JP2002158272A - ダブルアーム基板搬送装置 - Google Patents

ダブルアーム基板搬送装置

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JP2002158272A
JP2002158272A JP2000351463A JP2000351463A JP2002158272A JP 2002158272 A JP2002158272 A JP 2002158272A JP 2000351463 A JP2000351463 A JP 2000351463A JP 2000351463 A JP2000351463 A JP 2000351463A JP 2002158272 A JP2002158272 A JP 2002158272A
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motor
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end effector
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Hirotoshi Nanba
弘敏 難波
Takahiro Kobiki
雄洋 小曳
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Tatsumo KK
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    • B25J9/02—Program-controlled manipulators characterised by movement of the arms, e.g. cartesian coordinate type
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    • B25J9/041—Cylindrical coordinate type
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    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウェハ等のワークを搬送するダブルア
ーム基板搬送装置であって、従来装置に必要とされたコ
字型バーの不要とし、ベースアームが左右に２つある形
態と比較して部品点数を少なくし、コンパクト化、軽量
化を図り、また、機械剛性の高いものとし、しかも移載
距離を長く稼ぐ。 【解決手段】 ロボットアームが、ベースアーム２０の
先端部に回転自在に支持された先端アームＡ１及びその
先端部に回転自在に支持されワークを載置するエンドエ
フェクタＥ１と、ベースアーム２０の先端部に回転自在
に支持され、先端アームＡ１の上部に重畳して取り付け
られた先端アームＡ２及びその先端部に回転自在に支持
されワークを載置するエンドエフェクタＥ２とにより構
成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハ、フ
ォトマスク用基板、液晶用ガラス基板などのワークをダ
ブルアームのロボットハンドを用いて搬送する基板搬送
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、短時間で半導体ウェハ、フォ
トマスク用基板、液晶用ガラス基板などのワークの入れ
替え動作が可能なように、２個のロボットハンドをベー
ス上に備え付けた基板搬送装置が知られている（例え
ば、特開平８−２７４１４０号公報参照）。この種の基
板搬送装置においては、ロボットの中心からオフセット
された左右対象の位置より、ベースアームが２つ形成さ
れており、搬送対象となるワークは、このアームによっ
て移載動作を行う。このとき、左右のアームの先端部
は、基板搬送装置の中心線を含む平面を対称面として左
右へオフセットされており、また、このアーム先端部へ
直接、エンドエフェクタを取り付けると搬送ワークを含
むロボットの最小旋回半径を著しく大きくさせてしまう
ため、左右の基板搬送装置のハンド先端部から対称面へ
向かうコ字型バーを設け、このコ字型バーにエンドエフ
ェクタを取り付けており、ワークを載置することが可能
な構造としている。また、このコ字型バーは、それぞれ
のエンドエフェクタに載せられたワークが、アーム伸縮
の際に、互いにワークと干渉するのを防止するため、搬
送するワークのサイズに応じて、大きさを変えたものと
なっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、生産性の向
上のために、基板などの処理部と移載部となるロボット
の距離をできるだけ遠く保ち、且つ省スペースで装置を
設計するために、コンパクトで移載時間の早いクリーン
な搬送装置が求められている。それと同時に、より微細
な加工が進み、移載先との繰り返し再現性と動作時の機
械剛性の向上が求められており、これらの課題が開発要
素となっていた。
【０００４】しかしながら、前述した従来の基板搬送装
置は、図３（ｂ）、図４に示すように、装置の中心から
オフセットされた左右対称の位置よりベースアームＢ
１，Ｂ２が形成される。そのため、左右に張り出したベ
ースアームから上になるエンドエフェクタＥ１，Ｅ２で
は、製造段階での組み付け誤差が左右で異なることがあ
るため、エンドエフェクタＥ１とエンドエフェクタＥ２
の水準基準が異なることがあり得る。また、エンドエフ
ェクタが左右に分かれてあるため、上下にわたり運搬さ
れるワークＷと、エンドエフェクタの干渉を防止するた
めに、コ字型バーＢが設けられている。このため、この
コ字型バーＢが、精度と剛性を低下させていた。
【０００５】本発明は、これらの問題を解決するための
ものであり、半導体ウェハ等のワークを搬送する基板搬
送装置であって、ベースアーム先端部から先端アーム
（１）、先端アーム（２）を形成することにより、コ字
型バーの削除を可能とし、また、従来の基板搬送装置の
ようにベースアームが左右に２つある形態と比較して、
部品点数を少なくすることが可能であり、装置全体の軽
量化も可能となるダブルアーム基板搬送装置を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】上記目的
を達成するために、請求項１の発明は、半導体ウェハ、
フォトマスク用基板、液晶用ガラス基板などのワークを
ロボットハンドを用いて搬送する基板搬送装置であっ
て、ロボットハンドが、ベースに回転自在に支持された
ベースアーム２０（図１、図２等参照、以下同様）と、
このベースアームの先端部に回転自在に支持された先端
アームＡ１、及びこの先端アームＡ１の先端部に回転自
在に支持され、ワークを載置するためのエンドエフェク
タＥ１と、ベースアームの先端部に回転自在に支持さ
れ、先端アームＡ１の上部に重畳して取り付けられた先
端アームＡ２、及びこの先端アームＡ２の先端部に回転
自在に支持され、ワークを載置するためのエンドエフェ
クタＥ２とにより形成されている。
【０００７】上記構成によれば、図１に示されるよう
に、ベースアーム（２０）上に先端アーム（Ａ１）と先
端アーム（Ａ２）が形成されるために、図３（ｂ）、図
４に示した従来の基板搬送装置で必要とされていたコ字
型バーＢが必要でなくなる。このため、先端アームＡ１
と先端アームＡ２の機械精度が、ベースアーム２０の先
端を中心とした機械精度によって起因されるため、先端
アームＡ１と先端アームＡ２の機械精度再現性が近似値
となり、それぞれのエンドエフェクタＥ１，Ｅ２に載せ
られるワークＷ１とワークＷ２の搬送再現性を高い再現
精度で保つことが可能となる。
【０００８】また、図３（ａ）と図３（ｂ）とを比較す
れば分かるように、本発明の基板搬送装置においては、
従来の装置と比較して、最小回転半径は従来と同じＲ２
６５（ｍｍ）であるが、アームの伸びたストレッチスト
ロークは、従来装置のｓｔ４８０（ｍｍ）に対して、ｓ
ｔ５８５（ｍｍ）となり、２０％のストローク延長が図
られている。もって、従来装置では、先端アームが左右
対称に形成されているため、装置の占める絶対体積と上
面から視野した場合の面積が大きくなるが、本発明の装
置では、先端アーム、ベースアームの全てが、装置の中
心を垂線とした片側に集約されるため、本装置を使用す
る条件で外部デザインレイアウトの自由度が高いものと
なる。さらにまた、部品構成総数を少なくすることがで
きるため、軽量化をも図ることができる。
【０００９】請求項２の発明は、請求項１に記載の基板
搬送装置において、先端アームＡ１と先端アームＡ２と
は、アーム長が等しく、ベースアーム２０上にある旋回
軸心が一致し、かつ、互いに異なる高さ位置の平面上で
独立して旋回可能であるものである。この構成において
は、アームは小さい半径で旋回可能で、コンパクトな搬
送装置を実現できる。
【００１０】請求項３の発明は、請求項１又は請求項２
に記載の基板搬送装置において、装置下部に配されたボ
ックスに３つの独立したモータを有し、モータＭ１はベ
ースアーム２０を回動し、モータＭ２は先端アームＡ２
を回動し、モータＭ３は先端アームＡ１を回動するよう
な伝達手段により形成されている。
【００１１】上記構成によれば、３つの独立したモータ
を同調、あるいは単独で駆動することで、図５に示した
動作図（Ａ）〜動作図（Ｅ）の動作を行うことが可能で
あり、モータＭ１を動かしたとき、ベースアーム２０を
駆動し、モータＭ２を動かしたとき、先端アームＡ２を
駆動し、モータＭ３を動かしたとき、先端アームＡ１を
駆動することとなり、伝達方法によって自由度の高い動
作となる。
【００１２】請求項４の発明は、請求項３に記載の基板
搬送装置において、モータの一つの駆動形態によって、
先端アームＡ１が前進又は後退し、先端アームＡ２がベ
ースアーム２０旋回軸を中心とした円運動を行なう。別
のモータの駆動形態によって、先端アームＡ２が前進又
は後退し、先端アームＡ１がベースアーム２０旋回軸を
中心とした円運動を行なうものである。
【００１３】上記構成によれば、ワークの受け渡し位置
に対してエンドエフェクタＥ１，エンドエフェクタＥ２
を直進に前後退可能であり、もって、ワークの入れ替え
動作が可能である。
【００１４】請求項５の発明は、請求項３に記載の基板
搬送装置において、モータの駆動形態によって、ベース
アーム２０に対して先端アームＡ１が成す角度と、ベー
スアーム２０に対して先端アームＡ２が成す角度とを保
持したまま、ベースアーム旋回軸を中心として任意な回
転方向へロボットハンドを回動可能にしたものである。
【００１５】上記構成によれば、ロボットハンドの回動
動作が可能となり、もって、基板搬送装置に対するワー
クの受け渡し位置を自由に配置することが可能となる。
【００１６】請求項６の発明は、請求項３に記載の基板
搬送装置において、モータＭ１及びモータＭ２又はモー
タＭ３を非同期回転させることによって、エンドエフェ
クタＥ１又はエンドエフェクタＥ２に載置したワークを
任意の軌道を通って目的の搬送範囲まで移動させるもの
である。例えば、モータＭ１を停止したままモータＭ２
又はモータＭ３を回転させることにより、所定の円弧軌
道を呈してエンドエフェクタＥ１又はエンドエフェクタ
Ｅ２に載置されたワークを前進又は後退させるものであ
る。
【００１７】上記構成によれば、ワークの受け渡し位置
と搬送装置本体との間に障害物がある場合に、アームは
該障害物を回避して移動し、エンドエフェクタＥ１及び
エンドエフェクタＥ２に載置されたワークを受け渡し位
置に移載することができる。
【００１８】請求項７の発明は、請求項３に記載の基板
搬送装置において、モータＭ２及びモータＭ３を同一方
向に同期して回転させ、モータＭ１をモータＭ２及びモ
ータＭ３の回転方向と逆方向又は非同期に回転させるこ
とにより、待機位置と受け渡し位置との間で、エンドエ
フェクタＥ１に載置したワークと、エンドエフェクタＥ
２に載置したワークを同時に搬送可能にしたものであ
る。
【００１９】上記構成によれば、エンドエフェクタＥ１
とエンドエフェクタＥ２の各々の吸着面間隔を、ワーク
が積載されるカセットの段数ピッチと同じにすること
で、ワークＷ１、ワークＷ２を同時に移載することが可
能となり、搬送スループットを向上することができる。
【００２０】請求項８の発明は、請求項１又は請求項２
に記載のダブルアーム基板搬送装置において、各アーム
及びエンドエフェクタの旋回軸にモータを備えて、各ア
ーム及びエンドエフェクタを自在に旋回できるようにし
たものである。この構成によれば、各関節を自在に旋回
させることが可能であるため、請求項３乃至請求項７に
記載の動作はもとより、より多彩な搬送軌道を実現する
ことが可能となる。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明の一実施形態によるダブル
アーム基板搬送装置について図面を参照して説明する。
図１、図２及び図３（ａ）において、基板搬送装置は、
装置下部に配され駆動源を内装するベース１０と、この
ベース１０に回転自在に支持され屈伸可能なロボットハ
ンドから成る。ロボットハンドは、ベース１０に回転自
在に基端部が支持されたベースアーム２０と、このベー
スアーム２０の先端部に旋回軸心を同じくして回転自在
に上下に重畳して支持された先端アームＡ２，Ａ１と、
これらの先端アームＡ２，Ａ１の各先端部に回転自在に
支持されたアームＡ20，Ａ10に固定され、被搬送ワーク
Ｗ１，Ｗ２を載置するためのエンドエフェクタＥ１，Ｅ
２とから構成されている。先端アームＡ２，Ａ１及びベ
ースアーム２０の旋回軸間隔は同じ長さとされている。
【００２２】ベース１０に内装された駆動源は、３つの
独立したモータＭ１，Ｍ２及びＭ３から成る。モータＭ
１は、ベースアーム旋回軸Ｃよりオフセットした位置に
配され、伝達手段１１を介してベースアーム２０の取り
付け中心軸となる中空支柱１に回転力を伝達し、ベース
アーム２０を回動させる。さらに、このモータＭ１の回
転力は、ベースアーム２０の先端側に取り付けられた中
空支柱５用の取り付け部に伝達され、この中空支柱５の
先端側から伝達手段１７を介してエンドエフェクタＥ２
の取り付け部へ伝達され、且つ、中空支柱５の中間部か
ら伝達手段１６を介してエンドエフェクタＥ１の取り付
け部へ伝達される。
【００２３】モータＭ２は、ベースアーム旋回軸Ｃより
オフセットした位置に配され、伝達手段１２を介して、
ベースアーム旋回軸Ｃに同軸に中空支柱１内に配される
中空支柱２に回転力を伝達し、ベースアーム２０内に配
した伝達手段１３を介して先端アームＡ２の旋回軸に同
軸に固定される中空支柱５内に配される支柱４に伝達さ
れ、先端アームＡ２を回動させる。
【００２４】モータＭ３は、ベースアーム旋回軸Ｃより
オフセットした位置に配され、伝達手段１４を介してベ
ースアーム旋回軸Ｃに同軸、且つ、中空支柱２内に配さ
れる支柱３に回転力を伝達し、ベースアーム２０内に配
した伝達手段１５を介して先端アームＡ１及び先端アー
ムＡ２の旋回軸に同軸に固定される中空支柱６に伝達さ
れ、先端アームＡ１を回動させる。
【００２５】また、ベースアーム２０の先端側に連結さ
れた前記中空支柱５は、先端アームＡ１及び先端アーム
Ａ２の旋回軸に同軸で、かつ前記支柱４を中心に配され
ている。この中空支柱５とエンドエフェクタＥ１が、回
転速度比１：２で伝達するように伝達手段１６は構成さ
れ、また、中空支柱５とエンドエフェクタＥ２が回転速
度比１：２で伝達するように伝達手段１７は構成されて
いる。伝達手段１１〜１７は、旋回軸に固定したプーリ
と、プーリ間に架けられるベルトにより構成すればよ
い。
【００２６】上記伝達手段１１は、モータＭ１の軸出力
を支柱１を通してベースアーム２０へ伝達する手段であ
る。伝達手段１２は、モータＭ２の軸出力をベースアー
ム２０の旋回軸に同軸に配される中空支柱２へ伝達する
手段である。伝達手段１３は、伝達手段１２により配さ
れた出力をベースアーム２０内に配し、先端アームＡ２
の旋回軸に同軸に固定される支柱４に伝達する手段であ
る。伝達手段１４は、モータＭ３の軸出力をベースアー
ム２０の旋回軸に同軸に配される伝達手段１２により使
用されている中空支柱１内の支柱３へ伝達する手段であ
る。伝達手段１５は、伝達手段１４により配された出力
をベースアーム２０内に配し、先端アームＡ１及び先端
アームＡ２の旋回軸に同軸で支柱４を中心に配する中空
支柱６に伝達する手段である。伝達手段１６は、支柱４
を中心に配した支柱５において先端アームＡ１、エンド
エフェクタ回転軸へ伝達する手段である。そして、伝達
手段１７は、支柱４から先端アームＡ２、エンドエフェ
クタ回転軸へ伝達する手段である。
【００２７】次に、上記のように構成された本実施形態
による基板搬送装置の作用効果を説明する。図３（ａ）
に示したように、ベースアーム旋回軸Ｃを中心とするロ
ボットアームの最小回転半径は、Ｒ２６５（ｍｍ）であ
り、従来と同等であるが、待機位置からワークの受け渡
し位置にロボットアームが前進する時のストレッチスト
ローク（ストレッチ状態を破線で示す）は、従来装置よ
りも長くなり、ストローク延長、すなわちワークの移載
距離を長く稼ぐことができる。
【００２８】また、本装置では、従来装置に比べて、先
端アーム、ベースアームの全てが、装置の中心を垂線と
した片側に集約されるため、装置がコンパクトで、レイ
アウトの自由度が高いものとなり、さらには、部品点数
が少なくて済み、低コスト化、軽量化を図れる。また、
ダブルアーム型でありながら、従来装置のようにコ字型
バーを必要とすることなく、エンドエフェクタの干渉を
防止することができ、コ字型バーを用いないため、上述
したように、精度と剛性の向上が図れる。
【００２９】図５（Ａ）〜（Ｅ）に本実施形態による基
板搬送装置の動作を平面視で示す。（Ａ）は待機状態、
（Ｂ−１）はエンドエフェクタＥ２が伸び始め状態、
（Ｃ−１）はエンドエフェクタＥ２がワーク受け渡し位
置まで伸びた状態、（Ｂ−２）はエンドエフェクタＥ１
が伸び始め状態、（Ｃ−２）はエンドエフェクタＥ１が
ワーク受け渡し位置まで伸びた状態を示す。（Ｄ）は本
装置のベースアーム２０を固定し、先端アームＡ２を回
動した時のワークＷ２の軌跡、（Ｅ）は本装置のベース
アーム２０を固定し、先端アームＡ１を回動した時のワ
ークＷ１の軌跡を示す。（Ｄ），（Ｅ）では、ワークを
所定の円弧軌道を呈して移動させることができ、この動
作は、３つのモータＭ１，Ｍ２及びＭ３を上述したよう
に個別に駆動制御することで得られる。ワークの受け渡
し位置と搬送装置本体との間に障害物がある場合に、ア
ームは障害物を回避して移動し、エンドエフェクタＥ
１，Ｅ２に載置されたワークＷ１，Ｗ２を受け渡し位置
に移載することができる。
【００３０】なお、本発明は、上記実施形態の構成に限
られることなく、発明の趣旨を変更しない範囲で種々の
変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施形態による基板搬送装置の斜
視図。
【図２】 （ａ）は同装置の下部の前面断面図、（ｂ）
は同装置の全体の側断面図。
【図３】 （ａ）は本発明の一実施形態による基板搬送
装置の平面図、（ｂ）は従来方式による基板搬送装置の
平面図。
【図４】 従来方式による基板搬送装置の前面図。
【図５】 本実施形態による基板搬送装置の動作を示す
平面図であり、（Ａ）は待機状態の図、（Ｂ−１）はエ
ンドエフェクタＥ２が伸び始め状態の図、（Ｃ−１）は
エンドエフェクタＥ２がワーク受け渡し位置まで伸びた
状態の図、（Ｂ−２）はエンドエフェクタＥ１が伸び始
め状態の図、（Ｃ−２）はエンドエフェクタＥ１がワー
ク受け渡し位置まで伸びた状態の図、（Ｄ）はワークＷ
２の軌跡を示す図、（Ｅ）はワークＷ１の軌跡を示す
図。
【符号の説明】
１〜６ 支柱 １０ ベース １１〜１７ 伝達手段 ２０ ベースアーム Ａ１，Ａ２ 先端アーム Ｅ１，Ｅ２ エンドエフェクタ Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３ モータ Ｗ１，Ｗ２ ワーク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3F060 AA01 BA06 EB12 EC12 FA02 GA13 GB02 GB06 GB31 5F031 CA02 CA05 CA07 GA04 GA47 GA50

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 半導体ウェハ、フォトマスク用基板、液
    晶用ガラス基板などのワークをダブルアームのロボット
    ハンドを用いて搬送する基板搬送装置であって、 前記ロボットハンドは、 ベースに回転自在に支持されたベースアームと、 このベースアームの先端部に回転自在に支持された先端
    アーム（１）と、この先端アーム（１）の先端部に回転
    自在に支持され、ワークを載置するためのエンドエフェ
    クタ（１）と、 前記ベースアームの先端部に回転自在に支持され、前記
    先端アーム（１）の上部に取り付けられた先端アーム
    （２）と、 この先端アーム（２）の先端部に回転自在に支持され、
    ワークを載置するためのエンドエフェクタ（２）とから
    構成されていることを特徴とするダブルアーム基板搬送
    装置。
  2. 【請求項２】 先端アーム（１）と先端アーム（２）と
    は、アーム長が等しく、ベースアーム上にある旋回軸心
    が一致し、かつ、異なる高さ位置の平面上で独立して旋
    回可能であることを特徴とする請求項１に記載のダブル
    アーム基板搬送装置。
  3. 【請求項３】 装置下部に配されるベース内に３つの独
    立したモータを有し、 モータ（１）は、ベースアームを回動するように設けら
    れ、 モータ（２）は、ベースアーム旋回軸と同軸に配される
    支柱（２）を回動し、その回動力がベースアーム内に設
    けられた伝達手段（３）を介して、先端アーム（２）の
    旋回軸と同軸でベースアームに回動不能に固定された中
    空支柱（５）内に設けられ、かつ、先端アーム（２）と
    一体に固定された支柱（４）に伝達され、先端アーム
    （２）を回動するように設けられ、 モータ（３）は、支柱（２）内に設けられた支柱（３）
    を回動し、その回動力がベースアーム内に設けられた伝
    達手段（５）を介して、先端アーム（１）及び先端アー
    ム（２）の旋回軸と同軸で、先端アーム（１）と一体に
    固定された支柱（６）に伝達され、先端アーム（１）を
    回動するように設けられ、 更に、ベースアーム先端部に先端アーム（１）及び先端
    アーム（２）の旋回軸と同軸で、かつ前記支柱（４）を
    中心に配した前記中空支柱（５）とエンドエフェクタ
    （１）の旋回軸は、回転速度比１：２で回転を伝達する
    よう前記先端アーム（１）内に伝達手段（６）を備え、 前記中空支柱（５）とエンドエフェクタ（２）の旋回軸
    は、回転速度比１：２で回転を伝達するよう前記先端ア
    ーム（２）内に伝達手段（７）を備えることを特徴とす
    る請求項１又は請求項２に記載のダブルアーム基板搬送
    装置。
  4. 【請求項４】 モータ（１）及びモータ（２）を同方向
    に同期して回転させ、モータ（３）をモータ（１）及び
    モータ（２）の回転方向とは逆方向に同じ回転速度で回
    転させることにより、エンドエフェクタ（１）先端に載
    置したワークをベースアーム旋回軸より放射方向に直線
    運動させ、同時にエンドエフェクタ（２）に載置したワ
    ークは、ベースアーム旋回軸を中心とする円運動を行な
    わせ、または、モータ（１）及びモータ（３）を同方向
    に同期して回転させ、モータ（２）をモータ（１）及び
    モータ（３）の回転方向とは逆方向に同じ回転速度で回
    転させることにより、エンドエフェクタ（２）先端に載
    置したワークをベースアーム旋回軸より放射方向に直線
    運動させ、同時にエンドエフェクタ（１）に載置したワ
    ークは、ベースアーム旋回軸を中心とする円運動を行な
    わせ、 エンドエフェクタ（１）またはエンドエフェクタ（２）
    のいずれか一方のワークをベースアーム旋回軸より放射
    方向に搬送するようにモータを制御することを特徴とす
    る請求項３に記載のダブルアーム基板搬送装置。
  5. 【請求項５】 モータ（１）とモータ（２）とモータ
    （３）を同一方向に同期して回転させることにより、ベ
    ースアームに対して先端アーム（１）及び先端アーム
    （２）が成す角度を保持したまま、ベースアーム旋回軸
    を中心として任意の回転方向へエンドエフェクタ（１）
    及びエンドエフェクタ（２）を回動可能としたことを特
    徴とする請求項３に記載のダブルアーム基板搬送装置。
  6. 【請求項６】 モータ（１）及びモータ（２）又はモー
    タ（３）を非同期回転させることによって、エンドエフ
    ェクタ（１）又はエンドエフェクタ（２）に載置したワ
    ークを任意の軌道を通って目的の搬送位置まで移動する
    よう制御することを特徴とする請求項３に記載のダブル
    アーム基板搬送装置。
  7. 【請求項７】 モータ（２）及びモータ（３）を同一方
    向に同期して回転させ、モータ（１）をモータ（２）及
    びモータ（３）の回転方法と逆方向又は非同期に回転さ
    せることにり、エンドエフェクタ（１）に載置したワー
    クと、エンドエフェクタ（２）に載置したワークを異平
    面の同じ軌道で搬送するように制御することを特徴とす
    る請求項３に記載のダブルアーム基板搬送装置。
  8. 【請求項８】 各アーム及びエンドエフェクタの旋回軸
    にモータを備えていることを特徴とする請求項１又は請
    求項２に記載のダブルアーム基板搬送装置。
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