JP7284573B2 - ４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子およびその製造方法 - Google Patents

４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7284573B2
JP7284573B2 JP2018227155A JP2018227155A JP7284573B2 JP 7284573 B2 JP7284573 B2 JP 7284573B2 JP 2018227155 A JP2018227155 A JP 2018227155A JP 2018227155 A JP2018227155 A JP 2018227155A JP 7284573 B2 JP7284573 B2 JP 7284573B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
particles
metal oxide
oxide particles
quaternary ammonium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018227155A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020090406A (ja
Inventor
智子 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuso Chemical Co Ltd
Original Assignee
Fuso Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuso Chemical Co Ltd filed Critical Fuso Chemical Co Ltd
Priority to JP2018227155A priority Critical patent/JP7284573B2/ja
Priority to US17/294,470 priority patent/US12358799B2/en
Priority to CN201980080650.2A priority patent/CN113165887B/zh
Priority to PCT/JP2019/046550 priority patent/WO2020116307A1/ja
Priority to KR1020217020404A priority patent/KR102831281B1/ko
Priority to TW108144035A priority patent/TWI829819B/zh
Publication of JP2020090406A publication Critical patent/JP2020090406A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7284573B2 publication Critical patent/JP7284573B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/126—Preparation of silica of undetermined type
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28—Compounds of silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
    • C09C3/12—Treatment with organosilicon compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/03—Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

本発明は、４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子およびその製造方法に関する。
金属酸化物の粒子は、半導体基板等の化学研磨（ＣＭＰ）の砥粒、樹脂のフィラー、光学材料用塗料、印刷用トナー樹脂粒子の外添剤、化粧品材料等として利用されており、粒子の分散安定性の向上や用途に合わせた特性を粒子に付与すること等を目的として、粒子の表面修飾処理が広く行われている。その表面修飾処理の１つにシランカップリング剤処理がある。シランカップリング処理では、代表的には官能基を有するアルコキシシラン、例えばＺ－Ｓｉ(ＯＤ)３［式中、Ｚは官能基を示し、Ｄはアルキル基を示す。］をシランカップリング剤とし、アルコキシシランのアルコキシ基が粒子表面のＯＨ基と反応（典型的には脱水縮合反応）して「Ｚ－Ｓｉ－Ｏ－粒子」を形成することにより粒子表面が表面修飾（この場合では官能基Ｚが導入）される。表面修飾（変性と称されることもある）により粒子には、導入されたシリル基の有する官能基に応じた性質が付与されることとなる。例えばアミノ基を導入することにより粒子の表面電位が高くなり、正電位を示すｐＨ領域が拡大することが知られている（特許文献１、特許文献２の例７）。
一方、表面修飾の過程において粒子が凝集して会合比の大きな粒子や粗大粒子となることがある（例えば特許文献２の例７）。会合比の大きな粒子や粗大粒子は、化学研磨の砥粒として使用された際に研磨されている基材の表面にスクラッチを生じさせる傾向がある。また、４級アンモニウム基を含むシランカップリング剤も市販されているが、金属腐食作用に影響するハロゲン化物イオンを含有しており、これがスラリー中に残存してしまうため、金属を研磨対象とした化学研磨用途では望ましくない。さらに、クロロプロピルトリエトキシシランを用いてテトラメチルエチレンジアミン構造を有する水酸化シランを合成し、これを含有する液でシリカを処理する方法（特許文献３）、３－アミノプロピルシラン変性シリカナノ粒子の分散液に塩化３－クロロ－２－ヒドロキシプロピルジメチルドデシルアンモニウムを添加する方法（特許文献４）が報告されている。
特開２００５－１６２５３３号公報 特表２０１２－５１５８０６号公報 特表２０１２－５２４０２０号公報 特表２０１１－５１２３７９号公報
本発明は、例えば、４級アンモニウム基で表面修飾され、会合比の大きくない金属酸化物粒子、または、例えば、４級アンモニウム基で表面修飾され、ハロゲン含有量が少なく、会合比の大きくない金属酸化物粒子の提供を課題とする。また、例えば、４級アンモニウム基で表面修飾され、会合比の大きくない金属酸化物粒子の製造方法、または、例えば、ハロゲン化物を使用することなく、４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子を製造する方法の提供を課題とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意検討した結果、エポキシ環を有するシランカップリング剤と３級アミンで金属酸化物粒子を表面修飾することでエポキシ環が開環して３級アミンと結合し、その結果、ハロゲン化物を使用することなく、該３級アミンの構造に対応した４級アンモニウム基で表面修飾された粒子が得られること、さらにその粒子の凝集が抑制でき、会合比（本発明においては、動的光散乱（DLS：Dynamic Light Scattering）により測定される平均粒子径／ＳＥＭ画像において測定される一次粒子の平均直径をいう）を小さくできることを見出した。代表的な本発明は以下の通りである。
項１．会合比（動的光散乱により測定される平均粒子径／ＳＥＭ画像において測定される一次粒子の平均直径）が５．０以下であり、
一般式（１）
－Ｓｉ(Ｘ)ｎ－[Ｌ－ＣＲ１(ＯＨ)－Ｃ(Ｒ２)２－Ａ]３－ｎ （１）
［式中、
Ｘは同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合であり；
ｎは０、１、または２であり；
Ｌは連結基であり；
Ｒ１は水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基であり；
Ｒ２は同一または異なって、水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基であり；
Ａは４級アンモニウム基である。］
で示されるシリル基、および
一般式（２）
Figure 0007284573000001
 ［式中、
Ｘ’は同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合であり；
ｎ’は０、１、または２であり；
Ｌ’は連結基であり；
Ａ’は４級アンモニウム基である。］
で示されるシリル基
からなる群より選択される少なくとも１種の基で表面修飾された金属酸化物粒子。
項２．粉末乾燥状態の真比重が１．６０以上である項１に記載の金属酸化物粒子。
項３．金属酸化物粒子がシリカ粒子である項１または２に記載の金属酸化物粒子。
項４．前記会合比が１．５～５．０である項１～３のいずれかに記載の金属酸化物粒子。
項５．前記一次粒子の平均直径が１２０ｎｍ以下である項１～４のいずれかに記載の金属酸化物粒子。
項６．ハロゲン含有量が金属酸化物粒子１ｇ当たり１０μｍｏｌ／ｍＬ・ｇ以下である項１～５のいずれかに記載の金属酸化物粒子。
項７．（ａ）水および／または有機溶媒の存在下あるいは非存在下で、金属酸化物粒子、３級アミン、およびエポキシ環を有するシランカップリング剤を任意の順番で混合する工程、および
（ｂ）工程（ａ）で得られた混合物に酸を混合する工程、
を含む、４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子の製造方法。
項８．前記工程（ｂ）において前記酸を混合することにより、混合液のｐＨを０～１０の範囲内にする項７に記載の製造方法。
項９．酸が、無機酸および一価の有機酸からなる群より選択される少なくとも１種である項７または８に記載の製造方法。
本発明によれば、ハロゲン含有量の小さい、４級アンモニウム基で表面修飾された、会合比が小さく、粗大粒子の少ない金属酸化物粒子が提供される。また、本発明によれば、ハロゲン化物イオンを含有するシランやハロゲン基を有するシランを使用することなく、４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子を製造することができる。
本発明の一実施形態は、会合比（動的光散乱により測定される平均粒子径／ＳＥＭ画像において測定される一次粒子の平均直径）が５．０以下であり、
一般式（１）
－Ｓｉ(Ｘ)ｎ－[Ｌ－ＣＲ１(ＯＨ)－Ｃ(Ｒ２)２－Ａ]３－ｎ （１）
［式中、
Ｘは同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合であり；
ｎは０、１、または２であり；
Ｌは連結基であり；
Ｒ１は水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基であり；
Ｒ２は同一または異なって、水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基であり；
Ａは４級アンモニウム基である。］
で示されるシリル基、および
一般式（２）
Figure 0007284573000002
 ［式中、
Ｘ’は同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合であり；
ｎ’は０、１、または２であり；
Ｌ’は連結基であり；
Ａ’は４級アンモニウム基である。］
で示されるシリル基
からなる群より選択される少なくとも１種の基で表面修飾された金属酸化物粒子である。
本発明において、表面修飾とは、無機材料をシランカップリング剤で処理することによって無機材料にシランカップリング剤に由来するシリル基を導入する技術における一般的な意味で使用され、変性とも称されることがある。代表的には、シリル基が共有結合（好ましくはメタロキサン結合）で金属酸化物粒子表面と結びついた状態をいい、共有結合に加え、イオン結合、水素結合、化学吸着、物理吸着等で結びついていてもよい。一実施形態において、本発明の金属酸化物粒子は、一般式（１）で示されるシリル基及び一般式（２）で示されるシリル基からなる群より選択される少なくとも１種の基が共有結合（好ましくはメタロキサン結合）で粒子表面と結びついた金属酸化物粒子である。例えば、上記シリル基はシリル基中のＳｉが－Ｏ－を介して粒子表面に共有結合している。上記シリル基中のＳｉは、－Ｏ－を介したこの結合を１、２または３個有してもよい。
本発明の金属酸化物粒子は、代表的には、本発明の製造方法で得られるが、上記シリル基で表面修飾されている限り他の方法によって得られたものも本発明の金属酸化物粒子に包含される。
本発明において、表面修飾の程度は、粉末乾燥状態の金属酸化物粒子の元素分析値について、表面修飾前後の差を取って算出できる。具体的には、金属酸化物粒子を含むスラリーを遠心分離した後、沈殿物を乾燥させ粉末状態とする。これを元素分析して窒素含有濃度を求め、表面修飾前後での窒素含有濃度の増加分で表面修飾の程度を表すことができる。
本発明における表面修飾の程度は、窒素含有濃度の増加分が、例えば０．０３質量％以上、好ましくは０．０６質量％以上、より好ましくは０．１０質量％以上である。
金属酸化物粒子
本発明における金属酸化物粒子は、例えばシリカ（酸化ケイ素）粒子、酸化セリウム粒子、酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化スズ粒子、酸化マンガン粒子等であり、好ましくはシリカ粒子、酸化セリウム粒子、酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、または酸化マンガン粒子であり、これらの複合粒子でもよい。複合粒子としては、例えばシリカをコア粒子としこれを酸化セリウムのシェルで被覆した粒子などが挙げられる。金属酸化物粒子として、より好ましくはシリカ粒子であり、より一層好ましくはコロイダルシリカである。コロイダルシリカとしては、特に制限されないが、アルコキシシランもしくはケイ酸ソーダを原料として合成されたコロイダルシリカが好ましい。更に、アルコキシシラン（例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン）を原料として合成されたコロイダルシリカが好ましい。また、金属腐食性を有するハロゲンの混入を回避する観点からは、ハロゲンを含有しない金属塩または金属アルコキシドを原料として調製された金属酸化物粒子が好ましく、金属不純物（Ｎａ等）の混入を回避する観点からは金属アルコキシドを原料として調製された金属酸化物粒子が好ましい。
本発明において金属酸化物粒子の一次粒子の平均直径は次の方法により得られる粒子径である。
（一次粒子の平均直径）
ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で撮影された金属酸化物粒子の２０万倍の画像（ＳＥＭ画像）において無作為に抽出された５０個の一次粒子の直径を測定しその平均値を求める。
本発明において、表面修飾される前の金属酸化物粒子の一次粒子の平均直径は特に制限されず用途等に応じて適宜選択できるが、例えば１ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上であり、また、例えば３５０ｎｍ以下、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１２０ｎｍ以下、より一層好ましくは９０ｎｍ以下である。さらに、表面修飾される前の金属酸化物粒子の一次粒子の平均直径は、例えば１ｎｍ～３５０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１２０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ～９０ｎｍである。
本発明において、表面修飾された金属酸化物粒子の一次粒子の平均直径は特に制限されず用途等に応じて適宜選択できるが、例えば１ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上であり、また、例えば３５０ｎｍ以下、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１２０ｎｍ以下、より一層好ましくは９０ｎｍ以下である。さらに、表面修飾された金属酸化物粒子の一次粒子の平均直径は、例えば１ｎｍ～３５０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１２０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ～９０ｎｍである。平均直径が上記範囲にあると、粒子が研磨剤の砥粒として使用される際に粒子の沈降が起こりにくい。
本発明において、表面修飾された金属酸化物粒子の二次粒子の粒子径は、例えば次の方法により得られる。
（動的光散乱による平均粒子径（二次粒子の粒子径））
動的光散乱法の測定用サンプルとして、金属酸化物粒子分散液を０．３重量％クエン酸水溶液に加えて均一化したものを調製する。当該測定用サンプルを用いて、動的光散乱法（大塚電子株式会社製「ＥＬＳＺ－２０００Ｓ」）により二次粒子径を測定する。
本発明において、表面修飾された金属酸化物粒子の会合比は、（動的光散乱により測定される平均粒子径）／（ＳＥＭ画像において測定される一次粒子の平均直径）、で表され、代表的には５．０以下であり、好ましくは４．０以下、より好ましくは３．５以下であり、より一層好ましくは、３．０以下である。また、例えば１．０以上、好ましくは１．５以上である。会合比が上記範囲にあると、粒子が研磨剤の砥粒として使用される際に研磨面における傷の発生が抑制されやすく、また、真球型と比較して研磨速度が向上しやすい。
本発明において、表面修飾された金属酸化物粒子の真比重（単位：ｇ／ｃｍ３）は、例えば１．６０以上、１．７０以上であり、好ましくは１．９０以上、より好ましくは２．００以上であり、また、例えば７．５０以下、好ましくは６．００以下、より好ましくは２．５０以下である。真比重が上記範囲にあると、粒子が研磨剤の砥粒として使用される際に粒子による機械的な研磨作用と研磨速度が向上しやすい。
真比重は、金属酸化物粒子を１５０℃のホットプレート上で乾固後、３００℃炉内で１時間保持した後、エタノールを用いた液相置換法で測定した値であってよい。
本発明において、金属酸化物粒子のハロゲン含有量（フッ素含有量、塩素含有量、臭素含有量及びヨウ素含有量の総和をいう。）はハロゲン濃度（フッ素濃度、塩素濃度、臭素濃度及びヨウ素濃度の総和をいう。）で表すことができ、金属酸化物粒子１ｇ当たりのハロゲン含有量は、例えば１０μｍｏｌ／ｍＬ・ｇ以下、より好ましくは５μｍｏｌ／ｍＬ・ｇ以下、より一層好ましくは１μｍｏｌ／ｍＬ・ｇである。
本発明において、ハロゲン含有量は次の方法により決定される。
金属酸化物粒子を２０質量％含むスラリー１０ｇ（金属酸化物粒子２ｇ含有）を遠心分離により金属酸化物粒子と上澄み液とに分離する。遠心分離の条件はスラリーが金属酸化物粒子と上澄み液とに分離される条件であればよい。上澄み液２ｍＬを採取し、この採取液をイオンクロマトグラフィーで分析することによりこの液のハロゲン濃度（単位；μｍｏｌ／ｍＬ）が測定できる。このハロゲン濃度をそのまま、金属酸化物粒子１ｇ当たりのハロゲン含有量（単位；μｍｏｌ／ｍＬ・ｇ）とする。
表面修飾シリル基
本発明の金属酸化物粒子は上記一般式（１）で示されるシリル基および上記一般式（２）で示されるシリル基からなる群より選択される少なくとも１種の基で表面修飾されたものである。
シリル基中のＳｉと粒子表面の金属原子との－Ｏ－を介したこの結合が１個であるときは、シリル基中の－Ｓｉが－Ｏ－を介して粒子表面の金属原子と結合（メタロキサン結合）している。つまり、Ｓｉと粒子表面の金属原子とは「Ｍ－Ｏ－Ｓｉ(Ｘ)ｎ－」（ここで、Ｍは粒子表面の金属原子であり、Ｘは同一または異なって各々水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、または－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合であり、ｎは０、１、または２である。）で結合している。
この結合が２個であるときは、１個のＸが「－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合」である。つまり、Ｓｉと粒子表面の金属原子とは「Ｍ－Ｏ－Ｓｉ(Ｘ)２(ＯＭ’)１－」（ここで、ＭおよびＸは前記と同じであり、Ｍ’はＭとは異なる粒子表面の金属原子である。）で結合している。
この結合が３個であるときは、２個のＸが「－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合」である。つまり、Ｓｉと粒子表面の金属原子とは「Ｍ－Ｏ－Ｓｉ(Ｘ)１(ＯＭ’)１(ＯＭ’’)１－」（ここで、Ｍ、Ｍ’、およびＸは前記と同じであり、Ｍ’’はＭおよびＭ’とは異なる粒子表面の金属原子である。）で結合している。
（一般式（１）で示されるシリル基）
一般式（１）
－Ｓｉ(Ｘ)ｎ－[Ｌ－ＣＲ１(ＯＨ)－Ｃ(Ｒ２)２－Ａ]３－ｎ （１）
で示されるシリル基において、
Ｘは同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合であり；
ｎは０、１、または２であり；
Ｌは連結基であり；
Ｒ１は水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基であり；
Ｒ２は同一または異なって、水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基であり；
Ａは４級アンモニウム基である。
一般式（１）で示されるシリル基においてＸは、同一または異なって、各々、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合である。
Ｘにおいて加水分解性置換基は、水性の系中で加水分解されてＳｉ－ＯＨ基を形成しうる基である。表面修飾に使用されるシランカップリング剤中の加水分解性基は、表面修飾の際の加水分解の程度等によって、例えば、加水分解されずに加水分解性基のまま残るか、加水分解されて水酸基を形成するか、加水分解されて水酸基を形成しさらに他の水酸基と縮合する。加水分解性置換基は、例えばアルコキシ基などであり、好ましくは直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ６アルコキシ基、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、またはｔｅｒｔ－ブトキシ基であり、より一層好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。
Ｘにおいて非加水分解性置換基は、水性の系中で、加水分解されない、つまりＳｉ－ＯＨ基を形成しない基である。非加水分解性置換基は、例えばアルキル基などであり、好ましくは直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ６アルキル基、より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、またはｔｅｒｔ－ブチル基であり、より一層好ましくは、メチル基またはエチル基である。
Ｘにおいて－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合は、金属酸化物粒子表面において、一般式（１）で示されるシリル基中のＳｉとその近傍に存在するシリル基のＳｉとの酸素原子を介した結合（シロキサン結合）であり、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ構造を形成する。
Ｘにおいて－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合は、該シリル基中のＳｉと粒子との結合であり、Ｓｉ－Ｏ－Ｍ’構造またはＳｉ－Ｏ－Ｍ’’（Ｍ’およびＭ’’は粒子表面の金属原子であり、前記のとおりである。）を形成する。この結合の詳細は上記のとおりである。
一実施形態において、好ましいＸは、同一または異なって、－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合、近傍に存在するシリル基のＳｉとの酸素原子を介した結合、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、またはメチル基である。
一般式（１）で示されるシリル基においてｎは０、１、または２である。立体障害の小ささ、つまりシランカップリング剤のエポキシ環が開環して３級アミンと結合する反応のしやすさの観点では、ｎは２であることが好ましい。
一般式（１）で示されるシリル基においてＬは連結基である。連結基は、代表的には、表面修飾の際に使用されたシランカップリング剤におけるＳｉとエポキシ環を構成する炭素原子との間を構成する基に対応する基である。つまり、連結基は、シリル基中のＳｉと、表面修飾の際に使用されたシランカップリング剤においてエポキシ環を構成していた炭素原子との間を結ぶ基である。連結基は、例えば直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ１８のアルキレン基である。
直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ１８のアルキレン基は、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、デシレン基、オクタデシレン基などであり、好ましくは直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ８のアルキレン基、より好ましくは直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ６のアルキレン基である。アルキレン基における分岐の数は、例えば０、１、２、または３個、好ましくは０、１、または２個、より好ましくは０または１個である。なお、直鎖状のアルキレン基は分岐の数が０個のアルキレン基に該当する。また、分岐状のアルキレン基における分岐鎖は、例えばＣ１－Ｃ３のアルキル基、好ましくはメチル基またはエチル基である。なお、分岐鎖とは、分岐状のアルキレン基においてＳｉと結合する炭素原子とＡと結合する炭素原子を結ぶ直線状の炭化水素鎖を主鎖とした場合に、主鎖を構成する炭素原子に結合するアルキル基をいう。
直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ１８のアルキレン基は、置換基を有してもよい。置換基は、例えばアミノ基、アルケニル基（例えばビニル基、アリル基）、アルキニル基である。置換基は１種類でも複数種併用してもよい。置換基の数は、例えば０、１、２、または３個、好ましくは０、１、または２個、より好ましくは０または２個、より一層好ましくは０個である。
直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ１８のアルキレン基は、そのアルキレン鎖末端またはアルキレン鎖中の任意の位置に、酸素原子（－Ｏ－）、窒素原子（－Ｎ－）、または硫黄原子（－Ｓ－）を含んでもよく、好ましくは酸素原子または硫黄原子であり、より好ましくは酸素原子である。これらのヘテロ原子が分岐状のＣ１－Ｃ１８のアルキレン基に含まれるときは、主鎖に含まれても分岐鎖に含まれてもよい。また、窒素原子がアルキレン鎖末端またはアルキレン鎖中に含まれるときは、－ＮＨ－であっても、窒素原子が１個の置換基で置換されていてもよい。この場合の置換基としてはメチル基やエチル基が挙げられる。アルキレン鎖末端およびアルキレン鎖中に含まれる酸素原子、窒素原子、および硫黄原子の総数は特に制限されないが、例えば１、２、または３個であり、好ましくは１または２個であり、より好ましくは１個である。
一実施形態において、Ｌは、＊－(ＣＨ２)３－Ｏ－ＣＨ２－、＊－(ＣＨ２)２－Ｏ－ＣＨ２－、＊－(ＣＨ２)３－Ｏ－(ＣＨ２)２－、－(ＣＨ２)３－、－(ＣＨ２)４－、－(ＣＨ２)５－が好ましく、原料シランカップリング剤の入手が容易である点、また、立体障害が小さい点で、＊－(ＣＨ２)３－Ｏ－ＣＨ２－、－(ＣＨ２)４－が好ましい。なお、＊はＳｉ(Ｘ)ｎ側を表す。
一般式（１）で示されるシリル基においてＲ１は水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基である。アルキル基は、例えば直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ６アルキル基、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基である。不飽和結合を含むアルキル基は、例えばビニル基やアリル基である。Ｒ１は水素原子がより好ましい。
一般式（１）で示されるシリル基においてＲ２は同一または異なって、各々、水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基である。アルキル基は、例えば直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ６アルキル基、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基である。不飽和結合を含むアルキル基は、例えばビニル基やアリル基である。好ましくは、２つのＲ２がともに水素原子である。
一般式（１）で示されるシリル基においてＡは４級アンモニウム基である。４級アンモニウム基は、代表的には、原料の３級アミンの構造に対応した構造を有し、例えば原料の３級アミンがトリエチルアミンであれば対応する４級アンモニウム基はトリエチルアンモニウム基である。４級アンモニウム基は、例えば飽和炭化水素基を有するもの（トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルエチルアミン等）；水酸基、エーテル基、アミノ基、および／または不飽和炭素結合を含む炭化水素基を有するもの（ジメチルエタノールアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、ピリジン等）などである。好ましい４級アンモニウム基は、同一または異なって、水酸基、アミノ基またはフェニル基で置換されてもよいＣ１－Ｃ１０アルキル基（好ましくはＣ１－Ｃ６アルキル基、より好ましくはＣ１－Ｃ３アルキル基）を３個有する。一実施形態において、４級アンモニウム基としては、－Ｎ＋(ＣＨ３)３、－Ｎ＋(Ｃ２Ｈ５)３、－Ｎ＋(ＣＨ３)２(ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ)、－Ｎ＋(Ｃ２Ｈ５)２(ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ)、－Ｎ＋(ＣＨ３)２(ＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ３)、－Ｎ＋(ＣＨ３)２(Ｃ(ＣＨ３)２ＣＨ２ＯＨ)が挙げられる。４級アンモニウム基は、－Ｎ＋(Ｃ２Ｈ５)３、－Ｎ＋(ＣＨ３)３がより好ましい。
一般式（１）で示されるシリル基は、原料シランカップリング剤の入手が容易である点、また、立体障害が小さい点で、
－Ｓｉ(Ｘ)２－[(ＣＨ２)３－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ(ＯＨ)－ＣＨ２－Ａ]１または
－Ｓｉ(Ｘ)２－[(ＣＨ２)４－ＣＨ(ＯＨ)－ＣＨ２－Ａ]１が好ましい。
（一般式（２）で示されるシリル基）
一般式（２）
Figure 0007284573000003
 で示されるシリル基において、
Ｘ’は同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合であり；
ｎ’は０、１、または２であり；
Ｌ’は連結基であり；
Ａ’は４級アンモニウム基である。
一般式（２）で示されるシリル基においてＸ’は、同一または異なって、各々、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介した粒子表面の金属原子との結合である。Ｘ’についての説明は上記Ｘについての説明と同じである。
一般式（２）で示されるシリル基においてｎ’は０、１、または２である。ｎ’についての説明は上記ｎについての説明と同じである。
一般式（２）で示されるシリル基においてＬ’は連結基である。Ｌ’についての説明は上記Ｌについての説明と同じである。
一般式（２）で示されるシリル基においてＡ’は４級アンモニウム基である。Ａ’についての説明は上記Ａについての説明と同じである。
一般式（２）で示されるシリル基において以下の部分構造
Figure 0007284573000004
 として好ましいのは、
Figure 0007284573000005
 である（式中、Ａ’は前記と同じ）。
一般式（２）で示されるシリル基は、原料シランカップリング剤の入手が容易である点で、次式で示される基が好ましい（式中、Ｘ’およびＡ’は前記と同じ）。
Figure 0007284573000006
本発明の金属酸化物粒子は、例えば紙、繊維、鉄鋼等の分野で物性改良剤として使用できる他、化学機械研磨（ＣＭＰ）やシリコンウエハ研磨、ガラス研磨において研磨剤として使用できる。本発明の金属粒子は、ハロゲン含有量が低いため、金属を対象とした研磨における砥粒として、好ましく使用できる。
製造方法
一実施形態において、本発明の金属酸化物粒子は、エポキシ環を有するシランカップリング剤と３級アミンで金属酸化物粒子を表面被覆することにより製造することができる。具体的には以下の工程（ａ）および（ｂ）を経て製造することができる。
（ａ）水および／または有機溶媒の存在下あるいは非存在下で、金属酸化物粒子、３級アミン、およびエポキシ環を有するシランカップリング剤を任意の順番で混合する工程、および
（ｂ）工程（ａ）で得られた混合物に酸を混合する工程、
を含む、４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子の製造方法。
なお、本発明の製造方法において製造される４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子は、好ましくは上記本発明の金属酸化物粒子であるが、４級アンモニウム基を表面に有するその他の金属酸化物粒子（好ましくは、上記一般式（１）で示されるシリル基、および上記一般式（２）で示されるシリル基からなる群より選択される少なくとも１種の基で表面修飾された金属酸化物粒子）も包含しうるものである。
（工程（ａ））
工程（ａ）では、水および／または有機溶媒の存在下あるいは非存在下で、金属酸化物粒子、３級アミン、およびエポキシ環を有するシランカップリング剤を任意の順番で混合して混合物を調製する。混合前、混合中、混合後のいずれの段階においても任意に撹拌することができる。撹拌の方法は特に制限されない。
金属酸化物粒子は特に制限されないが、上記金属酸化物粒子にて説明された粒子と同一のものを使用できる。
３級アミンは４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる限り特に制限されないが、上記一般式（１）または（２）における所望の４級アンモニウム基ＡまたはＡ’に対応する３級アミンを使用すればよい。例えば、Ａがトリエチルアンモニウム基であれば、３級アミンとしてトリエチルアミンを使用すればよい。したがって、上記において好ましいＡまたはＡ’として説明された４級アンモニウム基に対応する３級アミン、つまりトリメチルアミン、トリエチルアミン、２－ジメチルアミノエタノール、２－ジエチルアミノエタノール、１－ジメチルアミノ－２－プロパノール、２－ジメチルアミノ－２－メチル－１－プロパノールなどを好ましく使用できる。３級アミンは、トリメチルアミン、トリエチルアミン、２－ジメチルアミノエタノールがより好ましい
３級アミンの使用量は４級アンモニウム基を有するシリル基で粒子の表面被覆が達成される限り特に制限されないが、３級アミンはシランカップリング剤中のエポキシ環と反応するため、当該エポキシ環の量に応じて決定すればよい。３級アミンの使用量は、当該エポキシ環１モルに対し、例えば１モル以上、好ましくは１．２モル以上、更に好ましくは１．５モル以上である。３級アミンの使用量の下限が上記範囲にあると、３級アミンとエポキシ環の接触頻度が増加しやすく、また、シランカップリング剤と粒子との縮合反応が促進されやすい。また、３級アミンの使用量は、当該エポキシ環１モルに対し、例えば５０モル以下、好ましくは３０モル以下である。
工程（ａ）においてシランカップリング剤はエポキシ環を有するものであれば特に制限されないが、エポキシ環を有し、上記一般式（１）または（２）における所望のＬまたはＬ’に対応するシランカップリング剤を使用すればよい。例えば以下の一般式（３）で示されるシランまたは一般式（４）で示されるシランである。
Figure 0007284573000007
 ［式中、
Ｘ’’は同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、または非加水分解性置換基であり、ただし少なくとも１個は加水分解性置換基であり；
ｎ’’は１、２、または３であり；
Ｌ’’は連結基であり；
Ｒ１’’は水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基であり；
Ｒ２’’は同一または異なって、同一または異なって、水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基である。］
Figure 0007284573000008
 ［式中、
Ｘ’’’は同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、または非加水分解性置換基であり、ただし少なくとも１個は加水分解性置換基であり；
ｎ’’’は１、２、または３であり；
Ｌ’’’は連結基である。］
一般式（３）および（４）において、Ｘ’’の少なくとも１個およびＸ’’’の少なくとも１個は加水分解性置換基である。Ｘ’’およびＸ’’’において加水分解性置換基および非加水分解性置換基は、上記一般式（１）で示されるシリル基において説明した加水分解性置換基および非加水分解性置換基と同一でよい。好ましいＸ’’およびＸ’’’は加水分解性置換基であり、例えばアルコキシ基などである。より好ましくは直鎖状または分岐状のＣ１－Ｃ６アルコキシ基、より一層好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、またはｔｅｒｔ－ブトキシ基であり、さらにより一層好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。
一般式（３）および（４）において、ｎ’’およびｎ’’’は１、２、または３であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
一般式（３）および（４）において、Ｌ’’およびＬ’’’は連結基である。連結基は上記一般式（１）で示されるシリル基において説明した連結基と同一でよい。
一般式（３）において、Ｒ１’’は水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基である。Ｒ１’’は上記一般式（１）で示されるシリル基において説明したＲ１と同一でよい。
一般式（３）において、Ｒ２’’は同一または異なって、水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基である。Ｒ２’’は上記一般式（１）で示されるシリル基において説明したＲ２と同一でよい。
一般式（３）で示されるシランは、例えば、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシメチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシメチルトリエトキシシランなどのグリシドキシアルキルトリアルコキシシラン；３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランなどのグリシドキシアルキルジアルコキシアルキルシラン；３－グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルジメチルエトキシシランなどのグリシドキシアルキルアルコキシジアルキルシラン；５，６－エポキシヘキシルトリメトキシシラン、５，６－エポキシヘキシルトリエトキシシランなどのエポキシアルキルトリアルコキシシランであり、入手容易性や立体障害の小ささの観点から好ましくは、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシランである。
一般式（４）で示されるシランは、例えば、（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシランなどのエポキシシクロヘキシルアルキルトリアルコキシシランが挙げられ、入手容易性の観点から好ましくは、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシランである。
エポキシ環を有するシランカップリング剤の使用量は４級アンモニウム基を有するシリル基で粒子の表面被覆が達成される限り特に制限されない。当該使用量は、（シランカップリング剤のモル数）／（粒子表面のシラノール基の総モル数）が、例えば０．１５以上、好ましくは０．３０以上、より好ましくは０．５０以上となる量である。当該使用量がこの範囲にあることにより、中性付近のｐＨにおいて安定なカチオン性粒子が得られるため有利である。また、当該使用量は、（（シランカップリング剤の使用質量（ｇ））×（シランカップリング剤の最小被覆面積（ｍ２／ｇ）））／（粒子の総表面積（ｍ２））による計算値が、例えば１．０以下、好ましくは０．５０以下、より好ましくは０．３０以下となる量である。当該使用量がこの範囲であることにより、シランカップリング剤が粒子と反応せずに反応液中に残存することを抑制できるため有利である。
ここで、粒子表面のシラノール基の総モル数、シランカップリング剤の最小被覆面積、および粒子の総表面積は次の方法で得られる値である。
（粒子表面のシラノール基の総モル数）
粒子表面のシラノール基の総モル数は、Analytical Chemistry，vol.28，No.12，1956年，1982～1983ページに記載された方法に従い、ｐＨ４からｐＨ９までの水酸化ナトリウム消費量から算出する。
（シランカップリング剤の最小被覆面積）
シランカップリング剤の最小被覆面積（ｍ２／ｇ）は、Stuart-brieglebの分子モデル式より算出する。この式は以下のとおりである。
シランカップリング剤の最小被覆面積（m2/g）＝78260／シランカップリング剤の分子量
（粒子の総表面積）
粒子の総表面積は、ＳＥＭ画像において測定される一次粒子の平均直径をＲ（ｎｍ）、金属酸化物粒子の重量をｘ（ｇ）、金属酸化物粒子の真比重をρ（ｇ／ｃｍ３）として、６０００ｘ／Ｒ・ρ（ｍ２）で算出される。
工程（ａ）は、水および／または有機溶媒（以下、単に媒体と称することがある）の存在下あるいは非存在下で実施できる。媒体の存在下で実施すると凝集抑制の点で有利であり、好ましい。媒体を使用する場合、媒体の使用量は表面被覆が行われる限り特に制限されないが、媒体と金属酸化物粒子の合計１００質量部に対して、金属酸化物粒子が例えば１０～６０質量部、好ましくは１０～５０質量部となる量である。媒体の使用量を上記範囲とすることにより、粒子の凝集と粗大粒子の増加を抑制しつつ、シランカップリング剤と粒子との接触頻度が高くでき、反応効率が向上する点で有利である。
媒体としては、水単独または水と有機溶媒との併用が好ましい。水の使用は、シランカップリング剤の反応性が向上するため好ましい。有機溶媒としては、４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる限り特に制限されないが、例えばメタノール、エタノール、２－プロパノール等のアルコールであり、好ましくはメタノール、エタノールである。媒体を使用する場合、水と有機溶媒の合計１００質量部に対して、水が、例えば３０質量部以上、好ましくは４０質量部以上、更に好ましくは５０質量部以上となる量であり、また、水が、例えば１００質量部以下、好ましくは９５質量部以下となる量である。水の使用比率が高いことによって、製造コスト上のメリットがある。なお、媒体を反応系に添加する際、一回で反応系に添加してもよいが、複数回（例えば２回、３回）に分けて添加してもよい。また、水と有機溶媒を併用する場合、水全量および／または有機溶媒全量を一回で反応系に添加してもよいが、複数回（例えば２回、３回）に分けて添加してもよく、複数回に分ける場合は水の一部、有機溶媒の一部を任意の順序で添加できる。例えば粒子を含む水に３級アミンを添加後、シランカップリング剤および有機溶媒を添加し、次の工程でここに酸を添加することができる。
工程（ａ）において、金属酸化物粒子、３級アミン、およびエポキシ環を有するシランカップリング剤を混合する順序は、４級アンモニウム基を有するシリル基で粒子の表面被覆が達成される限り特に制限されない。工程（ａ）において、水および／または有機溶媒を使用する場合は、水および／または有機溶媒、金属酸化物粒子、３級アミン、およびエポキシ環を有するシランカップリング剤を混合する順序も特に制限されない。
粒子の凝集と粗大粒子の増加を抑制しつつ、シランカップリング剤と粒子との接触頻度が高くでき、反応効率が向上する点で、好ましくは、金属酸化物粒子と３級アミンを混合後、シランカップリング剤を添加、混合する。ここで、シランカップリング剤は有機溶媒で希釈され、希釈液として連続的に金属酸化物粒子と３級アミンとの混合物に添加されると、粒子凝集の抑制効果が高くなるため、より好ましい。
別の混合方法としては、水および／または有機溶媒の非存在下、つまり媒体を含まない乾式の状態のまま、金属酸化物粒子の粉体に、シランカップリング剤を混合し、更に３級アミンを混合して混合物を調製することもできる。
また別の混合方法としては、水および／または有機溶媒の非存在下、つまり媒体を含まない乾式の状態のまま、金属酸化物粒子の粉体に、シランカップリング剤を混合した後、未反応のシランカップリング剤を除去して、表面修飾された粒子のみの状態とし、その粒子と３級アミンを、シランカップリング剤の不在の状況で、水および／または有機溶媒の存在下または非存在下、混合して混合物を調製することもできる。
さらに別の混合方法としては、水および／または有機溶媒の非存在下で、３級アミンとシランカップリング剤を予め混合して４級アンモニウム基を有するシランとし、水および／または有機溶媒の非存在下で粒子とこのシランを混合して表面修飾させて混合物を調製すこともできる。
工程（ａ）において、水および／または有機溶媒の存在下で混合する際の、媒体の温度は４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる限り特に制限されないが、例えば０℃～媒体の沸点以下、好ましくは２０℃～８０℃、より好ましくは３０℃～７０℃である。混合および反応時の媒体の温度をこの範囲とすることにより粒子の凝集抑制と反応性向上による反応時間短縮の点で有利である。水および／または有機溶媒の非存在下で混合する際の温度は４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる限り特に制限されない。
工程（ａ）における時間は４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる限り特に制限されないが、金属酸化物粒子、３級アミン、エポキシ環を有するシランカップリング剤、および任意成分である水および／または有機溶媒の全てを混合してから、例えば１分～４８時間、好ましくは１分～２４時間である。
工程（ａ）において、水単独または水および有機溶媒の存在下で混合する際の混合液のｐＨは４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる限り特に制限されないが、例えばｐＨ９以上、好ましくはｐＨ１０以上である。
（工程（ｂ））
工程（ｂ）では、工程（ａ）で得られた混合物に酸を混合し、４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が製造される。酸の混合により反応性が向上するとともに、粒子の凝集と粗大粒子の増加を抑制できる。また、酸混合前、酸混合中、酸混合後のいずれの段階においても任意に撹拌することができ、粒子の凝集抑制と反応性向上の点から撹拌されていることが好ましい。撹拌の方法は特に制限されない。
酸は４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる限り特に制限されないが、例えば硝酸、リン酸、塩酸、硫酸などの無機酸、酢酸、乳酸、メタンスルホン酸、リンゴ酸、クエン酸などの有機酸、好ましくは無機酸、一価の有機酸である。より好ましくは金属腐食性が低く、ハロゲン非含有の酢酸、硝酸である。
酸の使用量は４級アンモニウム基を有するシリル基で粒子の表面被覆が達成される限り特に制限されないが、酸混合後の混合液のｐＨが、例えば０～１０、好ましくは０～８．５、より好ましくは０～８．０となる量である。
工程（ｂ）における酸混合中の混合液の温度は４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる限り特に制限されないが、例えば媒体の沸点以下、好ましくは６０℃以下、より好ましくは４０℃以下であり、また、例えば０℃以上である。
工程（ｂ）における時間は４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる限り特に制限されないが、酸を混合してから、例えば１分～４８時間、好ましくは１分～２４時間である。
工程（ａ）において有機溶媒を使用した場合、工程（ｂ）における酸混合および反応終了後、有機溶媒を系外除去するために、水で有機溶媒を置換してもよい。
工程（ｂ）において生成した４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子は、可能であればそのままコロイド粒子とすることもできるし、公知の手法で分散媒から粒子を分離することもできる。
本発明の製造方法には、金属酸化物粒子を媒体に分散した分散液に３級アミンを混合する工程、および、この工程で得られた分散液にエポキシ環を有するシランカップリング剤を混合する工程を含む、４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子を製造する方法が包含される。
本発明の製造方法によれば、会合比を制御した、４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子が得られる。また、本発明の製造方法では、上記のエポキシ環を有するシランカップリング剤と３級アミンを使用することによって、ハロゲン化物イオンを含有するシランやハロゲン基を有するシランを使用しない系でも、４級アンモニウム基を表面に有する金属酸化物粒子を製造することが可能である。
以下、実施例等を参照して本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
実施例１
［工程Ｉ］：フラスコに、シリカ粒子分散水（シリカＡ；扶桑化学工業社製、表１の物性を有するシリカ粒子、シリカ濃度２０質量％）９０００ｇを入れ、トリエチルアミン１６０．２ｇを添加した。得られた分散液のｐＨは１１．７であった。
［工程ＩＩ］：工程Ｉで得られた分散液を内温５５℃まで加熱した後、内温変動しないように温度調整しつつ、３－グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン１２４．７ｇおよびメタノール４９９．１ｇの混合液を６０分かけて添加した。全量添加後、５５℃で３０分間維持した。
［工程ＩＩＩ］：工程ＩＩで得られた分散液３４５０ｇを別のフラスコに入れ、酢酸３１．３ｇを室温（２０℃）で添加した。得られた混合液のｐＨは６．５であった。
［工程ＩＶ］工程ＩＩＩで得られた混合液からメタノールを系外留去するために、常圧下で加熱し、容量を一定に保ちつつ純水２０００ｍｌを滴下し、メタノールを水に置換し、表面が、４級アンモニウム基を有するシリル基（-Si(X)2-CH2CH2CH2-O-CH2-CH(OH)CH2-N＋(C2H5)3）で変性されたシリカ粒子の分散水を３３２８ｇ（シリカ濃度２０質量％）得た。
各工程でのｐＨは、堀場製作所製のｐＨメータＤ－７４により測定した。
粒子径の測定
工程Ｉ前のシリカ粒子と工程ＩＶ後のシリカ粒子の一次粒子の平均直径（Ｒ；ｎｍ）、動的光散乱による平均粒子径（二次粒子の粒子径）（Ｄ２；ｎｍ）、および会合比（Ｄ２／Ｒ）を下記の方法で測定し、結果を表１に示した。
（一次粒子の平均直径；Ｒ）
ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を用いてコロイダルシリカの一次粒子の直径（Ｒ；ｎｍ）を測定した。具体的には、ＳＥＭで２０万倍のシリカ粒子画像を取得し、画像中の不作為に抽出したシリカ粒子５０個の直径を測定し、その平均値を算出した。
（動的光散乱による平均粒子径；Ｄ２）
動的光散乱法の測定用サンプルとして、コロイダルシリカを０．３重量％クエン酸水溶液に加えて均一化したものを調製した。当該測定用サンプルを用いて、動的光散乱法（大塚電子株式会社製「ＥＬＳＺ－２０００Ｓ」）により平均粒子径（Ｄ２；ｎｍ）を測定した。
また、工程ＩＩで得られたシリカ粒子分散液、および工程ＩＶで得られたアミノ変性シリカ粒子分散水について、残存シラン濃度（ｐｐｍ）、等電点、および真比重（ｇ／ｃｍ３；工程ＩＩで得られたシリカ粒子分散液を除く）を以下の方法で測定し、結果を表２に示した。
（残存シラン濃度）
遠心分離により分散水中のシリカ固形分を沈降させ、この上澄み中に含まれる残存シラン濃度をＩＣＰ発光分析装置で分析した。
（等電点）
等電点は、シリカ固形分濃度が２％となるようにコロイダルシリカ分散液を水で希釈した溶液を、Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ製のＭｏｄｅｌ ＤＴ－１２０２で測定した。
（真比重）
真比重は、１５０℃のホットプレート上で乾固後、３００℃炉内で１時間保持した後、エタノールを用いた液相置換法で測定した。
工程ＩＩで得られたシリカ粒子分散液と工程ＩＶで得られたアミノ変性シリカ粒子とを対比することにより酢酸添加による作用を確認した。
実施例２～５
酢酸を２５．５ｇの６０％硝酸（実施例２）、２９．７ｇの８５％乳酸（実施例３）、１９．９ｇの８５％リン酸（実施例４）に代え、酸添加後のｐＨを５～７とした以外は実施例１と同様にしてアミノ変性シリカの分散水を得た。また、シリカ粒子ＢＳ－２を同重量のLudox CL-Xに、酢酸添加量を６６．０ｇ（実施例５）に代えた以外は実施例１と同様にしてアミノ変性シリカの分散水を得た。得られたシリカ粒子について、実施例１と同様にして平均直径、動的光散乱による平均粒子径（二次粒子の粒子径）、会合比、および粗大粒子数（実施例５のみ）を測定し、結果を表１に示した。なお、粗大粒子数は下記の方法で測定した。
（粗大粒子数；ＬＰＣ）
粗大粒子数（単位：個／ｍＬ）は、スラリー１ｍＬに含まれる、Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｉｚｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製のＡｃｃｕｓｉｚｅｒ７８０を用いて検出される０．５６μｍ以上のサイズの粒子の数とした。
比較例１
２０５ｇ（４５％固形分）のLudox CL-X（登録商標）コロイド状シリカ分散液（Sigma-Aldrichから入手可能）、６５．３ｇの水、および１６３ｇのメタノールを撹拌し、混合した。この混合物に、Ｎ－トリメトキシシリルプロピル－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチルアンモニウムクロリドのメタノール中の５０％溶液（２８．５ｇ）を室温で添加した。この混合物を、６８～７３℃で、２４時間に亘って加熱して、ｐＨ８．４の分散液を得た。得られたシリカ粒子について、実施例１と同様にして平均直径、動的光散乱による平均粒子径（二次粒子の粒子径）、および会合比を測定し、実施例５と同様にして粗大粒子数を測定し、結果を表１に示した。
比較例２（ハロゲン含有シランを用いた表面修飾）
１Ｌフラスコに３２０．７ｇのクロロプロピルトリエトキシシランをとり、撹拌しながら１５４．７ｇのＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミンを急速に添加した。激しく撹拌しながら、１６０．３ｇの水を２分１４秒で注入した。これを６時間加熱還流した。これに、６４．１ｇの水を１分２０秒で注入した。更に１．５時間加熱還流を行い、１６０．１ｇの水を２分１１秒で注入した。
加水分解により生じたエタノールを除去するため、１００～２７０ミリバールの圧力下、４９℃～５４℃の湯浴中で、エバポレーターを使用して留去した。約１７０ｇのエタノール及び水の混合物を留去した後、３２．７ｇの水を迅速に添加した。更に、２２３ｇのエタノール及び水の混合物を留去させ、２２３ｇの水を添加した。これを表面処理剤とした。
５００ｍＬビーカーに１１０．０ｇの水をとり、ホモミキサーＨＭ－３１０を使用して２０００ｒｐｍの強撹拌下で、７．１５ｇのギ酸、および先述の表面処理剤２．００ｇを添加し、混合した。この混合液に１１７．８ｇのＬＵＤＯＸ ＣＬ－Ｘ（シリカ濃度４５質量％）を急速に添加したところ、液が白濁した。５分間２０００ｒｐｍで撹拌したのち、１０分間１２０００ｒｐｍで撹拌した。これを６０℃の湯浴中で加熱しながら、６０分間５０００ｒｐｍで撹拌した。放冷し、３００μｍのふるいでろ過した。得られたシリカ粒子について、実施例１と同様にして平均直径、動的光散乱による平均粒子径（二次粒子の粒子径）、および会合比を測定し、結果を表１に示した。
比較例３（ハロゲン含有アンモニウム塩を用いた表面修飾）
７５０．０ｇのＬＵＤＯＸ ＴＭＡコロイド状シリカ分散液（シリカ濃度３４質量％）を３Ｌのフラスコにとり、９６７．０ｇのエタノールと混合した。この混合液に、室温下で１７２．５ｇの３－アミノプロピルトリメトキシシランを１２６分かけて滴下したところ、白濁した。この混合物を約５０℃で２４時間加熱した。エバポレーターを使用してこの反応液からエタノールを留去させ、３１．９質量％の３－アミノプロピルシラン変性シリカナノ粒子の分散液を得た。
先述の３－アミノプロピルシラン変性シリカナノ粒子の分散液１００．０ｇを３００ｍＬフラスコにとり、分散液を７５℃に加熱した状態で、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピルジメチルドデシルアンモニウム塩化物塩の３９質量％水溶液１９．８ｇを４時間かけて添加した。これを撹拌しながら４時間７５℃に維持した。室温まで放冷した後、５１．０ｇの水を添加して、変性シリカナノ粒子の分散液を得た。得られたシリカ粒子について、実施例１と同様にして平均直径、動的光散乱による平均粒子径（二次粒子の粒子径）、および会合比を測定し、結果を表１に示した。
Figure 0007284573000009
Figure 0007284573000010
実施例１～５では、粒子の凝集はなかった。また、実施例にて示されたように、ハロゲンを含有する化合物を使用することなく、４級アンモニウム基を表面に有するシリカ粒子を製造できた。さらに、表１からは、実施例１～５では、比較例１と比較して、アミノ変性による、Ｄ２および会合比の増加が小さいこと、また、実施例５では、比較例１と比較して、粗大粒子数を低く維持できたことがわかる。
表２に示された、工程ＩＩのシリカ粒子分散液と工程ＩＶのアミノ変性シリカ分散水について、残存シラン濃度および等電点における対比から、酢酸を添加することよって、残存シラン濃度が低下したこと、シリカ粒子が表面処理されて４級アンモニウム基が粒子表面に結合し等電点が高ｐＨ側に移行したことがわかる。
比較例１の製造方法では４級アンモニウム基を有するシランカップリング剤を使用して４級アンモニウム基を表面に有するシリカ粒子が得られているものの、このカップリング剤は金属腐食性を有するハロゲン化物イオン（Ｃｌ－）を含有していた。また、比較例１では動的光散乱による平均粒子径が３４ｎｍから１３６ｎｍと大きく増加したことから凝集が確認され、また粗大粒子数も実施例５との対比から大きく増加したことがわかる。更に、比較例２および３においても、表面修飾の前後で動的光散乱による平均粒子径と会合比が大きく増加した。

Claims (7)

  1. 会合比（動的光散乱により測定される平均粒子径／ＳＥＭ画像において測定される一次粒子の平均直径）が５．０以下であり、
    一般式（１）
    －Ｓｉ(Ｘ)ｎ－[Ｌ－ＣＲ１(ＯＨ)－Ｃ(Ｒ２)２－Ａ]３－ｎ （１）［式中、
    Ｘは同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介したシリカ粒子表面のＳｉ原子との結合であり；
    ｎは０、１、または２であり；
    Ｌは連結基であり；
    Ｒ１は水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基であり；
    Ｒ２は同一または異なって、水素原子、あるいは、アミノ基、水酸基、または不飽和結合を含んでもよいアルキル基であり；
    Ａは４級アンモニウム基である。］
    で示されるシリル基、および
    一般式（２）
    Figure 0007284573000011
     ［式中、
    Ｘ’は同一または異なって、水酸基、加水分解性置換基、非加水分解性置換基、－Ｏ－を介した他のシリル基のＳｉとの結合、または－Ｏ－を介したシリカ粒子表面のＳｉ原子との結合であり；
    ｎ’は０、１、または２であり；
    Ｌ’は連結基であり；
    Ａ’は４級アンモニウム基である。］
    で示されるシリル基
    からなる群より選択される少なくとも１種の基で表面修飾されたシリカ粒子。
  2. 粉末乾燥状態の真比重が１．６０以上である請求項１に記載のシリカ粒子。
  3. 前記会合比が１．５～５．０である請求項１又は２に記載のシリカ粒子。
  4. 前記一次粒子の平均直径が１２０ｎｍ以下である請求項１～３のいずれかに記載のシリカ粒子。
  5. ハロゲン含有量がシリカ粒子１ｇ当たり１０μｍｏｌ／ｍＬ・ｇ以下である請求項１～４のいずれかに記載のシリカ粒子。
  6. （ａ）水および／または有機溶媒の存在下で、シリカ粒子、３級アミン、およびエポキシ環を有するシランカップリング剤を任意の順番で混合する工程、および
    （ｂ）工程（ａ）で得られた混合物に酸を混合してｐＨを０～８．０の範囲内に調整する工程、
    を含む、会合比（動的光散乱により測定される平均粒子径／ＳＥＭ画像において測定される一次粒子の平均直径）が１．０以上５．０以下であり、４級アンモニウム基を表面に有するシリカ粒子の製造方法。
  7. 酸が、無機酸および一価の有機酸からなる群より選択される少なくとも１種である請求項６に記載の製造方法。
JP2018227155A 2018-12-04 2018-12-04 ４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子およびその製造方法 Active JP7284573B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018227155A JP7284573B2 (ja) 2018-12-04 2018-12-04 ４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子およびその製造方法
US17/294,470 US12358799B2 (en) 2018-12-04 2019-11-28 Metal oxide particles surface modified with quaternary ammonium group, and method for producing same
CN201980080650.2A CN113165887B (zh) 2018-12-04 2019-11-28 用季铵基团表面改性的金属氧化物颗粒和其制造方法
PCT/JP2019/046550 WO2020116307A1 (ja) 2018-12-04 2019-11-28 ４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子およびその製造方法
KR1020217020404A KR102831281B1 (ko) 2018-12-04 2019-11-28 4급 암모늄기로 표면 수식된 금속 산화물 입자 및 그의 제조 방법
TW108144035A TWI829819B (zh) 2018-12-04 2019-12-03 以4級銨基表面修飾之金屬氧化物粒子及其製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018227155A JP7284573B2 (ja) 2018-12-04 2018-12-04 ４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020090406A JP2020090406A (ja) 2020-06-11
JP7284573B2 true JP7284573B2 (ja) 2023-05-31

Family

ID=70973756

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018227155A Active JP7284573B2 (ja) 2018-12-04 2018-12-04 ４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子およびその製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US12358799B2 (ja)
JP (1) JP7284573B2 (ja)
KR (1) KR102831281B1 (ja)
CN (1) CN113165887B (ja)
TW (1) TWI829819B (ja)
WO (1) WO2020116307A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12162769B2 (en) * 2021-03-25 2024-12-10 Fujifilm Business Innovation Corp. Silica particles and manufacturing method thereof
JP7786098B2 (ja) * 2021-03-25 2025-12-16 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 シリカ粒子及びその製造方法
US20220348790A1 (en) * 2021-04-22 2022-11-03 Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. Chemical mechanical polishing composition and method
US20220356065A1 (en) * 2021-04-22 2022-11-10 Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. Surface modified silanized colloidal silica particles
US20220348789A1 (en) * 2021-04-22 2022-11-03 Rohm and Haas Electronics Materials CMP Holdings, Inc. Surface modified silanized colloidal silica particles

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001311018A (ja) 2000-02-24 2001-11-09 Mitsubishi Materials Corp シリカ粉末及びその製造方法
JP2013018690A (ja) 2011-07-14 2013-01-31 Tokuyama Corp 無機酸化物粉体
JP2014513660A (ja) 2011-03-14 2014-06-05 アクゾ ノーベル ケミカルズ インターナショナル ベスローテン フエンノートシャップ 改質シリカ粒子
JP2016011224A (ja) 2014-06-27 2016-01-21 日揮触媒化成株式会社 疎水性シリカ系粉末、それを含むゴム成型用組成物およびその製造方法
JP2018044116A (ja) 2016-09-16 2018-03-22 ナミックス株式会社 シリカフィラーの表面処理方法、それにより得られたシリカフィラー、および、該シリカフィラーを含有する樹脂組成物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1147868A (zh) 1995-03-13 1997-04-16 互応化学工业株式会社 感光性树脂组合物及其用于涂膜、抗蚀印色、抗蚀保护膜、焊料抗蚀保护膜和印刷电路基片
JP4612788B2 (ja) * 2002-05-21 2011-01-12 キヤノン株式会社 水不溶性色材を含む粒子の分散体及びその製造方法
JP4577755B2 (ja) 2003-12-02 2010-11-10 扶桑化学工業株式会社 変性コロイダルシリカの製造方法
DE112007003366B4 (de) * 2007-02-21 2011-06-22 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Kautschukzusammensetzung
KR20100119873A (ko) 2008-02-21 2010-11-11 바스프 에스이 양이온성 나노입자의 제조 및 상기 나노입자를 포함하는 개인 케어 조성물
DE102008052678A1 (de) * 2008-10-22 2010-04-29 Henkel Ag & Co. Kgaa Polyoxyalkylenmonoamin modifizierte mehrschichtige Nanopartikel
EP2389417B1 (en) 2009-01-20 2017-03-15 Cabot Corporation Compositons comprising silane modified metal oxides
DE102009002499A1 (de) 2009-04-20 2010-10-21 Evonik Degussa Gmbh Dispersion enthaltend mit quartären, aminofunktionellen siliciumorganischen Verbindungen oberflächenmodifizierte Siliciumdioxidpartikel
JP6323861B2 (ja) * 2013-09-04 2018-05-16 リコーイメージング株式会社 表面修飾メソポーラスシリカナノ粒子の製造方法
US20180224438A1 (en) * 2015-08-10 2018-08-09 Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona Stabilized vesicle-functionalized microparticles for chemical separations and rapid formation of polymer frits in silica capillaries using spatially-defined thermal polymerization
US20180334551A1 (en) * 2015-11-20 2018-11-22 King Abdullah University Of Science And Technology Surface functionalized hollow silica particles and composites

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001311018A (ja) 2000-02-24 2001-11-09 Mitsubishi Materials Corp シリカ粉末及びその製造方法
JP2014513660A (ja) 2011-03-14 2014-06-05 アクゾ ノーベル ケミカルズ インターナショナル ベスローテン フエンノートシャップ 改質シリカ粒子
JP2013018690A (ja) 2011-07-14 2013-01-31 Tokuyama Corp 無機酸化物粉体
JP2016011224A (ja) 2014-06-27 2016-01-21 日揮触媒化成株式会社 疎水性シリカ系粉末、それを含むゴム成型用組成物およびその製造方法
JP2018044116A (ja) 2016-09-16 2018-03-22 ナミックス株式会社 シリカフィラーの表面処理方法、それにより得られたシリカフィラー、および、該シリカフィラーを含有する樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
TWI829819B (zh) 2024-01-21
US12358799B2 (en) 2025-07-15
CN113165887A (zh) 2021-07-23
JP2020090406A (ja) 2020-06-11
KR102831281B1 (ko) 2025-07-08
US20220009784A1 (en) 2022-01-13
TW202031802A (zh) 2020-09-01
KR20210097174A (ko) 2021-08-06
WO2020116307A1 (ja) 2020-06-11
CN113165887B (zh) 2024-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7284573B2 (ja) ４級アンモニウム基で表面修飾された金属酸化物粒子およびその製造方法
JP4577755B2 (ja) 変性コロイダルシリカの製造方法
US20250270097A1 (en) Colloidal silica and production method therefor
JP5773985B2 (ja) 第４級アミノ官能性有機ケイ素化合物を含有する組成物及びその製造及びその使用
JP5635129B2 (ja) オリゴマーのシロキサノールで官能化された金属酸化物の組成物およびその使用
US10723628B2 (en) SiO2 containing dispersion with high salt stability
JP2010503693A (ja) ナノ粒子の表面修飾のための方法
JP6962296B2 (ja) 正帯電型疎水性球状シリカ粒子、その製造方法及びそれを用いた正帯電トナー組成物
JP6284443B2 (ja) コアシェル型シリカ粒子を含有するコロイダルシリカの製造方法
CN111801369B (zh) 一种在加热时无刺激性气味的聚硅氧烷粉体及其制备方法
JP7007982B2 (ja) コロイダルシリカ
JP2013075822A (ja) 表面処理シリカ系粒子の製造方法
US20190127587A1 (en) SO2 Containing Dispersion With High Salt Stability
US9212193B2 (en) Amine-accelerated process for the surface treatment of colloidal silica and products thereof
JP7618362B2 (ja) 水分散表面処理コロイダルシリカの製造方法
JP7061000B2 (ja) シリカ粒子又はその分散体の製造方法
JP7170944B1 (ja) コロイダルシリカおよびその製造方法
JP2012207112A (ja) 表面コート用組成物
JP7735758B2 (ja) シリカ粒子
JP7612998B2 (ja) シリカ複合粒子
JP6064338B2 (ja) 酸化チタンの非極性有機溶媒分散液の製造方法
CN115124046A (zh) 二氧化硅粒子
WO2024242096A1 (ja) コロイダルシリカ及びその製造方法
JP2025177849A (ja) 第四級アンモニウム修飾シリカ分散液及び第四級アンモニウム修飾シリカ分散液の製造方法
WO2024242097A1 (ja) コロイダルシリカ及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211028

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221129

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230123

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230509

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230519

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7284573

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250