JP7010373B2 - スペクトルデータ処理装置及び分析装置 - Google Patents
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Description
a) スペクトル表示領域と検量線表示領域を有する表示部と、
b) 1又は複数の前記スペクトルを前記スペクトル表示領域に表示するスペクトル表示制御部と、
c) 前記表示されたスペクトルに含まれる前記成分に対応するピークの両端の位置又はベースラインの位置を操作者に設定させるピーク範囲設定部と、
d) 前記ピークの両端の位置又はベースラインの位置を所定の基準により決定するピーク範囲決定部と、
e) 前記ピーク範囲設定部により設定された又は前記ピーク範囲決定部により決定されたピークの両端の位置及びベースラインの位置に基づき、前記ピークの面積を算出する面積算出部と、
f) 前記面積算出部で算出された前記ピークの面積と、該ピークの既知の濃度に基づいて検量線を作成し、前記検量線表示領域に表示する検量線作成部と
を備えることを特徴とする。
前記面積算出部は、前記ピークの両端の位置又は前記ベースラインの位置が、前記ピーク範囲設定部により設定される毎又は前記ピーク範囲決定部により決定される毎に前記ピークの面積を算出するものであって、
前記検量線作成部は、前記面積算出部により前記ピークの面積が算出される毎に前記検量線を作成して前記検量線表示領域に表示するものである
ことが望ましい。
前記表示部が、前記面積算出部で算出された面積及び該面積に対応する濃度と該検量線との一致度を表示する一致度表示領域を有し、
さらに、
検量線作成部で検量線が作成される毎に、前記一致度を算出して前記一致度表示領域に表示させる一致度算出部を備える
ことが望ましい。
前記表示部が、分析対象の試料中の複数の位置でそれぞれ得られたスペクトルから求められる前記成分の濃度の分布を表示する分布画像表示領域を有し、
さらに、
前記複数の位置でそれぞれ得られたスペクトルについて、該スペクトルが得られた試料中の位置を取得する試料中位置情報取得部と、
前記検量線作成部で検量線が作成される毎に、前記複数の位置でそれぞれ得られたスペクトルについて、前記面積算出部が算出したピークの面積を該検量線に適用することにより前記成分の濃度を求める成分定量部と、
前記成分定量部で濃度が求められる毎に、前記複数の位置でそれぞれ得られたスペクトルについて、前記濃度に関する情報を、前記位置に対応する前記分布画像表示領域中の位置に表示させる分布画像表示制御部と
を備えるという構成を取ることができる。
a) 試料に含まれる成分により定まる所定の位置にピークトップを有するスペクトルを取得する分析部と、
b) 所定の成分を互いに異なる既知の濃度で含有する複数の試料からそれぞれ、前記分析部によって得られたスペクトルに基づいて、各試料における前記成分の濃度と該試料のスペクトルの該成分に対応するピークの面積の関係を示す検量線を作成する装置であって、
b-1) スペクトル表示領域と検量線表示領域を有する表示部と、
b-2) 1又は複数の前記スペクトルを前記スペクトル表示領域に表示するスペクトル表示制御部と、
b-3) 前記表示されたスペクトルに含まれる前記成分に対応するピークの両端の位置又はベースラインの位置を操作者に設定させるピーク範囲設定部と、
b-4) 前記ピークの両端の位置又はベースラインの位置を所定の基準により決定するピーク範囲決定部と、
b-5) 前記ピーク範囲設定部により設定された又は前記ピーク範囲決定部により決定されたピークの両端の位置及びベースラインの位置に基づき、前記ピークの面積を算出する面積算出部と、
b-6) 前記面積算出部で算出された前記ピークの面積と、該ピークの既知の濃度に基づいて検量線を作成し、前記検量線表示領域に表示する検量線作成部と
を有するスペクトルデータ処理装置と
と備えることを特徴とする。
質量分析部10は、本実施形態では、試料表面の複数の測定点に対してそれぞれ質量分析を行うものを用いる。この質量分析部10は、大気圧雰囲気であるイオン化室111と、真空雰囲気に維持される真空チャンバ112を有する。イオン化室111内には、互いに直交するX軸、Y軸の二軸方向に移動可能である試料台11と、試料台11が図1中に破線で示された位置である光学観察位置にあるときに該試料台11上に載置された試料Sの光学画像を撮影する撮像部12と、試料台11が図1中に実線で示された位置である分析位置にあるときに試料Sに微小径に絞ったレーザ光を照射して該試料S中の成分をイオン化するレーザ照射部13が配置されている。イオン化室111と真空チャンバ112は、イオン化室111内で試料Sから発生したイオンを収集して真空チャンバ112内へと搬送するイオン導入部15で接続されている。真空チャンバ112内には、試料Sに由来するイオンを収束しつつ案内するイオンガイド16と、高周波四重極電場によってイオンを一時的に捕捉するとともに必要に応じてプリカーサイオンの選択及び該プリカーサイオンの解離(衝突誘起解離=CID)を行うイオントラップ17と、該イオントラップ17から射出されたイオンをm/zに応じて分離する飛行空間を内部に形成するフライトチューブ18と、イオンを検出して検出信号を外部に送信する検出器19が配置されている。
本実施形態の質量分析装置1の動作を説明する。
まず、操作者は、図3に示すように、試料プレート41の上面に、所定の成分の濃度が未知である未知試料SUと、該成分の濃度が既知であって濃度の値が異なる複数の既知試料(標準試料)SKを付着させ、この試料プレート41を試料台11に載置する。次に、操作者が入力デバイスを用いて所定の操作を行うことにより、試料台11を光学観察位置に移動させ、撮像部12が試料プレート41の上面を撮影し、試料プレート41の上面の拡大画像を表示部29に表示させる。関心領域設定部31は、操作者が表示部29に表示された画像上でマウスをドラッグする等の操作により、未知試料SU及び複数の既知試料SKの各々の表面上に関心領域42を設定する。測定点設定部32は、設定された関心領域42を所定の大きさを有する複数の微小領域に分割し、各微小領域の中心に測定点43を設定する。なお、微小領域の大きさを操作者が設定できるようにしてもよい。
検出器19からの検出信号を受けて、マススペクトルデータ作成部21は、測定点43毎にマススペクトルのデータを作成する。マススペクトルデータ保存部22は、測定点43毎に作成されたマススペクトルのデータを保存する。ここで未知試料SUについては、測定点毎の成分の量(濃度)を求めるために測定点43毎のマススペクトルを保存する必要がある。それに対して既知試料SKについては、検量線の作成に用いることが目的であるため、成分の量(濃度)を測定点毎に求める必要はない。例えば、マススペクトルデータ作成部21は1つの既知試料SKが有する複数の測定点で各m/zについてそれぞれ、得られた強度の値を平均することにより1つのマススペクトル(平均マススペクトル)を作成し、マススペクトルデータ保存部22はこの平均マススペクトルを保存するようにすることができる。あるいは、1つの既知試料SKが有する複数の測定点のうち任意の1つから得られたm/zに対する強度の値を用いてマススペクトルを作成及び保存してもよい。検量線の精度を高くするために、平均マススペクトルを用いる方が好ましい。ここまでの動作は、質量分析部10及び質量分析制御部30の動作に引き続いて実行される。
10…質量分析部
11…試料台
111…イオン化室
112…真空チャンバ
12…撮像部
13…レーザ照射部
15…イオン導入部
16…イオンガイド
17…イオントラップ
18…フライトチューブ
19…検出器
20…質量分析装置用データ処理装置(スペクトルデータ処理装置)
21…マススペクトルデータ作成部(スペクトルデータ作成部)
22…マススペクトルデータ保存部(スペクトルデータ保存部)
23…マススペクトル表示制御部(スペクトル表示制御部)
24…ピーク範囲入力部
25…ピーク範囲決定部
26…面積算出部
27…検量線作成部
271…一致度算出部
28…成分定量部
29…表示部
290…検量線作成画面
291…マススペクトル表示領域(スペクトル表示領域)
2911…中心位置マーク
2912、2913…両端位置マーク
2914…ベースラインマーク
292…検量線表示領域
2921…チェックボックス
293…一致度表示領域
294…データ表示領域
295…ピーク範囲数値入力・表示領域
2951…ピーク幅数値入力・表示欄
2952…ベースライン数値入力・表示欄
2900…分布画像
2901…濃度表示領域
30…質量分析制御部
31…関心領域設定部
32…測定点設定部
33…分析条件設定部
34…分析制御部
41…試料プレート
42…関心領域
43…測定点
50…マススペクトル選択画面
51…スペクトルリスト
511…チェックボックス
521、522、523…マススペクトル
Claims (5)
- 試料に含まれる成分により定まる所定の位置にピークトップを有するスペクトルを対象として、所定の成分を互いに異なる既知の濃度で含有する複数の試料からそれぞれ得られたスペクトルに基づいて、各試料における前記成分の濃度と該試料のスペクトルの該成分に対応するピークの面積の関係を示す検量線を作成する装置であって、
a) スペクトル表示領域と検量線表示領域を有する表示部と、
b) 1又は複数の前記スペクトルを前記スペクトル表示領域に表示するスペクトル表示制御部と、
c) 前記表示されたスペクトルに含まれる前記成分に対応するピークの両端の位置又はベースラインの位置を、前記スペクトル上に表示され操作者の操作により移動可能であるマークの位置に基づいて操作者に設定させるピーク範囲設定部と、
d) 前記ピークの両端の位置又はベースラインの位置を所定の基準により決定するピーク範囲決定部と、
e) 前記ピーク範囲設定部により前記ピークの両端の位置が設定される毎に該設定されたピークの両端の位置に基づき、又は前記ピーク範囲決定部により前記ベースラインの位置が決定される毎に該決定されたベースラインの位置に基づき、前記ピークの面積を算出する面積算出部と、
f) 前記面積算出部で算出された前記ピークの面積と、該ピークの既知の濃度に基づいて検量線を作成し、前記検量線表示領域に表示する検量線作成部と
を備えることを特徴とするスペクトルデータ処理装置。 - 前記表示部が、前記面積算出部で算出された面積及び該面積に対応する濃度と該検量線との一致度を表示する一致度表示領域を有し、
さらに、
検量線作成部で検量線が作成される毎に、前記一致度を算出して前記一致度表示領域に表示させる一致度算出部を備える
ことを特徴とする請求項1に記載のスペクトルデータ処理装置。 - 前記スペクトル表示制御部が、スペクトル表示領域に表示させるスペクトル中の前記成分に対応するピークに目印をさらに表示させるものであることを特徴とする請求項1に記載のスペクトルデータ処理装置。
- 前記表示部が、分析対象の試料中の複数の位置でそれぞれ得られたスペクトルから求められる前記成分の濃度の分布を表示する分布画像表示領域を有し、
さらに、
前記複数の位置でそれぞれ得られたスペクトルについて、該スペクトルが得られた試料中の位置を取得する試料中位置情報取得部と、
前記検量線作成部で検量線が作成される毎に、前記複数の位置でそれぞれ得られたスペクトルについて、前記面積算出部が算出したピークの面積を該検量線に適用することにより前記成分の濃度を求める成分定量部と、
前記成分定量部で濃度が求められる毎に、前記複数の位置でそれぞれ得られたスペクトルについて、前記濃度に関する情報を、前記位置に対応する前記分布画像表示領域中の位置に表示させる分布画像表示制御部と
を備えることを特徴とする請求項1に記載のスペクトルデータ処理装置。 - a) 試料に含まれる成分により定まる所定の位置にピークトップを有するスペクトルを取得する分析部と、
b) 所定の成分を互いに異なる既知の濃度で含有する複数の試料からそれぞれ、前記分析部によって得られたスペクトルに基づいて、各試料における前記成分の濃度と該試料のスペクトルの該成分に対応するピークの面積の関係を示す検量線を作成する装置であって、
b-1) スペクトル表示領域と検量線表示領域を有する表示部と、
b-2) 1又は複数の前記スペクトルを前記スペクトル表示領域に表示するスペクトル表示制御部と、
b-3) 前記表示されたスペクトルに含まれる前記成分に対応するピークの両端の位置又はベースラインの位置を、前記スペクトル上に表示され操作者の操作により移動可能であるマークの位置に基づいて操作者に設定させるピーク範囲設定部と、
b-4) 前記ピークの両端の位置又はベースラインの位置を所定の基準により決定するピーク範囲決定部と、
b-5) 前記ピーク範囲設定部により前記ピークの両端の位置が設定される毎に該設定されたピークの両端の位置に基づき、又は前記ピーク範囲決定部により前記ベースラインの位置が決定される毎に該決定されたベースラインの位置に基づき、前記ピークの面積を算出する面積算出部と、
b-6) 前記面積算出部で算出された前記ピークの面積と、該ピークの既知の濃度に基づいて検量線を作成し、前記検量線表示領域に表示する検量線作成部と
を有するスペクトルデータ処理装置と
を備えることを特徴とする分析装置。
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