JP7119973B2 - 重合性液晶化合物 - Google Patents
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Description
本開示は、重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置に関する。
従来、液晶表示装置や発光表示装置等の表示装置に関して、位相差フィルムや偏光板等の光学部材をパネル面に配置する構成が提案されている。
例えば有機発光表示装置等の発光表示装置においては、発光層の光を効率よく利用するため、反射性に優れた金属電極が設けられている。一方、当該金属電極を用いることにより、外光反射が大きくなる。そのため、発光表示装置においては、当該外光反射を抑制することを目的として、視認側に、直線偏光を円偏光に変換する１／４波長板と偏光子からなる円偏光板を用いることが知られている。
例えば有機発光表示装置等の発光表示装置においては、発光層の光を効率よく利用するため、反射性に優れた金属電極が設けられている。一方、当該金属電極を用いることにより、外光反射が大きくなる。そのため、発光表示装置においては、当該外光反射を抑制することを目的として、視認側に、直線偏光を円偏光に変換する１／４波長板と偏光子からなる円偏光板を用いることが知られている。
位相差フィルムには、前記１／４波長板の他、直線偏光の偏光振動面を９０度変換する１／２波長板等がある。これらの位相差フィルムは、ある特定の単色光に対しては正確に光線波長の１／４λ又は１／２λの位相差に変換可能なものである。しかしながら、従来の位相差フィルムには、位相差フィルムを通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは位相差フィルムを構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する白色光に対して各波長ごとの偏光状態に分布が生じることに起因する。この問題を防ぐためには、各波長において設計した位相差になるよう、波長分散性を制御する必要があり、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差フィルム、いわゆる逆波長分散性を有する位相差フィルムが求められている。
位相差フィルムは、フィルムを延伸して製造する方法や、例えば、配向処理した支持体上に、液晶化合物を含む重合性組成物を塗布し、溶剤を乾燥させ、液晶化合物を配向させた後、紫外線又は熱により重合させることによって製造する方法が挙げられる。
逆波長分散性を有する位相差フィルムとしては、例えば、２枚の位相差層を配向軸の方向にそれぞれ角度を付けて積層する方法が提案されている（特許文献１及び２）。しかし、このような積層体では、２枚の位相差層が必要であり、且つ２枚の位相差層を積層する際の製造上の煩雑さや位相差フィルムの膜厚が厚くなるなどの課題があった。
逆波長分散性を有する位相差フィルムとしては、例えば、２枚の位相差層を配向軸の方向にそれぞれ角度を付けて積層する方法が提案されている（特許文献１及び２）。しかし、このような積層体では、２枚の位相差層が必要であり、且つ２枚の位相差層を積層する際の製造上の煩雑さや位相差フィルムの膜厚が厚くなるなどの課題があった。
携帯型情報端末の高機能化及び普及に伴い、表示装置の厚みを薄くすることが求められてきており、その結果、構成部材である位相差フィルムの薄膜化も求められている。
そのため、１層で逆波長分散性を有する位相差層を構成することができるように、複屈折率（△ｎ）の波長分散性を小さく若しくは逆にする特性を実現する、逆波長分散性の液晶化合物の開発が行われてきている（例えば特許文献３～４）。なお、位相差フィルムに対する入射光の波長λを横軸に取り、その複屈折率（△ｎ＝異常光に対する屈折率ｎｅ－常光に対する屈折率ｎ０）を縦軸にプロットして得たグラフの傾きが正（右肩上がり）である場合、その複屈折率の波長分散は逆である、又はその位相差フィルムを構成する材料の液晶化合物は逆波長分散性である、と一般的に言われている。
そのため、１層で逆波長分散性を有する位相差層を構成することができるように、複屈折率（△ｎ）の波長分散性を小さく若しくは逆にする特性を実現する、逆波長分散性の液晶化合物の開発が行われてきている（例えば特許文献３～４）。なお、位相差フィルムに対する入射光の波長λを横軸に取り、その複屈折率（△ｎ＝異常光に対する屈折率ｎｅ－常光に対する屈折率ｎ０）を縦軸にプロットして得たグラフの傾きが正（右肩上がり）である場合、その複屈折率の波長分散は逆である、又はその位相差フィルムを構成する材料の液晶化合物は逆波長分散性である、と一般的に言われている。
しかしながら、例えば特許文献３～４の化合物など、従来の逆波長分散性を有する液晶化合物は複屈折率（△ｎ）が小さいため、所望の位相差（Ｒｅ（λ）＝複屈折率Δｎ（λ）×膜厚ｄ）を得るためには、膜厚を厚くする必要があった。
また、例えば１／４波長板において、理想的な逆波長分散性が得られれば、可視光域全ての波長で円偏光に変換できるため、完全な外光の反射防止が可能になる。しかしながら、従来の逆波長分散性を有する液晶化合物は、逆波長分散性が不十分であり、理想的な逆波長分散性に近付けることが望まれている。
また、例えば１／４波長板において、理想的な逆波長分散性が得られれば、可視光域全ての波長で円偏光に変換できるため、完全な外光の反射防止が可能になる。しかしながら、従来の逆波長分散性を有する液晶化合物は、逆波長分散性が不十分であり、理想的な逆波長分散性に近付けることが望まれている。
特許文献５には、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることが出来る重合性化合物として、化合物の主鎖の１個の４価のベンゼン環基に、２つの側鎖を有する構造が開示されている。特許文献５の重合性化合物自体は、液晶性を有しないことが示されている（特許文献５の表１）。特許文献５の重合性化合物に従来の逆波長分散性液晶化合物を混合することによって、逆波長分散性となる光学フィルムが示されているが、その逆波長分散性は理想的な逆波長分散性とは隔たりが大きいものである。
特許文献６には、重合性組成物に添加した際に結晶の析出が起こらず高い保存安定性を有するような重合性化合物として、化合物の主鎖の１個の３価のベンゼン環基Ｍに１つの側鎖を有し、３価のベンゼン環基Ｍの主鎖方向の２つの置換基のうち、一方の置換基には１つの環構造を有し、もう一方の置換基には２つの環構造を有することを特徴とした重合性化合物が開示されている。
また、特許文献７には、重合性組成物に添加した際に結晶の析出が起こらず高い保存安定性を有するような重合性化合物として、特許文献６と同様の化合物、及び特許文献５と同様の化合物の主鎖の１個の４価のベンゼン環基に、２つの側鎖を有する構造が開示されている。
上記の特許文献６及び７においては、上記重合性化合物を重合性組成物に添加した際に結晶の析出が起こらず高い保存安定性を有することや、上記重合性化合物を母体液晶に添加して光学フィルムを作成した場合に変色や基材からの剥離が生じ難いことが示されているのみである。
また、特許文献７には、重合性組成物に添加した際に結晶の析出が起こらず高い保存安定性を有するような重合性化合物として、特許文献６と同様の化合物、及び特許文献５と同様の化合物の主鎖の１個の４価のベンゼン環基に、２つの側鎖を有する構造が開示されている。
上記の特許文献６及び７においては、上記重合性化合物を重合性組成物に添加した際に結晶の析出が起こらず高い保存安定性を有することや、上記重合性化合物を母体液晶に添加して光学フィルムを作成した場合に変色や基材からの剥離が生じ難いことが示されているのみである。
本開示の実施形態は、前述のような実情を鑑み、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有する重合性液晶化合物、当該重合性液晶化合物を含む重合性組成物、当該重合性液晶化合物又は当該重合性組成物を重合して得られる重合体、当該重合性組成物の硬化物を含む位相差層を有する位相差フィルム及びその製造方法、前記位相差層を転写可能な転写用積層体、前記位相差フィルムを有する光学部材及びその製造方法、並びに、表示装置を提供することを目的とする。
本開示の１実施形態は、下記一般式（１）で表される重合性液晶化合物を提供する。
Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、
Ａ３及びＡ４はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、下記一般式（Ｒ－１）から選ばれる基を表し、
一般式（Ｒ－１）： －Ｌ５－Ｒｓｐ１－Ｚ１
一般式（Ｒ－１）中、Ｌ５は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＯＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯＯ－、－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｏ－、－Ｏ－ＮＨ－、－ＳＣＨ２－、－ＣＨ２Ｓ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＦ２Ｓ－、－ＳＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表し、Ｒｓｐ１は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０のアルキレン基又は単結合を表し、Ｚ１は重合性官能基を表す。
Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立して、下記一般式（Ｄ－１）から選ばれる基を表し、
置換基Ｅ、Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、或いは、置換基Ｅ、Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立して、－ＬＥ－ＲｓｐＥ－ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ、及びＺＥは、それぞれ、前記Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１と同一であっても異なっていても良く、化合物内に置換基Ｅ、Ｅ１及びＥ２がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良く、
Ｌ３、Ｌ４、Ａ３、及びＡ４がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立して１～４の整数を表し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立して０～３の整数を表す。）
Ｑ１は、芳香族炭化水素基を有する炭素原子数２～３０の有機基を表すが、当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、芳香族炭化水素基は無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、
Ｊ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＮＱ２－、－Ｎ＝ＣＱ２－、－ＣＯ－ＮＱ２－、－ＯＣＯ－ＮＱ２－又は－Ｏ－ＮＱ２－を表し、Ｑ２は水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルケニル基、芳香族炭化水素基（当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良い）を有する炭素原子数２～３０の有機基、又は－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香族炭化水素基はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられても良く、Ｌ６、Ａ５、Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２は、それぞれ、前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１と同一であっても異なっていても良く、ｑは０～４の整数を表し、Ｌ６、及びＡ５がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。また、Ｑ１とＱ２は結合して環を構成していても良い。）
本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の重合性液晶化合物を含有する、重合性組成物を提供する。
本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の重合性液晶化合物と、当該重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物を更に含有する、重合性組成物を提供する。
本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の重合性液晶化合物或いは前記本開示の１実施形態の重合性組成物を重合して得られる重合体を提供する。
本開示の１実施形態は、位相差層を有する位相差フィルムであって、前記位相差層が、前記本開示の１実施形態の重合性組成物の硬化物を含有する、位相差フィルムを提供する。
本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の重合性組成物を成膜する工程と、
前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性化合物を少なくとも配向させる工程と、
前記配向工程の後に、前記重合性化合物を少なくとも重合する工程とを有することにより、位相差層を形成する工程を有する、位相差フィルムの製造方法を提供する。
前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性化合物を少なくとも配向させる工程と、
前記配向工程の後に、前記重合性化合物を少なくとも重合する工程とを有することにより、位相差層を形成する工程を有する、位相差フィルムの製造方法を提供する。
本開示の１実施形態は、位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、前記本開示の１実施形態の重合性組成物の硬化物を含有する、
位相差層の転写に供する転写用積層体を提供する。
前記位相差層が、前記本開示の１実施形態の重合性組成物の硬化物を含有する、
位相差層の転写に供する転写用積層体を提供する。
本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の位相差フィルム上に、偏光板を備える光学部材を提供する。
本開示の１実施形態は、位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、前記位相差層が、前記本開示の１実施形態の重合性組成物の硬化物を含有する、位相差層の転写に供する転写用積層体を準備する工程と、
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程と、
を有する、光学部材の製造方法を提供する。
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程と、
を有する、光学部材の製造方法を提供する。
また、本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の位相差フィルム又は、前記本開示の１実施形態の光学部材を備える表示装置を提供する。
本開示の実施形態によれば、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有する重合性液晶化合物、当該重合性液晶化合物を含む重合性組成物、当該重合性液晶化合物又は当該重合性組成物を重合して得られる重合体、当該重合性組成物の硬化物を含む位相差層を有する位相差フィルム及びその製造方法、前記位相差層を転写可能な転写用積層体、前記位相差フィルムを有する光学部材及びその製造方法、並びに、表示装置を提供することができる。
以下、本開示の実施の形態や実施例などを、図面等を参照しながら説明する。但し、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態や実施例等の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。また、説明の便宜上、上方又は下方という語句を用いて説明する場合があるが、上下方向が逆転してもよい。
「本明細書において、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に（又は下に）」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の構成の直上（又は直下）にある場合のみでなく、他の構成の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の構成の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。
「本明細書において、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に（又は下に）」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の構成の直上（又は直下）にある場合のみでなく、他の構成の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の構成の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。
本開示において配向規制力とは、位相差層中の液晶化合物を特定方向に配列させる作用をいう。
本開示において、（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタアクリルの各々を表し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートの各々を表す。
また、本明細書において「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではなく、「フィルム面（板面、シート面）」とは、対象となるフィルム状（板状、シート状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（板状部材、シート状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。
本開示において、（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタアクリルの各々を表し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートの各々を表す。
また、本明細書において「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではなく、「フィルム面（板面、シート面）」とは、対象となるフィルム状（板状、シート状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（板状部材、シート状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。
Ａ．重合性液晶化合物
本開示の重合性液晶化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。
本開示の重合性液晶化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。
Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、
Ａ３及びＡ４はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、下記一般式（Ｒ－１）から選ばれる基を表し、
一般式（Ｒ－１）： －Ｌ５－Ｒｓｐ１－Ｚ１
一般式（Ｒ－１）中、Ｌ５は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＯＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯＯ－、－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｏ－、－Ｏ－ＮＨ－、－ＳＣＨ２－、－ＣＨ２Ｓ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＦ２Ｓ－、－ＳＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表し、Ｒｓｐ１は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０のアルキレン基又は単結合を表し、Ｚ１は重合性官能基を表す。
Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立して、下記一般式（Ｄ－１）から選ばれる基を表し、
置換基Ｅ、Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、或いは、置換基Ｅ、Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立して、－ＬＥ－ＲｓｐＥ－ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ、及びＺＥは、それぞれ、前記Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１と同一であっても異なっていても良く、化合物内に置換基Ｅ、Ｅ１及びＥ２がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良く、
Ｌ３、Ｌ４、Ａ３、及びＡ４がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立して１～４の整数を表し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立して０～３の整数を表す。）
Ｑ１は、芳香族炭化水素基を有する炭素原子数２～３０の有機基を表すが、当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、芳香族炭化水素基は無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、
Ｊ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＮＱ２－、－Ｎ＝ＣＱ２－、－ＣＯ－ＮＱ２－、－ＯＣＯ－ＮＱ２－又は－Ｏ－ＮＱ２－を表し、Ｑ２は水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルケニル基、芳香族炭化水素基（当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良い）を有する炭素原子数２～３０の有機基、又は－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香族炭化水素基はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられても良く、Ｌ６、Ａ５、Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２は、それぞれ、前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１と同一であっても異なっていても良く、ｑは０～４の整数を表し、Ｌ６、及びＡ５がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。また、Ｑ１とＱ２は結合して環を構成していても良い。）
本開示の一般式（１）で表される化合物は、前記特定のＲ１からＲ２に至る主鎖構造に特定の構造を有することから、分子同士の配向性が向上し、単独で液晶性を示す化合物である。また、本開示の一般式（１）で表される化合物は、末端に重合性基を有することから重合性液晶化合物である。
本開示の一般式（１）で表される化合物は、主鎖部分に含まれるビフェニレン基によって分子同士の配向性が高く、更に当該ビフェニレン基の２つのベンゼン環にそれぞれ１つずつ、合計２つの側鎖を有するため、逆波長分散性を有しながら、複屈折率（△ｎ）が大きい液晶化合物となる。
逆波長分散性を有する化合物は一般的に溶解性が悪いが、本開示の一般式（１）で表される化合物は、ビフェニレン基に近接するＡ１及びＡ２に脂環式炭化水素基を導入していることにより、低下した溶解性を改善することが出来る。
本開示の一般式（１）で表される化合物は、主鎖部分に含まれるビフェニレン基によって分子同士の配向性が高く、更に当該ビフェニレン基の２つのベンゼン環にそれぞれ１つずつ、合計２つの側鎖を有するため、逆波長分散性を有しながら、複屈折率（△ｎ）が大きい液晶化合物となる。
逆波長分散性を有する化合物は一般的に溶解性が悪いが、本開示の一般式（１）で表される化合物は、ビフェニレン基に近接するＡ１及びＡ２に脂環式炭化水素基を導入していることにより、低下した溶解性を改善することが出来る。
本開示の一般式（１）で表される重合性液晶化合物は、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有するため、少量の使用で所望の逆波長分散性を有する位相差層を得ることが可能であり、より薄膜の位相差層を得ることができる。
また、本開示の一般式（１）で表される重合性液晶化合物は、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有するため、他の液晶化合物に少量添加することにより、所望の逆波長分散性を有する材料の位相差を調整することが可能である。
また、本開示の一般式（１）で表される重合性液晶化合物は、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有するため、他の液晶化合物に少量添加することにより、所望の逆波長分散性を有する材料の位相差を調整することが可能である。
一般式（１）中のＬ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＯＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯＯ－、－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｏ－、－Ｏ－ＮＨ－、－ＳＣＨ２－、－ＣＨ２Ｓ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＦ２Ｓ－、－ＳＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表す。二価の連結基又は単結合を表す。なお、Ｌ３及びＬ４がそれぞれ独立して、複数現れる場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
Ｌ１及びＬ２としてより具体的には、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、各々独立して－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表すことが好ましく、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表すことがより好ましく、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－又は単結合を表すことがさらに好ましく、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、又は単結合を表すことがさらにより好ましく、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＨ２－、又は－ＣＨ２Ｏ－を表すことが特に好ましい。
Ｌ３及びＬ４としてより具体的には、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して－Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、又は単結合を表すことが特に好ましい。
一般式（１）中のＡ１及びＡ２はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、より具体的には、当該脂環式炭化水素基の任意の炭素原子は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていても良い。
二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基としては、二価の炭素原子数３～２０のシクロアルカンジイル基、二価の炭素原子数１０から２０の脂環式縮合環基等が挙げられる。
二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基としては、二価の炭素原子数３～２０のシクロアルカンジイル基、二価の炭素原子数１０から２０の脂環式縮合環基等が挙げられる。
二価の炭素原子数３～２０のシクロアルカンジイル基としては、シクロプロパンジイル基；シクロブタン－１，２－ジイル基、シクロブタン－１，３－ジイル基等のシクロブタンジイル基；シクロペンタン－１，２－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基等のシクロペンタンジイル基；シクロヘキサン－１，２－ジイル基、シクロヘキサン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基等のシクロへキサンジイル基；シクロヘプタン－１，２－ジイル基、シクロヘプタン－１，３－ジイル基、シクロヘプタン－１，４－ジイル基等のシクロへプタンジイル基；シクロオクタン－１，２－ジイル基、シクロオクタン－１，３－ジイル基、シクロオクタン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロオクタンジイル基；シクロデカン－１，２－ジイル基、シクロデカン－１，３－ジイル基、シクロデカン－１，４－ジイル基、シクロデカン－１，５－ジイル基等のシクロデカンジイル基；シクロドデカン－１，２－ジイル基、シクロドデカン－１，３－ジイル基、シクロドデカン－１，４－ジイル基、シクロドデカン－１，５－ジイル基等のシクロドデカンジイル基；シクロテトラデカン－１，２－ジイル基、シクロテトラデカン－１，３－ジイル基、シクロテトラデカン－１，４－ジイル基、シクロテトラデカン－１，５－ジイル基、シクロテトラデカン－１，７－ジイル基等のシクロテトラデカンジイル基；シクロエイコサン－１，２－ジイル基、シクロエイコサン－１，１０－ジイル基等のシクロエイコサンジイル基；等が挙げられ、前記シクロアルカンジイル基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い。
前記シクロアルカンジイル基は、任意の炭素原子が酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていても良く、例えば、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基、テトラヒドロチオピラン－２，５－ジイル基等が挙げられる。
前記シクロアルカンジイル基は、任意の炭素原子が酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていても良く、例えば、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基、テトラヒドロチオピラン－２，５－ジイル基等が挙げられる。
二価の炭素原子数１０から２０の脂環式縮合環基としては、デカヒドロナフタレン－２，５－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，７-ジイル基等のデカリンジイル基；アダマンタン－１，２－ジイル基、アダマンタン－１，３－ジイル基等のアダマンタンジイル基；ビシクロ［２．２．１］へプタン－２，３－ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン－２，５-ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン－２，６－ジイル基等のビシクロ［２．２．１］へプタンジイル基；等が挙げられ、前記脂環式縮合環基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い。また、前記脂環式縮合環基は、任意の炭素原子が酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていても良い。
これらの中でも、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立して、中でも液晶性を向上させ、その重合体の配向性を向上させることが容易になる点から、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い、炭素原子数３～１２の脂環式炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数３～１２のシクロアルカンジイル基であることが好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロヘプタン－１，４－ジイル基、又はシクロドデカン－１，５－ジイル基であることが更に好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い、シクロヘキサン－１，４－ジイル基であることが特に好ましい。
前記二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基は、Ｌ１、Ｌ３（又はＬ２、Ｌ４）と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型、トランス型の立体異性体が存在し得る。前記二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基は、シス型であってもトランス型であっても、あるいはシス型とトランス型の異性体混合物であってもよいが、配向性が良好であることから、トランス型あるいはシス型であるのが好ましく、トランス型がより好ましい。
一般式（１）中のＡ３及びＡ４はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、より具体的には、当該脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基の任意の炭素原子は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていても良い。上記芳香族炭化水素基は芳香族複素環基であっても良く、縮合環構造を有していても良く、脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とが縮合した構造であっても良い。なお、Ａ３及びＡ４がそれぞれ独立して複数現れる場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
Ａ３及びＡ４において、ヘテロ原子に置換されていても良い二価の芳香族炭化水素基としては、ヘテロ原子に置換されていても良い二価の炭素原子数６から２０の芳香族炭化水素基が挙げられる。当該ヘテロ原子に置換されていても良い芳香族炭化水素基を構成する芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられ、芳香族複素環としては、フラン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環等が挙げられる。
また、Ａ３及びＡ４において、前記二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基としては、Ａ１及びＡ２における前記二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基と同様のものを用いることが出来る。
また、Ａ３及びＡ４において、前記二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基としては、Ａ１及びＡ２における前記二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基と同様のものを用いることが出来る。
Ａ３及びＡ４において、前記ヘテロ原子に置換されていても良い二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン－１，４－ジイル基（１，４－フェニレン基）、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロヘキセン－１，４－ジイル基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基、テトラヒドロチオピラン－２，５－ジイル基、１，４－ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ピラジン－２，５－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基、９，１０－ジヒドロフェナントレン－２，７－ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ－オクタヒドロフェナントレン２，７－ジイル基又はフルオレン２，７－ジイル基などが挙げられ、前記脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い。
一般式（１）中のＡ３及びＡ４としてはそれぞれ独立して、中でも液晶性を向上させ、その重合体の配向性を向上させることが容易になる点から、ベンゼン－１，４－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基であることが好ましい。
一般式（１）中のＡ３及びＡ４はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いベンゼン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基又はシクロヘキサン－１，４－ジイル基であることが好ましく、ベンゼン－１，４－ジイル基又はシクロヘキサン－１，４－ジイル基であることがより好ましく、ベンゼン－１，４－ジイル基であることが特に好ましい。これらの基であると、本実施形態の重合性液晶化合物の液晶性を向上させ、その重合体の配向性を向上させることが容易になる。
置換基Ｅはそれぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、或いは、置換基Ｅはそれぞれ独立して、－ＬＥ－ＲｓｐＥ－ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ、及びＺＥは、それぞれ、後述するＬ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１と同一であっても異なっていても良く、化合物内に置換基Ｅがそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
液晶性、合成の容易さの観点から、置換基Ｅは、フッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－から選択される基に置き換えられても良い炭素原子数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－から選択される基に置き換えられても良い炭素原子数１～１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１～１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１～８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。
また、Ａ３及びＡ４に置換されていても良い置換基Ｅ、中でも、Ｒ１及びＲ２がそれぞれ結合しているＡ３及びＡ４に置換されていても良い置換基Ｅとしては、－ＬＥ－ＲｓｐＥ－ＺＥで表される基も好ましい。
また、Ａ３及びＡ４に置換されていても良い置換基Ｅ、中でも、Ｒ１及びＲ２がそれぞれ結合しているＡ３及びＡ４に置換されていても良い置換基Ｅとしては、－ＬＥ－ＲｓｐＥ－ＺＥで表される基も好ましい。
一般式（１）中のｍ１及びｍ２はそれぞれ独立して１～４の整数を表す。
本実施形態の重合性化合物の液晶性及び配向性を重視する場合には、ｍ１及びｍ２の一方又は両方が１～３の整数であることが好ましく、ｍ及びｎの両方が１～３の整数であることがより好ましく、ｍ１及びｍ２の両方が１又は２であることがさらに好ましい。
本実施形態の重合性化合物の液晶性及び配向性を重視する場合には、ｍ１及びｍ２の一方又は両方が１～３の整数であることが好ましく、ｍ及びｎの両方が１～３の整数であることがより好ましく、ｍ１及びｍ２の両方が１又は２であることがさらに好ましい。
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、下記一般式（Ｒ－１）から選ばれる基を表す。
一般式（Ｒ－１）： －Ｌ５－Ｒｓｐ１－Ｚ１
一般式（Ｒ－１）中、Ｌ５は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＯＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯＯ－、－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｏ－、－Ｏ－ＮＨ－、－ＳＣＨ２－、－ＣＨ２Ｓ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＦ２Ｓ－、－ＳＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表す。
一般式（Ｒ－１）： －Ｌ５－Ｒｓｐ１－Ｚ１
一般式（Ｒ－１）中、Ｌ５は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＯＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯＯ－、－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｏ－、－Ｏ－ＮＨ－、－ＳＣＨ２－、－ＣＨ２Ｓ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＦ２Ｓ－、－ＳＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表す。
一般式（Ｒ－１）中、Ｌ５としてより具体的には、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良い。
一般式（Ｒ－１）中、Ｒｓｐ１は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０のアルキレン基又は単結合を表す。
一般式（Ｒ－１）中、Ｒｓｐ１としてより具体的には、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、各々独立して、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－に置き換えられても良い炭素原子数１～１２のアルキレン基又は単結合を表すことがより好ましく、各々独立して、炭素原子数１～１２のアルキレン基又は単結合を表すことが更に好ましく、各々独立して、炭素原子数２～１０のアルキレン基を表すことがより更に好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良い。
一般式（Ｒ－１）中、Ｚ１は重合性官能基を表す。当該重合性官能基は、従来の重合性液晶化合物に使用される基が制限なく適用可能である。
当該重合性官能基は、それぞれ独立して下記式（Ｚ－１）から式（Ｚ－８）から選ばれる基を表すことが好ましい。なお、下記式（Ｚ－１）から式（Ｚ－８）において、＊（アスタリスク）はＲｓｐ１との結合位置を示す。
当該重合性官能基は、それぞれ独立して下記式（Ｚ－１）から式（Ｚ－８）から選ばれる基を表すことが好ましい。なお、下記式（Ｚ－１）から式（Ｚ－８）において、＊（アスタリスク）はＲｓｐ１との結合位置を示す。
重合方法として紫外線重合を行う場合には、Ｚ１は、式（Ｚ－１）、式（Ｚ－２）、式（Ｚ－３）、式（Ｚ－５）、式（Ｚ－７）が好ましく、式（Ｚ－１）、式（Ｚ－３）、式（Ｚ－７）がより好ましく、式（Ｚ－１）がさらに好ましく、式（Ｚ－１）において、Ｒｚが水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である場合が特に好ましい。
一般式（１）において、Ｌｃ１：－Ｌ１－Ａ１－（Ｌ３－Ａ３）ｍ１－Ｌ５－Ｒｓｐ１－Ｚ１、及び、Ｌｃ２：－Ｌ２－Ａ２－（Ｌ４－Ａ４）ｍ２－Ｌ５－Ｒｓｐ１－Ｚ１の具体例としては、これらに限定されるものではないが、下記Ｌｃ－１～Ｌｃ－２４４で表される基が挙げられる。一般式（１）で表される重合性液晶化合物において、Ｌｃ１とＬｃ２は同一であっても異なっていても良い。
前記Ｌｃ－１～Ｌｃ－２４４で表される基において、Ｌ３及びＬ４におけるｍは１又は２を表し、２が好ましい。Ｒｓｐ１におけるｎは１～２０を表すが、中でもＲｓｐ１におけるｎは、２以上であることが好ましく、更に４以上であることが好ましく、一方で、１２以下であることが好ましく、更に１０以下であることが好ましい。
また、Ｚ１において、式（Ｚ－１）中のＲｚとしては、それぞれ独立して、中でも水素原子、又はメチル基であることが好ましく、更に水素原子であることが好ましい。
また、Ｚ１において、式（Ｚ－１）中のＲｚとしては、それぞれ独立して、中でも水素原子、又はメチル基であることが好ましく、更に水素原子であることが好ましい。
一方、一般式（Ｄ－１）中、Ｇ１は水素原子又は炭素原子数１～６のアルキル基を表すが、当該アルキル基は無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、当該置換基Ｅとしては、中でも、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３又はシアノ基であることが好ましい。Ｇ１は水素原子又は無置換であるか又は１つ以上Ｆで置換された炭素原子数１～６のアルキル基が好ましく、Ｇ１は水素原子がより好ましい。
Ｑ１は、芳香族炭化水素基を有する炭素原子数２～３０の有機基を表すが、当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良いものであり、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素原子数２～３０の有機基を表す。前記芳香環としては、下記の式（Ｑ－１）から式（Ｑ－２２）から選ばれる基が好ましい。
波長分散性が良好になる点から、炭素原子の１つ以上がヘテロ原子に置換されている、芳香族複素環を有する有機基であることが好ましく、波長分散性が良好で、高い複屈折を示すようになる点から、５員環と６員環の縮合環である芳香族複素環を有する有機基であることが更に好ましい。５員環と６員環の縮合環である芳香族複素環としては、例えば下記の式（Ｑ－１０）、式（Ｑ－１１）、式（Ｑ－２１）及び式（Ｑ－２２）から選ばれる基の炭素原子の１つ以上がヘテロ原子に置換されている芳香族複素環が好ましい。
波長分散性が良好になる点から、炭素原子の１つ以上がヘテロ原子に置換されている、芳香族複素環を有する有機基であることが好ましく、波長分散性が良好で、高い複屈折を示すようになる点から、５員環と６員環の縮合環である芳香族複素環を有する有機基であることが更に好ましい。５員環と６員環の縮合環である芳香族複素環としては、例えば下記の式（Ｑ－１０）、式（Ｑ－１１）、式（Ｑ－２１）及び式（Ｑ－２２）から選ばれる基の炭素原子の１つ以上がヘテロ原子に置換されている芳香族複素環が好ましい。
これらの基は任意の位置に結合手を有している。Ｑａは－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＱａ－（式中、ＲＱａは水素原子又は炭素原子数１～８のアルキル基を表す。）又は－ＣＯ－を表すが、これらの基中の－ＣＨ＝は各々独立して－Ｎ＝に置き換えられても良く、－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＱａ－（式中、ＲＱａは水素原子又は炭素原子数１～８のアルキル基を表す。）－ＳＯ－、又は－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換えられても良い（但し、酸素原子同士が直接結合する場合を除く。）。これらの環に結合する１つ以上の水素原子は、前記置換基Ｅによって置換されていても良い。前記アルキル基を構成するアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。前記アルキル基の炭素原子数は、１～４が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
式（Ｑ－１）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１－１）から式（Ｑ－１－８）から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
式（Ｑ－７）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－７－１）から式（Ｑ－７－７）から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
式（Ｑ－１０）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１０－１）から式（Ｑ－１０－９）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－１１）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１１－１）から式（Ｑ－１１－１２）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－１３）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１３－１）から式（Ｑ－１３－１９）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－１４）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１４－１）から式（Ｑ－１４－１０）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－１５）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１５－１）から式（Ｑ－１５－４）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－１６）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１６－１）から式（Ｑ－１６－１６）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－１７）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１７－１）から式（Ｑ－１７－４）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－１８）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１８－１）から式（Ｑ－１８－６）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－１９）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－１９－１）から式（Ｑ－１９－６）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－２０）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－２０－１）から式（Ｑ－２０－９）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－２１）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－２１－１）から式（Ｑ－２１－２）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－２２）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－２２－１）から式（Ｑ－２２－２）から選ばれる基を表すことが好ましい。
式（Ｑ－２２）で表される基としては、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ－２２－１）から式（Ｑ－２２－２）から選ばれる基を表すことが好ましい。
Ｑ１に含まれる芳香族基は、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い上記式（Ｑ－１－１）、式（Ｑ－７－１）、式（Ｑ－７－２）、式（Ｑ－７－７）、式（Ｑ－８）、式（Ｑ－１０－２）、式（Ｑ－１０－３）、式（Ｑ－１０－４）、式（Ｑ－１０－５）、式（Ｑ－１０－６）、式（Ｑ－１０－７）、式（Ｑ－１０－８）、式（Ｑ－１０－９）、式（Ｑ－１１－２）、式（Ｑ－１１－３）、式（Ｑ－１１－４）、式（Ｑ－１１－５）、式（Ｑ－１１－６）、式（Ｑ－１１－７）、式（Ｑ－１１－８）、式（Ｑ－１１－９）、式（Ｑ－１１－１０）、式（Ｑ－１１－１１）、式（Ｑ－１１－１２）、式（Ｑ－２１－１）、式（Ｑ－２１－２）、式（Ｑ－２２－１）、及び式（Ｑ－２２－２）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い式（Ｑ－１０－２）、式（Ｑ－１０－３）、式（Ｑ－１０－４）、式（Ｑ－１０－５）、式（Ｑ－１０－６）、式（Ｑ－１０－７）、式（Ｑ－１０－８）、及び式（Ｑ－１０－９）、式（Ｑ－２１－１）、式（Ｑ－２１－２）、式（Ｑ－２２－１）、及び式（Ｑ－２２－２）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。
また、Ｑ１に含まれる芳香族基が置換されている場合の置換基ＥＱとしては、中でもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、によって置換されても良い炭素原子数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い、が好ましく、更に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、によって置換されても良い炭素原子数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い、がより好ましい。
さらに、Ｑ１は下記の式（Ｑ－１０－２）、式（Ｑ－１０－２ａ）、式（Ｑ－１０－３）、式（Ｑ－１０－３ａ）、式（Ｑ－１０－３ｂ）、式（Ｑ－１０－６）、式（Ｑ－１０－６ａ）、式（Ｑ－１０－６ｂ）、式（Ｑ－１０－６ｃ）、式（Ｑ－１０－６ｄ）、式（Ｑ－１０－７）、式（Ｑ－１０－７ａ）、式（Ｑ－１０－７ｂ）、式（Ｑ－１０－７ｃ）、式（Ｑ－１０－７ｄ）、式（Ｑ－１０－７ｅ）、式（Ｑ－１０－７ｆ）、式（Ｑ－１０－９）、式（Ｑ－１０－９ａ）、式（Ｑ－１０－９ｂ）、式（Ｑ－２１－１）、式（Ｑ－２１－２）、式（Ｑ－２２－１）及び式（Ｑ－２２－２）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。
Ｊ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＮＱ２－、－Ｎ＝ＣＱ２－、－ＣＯ－ＮＱ２－、－ＯＣＯ－ＮＱ２－又は－Ｏ－ＮＱ２－を表し、Ｑ２は水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルケニル基、芳香族炭化水素基（当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良い）を有する炭素原子数２～３０の有機基、又は－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香族炭化水素基はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられていても良く、Ｌ６、Ａ５、Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２は、それぞれ、前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１と同一であっても異なっていても良く、ｑは０～４の整数を表し、Ｌ６、及びＡ５がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
Ｊ１は、複屈折が良好で合成が容易な点から、中でも、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ＝ＣＱ２－又は－ＮＱ２－であることが好ましく、更に、波長分散性と複屈折が良好な点から、－Ｏ－、－Ｓ－、又は－ＮＱ２－であることが好ましい。
ここでＱ２は、１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられても良い、炭素原子数１～２０のアルキル基若しくはアルケニル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、又は炭素原子数３～１２のシクロアルケニル基、或いは、当該シクロアルキル基、シクロアルケニル基、又はアリール基によって置換されていても良い前記アルキル基若しくはアルケニル基であるか、或いは、－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２を表すことが好ましい。
Ｑ２は、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、Ｑ２が、ヘテロ原子を含まない構造であることが、複屈折の点から好ましい。また、Ｑ２が、ヘテロ原子をより多く含む構造であること、中でも、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－によって置換されている構造を有する場合には、化合物の溶剤溶解性が向上し、組み合わせる基材の選択肢も増える点から好ましい。また、Ｑ２が、－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２であることが、膜の硬化度が向上することにより耐久性が向上する点から好ましい。
無置換の炭素原子数１～２０のアルキル基若しくはアルケニル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルケニル基、当該シクロアルキル基、シクロアルケニル基、又はアリール基によって置換されていても良い前記アルキル基若しくはアルケニル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－へキシル基、１－メチルペンチル基、ｎ－ヘプチル基、１－エチルペンチル基、ｎ－オクチル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、３，７－ジメチルオクチル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブチニル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクテニル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、ベンジル基等が挙げられる。
ここでＱ２は、１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられても良い、炭素原子数１～２０のアルキル基若しくはアルケニル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、又は炭素原子数３～１２のシクロアルケニル基、或いは、当該シクロアルキル基、シクロアルケニル基、又はアリール基によって置換されていても良い前記アルキル基若しくはアルケニル基であるか、或いは、－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２を表すことが好ましい。
Ｑ２は、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、Ｑ２が、ヘテロ原子を含まない構造であることが、複屈折の点から好ましい。また、Ｑ２が、ヘテロ原子をより多く含む構造であること、中でも、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－によって置換されている構造を有する場合には、化合物の溶剤溶解性が向上し、組み合わせる基材の選択肢も増える点から好ましい。また、Ｑ２が、－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２であることが、膜の硬化度が向上することにより耐久性が向上する点から好ましい。
無置換の炭素原子数１～２０のアルキル基若しくはアルケニル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルケニル基、当該シクロアルキル基、シクロアルケニル基、又はアリール基によって置換されていても良い前記アルキル基若しくはアルケニル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－へキシル基、１－メチルペンチル基、ｎ－ヘプチル基、１－エチルペンチル基、ｎ－オクチル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、３，７－ジメチルオクチル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブチニル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクテニル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、ベンジル基等が挙げられる。
Ｑ２における置換基としては中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基であることが好ましく、更に、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシル基、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基であることが好ましい。
中でもＱ２は、複屈折、溶剤溶解性、又は耐久性の点から、１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられても良い、炭素原子数１～２０のアルキル基若しくはアルケニル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、又は炭素原子数３～１２のシクロアルケニル基、或いは、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良い前記アルキル基若しくはアルケニル基であるか、－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２を表すことが好ましく、任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基又は炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、或いは、当該シクロアルキル基によって置換されていても良い前記アルキル基であるか、－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２を表すことが好ましく、更に、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々－Ｏ－に置き換えられても良い炭素原子数１～１２の直鎖状若しくは分岐状アルキル基又は炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、或いは、当該シクロアルキル基によって置換されていても良い前記アルキル基であるか、－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２を表すことが好ましい。
また、－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２の好ましい構造は、各々前記前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義される好ましい構造と同様であることが望ましい。ｑは０～４の整数を表すが、０～２の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましく、０を表すことが特に好ましい。
また、－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２の好ましい構造は、各々前記前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義される好ましい構造と同様であることが望ましい。ｑは０～４の整数を表すが、０～２の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましく、０を表すことが特に好ましい。
中でもＱ２は、複屈折、及び溶剤溶解性の点から、水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－に置き換えられても良い炭素原子数２～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基又は炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、或いは、当該シクロアルキル基によって置換されていても良い前記アルキル基であることが好ましく、水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－に置き換えられても良い炭素原子数２～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基であることがより好ましく、水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－に置き換えられても良い炭素原子数２～２０の直鎖状アルキル基であることがより更に好ましい。
Ｑ２における炭素原子数は、４以上であることが好ましく、１２以下であることが更に好ましい。
Ｑ２における炭素原子数は、４以上であることが好ましく、１２以下であることが更に好ましい。
或いは、Ｑ１とＱ２は結合して環を構成していても良いが、その場合、例えば、－ＮＱ１Ｑ２で表される環状基、又は－Ｎ＝ＣＱ１Ｑ２で表される環状基が挙げられる。Ｑ１とＱ２が結合している窒素原子又は炭素原子と一緒に形成している環は、芳香環を有し炭素原子数が２～３０である環が挙げられ、炭素原子数は、２～１８であることがより好ましく、２～１４であることがより更に好ましい。中でも、－ＮＱ１Ｑ２で表される環状基は、無置換であるか１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良い下記の式（ＱＱ－１）から式（ＱＱ－２２）から選ばれる基を表すことが好ましい。－Ｎ＝ＣＱ１Ｑ２で表される環状基は、下記の式（ＱＱ－２３）又は式（ＱＱ－２４）を表すことが好ましい。
式（ＱＱ－１）から式（ＱＱ－２２）から選ばれる基中の－ＣＨ＝は各々独立して－Ｎ＝に置き換えられても良く、－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＱ２－（式中、ＲＱ２は水素原子又は炭素原子数１～８のアルキル基を表す。）－ＳＯ－、又は－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換えられても良い（但し、酸素原子同士が直接結合する場合を除く。）。これらの環に結合する１つ以上の水素原子は、前記置換基Ｅによって置換されていても良い。前記アルキル基を構成するアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。前記アルキル基の炭素原子数は、１～４が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
Ｊ１及びＱ１に含まれるπ電子の総数は、波長分散特性、液晶性、及び合成の容易さの観点から、４～２４であることが好ましく、更に４～２０であることが好ましい。
Ｄ１及びＤ２はそれぞれ、下記の式（Ｄ－１）から式（Ｄ－４７）から選ばれる基を表すことが、原料が入手しやすく、溶解性が良好で高い複屈折率を示す点から、特に好ましい。
ビフェニレン基のベンゼン環に置換されていても良いＥ１及びＥ２はそれぞれ独立して、前記置換基Ｅと同様であって良い。
ビフェニレン基のベンゼン環に置換されていても良いＥ１及びＥ２としては、中でも、複屈折が良好で合成が容易な点から、フッ素原子、塩素原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－によって置換されても良い炭素原子数１～６の直鎖状又は分岐状アルキル基であることが好ましい。
ビフェニレン基のベンゼン環に置換されていても良いＥ１及びＥ２としては、中でも、複屈折が良好で合成が容易な点から、フッ素原子、塩素原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－によって置換されても良い炭素原子数１～６の直鎖状又は分岐状アルキル基であることが好ましい。
また、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立して０～３の整数を表すが、０～２であることが好ましく、０又は１であることが更に好ましい。
また、Ｅ１及びＥ２がそれぞれ独立して、ビフェニレン基に置換されている場合、置換位置は、ビフェニレン基の６位、６’位であることが、複屈折が良好となる点から、好ましい。このような場合、ビフェニレン基における２つのベンゼン環のねじれ角が大きくなり、π電子共役構造を切断しやすくなる。
また、Ｅ１及びＥ２がそれぞれ独立して、ビフェニレン基に置換されている場合、置換位置は、ビフェニレン基の６位、６’位であることが、複屈折が良好となる点から、好ましい。このような場合、ビフェニレン基における２つのベンゼン環のねじれ角が大きくなり、π電子共役構造を切断しやすくなる。
主鎖部分に有するビフェニレン基における構造は、下記式（Ｃｏ－１）から式（Ｃｏ－８）から選ばれる基を表すことが好ましい。
更に、一般式（１）で表される化合物としては、例えば、下記化合物（ｉ）～化合物(xci)が挙げられる。表中のＣｏｒｅは、ビフェニレン基における構造を、Ｌｃ１は、－Ｌ１－Ａ１－（Ｌ３－Ａ３）ｍ１－Ｌ５－Ｒｓｐ１－Ｚ１を、Ｌｃ２は、－Ｌ２－Ａ２－（Ｌ４－Ａ４）ｍ２－Ｌ５－Ｒｓｐ１－Ｚ１を表す。
更に、表７～表８の化合物（ｉ）～化合物(xci)の代表的な構造式を下記に例示するが、これらに限定されるものではない。
一般式（１）で表される化合物は、例えば、以下の製法で製造することができる。製法としては例えば、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木－宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト－ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応、ダフ反応など）を、その構造に応じて適宜組み合わせることにより、製造することができる。以下、製造方法の例を示すが、本開示はこれらの構造や製造方法に限定されるものではない。
例えば、Ｌ１及びＬ２がそれぞれ、＊－ＯＣＯ－であり（＊はビフェニレン基との結合位置を示す）、Ｇ１が水素原子である化合物の場合、例えば下記のように製造することができる。
まず、４，４’－ジヒドロキシビフェニル又は更に置換基Ｅが導入された式（ｉｐ－１）で表される化合物を準備し、ダフ反応等によって所望の位置にアルデヒド基を導入した式（ｉｐ－２）で表される中間体Ａを製造する。
まず、４，４’－ジヒドロキシビフェニル又は更に置換基Ｅが導入された式（ｉｐ－１）で表される化合物を準備し、ダフ反応等によって所望の位置にアルデヒド基を導入した式（ｉｐ－２）で表される中間体Ａを製造する。
次に、式（ｉｐ－２）で表される中間体Ａと、ＨＯＯＣ－Ａ１－（Ｌ３－Ａ３）ｍ１－Ｒ１で表される中間体Ｂ（Ａ１、Ｌ３、Ａ３、Ｒ１、及びｍ１は上記と同一の意味を表す）とを、縮合反応等によって反応させることにより、式（ｉｐ－３）で表される中間体Ｃを得て、更に、得られた式（ｉｐ－３）で表される中間体Ｃと、ＨＯＯＣ－Ａ２－（Ｌ４－Ａ４）ｍ２－Ｒ２で表される中間体Ｄ（Ａ２、Ｌ４、Ａ４、Ｒ２、及びｍ２は上記と同一の意味を表す）とを反応させることにより、式（ｉｐ－４）で表される中間体Ｅを得る。前記中間体Ｂと中間体Ｄの構造が同じ場合には、中間体Ａに中間体Ｂを反応させることにより中間体Ｅを得ることができる。
次いで、式（ｉｐ－４）で表される中間体Ｅに、例えばＱ１－Ｊ１－ＮＨ２で表される中間体Ｆを反応させることにより、式（１－ｅｘ１）で表される化合物を得ることができる。
また、前記式（ｉｐ－２）で表される中間体Ａは、Ｅ１及びＥ２の種類や置換位置、Ｄ１及びＤ２の置換位置等によって、例えば３，４－メチレンジオキシフェノール（東京化成工業（株）製）又はその誘導体に、ダフ反応を行ってアルデヒド基を導入し、鈴木－宮浦カップリング反応を行うことにより得てもよい。
また、例えば、式（ｉｐ－２）で表される中間体Ａに、側鎖部分となるＤ１及びＤ２を予め導入した中間体Ｇを得た後、当該中間体Ｇに、ＨＯＯＣ－Ａ１－（Ｌ３－Ａ３）ｍ１－Ｒ１で表される中間体Ｂ（Ａ１、Ｌ３、Ａ３、Ｒ１、及びｍ１は上記と同一の意味を表す）や、ＨＯＯＣ－Ａ２－（Ｌ４－Ａ４）ｍ２－Ｒ２で表される中間体Ｄ（Ａ２、Ｌ４、Ａ４、Ｒ２、及びｍ２は上記と同一の意味を表す）を反応させることにより、式（１－ｅｘ１）で表される化合物を得てもよい。
また製造に用いられる各中間体は、適宜市販品を用いてもよいし、従来公知の方法で適宜合成することができる。
本開示において重合性液晶化合物の構造は核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）、熱分解型ガスクロマトグラフ質量分析法（Ｐｙ－ＧＣ－ＭＳ）、及びマトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析法（ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦＭＳ）等を適宜組み合わせて解析することができる。
本開示の重合性液晶化合物は、配向性が良好であり、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有する重合性液晶化合物である。例えば後述の実施例１に示す方法により、本開示の重合性液晶化合物と光重合開始剤のみを含む重合性組成物を調製し、硬化膜（位相差層）を形成し、当該硬化膜の複屈折率（△ｎ）を測定した場合に、０．０７５以上であることが好ましく、更に０．０８以上であることが好ましい。
また、本開示の重合性液晶化合物は、逆波長分散性が良好であり、理想的な逆波長分散性に近付けるために、本開示の重合性液晶化合物と光重合開始剤のみを含む重合性組成物を調製し、硬化膜（位相差層）を形成し、位相差値を測定した場合に、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が、０．５０以上０．９５未満の範囲内にあることが好ましく、更に０．５５以上０．９３未満の範囲内にあることが好ましく、より更に０．６０以上０．９０未満の範囲内にあることが好ましく、特に０．６０以上０．８３以下の範囲内にあることが好ましく、０．６０以上０．８０未満の範囲内にあっても良い。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が、１超過であることが好ましく、更に１．０２以上１．１以下の範囲内にあることが好ましい。
位相差値の試験法としては、以下の測定法が挙げられる。
［試験法］
本開示の重合性液晶化合物１００質量部と２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン４質量部をシクロペンタノン９００質量部に溶解させた重合性組成物を、ラビング処理後ポリイミド配向膜付ガラス［製品名：配向処理ガラス基板、株式会社イーエッチシー製］の配向膜上に、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布して成膜し、含まれる重合性液晶化合物の固体－液晶相転移温度（℃）に１０℃加えた温度で１２０秒間乾燥させた後に、紫外線を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射することにより位相差層を形成し、位相差測定装置（例えば、製品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器（株）製）により波長４５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（５５０）を測定する。
なお、後述の実施例１に示す方法で位相差層を形成して位相差値を測定しても、同様の結果を得ることができる。
位相差値の試験法としては、以下の測定法が挙げられる。
［試験法］
本開示の重合性液晶化合物１００質量部と２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン４質量部をシクロペンタノン９００質量部に溶解させた重合性組成物を、ラビング処理後ポリイミド配向膜付ガラス［製品名：配向処理ガラス基板、株式会社イーエッチシー製］の配向膜上に、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布して成膜し、含まれる重合性液晶化合物の固体－液晶相転移温度（℃）に１０℃加えた温度で１２０秒間乾燥させた後に、紫外線を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射することにより位相差層を形成し、位相差測定装置（例えば、製品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器（株）製）により波長４５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（５５０）を測定する。
なお、後述の実施例１に示す方法で位相差層を形成して位相差値を測定しても、同様の結果を得ることができる。
また、本開示の重合性液晶化合物は、使用可能な基材の選択肢が広がる点から、固体－液晶相転移温度が２５℃以上２００℃以下であることが好ましく、３０℃以上１８０℃以下であることが更に好ましく、３０℃以上１５０℃以下であることがより更に好ましい。固体－液晶相転移温度が低いと、液晶を配向させる工程での負荷が軽減されたり、高温に弱い基板への利用が可能となる。
ここで、固体－液晶相転移温度とは、液晶化合物が固体から液晶に変化する温度を意味する。本開示において固体－液晶相転移温度は、温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって昇温時において確認する。すなわち、偏光顕微鏡観察において、昇温時、固体が融解して液状になり、かつ偏光顕微鏡のクロスニコル観察（偏光板が直交状態）において明視野となった点を固体－液晶相転移温度と特定することができる。
ここで、固体－液晶相転移温度とは、液晶化合物が固体から液晶に変化する温度を意味する。本開示において固体－液晶相転移温度は、温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって昇温時において確認する。すなわち、偏光顕微鏡観察において、昇温時、固体が融解して液状になり、かつ偏光顕微鏡のクロスニコル観察（偏光板が直交状態）において明視野となった点を固体－液晶相転移温度と特定することができる。
また、本開示の重合性液晶化合物は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも１種の溶剤に１０質量％以上溶解することが、使用可能な基材の選択肢が広がる点から好ましく、更に２０質量％以上溶解することが好ましい。
Ｂ．重合性組成物
本開示の重合性組成物は、少なくとも前記本開示の重合性液晶化合物を含む組成物である。
本開示の重合性組成物は、少なくとも前記本開示の重合性液晶化合物を含む組成物である。
本開示の重合性組成物は、前記本開示の重合性液晶化合物を含むことから、前述のように、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有する重合性組成物とすることができる。
本開示の重合性組成物は、少なくとも前記本開示の重合性液晶化合物を含むものであるが、更に、光重合開始剤を含有することが好ましい。
また、本開示の重合性組成物は、位相差や逆波長分散性を調整する点や、配向性、溶解性、相転移温度を調整する点から、更に、前記本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物を含有していても良く、また、効果を損なわない範囲で更に他の成分を含有してもよいものである。以下、本開示の重合性組成物を構成する各成分について順に説明する。
また、本開示の重合性組成物は、位相差や逆波長分散性を調整する点や、配向性、溶解性、相転移温度を調整する点から、更に、前記本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物を含有していても良く、また、効果を損なわない範囲で更に他の成分を含有してもよいものである。以下、本開示の重合性組成物を構成する各成分について順に説明する。
１．前記本開示の重合性液晶化合物
本開示の重合性組成物において前記本開示の重合性液晶化合物は、前記「Ａ．重合性液晶化合物」で説明したものと同様であって良いので、ここでの説明は省略する。
本開示における重合性組成物において、前記本開示の重合性液晶化合物は１種単独を用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。本実施形態において、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有する重合性組成物が得られる点から、前記本開示の重合性液晶化合物の含有割合は、重合性組成物の固形分１００質量部に対して５０質量部以上９９．９質量部以下であることが好ましく、５４質量部以上９９質量部以下であることがより好ましく、５７質量部以上９８質量部以下であることがより更に好ましい。
なお、本開示において固形分とは溶剤を除く全ての成分をいい、例えば、後述する、前記本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物が液状であっても固形分に含まれるものとする。
本開示の重合性組成物において前記本開示の重合性液晶化合物は、前記「Ａ．重合性液晶化合物」で説明したものと同様であって良いので、ここでの説明は省略する。
本開示における重合性組成物において、前記本開示の重合性液晶化合物は１種単独を用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。本実施形態において、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有する重合性組成物が得られる点から、前記本開示の重合性液晶化合物の含有割合は、重合性組成物の固形分１００質量部に対して５０質量部以上９９．９質量部以下であることが好ましく、５４質量部以上９９質量部以下であることがより好ましく、５７質量部以上９８質量部以下であることがより更に好ましい。
なお、本開示において固形分とは溶剤を除く全ての成分をいい、例えば、後述する、前記本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物が液状であっても固形分に含まれるものとする。
２．光重合開始剤
本実施形態において光重合開始剤は、従来公知の物の中から適宜選択して用いることができる。このような光重合開始剤の具体例としては、例えば、チオキサントン等を含む芳香族ケトン類、α－アミノアルキルフェノン類、α－ヒドロキシケトン類、アシルフォスフィンオキサイド類、オキシムエステル類、芳香族オニウム塩類、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物等が好適に挙げられ、中でも、塗膜の内部まで硬化し耐久性が向上するため、アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系重合開始剤、α－ヒドロキシケトン系重合開始剤、及びオキシムエステル系重合開始剤よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
本実施形態において光重合開始剤は、従来公知の物の中から適宜選択して用いることができる。このような光重合開始剤の具体例としては、例えば、チオキサントン等を含む芳香族ケトン類、α－アミノアルキルフェノン類、α－ヒドロキシケトン類、アシルフォスフィンオキサイド類、オキシムエステル類、芳香族オニウム塩類、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物等が好適に挙げられ、中でも、塗膜の内部まで硬化し耐久性が向上するため、アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系重合開始剤、α－ヒドロキシケトン系重合開始剤、及びオキシムエステル系重合開始剤よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤としては、例えばビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニル－フォスフィンオキサイド（例えば、商品名：イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製）、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド（商品名：Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ：ＢＡＳＦ社製等）等が挙げられる。
また、α－アミノアルキルフェノン系重合開始剤としては、例えば、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（例えばイルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）、２－ベンジル－２－（ジメチルアミノ）－１－（４－モルフォリノフェニル）－１－ブタノン（例えばイルガキュア３６９、ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル]－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン（イルガキュア３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
また、α－ヒドロキシケトン系重合開始剤としては、例えば、２－ヒドロキシ－１－｛４－〔４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル〕－フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン（例えば、商品名：イルガキュア１２７、ＢＡＳＦ社製等）、２－ヒドロキシ－４’－ヒドロキシエトキシ－２－メチルプロピオフェノン（例えば、商品名：イルガキュア２９５９、ＢＡＳＦ社製等）、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（例えば、商品名：イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製等）、オリゴ｛２－ヒドロキシ－２－メチル－１－［４－（１－メチルビニル）フェニル］プロパノン｝（例えば、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製等）等が挙げられる。
オキシムエステル系重合開始剤としては、１．２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（商品名：イルガキュアＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ製）、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（ｏ－アセチルオキシム）（商品名：イルガキュアＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ製）、メタノン，エタノン，１－［９－エチル－６－（１，３－ジオキソラン，４－（２－メトキシフェノキシ）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（ｏ－アセチルオキシム）（商品名ＡＤＥＫＡ ＯＰＴ－Ｎ－１９１９、ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
本実施形態において光重合開始剤は、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
本実施形態において光重合開始剤の含有割合は、前記重合性化合物の硬化を促進する点から、重合性組成物の固形分１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましく、１質量部以上８質量部以下であることがより好ましい。
本実施形態において光重合開始剤の含有割合は、前記重合性化合物の硬化を促進する点から、重合性組成物の固形分１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましく、１質量部以上８質量部以下であることがより好ましい。
３．本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物
本開示の重合性組成物において、前記本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物は、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができる。位相差フィルムに対する入射光の波長λを横軸に取り、その複屈折率を縦軸にプロットして得たグラフの傾きが負（右肩下がり）である一般的な正常分散（正分散）の重合性液晶化合物であってもよいし、逆波長分散性の重合性液晶化合物であっても良いし、波長分散性を実質的に示さない（フラット分散又は低波長分散）重合性液晶化合物であっても良い。前記本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物として、例えば、逆波長分散性を示す化合物の例としては特許第５４６３６６６号、特許第４１８６９８１号、特許第５９６２７６０号、及び特許第５８２６７５９号に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。フラット分散性を示す化合物の例としてはRecueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas(1996),115(6),321-328に記載の化合物などがあげられる。
本開示の重合性組成物において、前記本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物は、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができる。位相差フィルムに対する入射光の波長λを横軸に取り、その複屈折率を縦軸にプロットして得たグラフの傾きが負（右肩下がり）である一般的な正常分散（正分散）の重合性液晶化合物であってもよいし、逆波長分散性の重合性液晶化合物であっても良いし、波長分散性を実質的に示さない（フラット分散又は低波長分散）重合性液晶化合物であっても良い。前記本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物として、例えば、逆波長分散性を示す化合物の例としては特許第５４６３６６６号、特許第４１８６９８１号、特許第５９６２７６０号、及び特許第５８２６７５９号に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。フラット分散性を示す化合物の例としてはRecueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas(1996),115(6),321-328に記載の化合物などがあげられる。
本実施形態においては、前記重合性液晶化合物との組み合わせにおいて配向しやすいことから、棒状メソゲンの少なくとも一方の末端に重合性官能基を有する重合性液晶化合物であることが好ましく、棒状メソゲンの両末端に重合性官能基を有する重合性液晶化合物であることがより好ましい。１分子中に重合性官能基を２つ以上有する重合性液晶化合物は、塗膜の硬度や耐久性を向上させることができる。
本開示に用いられる重合性液晶化合物としては、例えば、前記重合性化合物の主鎖部分と同様の構造を有する、下記一般式（ＩＩ－１）で表される重合性液晶化合物、及び下記一般式（ＩＩ－２）で表される重合性液晶化合物が挙げられる。
本開示に用いられる重合性液晶化合物としては、例えば、前記重合性化合物の主鎖部分と同様の構造を有する、下記一般式（ＩＩ－１）で表される重合性液晶化合物、及び下記一般式（ＩＩ－２）で表される重合性液晶化合物が挙げられる。
重合性液晶化合物が有する重合性官能基としては、前記重合性化合物のＺ１等と同様のものが挙げられる。重合性液晶化合物が有する重合性官能基としては、例えば、オキシラン環、オキセタン環等の環状エーテル含有基、エチレン性二重結合含有基等が挙げられるが、中でも光硬化性を示し、取り扱い性に優れる点から、エチレン性二重結合含有基であることが好ましい。環状エーテル基としては、例えば、グリシジル基が挙げられる。また、エチレン性二重結合含有基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。
本実施形態において、重合性液晶化合物は、配向性の点から、中でも、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、及び下記一般式（ＩＶ）で表される化合物より選択される１種以上の化合物が好ましい。
一般式（ＩＩＩ）におけるｐ、ｐ’、一般式（ＩＶ）におけるｑ、ｑ’、ｒ及びｒ’は配向性の点から、２以上８以下であることが好ましく、２以上６以下であることがより好ましく、２以上５以下であることがより更に好ましい。
また、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ、ベンゼン－１，４－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すが、中でもベンゼン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、又はシクロヘキサン－１，４－ジイル基がより好ましい。Ａｒ３及びＡｒ４が有してもよい置換基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基が挙げられるが、より好ましくは炭素原子数１以上５以下のアルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
また、一般式（ＩＩＩ）におけるＲ２４及びＲ２５における炭素原子数１以上６以下のアルキル基は、直鎖、分岐、若しくは環状のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基及びｎ－ヘキシル基等の直鎖アルキル基、ｉ－プロピル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、２－メチルブチル基等の分岐アルキル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等のシクロアルキル基等が挙げられる。Ｒ２４は、中でも、水素原子又は炭素原子数１以上５以下のアルキル基であることが好ましく、更に、水素原子又は炭素原子数１以上３以下のアルキル基であることが好ましい。Ｒ２５は、中でも、炭素原子数１以上５以下のアルキル基であることが好ましく、更に、炭素原子数１以上３以下のアルキル基であることが好ましい。
Ｒ２３は、中でも配向性の点から、－Ｃｌ、－ＣＮ、－ＯＣＦ３、－ＯＣＦ２Ｈ、－ＮＣＯ、－ＮＣＳ、－ＮＯ２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｒ２５、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ２４、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＨＯ、－ＳＯ３Ｈ、－ＮＲ２４ ２、－Ｒ２５、又は－ＯＲ２５であることが好ましく、－Ｃｌ、－ＣＮ、－ＯＣＦ３又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ２４、－Ｒ２５、又は－ＯＲ２５であることがより好ましい。
また、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ、ベンゼン－１，４－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すが、中でもベンゼン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、又はシクロヘキサン－１，４－ジイル基がより好ましい。Ａｒ３及びＡｒ４が有してもよい置換基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基が挙げられるが、より好ましくは炭素原子数１以上５以下のアルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
また、一般式（ＩＩＩ）におけるＲ２４及びＲ２５における炭素原子数１以上６以下のアルキル基は、直鎖、分岐、若しくは環状のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基及びｎ－ヘキシル基等の直鎖アルキル基、ｉ－プロピル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、２－メチルブチル基等の分岐アルキル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等のシクロアルキル基等が挙げられる。Ｒ２４は、中でも、水素原子又は炭素原子数１以上５以下のアルキル基であることが好ましく、更に、水素原子又は炭素原子数１以上３以下のアルキル基であることが好ましい。Ｒ２５は、中でも、炭素原子数１以上５以下のアルキル基であることが好ましく、更に、炭素原子数１以上３以下のアルキル基であることが好ましい。
Ｒ２３は、中でも配向性の点から、－Ｃｌ、－ＣＮ、－ＯＣＦ３、－ＯＣＦ２Ｈ、－ＮＣＯ、－ＮＣＳ、－ＮＯ２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｒ２５、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ２４、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＨＯ、－ＳＯ３Ｈ、－ＮＲ２４ ２、－Ｒ２５、又は－ＯＲ２５であることが好ましく、－Ｃｌ、－ＣＮ、－ＯＣＦ３又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ２４、－Ｒ２５、又は－ＯＲ２５であることがより好ましい。
重合性液晶化合物に含まれるメソゲン構造としては、下記化学式（Ｖ－１）～（Ｖ－６）で表される部分構造が、好ましく用いられ、中でも、環構造を３つ以上含む下記化学式（Ｖ－１）、（Ｖ－２）、（Ｖ－４）、（Ｖ－５）、及び（Ｖ－６）よりなる群から選択される少なくとも１種で表される部分構造が、好ましく用いられる。下記化学式（Ｖ－１）～（Ｖ－６）で表される部分構造におけるフェニレン基やナフチレン基における水素原子は、炭素数１以上３以下のアルキル基や、ハロゲン原子によって置換されていても良い。
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、及び一般式（ＩＶ）で表される化合物の好適な具体例としては、下記化学式（１）～（２２）に示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
前述のように本開示の重合性液晶化合物は逆波長分散性が非常に良好であるため、幅広い波長分散性を示す化合物を添加しても、組成物の硬化物の位相差値は逆波長分散性を示しやすい。本開示の重合性液晶化合物は、前述のように位相差値を測定した場合に、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が比較的小さくなる傾向がある。
そのため、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物としては、下記試験法における波長４５０ｎｍに対する面内位相差（Ｒｅ（４５０））と波長５５０ｎｍに対する面内位相差（Ｒｅ（５５０））との比の値（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））が、含まれる本開示の重合性液晶化合物のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）よりも大きい重合性液晶化合物を更に含有することが、理想的な波長分散性に調整する点から好ましい。本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物としては、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が、０．６以上１．２未満であるものから選択することができるが、０．８以上１．２未満であるものから選択することが好ましく、０．９以上１．２未満であるものから選択することがより更に好ましい。
［試験法］
重合性液晶化合物１００質量部と２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン４質量部をシクロペンタノン９００質量部に溶解させた重合性組成物を、ラビング処理後ポリイミド配向膜付ガラス［製品名：配向処理ガラス基板、株式会社イーエッチシー製］の配向膜上に、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布して成膜し、重合性液晶化合物の固体－液晶相転移温度（℃）に１０℃加えた温度で１２０秒間乾燥させた後に、紫外線を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射することにより位相差層を形成し、位相差測定装置（例えば、製品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器（株）製）により波長４５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（５５０）を測定する。
そのため、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物としては、下記試験法における波長４５０ｎｍに対する面内位相差（Ｒｅ（４５０））と波長５５０ｎｍに対する面内位相差（Ｒｅ（５５０））との比の値（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））が、含まれる本開示の重合性液晶化合物のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）よりも大きい重合性液晶化合物を更に含有することが、理想的な波長分散性に調整する点から好ましい。本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物としては、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が、０．６以上１．２未満であるものから選択することができるが、０．８以上１．２未満であるものから選択することが好ましく、０．９以上１．２未満であるものから選択することがより更に好ましい。
［試験法］
重合性液晶化合物１００質量部と２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン４質量部をシクロペンタノン９００質量部に溶解させた重合性組成物を、ラビング処理後ポリイミド配向膜付ガラス［製品名：配向処理ガラス基板、株式会社イーエッチシー製］の配向膜上に、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布して成膜し、重合性液晶化合物の固体－液晶相転移温度（℃）に１０℃加えた温度で１２０秒間乾燥させた後に、紫外線を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射することにより位相差層を形成し、位相差測定装置（例えば、製品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器（株）製）により波長４５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（５５０）を測定する。
また、本実施形態において、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも１種の溶剤に２０質量％以上溶解することが、重合性組成物の溶剤溶解性が向上する点から好ましい。重合性組成物の溶剤溶解性が向上すると、当該重合性組成物を用いて塗膜を形成する際に、均一な塗膜を形成しやすく、溶剤を乾燥させるための製造工程や製造装置の負荷が軽減される点、使用可能な基材の選択肢が広がる点、及び組成物としての液晶相転移温度が広がって、配向時のプロセスマージンが広がり、配向性がより均一に良好になる点から好ましい。
本実施形態において、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物は、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
本実施形態において、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物の含有割合は、所望の位相差等を調整するために適宜調整されれば良く、限定されるものではないが、重合性組成物の固形分１００質量部に対して、７質量部以上４９．９質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上４５質量部以下であることがより好ましく、１０質量部以上４２質量部以下であることがより更に好ましい。
また、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物の含有割合は、所望の位相差等を調整するために適宜調整されれば良いが、本開示の重合性液晶化合物と、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物との合計量１００質量部に対して５０質量部以下であることが好ましく、更に４５質量部以下であることが好ましい。
本実施形態において、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物の含有割合は、所望の位相差等を調整するために適宜調整されれば良く、限定されるものではないが、重合性組成物の固形分１００質量部に対して、７質量部以上４９．９質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上４５質量部以下であることがより好ましく、１０質量部以上４２質量部以下であることがより更に好ましい。
また、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物の含有割合は、所望の位相差等を調整するために適宜調整されれば良いが、本開示の重合性液晶化合物と、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物との合計量１００質量部に対して５０質量部以下であることが好ましく、更に４５質量部以下であることが好ましい。
４．その他の成分
本実施形態の重合性組成物は、効果を損なわない範囲で更に他の成分を含有してもよい。具体的には、他の成分としてレベリング剤、酸化防止剤、光安定化剤や、塗工性の観点から溶剤等を含有してもよい。また、単独では液晶性を示さないが本開示の重合性液晶化合物と共に用いることで位相差や逆波長分散性、相転移温度、硬度、耐久性を調整可能な重合性化合物を含有してもよい。これらは従来公知の材料を適宜選択して用いればよい。
本実施形態の重合性組成物は、効果を損なわない範囲で更に他の成分を含有してもよい。具体的には、他の成分としてレベリング剤、酸化防止剤、光安定化剤や、塗工性の観点から溶剤等を含有してもよい。また、単独では液晶性を示さないが本開示の重合性液晶化合物と共に用いることで位相差や逆波長分散性、相転移温度、硬度、耐久性を調整可能な重合性化合物を含有してもよい。これらは従来公知の材料を適宜選択して用いればよい。
塗膜の硬度や耐久性を向上させるためには、１分子中に重合性官能基を２つ以上有する重合性化合物を、更に含有することが好ましい。１分子中に重合性官能基を２つ以上有する重合性化合物としては前述のような重合性液晶化合物の他、液晶性を有しない重合性化合物を用いることができる。
１分子中に重合性官能基を２つ以上有する重合性化合物としては、所謂多官能モノマーを用いることもでき、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。架橋反応が進行し、塗膜の耐久性が向上するため、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリアクリラート（ＴＭＰＴＡ）等の１分子中に重合性官能基を３つ以上有する重合性化合物が好ましい。
本実施形態において液晶性を有しない重合性化合物を用いる場合、その含有割合は、重合性組成物の固形分１００質量部に対して４０質量部以下とすることが好ましく、３０質量部以下とすることがより好ましく、２０質量部以下とすることがより更に好ましい。
本実施形態において、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性化合物としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも１種の溶剤に２０質量％以上溶解することが、重合性組成物の溶剤溶解性が向上し、当該重合性組成物を用いて塗膜を形成する際に、均一な塗膜を形成しやすく、溶剤を乾燥させるための製造工程や製造装置の負荷が軽減される点、使用可能な基材の選択肢が広がる点から好ましい。
１分子中に重合性官能基を２つ以上有する重合性化合物としては、所謂多官能モノマーを用いることもでき、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。架橋反応が進行し、塗膜の耐久性が向上するため、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリアクリラート（ＴＭＰＴＡ）等の１分子中に重合性官能基を３つ以上有する重合性化合物が好ましい。
本実施形態において液晶性を有しない重合性化合物を用いる場合、その含有割合は、重合性組成物の固形分１００質量部に対して４０質量部以下とすることが好ましく、３０質量部以下とすることがより好ましく、２０質量部以下とすることがより更に好ましい。
本実施形態において、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性化合物としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも１種の溶剤に２０質量％以上溶解することが、重合性組成物の溶剤溶解性が向上し、当該重合性組成物を用いて塗膜を形成する際に、均一な塗膜を形成しやすく、溶剤を乾燥させるための製造工程や製造装置の負荷が軽減される点、使用可能な基材の選択肢が広がる点から好ましい。
レベリング剤としては、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を用いることが好ましい。レベリング剤の 具体例としては、例えば、特開２０１０－１２２３２５号公報に記載のＤＩＣ（株）製の メガファックシリーズ、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製の ＴＳＦシリーズ及び（株）ネオス製のフタージェントシリーズ等が挙げられる。本実施形態においてレベリング剤を用いる場合、その含有割合は、重合性組成物の固形分１００質量部に対して０．００１質量部以上５質量部以下とすることが好ましい。
本実施形態の重合性組成物は、塗工性の点から、必要に応じて溶剤を含んでいてもよい。溶剤としては、重合性組成物に含まれる各成分を溶解乃至分散し得る従来公知の溶剤の中から適宜選択すればよい。具体的には、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，３－ジオキソラン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ-メチルピロリドン等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。本実施形態において溶剤は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて混合溶剤として用いることができる。
本実施形態の重合性組成物は、配向性が良好であることから種々の用途に好適に用いられる。本実施形態の重合性組成物は、液晶組成物として、例えば、後述する位相差フィルムや各種光学部材用途に好適に用いられる。
Ｃ．重合体
本開示の重合体は、前記本開示の重合性液晶化合物、或いは前記本開示の重合性組成物を重合して得られるものである。重合方法は、本開示の重合性液晶化合物に含まれる重合性官能基に合わせて適宜選択することができる。
前記本開示の重合性液晶化合物、或いは前記本開示の重合性組成物を配向させずに重合することにより得られる重合体は、例えば、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。
また、前記本開示の重合性液晶化合物、或いは前記本開示の重合性組成物を配向させた後に重合することにより得られる重合体は、光学異方性を有し、後述する位相差フィルムや各種光学部材用途に好適に用いられる。
本開示の重合体は、前記本開示の重合性液晶化合物、或いは前記本開示の重合性組成物を重合して得られるものである。重合方法は、本開示の重合性液晶化合物に含まれる重合性官能基に合わせて適宜選択することができる。
前記本開示の重合性液晶化合物、或いは前記本開示の重合性組成物を配向させずに重合することにより得られる重合体は、例えば、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。
また、前記本開示の重合性液晶化合物、或いは前記本開示の重合性組成物を配向させた後に重合することにより得られる重合体は、光学異方性を有し、後述する位相差フィルムや各種光学部材用途に好適に用いられる。
Ｄ．位相差フィルム
本開示の位相差フィルムは、位相差層を有する位相差フィルムであって、前記位相差層が、前記本開示の重合性組成物の硬化物からなるものである。
上記本実施形態の位相差フィルムは、位相差層が前記重合性組成物の硬化物からなるものであるため、前述したように、配向性が良好であり、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有するものである。
本開示の位相差フィルムは、位相差層を有する位相差フィルムであって、前記位相差層が、前記本開示の重合性組成物の硬化物からなるものである。
上記本実施形態の位相差フィルムは、位相差層が前記重合性組成物の硬化物からなるものであるため、前述したように、配向性が良好であり、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有するものである。
位相差フィルムの層構成について図を参照して説明する。図１～図３は、各々本開示の位相差フィルムの１実施形態を示す。図１の例に示される位相差フィルム１０の１実施形態は、基材２上に配向膜３と位相差層１がこの順に積層されている位相差フィルムである。図２の例に示される位相差フィルム１０の１実施形態は、位相差層１のみからなる位相差フィルムである。また図３の例に示される位相差フィルム１０の１実施形態は、基材２’上に直接位相差層１が形成されている。図３の例に示される位相差フィルムには基材２’の位相差層１側表面に配向規制力を発現する手段が付されていてもよい。ここで、本開示において配向規制力とは、位相差層中の配向性成分を特定方向に配列させる作用をいう。
１．位相差層
本開示の実施形態の位相差層１は、前記本開示の重合性液晶化合物を含有する前記本開示の重合性組成物の硬化物からなる。
ここで、前記本開示の重合性液晶化合物、及び前記本開示の重合性組成物とは、それぞれ、前記本開示の実施形態の重合性液晶化合物、及び重合性組成物において説明したものと同様であって良いので、ここでの説明は省略する。
本開示の実施形態の位相差層１は、前記本開示の重合性液晶化合物を含有する前記本開示の重合性組成物の硬化物からなる。
ここで、前記本開示の重合性液晶化合物、及び前記本開示の重合性組成物とは、それぞれ、前記本開示の実施形態の重合性液晶化合物、及び重合性組成物において説明したものと同様であって良いので、ここでの説明は省略する。
位相差層は、前記本開示の重合性液晶化合物の配向性を有する主鎖部分、及び更に含まれていても良い重合性液晶化合物が、フィルム面に対して実質的に水平配向した状態で、硬化しているものであることが好ましい。本開示の実施形態の重合性組成物の硬化物には、前記重合性化合物の重合性官能基の少なくとも一部が重合した構造が含まれる。このような前記重合性化合物の重合性官能基の少なくとも一部が重合した構造が含まれることから、本実施形態の位相差層は、耐久性が向上している位相差層である。
位相差は、自動複屈折測定装置（例えば、王子計測機器株式会社製、商品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）により測定することができる。測定光を位相差層表面に対して垂直あるいは斜めから入射して、その光学位相差と測定光の入射角度のチャートから位相差層の位相差を増減させる異方性や、液晶の垂直（厚さ）方向の配向性の程度を確認することができる。
また、位相差層が、前記本開示の重合性組成物に含まれる本開示の重合性液晶化合物や更に含まれていても良い重合性液晶化合物の重合性官能基の少なくとも一部が重合した構造が含まれることは、位相差層から材料を採取し分析することで確認することができる。分析方法としては、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＣ－ＭＳ、ＸＰＳ、ＴＯＦ－ＳＩＭＳおよびこれらの組み合わせた方法を適用することができる。
当該位相差層は、光重合開始剤、レベリング剤、酸化防止剤、光安定化剤等のその他の成分を含んでいても良い。光重合開始剤など、前記重合性液晶化合物が有する重合性官能基を反応させるために光照射した際に、全てが分解する可能性がある成分については、位相差層には含まれていない場合もある。
位相差層の厚みは、用途に応じて適宜設定すればよい。
本開示の位相差フィルムを、例えば、広帯域１／４波長板とする場合には、得られる位相差フィルムのＲｅ（５５０）を１１３ｎｍ以上１６３ｎｍ以下、好ましくは１３５ｎｍ以上１４０ｎｍ以下、特に好ましくは約１３７．５ｎｍ程度に膜厚を調整すればよく、１／２波長板とする場合には、得られる光学フィルムのＲｅ（５５０）を２５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、好ましくは２７３ｎｍ以上２７７ｎｍ以下、特に好ましくは約２７５ｎｍ程度となるように、膜厚を調整すればよい。
本開示の位相差フィルムを、例えば、広帯域１／４波長板とする場合には、得られる位相差フィルムのＲｅ（５５０）を１１３ｎｍ以上１６３ｎｍ以下、好ましくは１３５ｎｍ以上１４０ｎｍ以下、特に好ましくは約１３７．５ｎｍ程度に膜厚を調整すればよく、１／２波長板とする場合には、得られる光学フィルムのＲｅ（５５０）を２５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、好ましくは２７３ｎｍ以上２７７ｎｍ以下、特に好ましくは約２７５ｎｍ程度となるように、膜厚を調整すればよい。
なお重合性組成物の塗布量や重合性液晶化合物の濃度を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調整することができる。得られる位相差層の位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、下記式のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）
位相差層の厚みは、中でも、０．１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましい。
前記本開示の重合性液晶化合物が複屈折率（△ｎ）が大きいため、従来よりも薄膜で位相差を実現することが可能である。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）
位相差層の厚みは、中でも、０．１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましい。
前記本開示の重合性液晶化合物が複屈折率（△ｎ）が大きいため、従来よりも薄膜で位相差を実現することが可能である。
本開示の位相差フィルムの波長分散特性は、位相差層における本開示の重合性液晶化合物とその他含有していても良い重合性液晶化合物の含有量によって、任意に決定することができる。位相差層において本開示の重合性液晶化合物の含有量を増加させると、逆波長分散特性が増加する傾向を示す。
また、理想的な逆波長分散性に近付けるために、後述の実施例１に示す方法により、本開示の重合性液晶化合物と光重合開始剤のみを含む重合性組成物を調製し、硬化膜（位相差層）を形成した場合に、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が、０．７５以上０．９５未満の範囲内にあることが好ましく、更に０．７８以上０．９３未満の範囲内にあることが好ましく、より更に０．８０以上０．９０未満の範囲内にあることが好ましい。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が、１超過であることが好ましく、更に１．０２以上１．１以下の範囲内にあることが好ましい。
また、理想的な逆波長分散性に近付けるために、後述の実施例１に示す方法により、本開示の重合性液晶化合物と光重合開始剤のみを含む重合性組成物を調製し、硬化膜（位相差層）を形成した場合に、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が、０．７５以上０．９５未満の範囲内にあることが好ましく、更に０．７８以上０．９３未満の範囲内にあることが好ましく、より更に０．８０以上０．９０未満の範囲内にあることが好ましい。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が、１超過であることが好ましく、更に１．０２以上１．１以下の範囲内にあることが好ましい。
２．配向膜
本明細書において配向膜とは、位相差層に含まれる液晶性成分を一定方向に配列させるための層をいう。
本開示の実施形態に用いられる配向膜としては、前記本開示の実施形態の重合性組成物が水平配向しやすいことから、水平配向膜を用いることが好ましい。
水平配向膜は、塗膜として設けることで、位相差層に含まれる液晶性成分のメソゲンの長軸を該水平配向膜面（フィルム面）に対して実質的に水平に配向させる膜であればよい。
水平配向膜としては、従来公知のもの適宜選択して用いることができ、例えば、ラビング法、光配向法、賦形法等により配向規制力を付与した配向膜等を挙げることができ、中でも、ラビング法、光配向法又は賦形法により配向規制力を付与した水平配向膜が好ましい。
本明細書において配向膜とは、位相差層に含まれる液晶性成分を一定方向に配列させるための層をいう。
本開示の実施形態に用いられる配向膜としては、前記本開示の実施形態の重合性組成物が水平配向しやすいことから、水平配向膜を用いることが好ましい。
水平配向膜は、塗膜として設けることで、位相差層に含まれる液晶性成分のメソゲンの長軸を該水平配向膜面（フィルム面）に対して実質的に水平に配向させる膜であればよい。
水平配向膜としては、従来公知のもの適宜選択して用いることができ、例えば、ラビング法、光配向法、賦形法等により配向規制力を付与した配向膜等を挙げることができ、中でも、ラビング法、光配向法又は賦形法により配向規制力を付与した水平配向膜が好ましい。
ラビング法により配向規制力を付与する場合、水平配向膜には、ラビングにより配向規制力を発現するポリマーが用いられる。当該ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミド及びこれらの誘導体が挙げられ、中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。
ラビング法による水平配向膜の形成方法は、従来公知の方法から適宜選択すればよい。例えば、前記透明基材上に、上記ポリマーを含む塗膜を形成した後、公知のラビングローラ等を用いてラビングすることにより、水平配向膜を得ることができる。
水平配向膜を光配向法により形成する場合、配向膜用組成物として、偏光を照射することにより配向規制力を発現する光配向性材料を含有する光配向性組成物が用いられる。当該光配向性材料としては、光二量化型材料であっても、光異性化型材料であってもよい。具体的には、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマー等が挙げられ、中でも、シンナメート及びクマリンのうち少なくとも一方を有するポリマー、並びにこれらの誘導体が好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例として、例えば、特開平９－１１８７１７号公報、特表平１０－５０６４２０号公報、特表２００３－５０５５６１号公報、ＷＯ２０１０／１５０７４８号公報、及び特開２０１５－１５１５４８号公報に記載された化合物を挙げることができる。
光配向法による光配向膜の形成方法は、従来公知の方法から適宜選択すればよい。例えば、前記透明基材上に、前記光配向性組成物を均一に塗布し、偏光を照射し、次いで、塗膜全面に光照射することにより、光配向膜を得ることができる。
また、水平配向膜を賦型法により形成する場合、配向膜用組成物は、所望の微細凹凸形状を賦型可能なものの中から適宜選択して用いればよく、例えば、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等を含有する賦型用組成物を用いることができる。中でも、配向膜の形成が容易である点から紫外線硬化性樹脂が用いられることが好ましい。紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、上記重合性モノマー、重合性オリゴマーの他、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等が挙げられ、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
賦型法による水平配向膜の形成方法は、従来公知の方法から適宜選択すればよい。例えば、前記透明基材上に、前記賦型用組成物を均一に塗布し、所望の微細凹凸形状が形成された金型上に、塗膜を接触させた後、加圧し、紫外線を照射することにより、所望の微細凹凸形状が付与された配向膜を得ることができる。
また、前記水平配向膜としては、パターニング処理がされ、配向性能を有する部位がパターン状に配置されたものであっても良い。パターニング処理がされた水平配向膜としては、公知のものを用いることができ、特に限定はされないが、例えば、マスクラビングによりパターニング処理がされたラビング配向膜、マスク露光によりパターニング処理がされた光配向膜、配向膜を印刷等でパターニング処理した配向膜等が挙げられる。
水平配向膜の厚さは、前記重合性棒状液晶化合物を水平方向に配向できればよく、適宜設定することができ、特に限定はされないが、通常、１ｎｍ以上であり、６０ｎｍ以上であることが好ましく、薄膜化の観点から、１５μｍ以下が挙げられ、１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以下であることがより更に好ましい。
３．基材
本実施形態において基材は、ガラス基材、金属箔、樹脂基材等が挙げられる。中でも、基材は透明性を有することが好ましく、従来公知の透明基材の中から適宜選択することができる。透明基材としては、ガラス基材の他、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸等のポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂を用いて形成された透明樹脂基材が挙げられる。
本実施形態において基材は、ガラス基材、金属箔、樹脂基材等が挙げられる。中でも、基材は透明性を有することが好ましく、従来公知の透明基材の中から適宜選択することができる。透明基材としては、ガラス基材の他、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸等のポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂を用いて形成された透明樹脂基材が挙げられる。
上記透明基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１（プラスチック－透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
また、ロールトゥロール方式で位相差層を形成する場合には、透明基材は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。
このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができる。なかでも本実施形態においてはセルロース誘導体やポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるため、光学的特性に優れたものとすることができるからである。また、ポリエチレンテレフタレートは、透明性が高く、機械的特性に優れる点から好ましい。
このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができる。なかでも本実施形態においてはセルロース誘導体やポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるため、光学的特性に優れたものとすることができるからである。また、ポリエチレンテレフタレートは、透明性が高く、機械的特性に優れる点から好ましい。
本実施形態に用いられる基材の厚みは、位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、１０μｍ以上１０００μｍ以下程度の範囲内である。
中でも、基材の厚みは、２５μｍ以上１２５μｍ以下の範囲内が好ましく、中でも３０μｍ以上１００μｍ以下の範囲内が好ましい。厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、長尺状の位相差フィルムを形成した後、裁断加工し、枚葉の位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。
中でも、基材の厚みは、２５μｍ以上１２５μｍ以下の範囲内が好ましく、中でも３０μｍ以上１００μｍ以下の範囲内が好ましい。厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、長尺状の位相差フィルムを形成した後、裁断加工し、枚葉の位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。
本実施形態に用いられる基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
例えば、本実施形態に用いられる配向膜が紫外性硬化性樹脂を含有するものである場合、透明基材と当該紫外線硬化性樹脂の接着性を向上させるためのプライマー層を基材上に形成してもよい。このプライマー層は、基材および紫外線硬化性樹脂との双方に接着性を有し、可視光学的に透明であり、紫外線を通過させるものであればよく、例えば、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体系、ウレタン系のもの等を適宜選択して使用することができる。
例えば、本実施形態に用いられる配向膜が紫外性硬化性樹脂を含有するものである場合、透明基材と当該紫外線硬化性樹脂の接着性を向上させるためのプライマー層を基材上に形成してもよい。このプライマー層は、基材および紫外線硬化性樹脂との双方に接着性を有し、可視光学的に透明であり、紫外線を通過させるものであればよく、例えば、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体系、ウレタン系のもの等を適宜選択して使用することができる。
また、基材上にアンカーコート層を積層しても良い。当該アンカーコート層によって基板の強度を向上させることができる。アンカーコート材料としては、金属アルコキシド、特に金属シリコンアルコキシドゾルを用いることができる。金属アルコキシドは、通常アルコール系の溶液として用いられる。アンカーコート層は、均一で、かつ柔軟性のある膜が必要なため、アンカーコート層の厚みは０．０４μｍ以上２μｍ以下程度が好ましく、０．０５μｍ以上０．２μｍ以下程度がより好ましい。
前記基材がアンカーコート層を有する場合には、基材とアンカーコート層の間に更にバインダー層を積層したり、アンカーコート層に基板との密着性を強化する材料を含有させることにより、基材とアンカーコート層の密着性を向上させてもよい。前記バインダー層の形成に用いるバインダー材料は、基材とアンカーコート層との密着性を向上できるものを特に制限なく使用することができる。バインダー材料としては、たとえば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコニウムカップリング剤等を例示できる。
前記基材がアンカーコート層を有する場合には、基材とアンカーコート層の間に更にバインダー層を積層したり、アンカーコート層に基板との密着性を強化する材料を含有させることにより、基材とアンカーコート層の密着性を向上させてもよい。前記バインダー層の形成に用いるバインダー材料は、基材とアンカーコート層との密着性を向上できるものを特に制限なく使用することができる。バインダー材料としては、たとえば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコニウムカップリング剤等を例示できる。
４．位相差フィルムの製造方法
本開示の実施形態の位相差フィルムの製造方法は、
前記本開示の実施形態の重合性組成物を成膜する工程（成膜工程）と、
前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性化合物を少なくとも配向させる工程（配向工程）と、
前記配向工程の後に、前記重合性化合物を少なくとも重合する工程（重合工程）とを有することにより、位相差層を形成する工程を有する。
当該重合性組成物としては、前記「Ｂ．重合性組成物」と同様のものを用いることができるので、ここでの説明を省略する。
本開示の実施形態の位相差フィルムの製造方法は、
前記本開示の実施形態の重合性組成物を成膜する工程（成膜工程）と、
前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性化合物を少なくとも配向させる工程（配向工程）と、
前記配向工程の後に、前記重合性化合物を少なくとも重合する工程（重合工程）とを有することにより、位相差層を形成する工程を有する。
当該重合性組成物としては、前記「Ｂ．重合性組成物」と同様のものを用いることができるので、ここでの説明を省略する。
（１）重合性組成物の成膜工程
支持体上に、重合性組成物を均一に塗布して成膜を形成する。
前述のように、重合性組成物の塗布量や重合性液晶化合物の濃度を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調整する
ここでの支持体上としては、前記基材上であっても良いし、前記配向膜を備えた基材の配向膜上であってもよい。
支持体上に、重合性組成物を均一に塗布して成膜を形成する。
前述のように、重合性組成物の塗布量や重合性液晶化合物の濃度を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調整する
ここでの支持体上としては、前記基材上であっても良いし、前記配向膜を備えた基材の配向膜上であってもよい。
塗布方法は、所望の厚みで精度良く成膜できる方法であればよく、適宜選択すればよい。例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などが挙げられる。
（２）配向工程
次いで、前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性液晶化合物を少なくとも配向させる。成膜された重合性組成物中の前記重合性液晶化合物が、配向可能な温度に調整し、加熱する。当該加熱処理により、本開示の重合性液晶化合物の配向性を有する主鎖部分と、必要に応じて更に含まれる前記本開示の重合性化合物とは異なる重合性液晶化合物とを配向させて乾燥することができ、前記配向状態を維持した状態で固定化することができる。
配向可能な温度は、重合性組成物中の各物質に応じて異なるため、適宜調整する必要がある。例えば、６０℃以上２００℃以下の範囲内で行うことが好ましく、更に６０℃以上１００℃以下の範囲内で行うことが好ましい。
加熱手段としては、公知の加熱、乾燥手段を適宜選択して用いることができる。
また、加熱時間は、適宜選択されれば良いが、例えば、１０秒以上２時間以内、好ましくは２０秒以上３０分以内の範囲内で選択される。
次いで、前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性液晶化合物を少なくとも配向させる。成膜された重合性組成物中の前記重合性液晶化合物が、配向可能な温度に調整し、加熱する。当該加熱処理により、本開示の重合性液晶化合物の配向性を有する主鎖部分と、必要に応じて更に含まれる前記本開示の重合性化合物とは異なる重合性液晶化合物とを配向させて乾燥することができ、前記配向状態を維持した状態で固定化することができる。
配向可能な温度は、重合性組成物中の各物質に応じて異なるため、適宜調整する必要がある。例えば、６０℃以上２００℃以下の範囲内で行うことが好ましく、更に６０℃以上１００℃以下の範囲内で行うことが好ましい。
加熱手段としては、公知の加熱、乾燥手段を適宜選択して用いることができる。
また、加熱時間は、適宜選択されれば良いが、例えば、１０秒以上２時間以内、好ましくは２０秒以上３０分以内の範囲内で選択される。
（３）重合工程
前記配向工程の後に、前記重合性化合物を少なくとも重合する。前記配向工程において、重合性化合物、及び更に含まれていても良い重合性液晶化合物の配向状態を維持した状態で固定化された塗膜に、例えば光照射することにより、重合性化合物を重合することができ、前記重合性組成物の硬化物からなる位相差層を得ることができる。
光照射としては、紫外線照射が好適に用いられる。紫外線照射は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線を使用することができる。エネルギー線源の照射量は、適宜選択されれば良く、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、例えば１０ｍＪ／ｃｍ２以上１００００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内であることが好ましい。
前記配向工程の後に、前記重合性化合物を少なくとも重合する。前記配向工程において、重合性化合物、及び更に含まれていても良い重合性液晶化合物の配向状態を維持した状態で固定化された塗膜に、例えば光照射することにより、重合性化合物を重合することができ、前記重合性組成物の硬化物からなる位相差層を得ることができる。
光照射としては、紫外線照射が好適に用いられる。紫外線照射は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線を使用することができる。エネルギー線源の照射量は、適宜選択されれば良く、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、例えば１０ｍＪ／ｃｍ２以上１００００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内であることが好ましい。
５．用途
本開示の位相差フィルムは、例えば反射防止用１／４波長板して好適に用いられ、後述するような各種表示装置用の光学部材に好適に用いられる。
本開示の位相差フィルムは、例えば反射防止用１／４波長板して好適に用いられ、後述するような各種表示装置用の光学部材に好適に用いられる。
Ｅ．転写用積層体
本開示の転写用積層体は、位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、前記本開示の重合性組成物の硬化物からなる、
位相差層の転写に供する転写用積層体である。
本開示の転写用積層体は、位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、前記本開示の重合性組成物の硬化物からなる、
位相差層の転写に供する転写用積層体である。
上記本実施形態の転写用積層体は、位相差層が前記重合性組成物の硬化物からなるものであるため、重合性化合物の析出が抑制され、光学特性に優れているものである。上記本実施形態の転写用積層体によれば、他の任意の光学部材等に、例えば、基材を含まない薄膜の、本開示の位相差層を転写することができる。
本実施形態の転写用積層体によれば、例えば、図２の例に示される位相差層１のみからなる位相差フィルム１０や、図５の例に示されるような、基材は含まず配向膜２３と位相差層２１とが積層された積層体２６からなる位相差フィルムを、提供することができる。すなわち、前記位相差層を少なくとも剥離可能であれば、転写用積層体の転写に供する位相差層には、配向膜等が積層されていても良い。
以下、このような転写用積層体の構成について説明するが、前記本開示の実施形態の重合性組成物については前述のとおりであるため、ここでの説明は省略する。
本実施形態の転写用積層体によれば、例えば、図２の例に示される位相差層１のみからなる位相差フィルム１０や、図５の例に示されるような、基材は含まず配向膜２３と位相差層２１とが積層された積層体２６からなる位相差フィルムを、提供することができる。すなわち、前記位相差層を少なくとも剥離可能であれば、転写用積層体の転写に供する位相差層には、配向膜等が積層されていても良い。
以下、このような転写用積層体の構成について説明するが、前記本開示の実施形態の重合性組成物については前述のとおりであるため、ここでの説明は省略する。
転写用積層体の層構成について図を参照して説明する。図４及び図５は、各々本開示の転写用積層体の１実施形態を示す。
図４の例に示される転写用積層体２０の１実施形態は、転写に供する位相差層１６と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体１５として、第二の基材１２上に配向膜１３と位相差層１１とがこの順に積層されている転写用積層体である。図４の例に示される転写用積層体においては、第二の基材１２と配向膜１３との剥離強度が、配向膜１３と位相差層１１との剥離強度よりも大きくなっていることにより、配向膜と位相差層との界面１７で剥離され、位相差層１１（１６）を転写することができる転写用積層体の例である。
図５の例に示される転写用積層体３０の１実施形態は、転写に供する位相差層２６と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体２５として、第二の基材２２上に配向膜２３と位相差層２１がこの順に積層されている転写用積層体である。図５の例に示される転写用積層体においては、第二の基材２２と配向膜２３との剥離強度が、配向膜２３と位相差層２１との剥離強度よりも小さくなっていることにより、第二の基材２２と配向膜２３との界面２７で剥離され、転写に供する位相差層２６としては、位相差層２１及び配向膜２３を転写することができる転写用積層体の例である。
図４の例に示される転写用積層体２０の１実施形態は、転写に供する位相差層１６と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体１５として、第二の基材１２上に配向膜１３と位相差層１１とがこの順に積層されている転写用積層体である。図４の例に示される転写用積層体においては、第二の基材１２と配向膜１３との剥離強度が、配向膜１３と位相差層１１との剥離強度よりも大きくなっていることにより、配向膜と位相差層との界面１７で剥離され、位相差層１１（１６）を転写することができる転写用積層体の例である。
図５の例に示される転写用積層体３０の１実施形態は、転写に供する位相差層２６と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体２５として、第二の基材２２上に配向膜２３と位相差層２１がこの順に積層されている転写用積層体である。図５の例に示される転写用積層体においては、第二の基材２２と配向膜２３との剥離強度が、配向膜２３と位相差層２１との剥離強度よりも小さくなっていることにより、第二の基材２２と配向膜２３との界面２７で剥離され、転写に供する位相差層２６としては、位相差層２１及び配向膜２３を転写することができる転写用積層体の例である。
例えば、第二の基材と配向膜との剥離強度が配向膜と位相差層との剥離強度よりも大きいか小さいかは、位相差層の剥離を行って、いずれの界面で剥離しているかで確認することができる。いずれの界面で剥離しているかは、例えば、ＩＲ等により分析可能である。
また、図６の例に示される転写用積層体４０の１実施形態は、転写に供する位相差層３６と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体３５として、第二の基材３２上に位相差層３１がこの順に積層されている転写用積層体である。
以下、本実施形態について説明するが、位相差層については前記「Ｄ．位相差フィルム」で述べた位相層と同様のものとすることができるのでここでの説明を省略する。
また、配向膜及び基材も前記「Ｄ．位相差フィルム」で述べた配向膜及び基材と同様のものを用いることができるが、剥離強度を調整する方法としては、例えば下記の方法を挙げることができる。
また、配向膜及び基材も前記「Ｄ．位相差フィルム」で述べた配向膜及び基材と同様のものを用いることができるが、剥離強度を調整する方法としては、例えば下記の方法を挙げることができる。
図４の例に示される転写用積層体２０を得るために、第二の基材１２と配向膜１３との剥離強度が、配向膜１３と位相差層１１との剥離強度よりも大きくするには、例えば、配向膜形成用組成物に含まれる溶剤を、第二の基材を溶解可能なものとする方法を用いることができる。当該第二の基材としては樹脂基材を用いることが好ましく、また、基材表面に接着性が向上するための表面処理を行っても良い。このような場合、樹脂基材および配向膜の密着性を向上させることができる。
また、基材と配向膜との剥離強度が配向膜と位相差層との剥離強度よりも大きくなるよう、配向膜と位相差層との剥離強度を小さくするために、配向膜の耐溶剤性を比較的高くすることも好ましい。配向膜の耐溶剤性が比較的高い場合には、配向膜上に重合性組成物を塗布して位相差層を形成する際に、重合性組成物中の溶剤に配向膜が溶解しにくくなるため、配向膜および位相差層の密着性を低くすることができる。
また、基材と配向膜との剥離強度が配向膜と位相差層との剥離強度よりも大きくなるよう、配向膜と位相差層との剥離強度を小さくするために、配向膜の耐溶剤性を比較的高くすることも好ましい。配向膜の耐溶剤性が比較的高い場合には、配向膜上に重合性組成物を塗布して位相差層を形成する際に、重合性組成物中の溶剤に配向膜が溶解しにくくなるため、配向膜および位相差層の密着性を低くすることができる。
一方、図５の例に示される転写用積層体３０を得るために、第二の基材２２と配向膜２３との剥離強度が、配向膜２３と位相差層２１との剥離強度よりも小さくするためには、例えば、基材の表面に離型処理が施されていてもよく、あるいは離型層が形成されていてもよい。これにより、基材の剥離性を高めることができ、基材および配向層の剥離強度を配向層および位相差層の剥離強度よりも小さくすることができる。
離型処理としては、例えばフッ素処理、シリコーン処理等の表面処理が挙げられる。
離型層の材料としては、例えばフッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等が挙げられる。離型層の形成方法としては、例えば離型剤をディップコート、スプレーコート、ロールコート等の塗布法により塗布する方法が挙げられる。
また、図６の例に示される転写用積層体４０を得るためにも、必要に応じて、基材の表面に離型処理が施されていてもよく、あるいは離型層が形成されていてもよい。
離型処理としては、例えばフッ素処理、シリコーン処理等の表面処理が挙げられる。
離型層の材料としては、例えばフッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等が挙げられる。離型層の形成方法としては、例えば離型剤をディップコート、スプレーコート、ロールコート等の塗布法により塗布する方法が挙げられる。
また、図６の例に示される転写用積層体４０を得るためにも、必要に応じて、基材の表面に離型処理が施されていてもよく、あるいは離型層が形成されていてもよい。
転写用積層体に用いられる基材は、可撓性を有していてもよく有さなくてもよいが、基材を剥離しやすいことから、可撓性を有することが好ましい。
転写用積層体に用いられる基材の厚みは、充分な自己支持強度と、本実施形態の転写用積層体の製造および転写工程に適応出来るだけの可撓性との兼合いから、通常、上記材料のシートの場合、２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。
転写用積層体に用いられる基材の厚みは、充分な自己支持強度と、本実施形態の転写用積層体の製造および転写工程に適応出来るだけの可撓性との兼合いから、通常、上記材料のシートの場合、２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。
本開示の転写用積層体から提供できる位相差層は、前記位相差フィルムと同様の用途に好適に用いられ、例えば反射防止用１／４波長板として好適に用いられ、各種表示装置用の光学部材に転写することができ、薄膜の光学部材を提供するために好適に用いられる。
Ｆ．光学部材
本開示の光学部材は、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を備えるものである。
本開示の光学部材は、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を備えるものである。
本実施形態の光学部材を、図を参照して説明する。図７は、光学部材の１実施形態を示す模式断面図である。
図７の光学部材６０の例では、前記本開示の位相差フィルム１０上に、偏光板５０が配置されている。位相差フィルム１０と偏光板５０との間には、必要に応じて粘着層（接着層）を有していてもよい（図示せず）。
図７の光学部材６０の例では、前記本開示の位相差フィルム１０上に、偏光板５０が配置されている。位相差フィルム１０と偏光板５０との間には、必要に応じて粘着層（接着層）を有していてもよい（図示せず）。
本実施形態において偏光板は、特定方向に振動する光のみを通過させる板状ものであり、従来公知の偏光板の中から適宜選択して用いることができる。例えば、沃素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。
また、本実施形態において粘着層（接着層）用の粘着剤又は接着剤としては、従来公知のものの中から適宜選択すればよく、感圧接着剤（粘着剤）、２液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱溶融型接着剤等、いずれの接着形態のもの好適に用いることができる。
また、本実施形態において粘着層（接着層）用の粘着剤又は接着剤としては、従来公知のものの中から適宜選択すればよく、感圧接着剤（粘着剤）、２液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱溶融型接着剤等、いずれの接着形態のもの好適に用いることができる。
本実施形態の光学部材には、偏光板の他にも、公知の光学部材が備える他の層を更に有していても良い。当該他の層としては、例えば、前記本実施形態の位相差層とは異なる他の位相差層の他、反射防止層、拡散層、防眩層、帯電防止層、保護フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本実施形態の光学部材は、例えば、外光反射を抑制する光学部材や、各種表示装置用の広視野角偏光板として好適に用いることができる。
本開示の光学部材の製造方法は、特に限定されることなく、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を積層する方法を適宜選択して用いることができる。例えば、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を、粘着層乃至接着層を介して積層する製造方法等が挙げられる。
また、本開示の１実施形態の光学部材の製造方法としては、
前記本開示の転写用積層体を準備する転写用積層体準備工程と、
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程とを有する、光学部材の製造方法が挙げられる。
前記本開示の転写用積層体を準備する転写用積層体準備工程と、
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程とを有する、光学部材の製造方法が挙げられる。
前記転写用積層体を用いた本開示の１実施形態の光学部材の製造方法によれば、偏光板と、前記本開示の位相差フィルムのうち前記位相差層のみを備えた光学部材を得ることができる。
本開示の１実施形態の光学部材の製造方法に用いる転写用積層体は、前記「Ｅ．転写用積層体」で説明したものと同様のものとすることができるので、ここでの説明を省略する。
また、本開示の１実施形態の光学部材の製造方法に用いる被転写体は、典型的には、接着層と偏光板とを有する被転写体が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、前述した本開示の１実施形態における光学部材が有していても良い他の層と同様の層を、更に有していても良い。
本開示の１実施形態の光学部材の製造方法に用いる転写用積層体は、前記「Ｅ．転写用積層体」で説明したものと同様のものとすることができるので、ここでの説明を省略する。
また、本開示の１実施形態の光学部材の製造方法に用いる被転写体は、典型的には、接着層と偏光板とを有する被転写体が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、前述した本開示の１実施形態における光学部材が有していても良い他の層と同様の層を、更に有していても良い。
Ｇ．表示装置
本開示に係る表示装置は、前記本実施形態の位相差フィルム、又は前記本実施形態の光学部材を備えることを特徴とする。
表示装置としては、例えば、発光表示装置、液晶表示装置等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
本開示に係る表示装置は、前記本実施形態の位相差フィルム、又は前記本実施形態の光学部材を備えることを特徴とする。
表示装置としては、例えば、発光表示装置、液晶表示装置等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
中でも、前記本実施形態の位相差フィルム又は前記本実施形態の光学部材を備えるため、特に、透明電極層と、発光層と、電極層とをこの順に有する有機発光表示装置等の発光表示装置において外光反射を抑制しながら、視野角が向上するという効果を有する。
１実施形態である発光表示装置の例を、図を参照して説明する。図８は、光学部材の１実施形態を示す模式断面図である。
図８の有機発光表示装置１００の例では、前記位相差フィルム１０の出光面側に、偏光板５０が配置され、反対側の面には、透明電極層７１と、発光層７２と、電極層７３とをこの順に有している。
発光層７２としては、例えば、透明電極層７１側から順に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層の順に積層する構成等が挙げられる。本実施形態において、透明電極層、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層、電極層、及びその他の構成は、公知のものを適宜用いることができる。このようにして作製された発光表示装置は、例えば、パッシブ駆動方式の有機ＥＬディスプレイにもアクティブ駆動方式の有機ＥＬディスプレイにも適用可能である。
なお、本実施形態の表示装置は、上記構成に限定されるものではなく、適宜選択した公知の構成とすることができる。
図８の有機発光表示装置１００の例では、前記位相差フィルム１０の出光面側に、偏光板５０が配置され、反対側の面には、透明電極層７１と、発光層７２と、電極層７３とをこの順に有している。
発光層７２としては、例えば、透明電極層７１側から順に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層の順に積層する構成等が挙げられる。本実施形態において、透明電極層、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層、電極層、及びその他の構成は、公知のものを適宜用いることができる。このようにして作製された発光表示装置は、例えば、パッシブ駆動方式の有機ＥＬディスプレイにもアクティブ駆動方式の有機ＥＬディスプレイにも適用可能である。
なお、本実施形態の表示装置は、上記構成に限定されるものではなく、適宜選択した公知の構成とすることができる。
製造した各化合物は、日本電子（株）製ＪＥＯＬ ＪＮＭ－ＬＡ４００ＷＢを用いて、１Ｈ ＮＭＲ測定により、化学構造を確認した。
また、製造した各化合物の相転移温度は、温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡（オリンパス製、ＢＸ５１）によるテクスチャー観察によって昇温時において確認した。Ｃは結晶、Ｎはネマチック相、Ｉは等方性液体を表す。例えば「Ｃ １３０ Ｎ １８０ Ｉ」は、１３０℃で結晶からネマチック相に転移し、１８０℃でネマチック相から等方性液体へ転移したことを示す。
また、製造した各化合物の相転移温度は、温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡（オリンパス製、ＢＸ５１）によるテクスチャー観察によって昇温時において確認した。Ｃは結晶、Ｎはネマチック相、Ｉは等方性液体を表す。例えば「Ｃ １３０ Ｎ １８０ Ｉ」は、１３０℃で結晶からネマチック相に転移し、１８０℃でネマチック相から等方性液体へ転移したことを示す。
［製造例１：式（１－１）で表される化合物１の製造］
まず、５００ｍＬナスフラスコ中、式（１－１－１）で表される４，４’－ジヒドロキシビフェニル ２７ｇ（１５０ｍｍｏｌ）、ヘキサメチレンテトラミン４６ｇ（３３０ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸３２０ｍｌに溶解し、１１０℃で３時間反応を行った。反応終了後、氷浴下で４規定塩酸３Ｌを添加し終夜で撹拌した。撹拌終了後、沈殿物をろ過した。得られた粗体に水（１Ｌ）を加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、式（１－１－２）で表される中間体１を７．５ｇ（２１ｍｍｏｌ、収率２１％）得た。
まず、５００ｍＬナスフラスコ中、式（１－１－１）で表される４，４’－ジヒドロキシビフェニル ２７ｇ（１５０ｍｍｏｌ）、ヘキサメチレンテトラミン４６ｇ（３３０ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸３２０ｍｌに溶解し、１１０℃で３時間反応を行った。反応終了後、氷浴下で４規定塩酸３Ｌを添加し終夜で撹拌した。撹拌終了後、沈殿物をろ過した。得られた粗体に水（１Ｌ）を加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、式（１－１－２）で表される中間体１を７．５ｇ（２１ｍｍｏｌ、収率２１％）得た。
シクロヘキサンジカルボン酸 １７２ｇ（１．０ｍｏｌ）、６－（４－ヒドロキシフェニル)ヘキシルアクリレート ５３ｇ（２００ｍｍｏｌ、ＤＫＳＨ製）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ） ０．９８ｇ（８．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１Ｌ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ） ４３ｇ（２１０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５０ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過した後、炭酸水素ナトリウム水溶液、１Ｎ塩酸で洗浄し、溶媒を留去した。得られた粗体をオープンカラムクロマトグラフィにより精製することで式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１を合成した。
次に、上記で得られた式（１－１－２）で表される中間体１ ７．０ｇ（２９ｍｍｏｌ）、式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１ ３２ｇ（７６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ） ０．１４ｇ（１．２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（７０ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ） １９ｇ（９０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１４ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗体にクロロホルム（７０ｍＬ）を加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、式（１－１－４）で表される中間体２を２３ｇ（２２ｍｍｏｌ、収率７５％）で得た。
２－ヒドラジノベンゾチアゾール ５．０ｇ（３０ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム ２．５ｇ（４５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（９０ｍＬ）に添加し、８０度で加熱した。所定の温度に到達したのち、ｐ－トルエンスルホン酸ヘキシル ９．２ｇ（３６ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、４時間撹拌した。反応終了後、水 １０ｍｌを加え抽出し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、式（１－１－５）で表される中間体３を３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ、収率４０％）得た。
上記で得られた式（１－１－４）で表される中間体２ ２．０ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、１２規定塩酸 １５ｍｇをテトラヒドロフラン １０ｍＬに溶解し、式（１－１－５）で表される中間体３ １．２ｇ（５．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌したのち、メタノール５０ｍｌに滴下した。生成した沈殿物をろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗体にメタノール（２０ｍＬ）を加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、式（１－１）で表される化合物１を１．４ｇ（０．９４ｍｍｏｌ、収率４９％）で得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １３０ Ｎ １８０ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
［製造例２：式（１－２）で表される化合物２の製造］
エチレングリコール ２０ｍｌに２－アミノ－６－フルオロベンゾチアゾール ４．０ｇ（２４ｍｍｏｌ）を添加した。氷浴下で、ヒドラジン・１水和物 ３．６ｇ（７１ｍｍｏｌ）、１２規定塩酸１．９ｇ（５５ｍｍｏｌ）を適下し、１３０℃で５時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却したのち、水 ３００ｍｌを加え、沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、中間体４を３．５ｇ（１９ｍｍｏｌ、収率８０％）で得た。
エチレングリコール ２０ｍｌに２－アミノ－６－フルオロベンゾチアゾール ４．０ｇ（２４ｍｍｏｌ）を添加した。氷浴下で、ヒドラジン・１水和物 ３．６ｇ（７１ｍｍｏｌ）、１２規定塩酸１．９ｇ（５５ｍｍｏｌ）を適下し、１３０℃で５時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却したのち、水 ３００ｍｌを加え、沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、中間体４を３．５ｇ（１９ｍｍｏｌ、収率８０％）で得た。
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、２－ヒドラジノベンゾチアゾールの代わりに前記中間体４を等モル量用いて、式（１－２－５）で表される中間体５を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－２）で表される化合物２を１．２ｇ（０．７８ｍｍｏｌ、収率４１％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １４１ Ｎ ２０８ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．５２（ｄ，２Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ），７．０５－６．７５（ｍ，１２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．５２（ｄ，２Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ），７．０５－６．７５（ｍ，１２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
［製造例３：式（１－３）で表される化合物３の製造］
製造例２の中間体４を製造する工程において、２－アミノ－６－フルオロベンゾチアゾールの代わりに、２－アミノ－６－エトキシベンゾチアゾールを等モル量用いた以外は、製造例２の中間体４を製造する工程と同様にして、中間体６を３．１ｇ（１６ｍｍｏｌ、収率６８％）で得た。
製造例２の中間体４を製造する工程において、２－アミノ－６－フルオロベンゾチアゾールの代わりに、２－アミノ－６－エトキシベンゾチアゾールを等モル量用いた以外は、製造例２の中間体４を製造する工程と同様にして、中間体６を３．１ｇ（１６ｍｍｏｌ、収率６８％）で得た。
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、２－ヒドラジノベンゾチアゾールの代わりに前記中間体６を用いて、式（１－３－５）で表される中間体７を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－３）で表される化合物３を１．３ｇ（０．８３ｍｍｏｌ、収率４３％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １４７ Ｎ ２４１ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．５２（ｄ，２Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ），７．０５－６．７５（ｍ，１２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．６５（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２６Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．５２（ｄ，２Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ），７．０５－６．７５（ｍ，１２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．６５（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２６Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
［製造例４：式（１－４）で表される化合物４の製造］
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ヨードヘキサンの代わりに１-ブロモ－２－（２－メトキシエトキシ）エタンを等モル量用いて、式（１－４－５）で表される中間体８を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－４）で表される化合物４を１．２ｇ（０．７７ｍｍｏｌ、収率４０％）得た。
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ヨードヘキサンの代わりに１-ブロモ－２－（２－メトキシエトキシ）エタンを等モル量用いて、式（１－４－５）で表される中間体８を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－４）で表される化合物４を１．２ｇ（０．７７ｍｍｏｌ、収率４０％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １１６ Ｎ ２０５ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），８．１３（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５３（ｔ，４Ｈ），４．１８（ｔ，４Ｈ），４．０２－３．８５（ｍ，８Ｈ），３．６５（ｔ，４Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．３２（ｓ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．３０（ｍ，２０Ｈ）．
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），８．１３（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５３（ｔ，４Ｈ），４．１８（ｔ，４Ｈ），４．０２－３．８５（ｍ，８Ｈ），３．６５（ｔ，４Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．３２（ｓ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．３０（ｍ，２０Ｈ）．
［製造例５：式（１－５）表される化合物５の製造］
製造例２の中間体４を製造する工程において、２－アミノ－６－フルオロベンゾチアゾールの代わりに、５－メトキシ［１，３］チアゾロ［５，４－ｂ］ピリジン－２－アミンを等モル量用いた以外は、製造例２の中間体４を製造する工程と同様にして、中間体９を２．４ｇ（１２ｍｍｏｌ、収率５２％）で得た。
製造例２の中間体４を製造する工程において、２－アミノ－６－フルオロベンゾチアゾールの代わりに、５－メトキシ［１，３］チアゾロ［５，４－ｂ］ピリジン－２－アミンを等モル量用いた以外は、製造例２の中間体４を製造する工程と同様にして、中間体９を２．４ｇ（１２ｍｍｏｌ、収率５２％）で得た。
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、２－ヒドラジノベンゾチアゾールの代わりに前記中間体９を用いて、式（１－５－５）で表される中間体１０を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－５）で表される化合物５を１．１ｇ（０．６９ｍｍｏｌ、収率３６％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １３４ Ｎ １７６ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．５２（ｄ，２Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ），７．０５－６．７５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２６Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．５２（ｄ，２Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ），７．０５－６．７５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２６Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
［製造例６：式（１－６）で表される化合物６の製造］
２－ブロモ－５－ヒドロキシベンズアルデヒド ２１ｇ（１１０ｍｍｏｌ）、２－ホルミル－４－メトキシフェニルボロン酸 ２０ｇ（１１０ｍｍｏｌ）をトルエン：エタノール＝３：１（４００ｍＬ）に溶解させ、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液 １００ｍｌを添加し、６０度で加熱した。所定の温度に到達したのち、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0) ２．４ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を添加し、８０度で加熱した。所定の温度に到達したのち、１０時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、不溶分をろ過し、有機層を抽出・濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、中間体１１を１１ｇ（４４ｍｍｏｌ、収率４２％）得た。目的物の構造は１Ｈ－ＮＭＲで同定した。
製造例１において、式（１－１－２）で表される中間体１の代わりに、前記中間体１１と式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１とを用いて、中間体１２を得て、製造例１において、式（１－１－４）で表される中間体２の代わりに、前記中間体１２を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１－６）で表される化合物６を１．１ｇ（０．７４ｍｍｏｌ、収率３９％）得た。
２－ブロモ－５－ヒドロキシベンズアルデヒド ２１ｇ（１１０ｍｍｏｌ）、２－ホルミル－４－メトキシフェニルボロン酸 ２０ｇ（１１０ｍｍｏｌ）をトルエン：エタノール＝３：１（４００ｍＬ）に溶解させ、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液 １００ｍｌを添加し、６０度で加熱した。所定の温度に到達したのち、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0) ２．４ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を添加し、８０度で加熱した。所定の温度に到達したのち、１０時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、不溶分をろ過し、有機層を抽出・濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、中間体１１を１１ｇ（４４ｍｍｏｌ、収率４２％）得た。目的物の構造は１Ｈ－ＮＭＲで同定した。
製造例１において、式（１－１－２）で表される中間体１の代わりに、前記中間体１１と式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１とを用いて、中間体１２を得て、製造例１において、式（１－１－４）で表される中間体２の代わりに、前記中間体１２を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１－６）で表される化合物６を１．１ｇ（０．７４ｍｍｏｌ、収率３９％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １６５ Ｎ １８０ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．９２（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．９２（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
［製造例７：式（１－７）で表される化合物７の製造］
製造例６の中間体１１の製造において、２－ブロモ－５－ヒドロキシベンズアルデヒドを用いる代わりに、５－ブロモ－２－ヒドロキシ－４－メチルベンズアルデヒドを等モル量で用い、２－ホルミル－４－メトキシフェニルボロン酸を用いる代わりに、３－ホルミル－４－メトキシフェニルボロン酸を等モル量で用いて、中間体１３を得た。
製造例１において、式（１－１－２）で表される中間体１の代わりに、前記中間体１３と式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１とを用いて、中間体１４を得て、製造例１において、式（１－１－４）で表される中間体２の代わりに、前記中間体１４を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１－７）で表される化合物７を０．８１ｇ（０．５３ｍｍｏｌ、収率２４％）得た。
製造例６の中間体１１の製造において、２－ブロモ－５－ヒドロキシベンズアルデヒドを用いる代わりに、５－ブロモ－２－ヒドロキシ－４－メチルベンズアルデヒドを等モル量で用い、２－ホルミル－４－メトキシフェニルボロン酸を用いる代わりに、３－ホルミル－４－メトキシフェニルボロン酸を等モル量で用いて、中間体１３を得た。
製造例１において、式（１－１－２）で表される中間体１の代わりに、前記中間体１３と式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１とを用いて、中間体１４を得て、製造例１において、式（１－１－４）で表される中間体２の代わりに、前記中間体１４を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１－７）で表される化合物７を０．８１ｇ（０．５３ｍｍｏｌ、収率２４％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １５２ Ｎ １７１ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，９Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，７Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，９Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，７Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
［製造例８：式（１－８）で表される化合物８の製造］
４－ヒドロキシ安息香酸エチル（７．０ｇ，４４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６．５ｇ，４７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２５０ｍｌ）懸濁液に６－ブロモヘキサノール（７．３ｇ，４１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を水で希釈し、酢酸エチルで抽出し溶媒を留去した。得られた粗体に、水酸化カリウム（２．８ｇ，４７ｍｍｏｌ）の水溶液を加え、１００℃で４時間反応させ加水分解した。反応終了後、塩酸水溶液を加え、続いて酢酸エチルを加え抽出し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、ｐ－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸を収率８３％（８．７ｇ，３７ｍｍｏｌ）で得た。
次に、ｐ－（６－ヒドロキシエトキシ）安息香酸（７．１ｇ，３０ｍｍｏｌ）、アクリロイルクロリド（２．５ｇ，２７ｍｍｏｌ）、ジメチルアニリン（ＤＭＡ）（３．３ｇ，２７ｍｍｏｌ）、のテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）懸濁液を１２時間撹拌した。反応終了後、水、酢酸エチルを加え、分液を行った。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、４－［６－（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸を収率８５％（７．４ｇ，２６ｍｍｏｌ）で得た。
trans－４－ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸（５．０ｇ、３２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５．３ｇ、５２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２５ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下１０℃以下で冷却しながら撹拌した。そこへ、クロロメチルメチルエーテル（３．０ｇ、３７ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下し、室温で８時間撹拌した。酢酸エチルおよび水を加えて有機層を抽出し、有機層を飽和重曹水および水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥することでtrans-4-ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸メトキシメチルを４．８ｇ（２６ｍｍｏｌ、収率８０％）得た。
４－［６－（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸 ７．４ｇ（２６ｍｍｏｌ）、trans-4-ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸メトキシメチル ４．７ｇ（２５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ） ０．１２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１５０ｍｌ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ） ５．６ｇ（２７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過した後、炭酸水素ナトリウム水溶液、１Ｎ塩酸で洗浄し、溶媒を留去した。得られた粗体のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液にｐ－トルエンスルホン酸（ｐＴＳＡ） ０．４０ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で８時間加熱撹拌した。酢酸エチルおよび水を加えて有機層を抽出し、有機層を飽和重曹水および水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、減圧下で溶媒を留去し、残渣をメタノールで再結晶することにより、式（１－８－３）で表されるカルボン酸誘導体２を５．４ｇ（１３ｍｍｏｌ、収率５２％）得た。
４－ヒドロキシ安息香酸エチル（７．０ｇ，４４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６．５ｇ，４７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２５０ｍｌ）懸濁液に６－ブロモヘキサノール（７．３ｇ，４１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を水で希釈し、酢酸エチルで抽出し溶媒を留去した。得られた粗体に、水酸化カリウム（２．８ｇ，４７ｍｍｏｌ）の水溶液を加え、１００℃で４時間反応させ加水分解した。反応終了後、塩酸水溶液を加え、続いて酢酸エチルを加え抽出し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、ｐ－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸を収率８３％（８．７ｇ，３７ｍｍｏｌ）で得た。
次に、ｐ－（６－ヒドロキシエトキシ）安息香酸（７．１ｇ，３０ｍｍｏｌ）、アクリロイルクロリド（２．５ｇ，２７ｍｍｏｌ）、ジメチルアニリン（ＤＭＡ）（３．３ｇ，２７ｍｍｏｌ）、のテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）懸濁液を１２時間撹拌した。反応終了後、水、酢酸エチルを加え、分液を行った。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、４－［６－（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸を収率８５％（７．４ｇ，２６ｍｍｏｌ）で得た。
trans－４－ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸（５．０ｇ、３２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５．３ｇ、５２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２５ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下１０℃以下で冷却しながら撹拌した。そこへ、クロロメチルメチルエーテル（３．０ｇ、３７ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下し、室温で８時間撹拌した。酢酸エチルおよび水を加えて有機層を抽出し、有機層を飽和重曹水および水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥することでtrans-4-ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸メトキシメチルを４．８ｇ（２６ｍｍｏｌ、収率８０％）得た。
４－［６－（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸 ７．４ｇ（２６ｍｍｏｌ）、trans-4-ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸メトキシメチル ４．７ｇ（２５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ） ０．１２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１５０ｍｌ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ） ５．６ｇ（２７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過した後、炭酸水素ナトリウム水溶液、１Ｎ塩酸で洗浄し、溶媒を留去した。得られた粗体のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液にｐ－トルエンスルホン酸（ｐＴＳＡ） ０．４０ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で８時間加熱撹拌した。酢酸エチルおよび水を加えて有機層を抽出し、有機層を飽和重曹水および水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、減圧下で溶媒を留去し、残渣をメタノールで再結晶することにより、式（１－８－３）で表されるカルボン酸誘導体２を５．４ｇ（１３ｍｍｏｌ、収率５２％）得た。
製造例１において、式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１の代わりに、式（１－８－３）で表されるカルボン酸誘導体２を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１－８）で表される化合物８を０．９８ｇ（０．６６ｍｍｏｌ、収率３２％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １３４ Ｎ １６７ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５２（ｔ，４Ｈ），４．２０（ｔ，４Ｈ），３．９５（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５２（ｔ，４Ｈ），４．２０（ｔ，４Ｈ），３．９５（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
［製造例９：式（１－９）で表される化合物９の製造］
製造例１と同様にして、式（１－１－４）で表される中間体２を得た。
中間体２ ２．０ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、３－メチル－２－ベンゾチアゾリノンヒドラゾン塩酸塩 ０．８２ｇ（３．８ｍｍｏｌ）を１－プロパノール ３０ｍＬに溶解し、還流条件下で１時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却したのち、ＴＨＦ ３０ｍｌを添加し、溶解させた。反応液に１０％の炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下し、固体を析出させ、沈殿物をろ過・洗浄し、得られた沈殿物を乾燥させることにより、式（１－９）で表される化合物９を０．９ｇ（０．６６ｍｍｏｌ、収率３３％）で得た。目的物の構造は１Ｈ－ＮＭＲで同定した。
製造例１と同様にして、式（１－１－４）で表される中間体２を得た。
中間体２ ２．０ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、３－メチル－２－ベンゾチアゾリノンヒドラゾン塩酸塩 ０．８２ｇ（３．８ｍｍｏｌ）を１－プロパノール ３０ｍＬに溶解し、還流条件下で１時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却したのち、ＴＨＦ ３０ｍｌを添加し、溶解させた。反応液に１０％の炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下し、固体を析出させ、沈殿物をろ過・洗浄し、得られた沈殿物を乾燥させることにより、式（１－９）で表される化合物９を０．９ｇ（０．６６ｍｍｏｌ、収率３３％）で得た。目的物の構造は１Ｈ－ＮＭＲで同定した。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １４０ Ｎ １６５ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ ； δｐｐｍ）：８．４９（ｓ，２Ｈ），８．１４（ｓ，２Ｈ），７．８５（ｄ，２Ｈ），７．６６（ｄ，２Ｈ），７．４５（ｄ，２Ｈ），７．４０－７．３０（ｍ，４Ｈ），７．０８（ｔ，２Ｈ），６．８８（ｓ，８Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．０６（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．３６（ｓ，６Ｈ），２．３０－２．２０（ｍ，４Ｈ），１．９０－１．６５（ｍ，１２Ｈ），１．６０－１．３５（ｍ，２０Ｈ）
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ ； δｐｐｍ）：８．４９（ｓ，２Ｈ），８．１４（ｓ，２Ｈ），７．８５（ｄ，２Ｈ），７．６６（ｄ，２Ｈ），７．４５（ｄ，２Ｈ），７．４０－７．３０（ｍ，４Ｈ），７．０８（ｔ，２Ｈ），６．８８（ｓ，８Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．０６（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．３６（ｓ，６Ｈ），２．３０－２．２０（ｍ，４Ｈ），１．９０－１．６５（ｍ，１２Ｈ），１．６０－１．３５（ｍ，２０Ｈ）
［製造例１０：式（１－１０）で表される化合物１０の製造］
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ヨードヘキサンの代わりに１－（２－ブロモエトキシ）ブタンを等モル量用いて、式（１－１０－５）で表される中間体１６を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－１０）で表される化合物１０を１．３３ｇ（０．８７ｍｍｏｌ、収率４３％）得た。
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ヨードヘキサンの代わりに１－（２－ブロモエトキシ）ブタンを等モル量用いて、式（１－１０－５）で表される中間体１６を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－１０）で表される化合物１０を１．３３ｇ（０．８７ｍｍｏｌ、収率４３％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １２２ Ｎ １６７ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．６５－３．５０（ｍ，８Ｈ）２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，１２Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．６５－３．５０（ｍ，８Ｈ）２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，１２Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
［製造例１１：式（１－１１）で表される化合物１１の製造］
エチレングリコール ２０ｍｌに２－アミノベンゾオキサゾール ３．２ｇ（２４ｍｍｏｌ）を添加した。氷浴下で、ヒドラジン・１水和物 ３．６ｇ（７１ｍｍｏｌ）、１２規定塩酸１．９ｇ（５５ｍｍｏｌ）を適下し、１３０℃で５時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却したのち、水 ３００ｍｌを加え、沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、中間体１７を３．５ｇ（１９ｍｍｏｌ、収率８０％）で得た。
エチレングリコール ２０ｍｌに２－アミノベンゾオキサゾール ３．２ｇ（２４ｍｍｏｌ）を添加した。氷浴下で、ヒドラジン・１水和物 ３．６ｇ（７１ｍｍｏｌ）、１２規定塩酸１．９ｇ（５５ｍｍｏｌ）を適下し、１３０℃で５時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却したのち、水 ３００ｍｌを加え、沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、中間体１７を３．５ｇ（１９ｍｍｏｌ、収率８０％）で得た。
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、２－ヒドラジノベンゾチアゾールの代わりに前記中間体１７を等モル量用い、ヨードヘキサンの代わりに１－（２－ブロモエトキシ）ブタンを等モル量用いて、式（１－１１－５）で表される中間体１８を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－１１）で表される化合物１１を１．２ｇ（０．７８ｍｍｏｌ、収率４１％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １１９ Ｎ １６９ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．５５（ｍ，２Ｈ），７．４１－７．２０（ｍ，８Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．５５（ｍ，２Ｈ），７．４１－７．２０（ｍ，８Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
［製造例１２：式（１－１２）で表される化合物１２の製造］
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ヨードヘキサンの代わりに１－ブロモ－２－エチルヘキサンを等モル量用いて、式（１－１２－５）で表される中間体１９を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－１２）で表される化合物１２を
１．３ｇ（０．８４ｍｍｏｌ、収率４４％）得た。
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ヨードヘキサンの代わりに１－ブロモ－２－エチルヘキサンを等モル量用いて、式（１－１２－５）で表される中間体１９を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－１２）で表される化合物１２を
１．３ｇ（０．８４ｍｍｏｌ、収率４４％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １２５ Ｎ １６８ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９７－１．６７（ｍ，２４Ｈ），１．５１－１．３２（ｍ，１８Ｈ），０．９９（ｔ、６Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９７－１．６７（ｍ，２４Ｈ），１．５１－１．３２（ｍ，１８Ｈ），０．９９（ｔ、６Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
［製造例１３：式（１－１３）で表される化合物１３の製造］
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ヨードヘキサンの代わりにテトラヒドロフルフリルブロミドを等モル量用いて、式（１－１３－５）で表される中間体２０を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－１３）で表される化合物１３を１．９ｇ（０．７９ｍｍｏｌ、収率４１％）得た。
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ヨードヘキサンの代わりにテトラヒドロフルフリルブロミドを等モル量用いて、式（１－１３－５）で表される中間体２０を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１－１３）で表される化合物１３を１．９ｇ（０．７９ｍｍｏｌ、収率４１％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １１９ Ｎ １７１ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．８５－３．７９（ｍ，６Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９１－１．６０（ｍ，２８Ｈ），１．５１－１．３２（ｍ，４Ｈ）
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．８５－３．７９（ｍ，６Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９１－１．６０（ｍ，２８Ｈ），１．５１－１．３２（ｍ，４Ｈ）
［製造例１４：式（１－１４）で表される化合物１４の製造］
既報（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ （Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ， ＤＣ， Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ）， ４０（１５）， ５３３７－５３４３； ２００７）に従い、６－クロロヘキシルアクリレートを合成した。
６－クロロヘキシルアクリレート ９．５ｇ（５０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム １４ｇ（１００ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）懸濁液に、２－（４－ヒドロキシフェニル）エタノール ７．６ｇ（５５ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（３０ｍｌ）を滴下した。滴下終了後、反応容器を９０℃に加熱して５時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル２００ｍｌを加え、純水、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させることで、６－（４－（２－ヒドロキシエチル）フェニル）ヘキシルアクリレートを合成した。
製造例１のカルボン酸誘導体１の合成方法において６－（４－ヒドロキシフェニル）ヘキシルアクリレートの代わりに、６－（４－（２－ヒドロキシエチル）フェニル）ヘキシルアクリレートを利用することで、式（１－１４－３）で表されるカルボン酸誘導体３を４．２ｇ（９．４ｍｍｏｌ）合成した。
既報（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ （Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ， ＤＣ， Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ）， ４０（１５）， ５３３７－５３４３； ２００７）に従い、６－クロロヘキシルアクリレートを合成した。
６－クロロヘキシルアクリレート ９．５ｇ（５０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム １４ｇ（１００ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）懸濁液に、２－（４－ヒドロキシフェニル）エタノール ７．６ｇ（５５ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（３０ｍｌ）を滴下した。滴下終了後、反応容器を９０℃に加熱して５時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル２００ｍｌを加え、純水、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させることで、６－（４－（２－ヒドロキシエチル）フェニル）ヘキシルアクリレートを合成した。
製造例１のカルボン酸誘導体１の合成方法において６－（４－ヒドロキシフェニル）ヘキシルアクリレートの代わりに、６－（４－（２－ヒドロキシエチル）フェニル）ヘキシルアクリレートを利用することで、式（１－１４－３）で表されるカルボン酸誘導体３を４．２ｇ（９．４ｍｍｏｌ）合成した。
製造例１において、式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１の代わりに、式（１－１４－３）で表されるカルボン酸誘導体３を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１－１４）で表される化合物１４を１．２ｇ（０．７５ｍｍｏｌ、収率３５％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １１８ Ｎ １６９ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，２Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１４Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５１（ｔ，４Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．０２（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，２Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１４Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５１（ｔ，４Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．０２（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
［製造例１５：式（１－１５）で表される化合物１５の製造］
製造例８のカルボン酸誘導体２の合成方法において、４－ヒドロキシ安息香酸エチルの代わりに、３－（４－ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチルを等モル量用いることで、式（１－１５－３）で表されるカルボン酸誘導体４ ３．９ｇ（８．７ｍｍｏｌ）を合成した。
製造例８のカルボン酸誘導体２の合成方法において、４－ヒドロキシ安息香酸エチルの代わりに、３－（４－ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチルを等モル量用いることで、式（１－１５－３）で表されるカルボン酸誘導体４ ３．９ｇ（８．７ｍｍｏｌ）を合成した。
製造例１において、式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１の代わりに、式（１－１５－３）で表されるカルボン酸誘導体４を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１－１５）で表される化合物１５を１．３ｇ（０．８１ｍｍｏｌ、収率４１％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １０５ Ｎ １７２ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５２（ｔ，４Ｈ），４．１９（ｔ，４Ｈ），３．９９（ｔ，４Ｈ），３．６５－３．５０（ｍ，８Ｈ）２．７０－２．５５（ｍ，１２Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，１２Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５２（ｔ，４Ｈ），４．１９（ｔ，４Ｈ），３．９９（ｔ，４Ｈ），３．６５－３．５０（ｍ，８Ｈ）２．７０－２．５５（ｍ，１２Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，１２Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
［製造例１６：式（１－１６）で表される化合物１６の製造］
既報（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ， Ｐａｒｔ Ａ： Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， ４９（３）， ７７０－７８０； ２０１１）に従い、３－［４－［［６－［（１－オキソ－２－プロペン－１－イル）オキシ］へキシル］オキシ］フェニル］－２－プロペン酸を合成した。
製造例８のカルボン酸誘導体２の合成方法において、４－［６－（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸の代わりに、３－［４－［［６－［（１－オキソ－２－プロペン－１－イル）オキシ］へキシル］オキシ］フェニル］－２－プロペン酸を使用することで、式（１－１６－３）で表されるカルボン酸誘導体５ ３．８ｇ（８．６ｍｍｏｌ）を合成した。
既報（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ， Ｐａｒｔ Ａ： Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， ４９（３）， ７７０－７８０； ２０１１）に従い、３－［４－［［６－［（１－オキソ－２－プロペン－１－イル）オキシ］へキシル］オキシ］フェニル］－２－プロペン酸を合成した。
製造例８のカルボン酸誘導体２の合成方法において、４－［６－（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸の代わりに、３－［４－［［６－［（１－オキソ－２－プロペン－１－イル）オキシ］へキシル］オキシ］フェニル］－２－プロペン酸を使用することで、式（１－１６－３）で表されるカルボン酸誘導体５ ３．８ｇ（８．６ｍｍｏｌ）を合成した。
製造例１において、式（１－１－３）で表されるカルボン酸誘導体１の代わりに、式（１－１６－３）で表されるカルボン酸誘導体５を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１－１６）で表される化合物１６を１．０ｇ（０．６７ｍｍｏｌ、収率３８％）得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １４１ Ｎ １６５ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．５５（ｍ，６Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．３５－６．１０（ｍ，４Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．５５（ｍ，６Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．３５－６．１０（ｍ，４Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
［製造例１７：式（１－１７）で表される化合物１７の製造］
製造例１と同様にして、式（１－１－４）で表される中間体２を得た。
中間体２ ２．０ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、塩化ヒドロキシルアミン ０．２７ｇ（３．８ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム三水和物 ０．５２ｇ（３．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１１ｍＬに溶解させ、常温で３時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し、酢酸エチルで抽出、水で洗浄した。濃縮後、得られた粗体にメタノール１０ｍＬを加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた固体を乾燥させることにより、式（１－１７－６）で表わされる中間体２４を１．９ｇ（１．８ｍｍｏｌ、収率９３％）で得た。
製造例１と同様にして、式（１－１－４）で表される中間体２を得た。
中間体２ ２．０ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、塩化ヒドロキシルアミン ０．２７ｇ（３．８ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム三水和物 ０．５２ｇ（３．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１１ｍＬに溶解させ、常温で３時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し、酢酸エチルで抽出、水で洗浄した。濃縮後、得られた粗体にメタノール１０ｍＬを加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた固体を乾燥させることにより、式（１－１７－６）で表わされる中間体２４を１．９ｇ（１．８ｍｍｏｌ、収率９３％）で得た。
得られた中間体２４ １．５ｇ（１．４ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム ０．９ｇ（２．８ｍｍｏｌ）をトルエン２．８ｍＬに窒素雰囲気下６０℃で溶解させた。窒素雰囲気下、２－ヨードベンゾチアゾール ０．９５ｇ（３．６ｍｍｏｌ）、１，１０－フェナントロリン ５０ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）、酒石酸カリウムナトリウム四水和物 ０．１６ｇ（０．６ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ） ２７ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応終了後、不溶物をろ別した後水を加え酢酸エチルで抽出し、溶媒を留去した。残差をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、溶媒を留去することで、式（１－１７）で表される化合物１７を０．８４ｇ（０．６３ｍｍｏｌ、収率４５％）で得た。
相転移温度（昇温時）：Ｃ １３５ Ｎ １６７ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．４１（ｍ，４Ｈ）
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ； δｐｐｍ） ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０－７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５－７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５－６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５－６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５－１．４１（ｍ，４Ｈ）
［比較製造例１：式（Ｃ１－１）で表される比較化合物１の製造］
特許第５９６２７６０号の実施例４の化合物４の合成を参考にして、下記式（Ｃ１－１）で表される比較化合物１を合成した。
特許第５９６２７６０号の実施例４の化合物４の合成を参考にして、下記式（Ｃ１－１）で表される比較化合物１を合成した。
［比較製造例２：式（Ｃ１－２）で表される比較化合物２の製造］
国際公開２０１６／１３６５３３号公報の実施例３の式（１－３）で表される化合物の合成を参考にして、下記式（Ｃ１－２）で表される比較化合物２を合成した。
国際公開２０１６／１３６５３３号公報の実施例３の式（１－３）で表される化合物の合成を参考にして、下記式（Ｃ１－２）で表される比較化合物２を合成した。
［実施例１］
（１）重合性組成物の製造
重合性液晶化合物（式（１－１）で表される化合物１）１００質量部、光重合開始剤（２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン：チバスペシャルティケミカルズ製、イルガキュア９０７）４質量部をシクロペンタノン９００質量部に溶解させ重合性組成物１を製造した。
（１）重合性組成物の製造
重合性液晶化合物（式（１－１）で表される化合物１）１００質量部、光重合開始剤（２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン：チバスペシャルティケミカルズ製、イルガキュア９０７）４質量部をシクロペンタノン９００質量部に溶解させ重合性組成物１を製造した。
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の製造
（２－１）光配向膜用組成物の調製
特許５６２６４９３の製造例１の記載に従って、ヒドロキシエチルメタクリレート １．３０ｇ、下記化学式で表される光配向性モノマー ３．９５ｇ、重合触媒としてα、α’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）５０ｍｇをジオキサン２５ｍｌに溶解し、９０℃にて６時間反応させた。反応終了後、再沈殿法により精製することで、下記化学式で表される光配向性モノマーとヒドロキシエチルメタクリレートを共重合した共重合体１を得た。
下記に示す組成の光配向膜用組成物を調製した。
・共重合体１：０．１質量部
・ヘキサメトキシメチルメラミン（ＨＭＭ）：０．０１質量部
・ｐ－トルエンスルホン酸１水和物（ＰＴＳＡ）：０．００１５質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）：２．１質量部
（２－１）光配向膜用組成物の調製
特許５６２６４９３の製造例１の記載に従って、ヒドロキシエチルメタクリレート １．３０ｇ、下記化学式で表される光配向性モノマー ３．９５ｇ、重合触媒としてα、α’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）５０ｍｇをジオキサン２５ｍｌに溶解し、９０℃にて６時間反応させた。反応終了後、再沈殿法により精製することで、下記化学式で表される光配向性モノマーとヒドロキシエチルメタクリレートを共重合した共重合体１を得た。
下記に示す組成の光配向膜用組成物を調製した。
・共重合体１：０．１質量部
・ヘキサメトキシメチルメラミン（ＨＭＭ）：０．０１質量部
・ｐ－トルエンスルホン酸１水和物（ＰＴＳＡ）：０．００１５質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）：２．１質量部
（２－２）水平配向膜の形成
ＰＥＴ基板（東洋紡（株）製、Ｅ５１００、厚さ３８μｍ）の片面上に、前記光配向膜用組成物を、硬化後の膜厚が０．２μｍとなるようにバーコートにより塗布し、１２０℃のオーブンで１分間加熱して乾燥及び熱硬化を行い、硬化塗膜を形成した。その後、この硬化塗膜表面にＨｇ－Ｘｅランプおよびグランテーラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線を基板法線から垂直方向に露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で照射することで、水平配向膜を形成した。
ＰＥＴ基板（東洋紡（株）製、Ｅ５１００、厚さ３８μｍ）の片面上に、前記光配向膜用組成物を、硬化後の膜厚が０．２μｍとなるようにバーコートにより塗布し、１２０℃のオーブンで１分間加熱して乾燥及び熱硬化を行い、硬化塗膜を形成した。その後、この硬化塗膜表面にＨｇ－Ｘｅランプおよびグランテーラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線を基板法線から垂直方向に露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で照射することで、水平配向膜を形成した。
（２－３）位相差フィルム乃至転写用積層体の作製
形成した配向膜上に、前記重合性組成物１を、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布し、重合性組成物を成膜した。その後、表９に示す乾燥温度にて１２０秒間オーブン中で乾燥させた後に、Ｆｕｓｉｏｎ社製のＨバルブを用いて紫外線（ＵＶ）を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射して位相差層を形成して位相差フィルム乃至転写用積層体を得た。
形成した配向膜上に、前記重合性組成物１を、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布し、重合性組成物を成膜した。その後、表９に示す乾燥温度にて１２０秒間オーブン中で乾燥させた後に、Ｆｕｓｉｏｎ社製のＨバルブを用いて紫外線（ＵＶ）を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射して位相差層を形成して位相差フィルム乃至転写用積層体を得た。
［実施例２～１７、比較例１～２］
（１）重合性組成物の製造
実施例１において、各成分の組成を下記表９に従って変更した以外は、実施例１と同様にして、重合性組成物２～１７、及び比較重合性組成物１～２を得た。
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の製造
実施例１において、重合性組成物１の代わりに、重合性組成物２～１７及び比較重合性組成物１～２を用いた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム乃至転写用積層体２～１７及び比較位相差フィルム乃至転写用積層体１～２を得た。
（１）重合性組成物の製造
実施例１において、各成分の組成を下記表９に従って変更した以外は、実施例１と同様にして、重合性組成物２～１７、及び比較重合性組成物１～２を得た。
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の製造
実施例１において、重合性組成物１の代わりに、重合性組成物２～１７及び比較重合性組成物１～２を用いた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム乃至転写用積層体２～１７及び比較位相差フィルム乃至転写用積層体１～２を得た。
［評価］
＜サンプル作成＞
各実施例及び各比較例で得られた位相差フィルムのＰＥＴ基板を剥離して、位相差層及び水平配向膜を粘着付きガラスに転写したサンプルを用いた。
＜サンプル作成＞
各実施例及び各比較例で得られた位相差フィルムのＰＥＴ基板を剥離して、位相差層及び水平配向膜を粘着付きガラスに転写したサンプルを用いた。
＜配向性＞
位相差層の配向性は、偏光顕微鏡観察することにより、３段階で評価した。
（配向性の評価基準）
Ａ：目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察で９０％以上が配向
Ｂ：目視ではＡ程の配向は得られておらず、偏光顕微鏡観察での配向面積は５０％以上９０％未満
Ｃ：目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も５０％未満
位相差層の配向性は、偏光顕微鏡観察することにより、３段階で評価した。
（配向性の評価基準）
Ａ：目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察で９０％以上が配向
Ｂ：目視ではＡ程の配向は得られておらず、偏光顕微鏡観察での配向面積は５０％以上９０％未満
Ｃ：目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も５０％未満
＜位相差（波長分散性）＞
位相差測定装置（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）により、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅを測定した。
測定した位相差を用いて以下のように算出されるｘ、ｙ値から波長分散を評価した。
ｘ＝（４５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）／（５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）
ｙ＝（６５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）／（５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）
（波長分散性の評価基準）
Ａ：０．６≦ｘ＜０．９０、１＜ｙ ・・・逆波長分散性
Ｂ：０．９０≦ｘ＜０．９５、１＜ｙ ・・・逆波長分散性
Ｃ：０．９５≦ｘ＜１、１＜ｙ
Ｄ：１≦ｘ、１≧ｙ ・・・正常分散性
位相差測定装置（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）により、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅを測定した。
測定した位相差を用いて以下のように算出されるｘ、ｙ値から波長分散を評価した。
ｘ＝（４５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）／（５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）
ｙ＝（６５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）／（５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）
（波長分散性の評価基準）
Ａ：０．６≦ｘ＜０．９０、１＜ｙ ・・・逆波長分散性
Ｂ：０．９０≦ｘ＜０．９５、１＜ｙ ・・・逆波長分散性
Ｃ：０．９５≦ｘ＜１、１＜ｙ
Ｄ：１≦ｘ、１≧ｙ ・・・正常分散性
＜複屈折＞
位相差Ｒｅ（λ）＝複屈折率Δｎ（λ）×膜厚ｄという関係があることから、５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅと膜厚ｄから、５５０ｎｍにおける複屈折率Δｎを評価した。
Ａ：０．０８以上
Ｂ：０．０７５≦ｘ＜０．０８
Ｃ：０．０７５未満
位相差Ｒｅ（λ）＝複屈折率Δｎ（λ）×膜厚ｄという関係があることから、５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅと膜厚ｄから、５５０ｎｍにおける複屈折率Δｎを評価した。
Ａ：０．０８以上
Ｂ：０．０７５≦ｘ＜０．０８
Ｃ：０．０７５未満
＜溶剤溶解性＞
前記製造例及び比較製造例でそれぞれ得られた化合物について、溶解性試験を行った。化合物とシクロペンタノンとの合計質量を１００質量％、化合物が１０質量％の時のシクロペンタノンに対する２５℃３０分後の溶解性を目視にて評価した。
（配向性の評価基準）
Ａ：目視で完全に溶解
Ｃ：目視で不溶物がある
前記製造例及び比較製造例でそれぞれ得られた化合物について、溶解性試験を行った。化合物とシクロペンタノンとの合計質量を１００質量％、化合物が１０質量％の時のシクロペンタノンに対する２５℃３０分後の溶解性を目視にて評価した。
（配向性の評価基準）
Ａ：目視で完全に溶解
Ｃ：目視で不溶物がある
また、ラビング処理後ポリイミド配向膜付ガラス［製品名：配向処理ガラス基板、株式会社イーエッチシー製、当該配向処理ガラス基板は、日立化成株式会社製ポリイミドＬＸ－１４００が塗布されラビング処理されている。］の配向膜上に、前記重合性組成物１～１７、及び比較重合性組成物１～２をそれぞれ、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布して成膜した。その後、当該膜のそれぞれについて、各重合性組成物に含まれる重合性液晶化合物の固体－液晶相転移温度に１０℃加えた温度にて１２０秒間オーブン中で乾燥させた後に、Ｆｕｓｉｏｎ社製のＨバルブを用いて紫外線（ＵＶ）を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射して位相差層を形成して、位相差フィルム乃至転写用積層体を得た。
形成された位相差層について、前記と同様に面内位相差Ｒｅを測定したところ、重合性液晶化合物１～１７及び比較重合性液晶化合物１をそれぞれ含む前記重合性組成物１～１７及び比較重合性組成物１はいずれも、波長分散性が前記評価基準で「Ａ」であり、比較重合性液晶化合物２を含む比較重合性組成物２は、波長分散性が前記評価基準で「Ｃ」であった。
形成された位相差層について、前記と同様に面内位相差Ｒｅを測定したところ、重合性液晶化合物１～１７及び比較重合性液晶化合物１をそれぞれ含む前記重合性組成物１～１７及び比較重合性組成物１はいずれも、波長分散性が前記評価基準で「Ａ」であり、比較重合性液晶化合物２を含む比較重合性組成物２は、波長分散性が前記評価基準で「Ｃ」であった。
［実施例１８～４７］
（１）重合性組成物の製造
実施例１において、本開示の重合性液晶化合物である化合物１を重合性液晶化合物中の含有量１００質量％で用いる代わりに、本開示の重合性液晶化合物と、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物とを、下記表１０に従って混合して用いた以外は、実施例１と同様にして、重合性組成物１８～４７を得た。
なお、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物として、下記化学式で表される重合性液晶化合物Ｂ－１～Ｂ－６で表される化合物を準備した。
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の製造
実施例１において、重合性組成物１の代わりに、重合性組成物１８～４７を用いた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム乃至転写用積層体１８～４７を得た。
（１）重合性組成物の製造
実施例１において、本開示の重合性液晶化合物である化合物１を重合性液晶化合物中の含有量１００質量％で用いる代わりに、本開示の重合性液晶化合物と、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物とを、下記表１０に従って混合して用いた以外は、実施例１と同様にして、重合性組成物１８～４７を得た。
なお、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物として、下記化学式で表される重合性液晶化合物Ｂ－１～Ｂ－６で表される化合物を準備した。
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の製造
実施例１において、重合性組成物１の代わりに、重合性組成物１８～４７を用いた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム乃至転写用積層体１８～４７を得た。
なお、重合性液晶化合物Ｂ－１～Ｂ－６で表される化合物をそれぞれ、以下のようにして波長分散性を評価した。
重合性液晶化合物１００質量部と２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン４質量部をシクロペンタノン９００質量部に溶解させた重合性組成物を、ラビング処理後ポリイミド配向膜付ガラス［製品名：配向処理ガラス基板、株式会社イーエッチシー製］の配向膜上に、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布して成膜した。その後、当該膜を、含まれる重合性液晶化合物の固体－液晶相転移温度に１０℃加えた温度にて１２０秒間オーブン中で乾燥させた後に、Ｆｕｓｉｏｎ社製のＨバルブを用いて紫外線（ＵＶ）を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射して位相差層を形成した。
形成された位相差層について、前記と同様に面内位相差Ｒｅを測定したところ、重合性液晶化合物Ｂ－１～Ｂ－５はそれぞれ、波長分散性が前記評価基準で「Ｄ」であり、重合性液晶化合物Ｂ－６は、波長分散性が前記評価基準で「Ｃ」であった。
重合性液晶化合物１００質量部と２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン４質量部をシクロペンタノン９００質量部に溶解させた重合性組成物を、ラビング処理後ポリイミド配向膜付ガラス［製品名：配向処理ガラス基板、株式会社イーエッチシー製］の配向膜上に、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布して成膜した。その後、当該膜を、含まれる重合性液晶化合物の固体－液晶相転移温度に１０℃加えた温度にて１２０秒間オーブン中で乾燥させた後に、Ｆｕｓｉｏｎ社製のＨバルブを用いて紫外線（ＵＶ）を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射して位相差層を形成した。
形成された位相差層について、前記と同様に面内位相差Ｒｅを測定したところ、重合性液晶化合物Ｂ－１～Ｂ－５はそれぞれ、波長分散性が前記評価基準で「Ｄ」であり、重合性液晶化合物Ｂ－６は、波長分散性が前記評価基準で「Ｃ」であった。
［評価］
＜サンプル作成＞
各実施例で得られた位相差フィルムのＰＥＴ基板を剥離して、位相差層及び水平配向膜を粘着付きガラスに転写したサンプルを用い、実施例１と同様に評価を行った。
評価結果を表１０に示す。
＜サンプル作成＞
各実施例で得られた位相差フィルムのＰＥＴ基板を剥離して、位相差層及び水平配向膜を粘着付きガラスに転写したサンプルを用い、実施例１と同様に評価を行った。
評価結果を表１０に示す。
［実施例４８～６２］
（１）重合性組成物の製造
実施例１において、本開示の重合性液晶化合物である化合物１を重合性液晶化合物中の含有量１００質量％で用いる代わりに、本開示の重合性液晶化合物の２種以上、或いは、本開示の重合性液晶化合物と、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物及びその他の重合性化合物から選択される少なくとも１種とを、下記表１１に従って混合して用いた以外は、実施例１と同様にして、重合性組成物４８～６２を得た。
なお、その他の重合性化合物としては、以下の重合性化合物を準備した。
・ＤＰＨＡ（Ｍ－４０５）：ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、商品名アロニックスＭ－４０５、東亞合成株式会社製
・ＰＥＴＴＡ（Ｍ－４５０）：ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート、商品名アロニックスＭ－４５０、東亞合成株式会社製
・ＴＭＰＴＡ（Ｍ－３０９）：トリメチロールプロパントリアクリレート、商品名アロニックスＭ－３０９、東亞合成株式会社製
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の製造
実施例１において、重合性組成物１の代わりに、重合性組成物４８～６２を用いた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム乃至転写用積層体４８～６２を得た。
なお、実施例６０～６２においては、ＰＥＴ基板の代わりに、基材としてＴＡＣ基材（富士フィルム株式会社製、フジタック）を用いた。
（１）重合性組成物の製造
実施例１において、本開示の重合性液晶化合物である化合物１を重合性液晶化合物中の含有量１００質量％で用いる代わりに、本開示の重合性液晶化合物の２種以上、或いは、本開示の重合性液晶化合物と、本開示の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物及びその他の重合性化合物から選択される少なくとも１種とを、下記表１１に従って混合して用いた以外は、実施例１と同様にして、重合性組成物４８～６２を得た。
なお、その他の重合性化合物としては、以下の重合性化合物を準備した。
・ＤＰＨＡ（Ｍ－４０５）：ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、商品名アロニックスＭ－４０５、東亞合成株式会社製
・ＰＥＴＴＡ（Ｍ－４５０）：ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート、商品名アロニックスＭ－４５０、東亞合成株式会社製
・ＴＭＰＴＡ（Ｍ－３０９）：トリメチロールプロパントリアクリレート、商品名アロニックスＭ－３０９、東亞合成株式会社製
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の製造
実施例１において、重合性組成物１の代わりに、重合性組成物４８～６２を用いた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム乃至転写用積層体４８～６２を得た。
なお、実施例６０～６２においては、ＰＥＴ基板の代わりに、基材としてＴＡＣ基材（富士フィルム株式会社製、フジタック）を用いた。
各実施例で得られた位相差フィルムの基板を剥離して、位相差層及び水平配向膜を粘着付きガラスに転写したサンプルを用い、実施例１と同様に評価を行った。
評価結果を表１１に示す。
評価結果を表１１に示す。
１ 位相差層
２、２’ 基材
３ 配向膜
１０ 位相差フィルム
１１、２１、３１ 位相差層
１２、２２、３２ 第二の基材
１３、２３、３３ 配向膜
１５、２５、３５ 剥離可能な支持体
１６、２６、３６ 転写に供する位相層
１７ 配向膜と位相差層との界面
２７ 第二の基材と配向膜との界面
２０、３０、４０ 転写用積層体
５０ 偏光板
６０ 光学部材
７１ 透明電極層
７２ 発光層
７３ 電極層
１００ 発光表示装置
２、２’ 基材
３ 配向膜
１０ 位相差フィルム
１１、２１、３１ 位相差層
１２、２２、３２ 第二の基材
１３、２３、３３ 配向膜
１５、２５、３５ 剥離可能な支持体
１６、２６、３６ 転写に供する位相層
１７ 配向膜と位相差層との界面
２７ 第二の基材と配向膜との界面
２０、３０、４０ 転写用積層体
５０ 偏光板
６０ 光学部材
７１ 透明電極層
７２ 発光層
７３ 電極層
１００ 発光表示装置
Claims (12)
- 下記一般式（１）で表される重合性液晶化合物。
Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、
Ａ３及びＡ４はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い二価の炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、下記一般式（Ｒ－１）から選ばれる基を表し、
一般式（Ｒ－１）： －Ｌ５－Ｒｓｐ１－Ｚ１
一般式（Ｒ－１）中、Ｌ５は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＯＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯＯ－、－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｏ－、－Ｏ－ＮＨ－、－ＳＣＨ２－、－ＣＨ２Ｓ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＦ２Ｓ－、－ＳＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表し、Ｒｓｐ１は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０のアルキレン基又は単結合を表し、Ｚ１は重合性官能基を表す。
Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立して、下記一般式（Ｄ－１）から選ばれる基を表し、
置換基Ｅ、Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良い炭素原子数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、或いは、置換基Ｅ、Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立して、－ＬＥ－ＲｓｐＥ－ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ、及びＺＥは、それぞれ、前記Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１と同一であっても異なっていても良く、化合物内に置換基Ｅ、Ｅ１及びＥ２がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良く、
Ｌ３、Ｌ４、Ａ３、及びＡ４がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立して１～４の整数を表し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立して０～３の整数を表す。）
Ｑ１は、芳香族炭化水素基を有する炭素原子数２～３０の有機基を表すが、当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、芳香族炭化水素基は無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、前記Ｑ １ は、無置換又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されても良い下記式（Ｑ－１－１）、式（Ｑ－７－１）、式（Ｑ－７－２）、式（Ｑ－７－７）、式（Ｑ－８）、式（Ｑ－１０－２）、式（Ｑ－１０－３）、式（Ｑ－１０－４）、式（Ｑ－１０－５）、式（Ｑ－１０－６）、 式（Ｑ－１０－７）、式（Ｑ－１０－８）、式（Ｑ－１０－９）、式（Ｑ－１１－２）、式（Ｑ－１１－３）、式（Ｑ－１１－４）、式（Ｑ－１１－５）、式（Ｑ－１１－６）、式（Ｑ－１１－７）、式（Ｑ－１１－８）、式（Ｑ－１１－９）、式（Ｑ－１１－１０）、式（Ｑ－１１－１１）、式（Ｑ－１１－１２）、式（Ｑ－２１－１）、式（Ｑ－２１－２）、式（Ｑ－２２－１）、及び式（Ｑ－２２－２）から選ばれる基を表し、
Ｊ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＮＱ２－、－Ｎ＝ＣＱ２－、－ＣＯ－ＮＱ２－、－ＯＣＯ－ＮＱ２－又は－Ｏ－ＮＱ２－を表し、Ｑ２は水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、炭素原子数３～１２のシクロアルケニル基、芳香族炭化水素基（当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良い）を有する炭素原子数２～３０の有機基、又は－（Ｌ６－Ａ５）ｑ－Ｌ７－Ｒｓｐ２－Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香族炭化水素基はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の－ＣＨ２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ２－は各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられても良く、Ｌ６、Ａ５、Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２は、それぞれ、前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ１～Ｌ４、Ａ１～Ａ４、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１と同一であっても異なっていても良く、ｑは０～４の整数を表し、Ｌ６、及びＡ５がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。）
- 前記一般式（１）中、前記Ｄ １ 及びＤ ２ はそれぞれ独立して、下記の式（Ｄ－１）～式（Ｄ－３１）及び式（Ｄ－３４）～式（Ｄ－４７）から選ばれる基を表す、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
- 下記化学式で表される化合物からなる群から選択される、請求項１又は２に記載の重合性液晶化合物。
- 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物を含有する、重合性組成物。
- 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物とは異なる重合性液晶化合物を、更に含有する、請求項４に記載の重合性組成物。
- 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物、或いは請求項４又は５に記載の重合性組成物を重合して得られる重合体。
- 位相差層を有する位相差フィルムであって、前記位相差層が、請求項４又は５に記載の重合性組成物の硬化物を含有する、位相差フィルム。
- 請求項４又は５に記載の重合性組成物を成膜する工程と、
前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性化合物を少なくとも配向させる工程と、
前記配向工程の後に、前記重合性化合物を少なくとも重合する工程とを有することにより、位相差層を形成する工程を有する、位相差フィルムの製造方法。 - 位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、請求項４又は５に記載の重合性組成物の硬化物を含有する、
位相差層の転写に供する転写用積層体。 - 請求項７に記載の位相差フィルム上に、偏光板を備える、光学部材。
- 位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、前記位相差層が、請求項４又は５に記載の重合性組成物の硬化物を含有する、位相差層の転写に供する転写用積層体を準備する工程と、
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程と、
を有する、光学部材の製造方法。 - 請求項７に記載の位相差フィルム、又は請求項１０に記載の光学部材を備える表示装置。
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