | 2011-04-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及びその制御方法 |
| JP4356480B2 (ja) * | 2004-03-03 | 2009-11-04 | 株式会社安川電機 | 搬送装置と半導体製造装置 |
| JP2005259858A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
| JP4524132B2 (ja) | 2004-03-30 | 2010-08-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
| US8292563B2 (en) * | 2004-06-28 | 2012-10-23 | Brooks Automation, Inc. | Nonproductive wafer buffer module for substrate processing apparatus |
| US20060011297A1 (en) * | 2004-07-15 | 2006-01-19 | Jusung Engineering Co., Ltd. | Semiconductor manufacturing apparatus |
| JP4860219B2 (ja) | 2005-02-14 | 2012-01-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の処理方法、電子デバイスの製造方法及びプログラム |
| US7472581B2 (en) | 2005-03-16 | 2009-01-06 | Tokyo Electron Limited | Vacuum apparatus |
| JP4566798B2 (ja) | 2005-03-30 | 2010-10-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板位置決め装置,基板位置決め方法,プログラム |
| JP4595053B2 (ja) * | 2005-04-11 | 2010-12-08 | 日本電産サンキョー株式会社 | 多関節型ロボット |
| US7286890B2 (en) | 2005-06-28 | 2007-10-23 | Tokyo Electron Limited | Transfer apparatus for target object |
| US8573919B2 (en) * | 2005-07-11 | 2013-11-05 | Brooks Automation, Inc. | Substrate transport apparatus |
| US9248568B2 (en) * | 2005-07-11 | 2016-02-02 | Brooks Automation, Inc. | Unequal link SCARA arm |
| JP4933789B2 (ja) | 2006-02-13 | 2012-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
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