JP7301497B2 - 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクが割り付けられた中間製品及び蒸着マスク - Google Patents

Description

本発明は、蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法に関する。また、本発明は、蒸着マスクを作製するための中間製品に関する。

近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置に対して、高精細であること、例えば画素密度が４００ｐｐｉ以上であることが求められている。また、持ち運び可能なデバイスにおいても、ウルトラフルハイビジョンに対応することへの需要が高まっており、この場合、表示装置の画素密度が例えば８００ｐｐｉ以上であることが求められる。

表示装置の中でも、応答性の良さ、消費電力の低さやコントラストの高さのため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として、所望のパターンで配列された貫通孔が形成された蒸着マスクを用い、所望のパターンで画素を形成する方法が知られている。具体的には、はじめに、有機ＥＬ表示装置用の基板に対して蒸着マスクを密着させ、次に、密着させた蒸着マスクおよび基板を共に蒸着装置に投入し、有機材料を基板に蒸着させる蒸着工程を行う。これによって、蒸着マスクの貫通孔のパターンに対応したパターンで、基板上に、有機材料を含む画素を形成することができる。

蒸着工程において、蒸着マスクは、所定の剛性を有するフレームに固定されている。例えば、蒸着マスクが一対の長辺及び一対の短辺を有する場合、蒸着マスクは、長辺の方向に引っ張られた状態でフレームに固定される。これによって、蒸着マスクが撓むことを抑制し、画素の寸法精度や位置精度を高めることができる。

蒸着マスクの製造方法としては、例えば特許文献１に開示されているように、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングによって金属板に貫通孔を形成する方法が知られている。例えば、はじめに、金属板の第１面上に露光・現像処理によって第１レジストパターンを形成し、また金属板の第２面上に露光・現像処理によって第２レジストパターンを形成する。次に、金属板の第１面のうち第１レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングして、金属板の第１面に第１開口部を形成する。その後、金属板の第２面のうち第２レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングして、金属板の第２面に第２開口部を形成する。この際、第１開口部と第２開口部とが通じ合うようにエッチングを行うことにより、金属板を貫通する貫通孔を形成することができる。

蒸着マスクを効率的に製造する方法として、まず、複数の蒸着マスクに相当する面積を有する金属板を準備し、次に、複数の蒸着マスクに形成されるべき多数の貫通孔を金属板に形成し、その後、金属板から個々の蒸着マスクを抜き出す、という方法が知られている。例えば特許文献１においては、破断線に沿って金属板を切断することによって、金属板から蒸着マスクを抜き出している。特許文献１において、破断線は、蒸着マスクの長辺及び短辺に対応するパターンで金属板に形成されたミシン目である。

特開２０１５－５５００７号公報

ミシン目を破断させるとき、蒸着マスクが金属板から引っ張られ、これによって金属板が変形してしまうことが考えられる。例えば、蒸着マスクの長辺に波打ち形状などの変形が現れ得る。この結果、蒸着マスクの長辺の近傍に位置する貫通孔を通って基板に付着する蒸着材料の寸法精度や位置精度が低下してしまう。

本発明は、このような課題を効果的に解決し得る蒸着マスクの製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスクの製造方法であって、金属板を準備する工程と、前記金属板を、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された複数の蒸着マスク部分と、前記複数の蒸着マスク部分を囲むとともに前記複数の蒸着マスク部分の前記短辺に部分的に接続されている支持部分と、を備える中間製品に加工する加工工程と、前記蒸着マスク部分を前記支持部分から分離して前記蒸着マスクを得る分離工程と、を備え、前記中間製品において、前記蒸着マスク部分の前記長辺は、前記支持部分に接続されていない、蒸着マスクの製造方法である。

本発明は、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスクの製造方法であって、金属板を準備する工程と、前記金属板を、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された複数の蒸着マスク部分と、前記複数の蒸着マスク部分を囲むとともに前記複数の蒸着マスク部分に部分的に接続されている支持部分と、を備える中間製品に加工する加工工程と、前記蒸着マスク部分を前記支持部分から分離して前記蒸着マスクを得る分離工程と、を備え、前記中間製品において、前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率が、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率よりも小さい、蒸着マスクの製造方法である。
前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記長辺のうち前記支持部分に接続されている部分の幅の総和を前記長辺の長さで割ることにより算出され、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記短辺のうち前記支持部分に接続されている部分の幅の総和を前記短辺の長さで割ることにより算出されてもよい。
若しくは、前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記長辺のうち前記支持部分に接続されている部分の個数を前記長辺の長さで割ることにより算出され、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記短辺のうち前記支持部分に接続されている部分の個数を前記短辺の長さで割ることにより算出されてもよい。

本発明による蒸着マスクの製造方法において、好ましくは、前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち、前記中間製品の幅方向に沿って前記長辺を見た場合に前記貫通孔と重なる領域は、前記支持部分に接続されていない。より好ましくは、前記蒸着マスク部分の前記長辺の全域が前記支持部分に接続されていない。

本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記中間製品において、前記蒸着マスク部分の前記短辺は、前記支持部分に向かって突出し、且つ前記支持部分に接続されている複数の凸部を含んでいてもよい。

本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記中間製品において、前記複数の蒸着マスク部分は、前記長辺に交差する方向に並んでおり、隣り合う２つの前記蒸着マスク部分の前記長辺の間には、前記支持部分が存在しなくてもよい。

本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記加工工程は、前記金属板をエッチングして、前記貫通孔、及び、前記蒸着マスク部分の前記長辺と前記支持部分との間の隙間を形成する工程を含んでいてもよい。

本発明による蒸着マスクの製造方法の前記加工工程において、前記蒸着マスク部分の前記長辺の方向に沿って前記金属板を搬送しながら前記金属板を加工してもよい。

本発明による蒸着マスクの製造方法の前記分離工程において、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所を破断させることによって、前記蒸着マスク部分を前記支持部分から分離してもよい。

本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記金属板の厚みが、５０μｍ以下であってもよい。

本発明は、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスクが割り付けられた、金属製の板状の中間製品であって、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスク部分と、前記蒸着マスク部分を囲むとともに前記蒸着マスク部分の前記短辺に部分的に接続されている支持部分と、を備え、前記蒸着マスク部分の前記長辺は、前記支持部分に接続されていない、中間製品である。

本発明は、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスクが割り付けられた、金属製の板状の中間製品であって、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスク部分と、前記蒸着マスク部分を囲むとともに前記蒸着マスク部分に部分的に接続されている支持部分と、を備え、前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率が、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率よりも小さい、中間製品である。
前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記長辺のうち前記支持部分に接続されている部分の幅の総和を前記長辺の長さで割ることにより算出され、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記短辺のうち前記支持部分に接続されている部分の幅の総和を前記短辺の長さで割ることにより算出されてもよい。
若しくは、前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記長辺のうち前記支持部分に接続されている部分の個数を前記長辺の長さで割ることにより算出され、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記短辺のうち前記支持部分に接続されている部分の個数を前記短辺の長さで割ることにより算出されてもよい。

本発明による中間製品において、好ましくは、前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち、前記中間製品の幅方向に沿って前記長辺を見た場合に前記貫通孔と重なる領域は、前記支持部分に接続されていない。より好ましくは、前記蒸着マスク部分の前記長辺の全域が前記支持部分に接続されていない。

本発明による中間製品において、前記蒸着マスク部分の前記短辺は、前記支持部分に向かって突出し、且つ前記支持部分に接続されている複数の凸部を含んでいてもよい。

本発明による中間製品において、前記蒸着マスク部分及び前記支持部分の厚みが、５０μｍ以下であってもよい。

本発明による中間製品において、前記複数の蒸着マスク部分は、前記長辺に交差する方向に並んでおり、隣り合う２つの前記蒸着マスク部分の前記長辺の間には、前記支持部分が存在しなくてもよい。

本発明は、蒸着マスクであって、一対の長辺及び一対の短辺を含む、金属製の板状の基材と、前記基材に形成された複数の貫通孔と、を備え、前記基材の前記短辺には部分的に破断面が存在し、一方、前記基材の前記長辺には破断面が存在しない、蒸着マスクである。

本発明は、蒸着マスクであって、一対の長辺及び一対の短辺を含む、金属製の板状の基材と、前記基材に形成された複数の貫通孔と、を備え、前記基材の前記長辺における破断面の比率が、前記基材の前記短辺における破断面の比率よりも小さい、蒸着マスクである。
前記基材の前記長辺における破断面の比率は、前記長辺に存在する前記破断面の幅の総和を前記長辺の長さで割ることにより算出され、前記基材の前記短辺における破断面の比率は、前記短辺に存在する前記破断面の幅の総和を前記短辺の長さで割ることにより算出されてもよい。
若しくは、前記基材の前記長辺における破断面の比率は、前記長辺に存在する前記破断面の個数を前記長辺の長さで割ることにより算出され、前記基材の前記短辺における破断面の比率は、前記短辺に存在する前記破断面の個数を前記短辺の長さで割ることにより算出されてもよい。

本発明による蒸着マスクにおいて、好ましくは、前記破断面は、前記蒸着マスクの幅方向に沿って前記長辺を見た場合に前記貫通孔と重なる領域には存在しない。より好ましくは、前記基材の前記長辺には全域にわたって破断面が存在しない。

本発明による蒸着マスクにおいて、前記基材の前記短辺は、外方に突出するとともに前記破断面を有する複数の凸部を含んでいてもよい。

本発明による蒸着マスクにおいて、前記基材の前記長辺から前記貫通孔までの、前記基材の面方向における最短距離が、５０μｍ以下であってもよい。

本発明による蒸着マスクにおいて、前記基材は、前記貫通孔を通った蒸着材料が付着する基板に対面する第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、を有し、前記基材の前記長辺は、前記第１面と交わる部分において最も外側に突出した断面形状を有していてもよい。

本発明による蒸着マスクにおいて、前記基材の厚みが、５０μｍ以下であってもよい。

本発明によれば、長辺の変形が抑制された蒸着マスクを製造することができる。

本発明の一実施形態による蒸着マスク装置を備えた蒸着装置を示す図である。 図１に示す蒸着マスク装置を用いて製造した有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。 本発明の一実施形態による蒸着マスク装置を示す平面図である。 図３に示された蒸着マスクの有効領域を示す部分平面図である。 図４のV－V線に沿った断面図である。 図４のVI－VI線に沿った断面図である。 図４のVII－VII線に沿った断面図である。 図５に示す貫通孔およびその近傍の領域を拡大して示す断面図である。 蒸着マスクの製造方法の一例を全体的に説明するための模式図である。 金属板上にレジスト膜を形成する工程を示す図である。 レジスト膜に露光マスクを密着させる工程を示す図である。 レジスト膜を現像する工程を示す図である。 第１面エッチング工程を示す図である。 第１凹部を樹脂によって被覆する工程を示す図である。 第２面エッチング工程を示す図である。 図１５に続く第２面エッチング工程を示す図である。 金属板から樹脂及びレジストパターンを除去する工程を示す図である。 金属板を加工することによって得られた中間製品を示す平面図である。 図１８の中間製品のうち符号XIXが付された点線で囲われた領域を拡大して示す図である。 蒸着マスク部分を支持部分から分離する工程を示す図である。 中間製品から得られた蒸着マスクを拡大して示す平面図である。 図２１の蒸着マスクの短辺を矢印XXIIの方向から見た場合を示す側面図である。 図２１の蒸着マスクのうち符号XXIIIが付された点線で囲われた領域を第１面側から観察した結果を示す図である。 図２１の蒸着マスクのうち符号XXIIIが付された点線で囲われた領域を第２面側から観察した結果を示す図である。 図２１の蒸着マスクのうち符号XXIVが付された点線で囲われた領域を第１面側から観察した結果を示す図である。 図２１の蒸着マスクのうち符号XXIVが付された点線で囲われた領域を第２面側から観察した結果を示す図である。 図２１の蒸着マスクのうち符号XXIIIが付された点線で囲われた領域を模式的に示す断面図である。 蒸着マスクの長辺の断面形状の一変形例を示す図である。 図２５Ａに示す断面形状を有する長辺を備えた蒸着マスクが有機ＥＬ基板に対面している様子を示す図である。 図２５Ｂに示す断面形状を有する長辺を備えた蒸着マスクが有機ＥＬ基板に対面している様子を示す図である。 図２１の蒸着マスクのうち符号XXIVが付された点線で囲われた領域を模式的に示す断面図である。 中間製品の一変形例を示す平面図である。

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

図１～図２２は、本発明の一実施の形態を説明するための図である。以下の実施の形態およびその変形例では、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられる蒸着マスクの製造方法を例にあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスクに対し、本発明を適用することができる。

なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「板」はシートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。

また、「板面（シート面、フィルム面）」とは、対象となる板状（シート状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となる板状部材（シート状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。また、板状（シート状、フィルム状）の部材に対して用いる法線方向とは、当該部材の板面（シート面、フィルム面）に対する法線方向のことを指す。

さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件および物理的特性並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」、「同等」等の用語や長さや角度並びに物理的特性の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

（蒸着装置）
まず、対象物に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する蒸着装置９０について、図１を参照して説明する。図１に示すように、蒸着装置９０は、その内部に、蒸着源（例えばるつぼ９４）、ヒータ９６、及び蒸着マスク装置１０を備える。また、蒸着装置９０は、蒸着装置９０の内部を真空雰囲気にするための排気手段を更に備える。るつぼ９４は、有機発光材料などの蒸着材料９８を収容する。ヒータ９６は、るつぼ９４を加熱して、真空雰囲気の下で蒸着材料９８を蒸発させる。蒸着マスク装置１０は、るつぼ９４と対向するよう配置されている。

（蒸着マスク装置）
以下、蒸着マスク装置１０について説明する。図１に示すように、蒸着マスク装置１０は、蒸着マスク２０と、蒸着マスク２０を支持するフレーム１５と、を備える。フレーム１５は、蒸着マスク２０が撓んでしまうことがないように、蒸着マスク２０をその面方向に引っ張った状態で支持する。蒸着マスク装置１０は、図１に示すように、蒸着マスク２０が、蒸着材料９８を付着させる対象物である基板、例えば有機ＥＬ基板９２に対面するよう、蒸着装置９０内に配置される。以下の説明において、蒸着マスク２０の面のうち、有機ＥＬ基板９２側の面を第１面２０ａと称し、第１面２０ａの反対側に位置する面を第２面２０ｂと称する。

蒸着マスク装置１０は、図１に示すように、有機ＥＬ基板９２の、蒸着マスク２０と反対の側の面に配置された磁石９３を備えていてもよい。磁石９３を設けることにより、磁力によって蒸着マスク２０を磁石９３側に引き寄せて、蒸着マスク２０を有機ＥＬ基板９２に密着させることができる。

図３は、蒸着マスク装置１０を蒸着マスク２０の第１面２０ａ側から見た場合を示す平面図である。図３に示すように、蒸着マスク装置１０は、複数の蒸着マスク２０を備える。各蒸着マスク２０は、一対の長辺２６及び一対の短辺２７を含んでおり、例えば矩形状の形状を有している。各蒸着マスク２０は、一対の短辺２７又はその近傍の部分において、例えばスポット溶接によってフレーム１５に固定されている。

蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０を貫通する複数の貫通孔２５が形成された、金属製の板状の基材を含む。るつぼ９４から蒸発して蒸着マスク装置１０に到達した蒸着材料９８は、蒸着マスク２０の貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に付着する。これによって、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２の表面に成膜することができる。

図２は、図１の蒸着装置９０を用いて製造した有機ＥＬ表示装置１００を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置１００は、有機ＥＬ基板９２と、パターン状に設けられた蒸着材料９８を含む画素と、を備える。

なお、複数の色によるカラー表示を行いたい場合には、各色に対応する蒸着マスク２０が搭載された蒸着装置９０をそれぞれ準備し、有機ＥＬ基板９２を各蒸着装置９０に順に投入する。これによって、例えば、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料および青色用の有機発光材料を順に有機ＥＬ基板９２に蒸着させることができる。

ところで、蒸着処理は、高温雰囲気となる蒸着装置９０の内部で実施される場合がある。この場合、蒸着処理の間、蒸着装置９０の内部に保持される蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２も加熱される。この際、蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２は、各々の熱膨張係数に基づいた寸法変化の挙動を示すことになる。この場合、蒸着マスク２０やフレーム１５と有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数が大きく異なっていると、それらの寸法変化の差異に起因した位置ずれが生じ、この結果、有機ＥＬ基板９２上に付着する蒸着材料の寸法精度や位置精度が低下してしまう。

このような課題を解決するため、蒸着マスク２０およびフレーム１５の熱膨張係数が、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値であることが好ましい。例えば、有機ＥＬ基板９２としてガラス基板が用いられる場合、蒸着マスク２０およびフレーム１５の主要な材料として、ニッケルを含む鉄合金を用いることができる。例えば、蒸着マスク２０を構成する基材の材料として、３０質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む鉄合金を用いることができる。ニッケルを含む鉄合金の具体例としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材、３８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む低熱膨張Ｆｅ－Ｎｉ系めっき合金などを挙げることができる。

なお蒸着処理の際に、蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２の温度が高温には達しない場合は、蒸着マスク２０およびフレーム１５の熱膨張係数を、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値にする必要は特にない。この場合、蒸着マスク２０を構成する材料として、上述の鉄合金以外の材料を用いてもよい。例えば、クロムを含む鉄合金など、上述のニッケルを含む鉄合金以外の鉄合金を用いてもよい。クロムを含む鉄合金としては、例えば、いわゆるステンレスと称される鉄合金を用いることができる。また、ニッケルやニッケル－コバルト合金など、鉄合金以外の合金を用いてもよい。

（蒸着マスク）
次に、蒸着マスク２０について詳細に説明する。図３に示すように、蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０の一対の短辺２７を含む一対の耳部（第１耳部１７ａ及び第２耳部１７ｂ）と、一対の耳部１７ａ，１７ｂの間に位置する中間部１８と、を備えている。

（耳部）
まず、耳部１７ａ，１７ｂについて詳細に説明する。耳部１７ａ，１７ｂは、蒸着マスク２０のうちフレーム１５に固定される部分である。本実施の形態において、耳部１７ａ，１７ｂは、中間部１８と一体的に構成されている。なお、耳部１７ａ，１７ｂは、中間部１８とは別の部材によって構成されていてもよい。この場合、耳部１７ａ，１７ｂは、例えば溶接によって中間部１８に接合される。

（中間部）
次に、中間部１８について説明する。中間部１８は、第１面２０ａから第２面２０ｂに至る貫通孔２５が形成された、少なくとも１つの有効領域２２と、有効領域２２を取り囲む周囲領域２３と、を含む。有効領域２２は、蒸着マスク２０のうち、有機ＥＬ基板９２の表示領域に対面する領域である。

図３に示す例において、中間部１８は、蒸着マスク２０の長辺２６に沿って所定の間隔を空けて配列された複数の有効領域２２を含む。一つの有効領域２２は、一つの有機ＥＬ表示装置１００の表示領域に対応する。このため、図１に示す蒸着マスク装置１０によれば、有機ＥＬ表示装置１００の多面付蒸着が可能である。

図３に示すように、有効領域２２は、例えば、平面視において略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有する。なお図示はしないが、各有効領域２２は、有機ＥＬ基板９２の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有することができる。例えば各有効領域２２は、円形状の輪郭を有していてもよい。

以下、有効領域２２について詳細に説明する。図４は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂ側から有効領域２２を拡大して示す平面図である。図４に示すように、図示された例において、各有効領域２２に形成された複数の貫通孔２５は、当該有効領域２２において、互いに直交する二方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで配列されている。貫通孔２５の一例について、図５～図７を主に参照して更に詳述する。図５～図７はそれぞれ、図４の有効領域２２のV－V方向～VII－VII方向に沿った断面図である。

図５～図７に示すように、複数の貫通孔２５は、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った一方の側となる第１面２０ａから、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った他方の側となる第２面２０ｂへ貫通している。図示された例では、後に詳述するように、蒸着マスク２０の法線方向Ｎにおける一方の側となる基材２１の第１面２１ａに第１凹部３０がエッチングによって形成され、蒸着マスク２０の法線方向Ｎにおける他方の側となる基材２１の第２面２１ｂに第２凹部３５が形成される。第１凹部３０は、第２凹部３５に接続され、これによって第２凹部３５と第１凹部３０とが互いに通じ合うように形成される。貫通孔２５は、第２凹部３５と、第２凹部３５に接続された第１凹部３０とによって構成されている。

図５～図７に示すように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側から第１面２０ａの側へ向けて、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第２凹部３５の開口面積は、しだいに小さくなっていく。同様に、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第１凹部３０の開口面積は、蒸着マスク２０の第１面２０ａの側から第２面２０ｂの側へ向けて、しだいに小さくなっていく。

図５～図７に示すように、第１凹部３０の壁面３１と、第２凹部３５の壁面３６とは、周状の接続部４１を介して接続されている。接続部４１は、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに対して傾斜した第１凹部３０の壁面３１と、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに対して傾斜した第２凹部３５の壁面３６とが合流する張り出し部の稜線によって、画成されている。そして、接続部４１は、蒸着マスク２０の平面視において貫通孔２５の開口面積が最小になる貫通部４２を画成する。

図５～図７に示すように、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った他方の側の面、すなわち、蒸着マスク２０の第１面２０ａ上において、隣り合う二つの貫通孔２５は、蒸着マスク２０の板面に沿って互いから離間している。すなわち、後述する製造方法のように、蒸着マスク２０の第１面２０ａに対応するようになる基材２１の第１面２１ａ側から当該基材２１をエッチングして第１凹部３０を作製する場合、隣り合う二つの第１凹部３０の間に基材２１の第１面２１ａが残存するようになる。

同様に、図５及び図７に示すように、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った一方の側、すなわち、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側においても、隣り合う二つの第２凹部３５が、蒸着マスク２０の板面に沿って互いから離間していてもよい。すなわち、隣り合う二つの第２凹部３５の間に基材２１の第２面２１ｂが残存していてもよい。以下の説明において、基材２１の第２面２１ｂの有効領域２２のうちエッチングされずに残っている部分のことを、トップ部４３とも称する。このようなトップ部４３が残るように蒸着マスク２０を作製することにより、蒸着マスク２０に十分な強度を持たせることができる。このことにより、例えば搬送中などに蒸着マスク２０が破損してしまうことを抑制することができる。なおトップ部４３の幅βが大きすぎると、蒸着工程においてシャドーが発生し、これによって蒸着材料９８の利用効率が低下することがある。従って、トップ部４３の幅βが過剰に大きくならないように蒸着マスク２０が作製されることが好ましい。例えば、トップ部４３の幅βが２μｍ以下であることが好ましい。なおトップ部４３の幅βは一般に、蒸着マスク２０を切断する方向に応じて変化する。例えば、図５及び図７に示すトップ部４３の幅βは互いに異なることがある。この場合、いずれの方向で蒸着マスク２０を切断した場合にもトップ部４３の幅βが２μｍ以下になるよう、蒸着マスク２０が構成されていてもよい。

なお図６に示すように、場所によっては隣り合う二つの第２凹部３５が接続されるようにエッチングが実施されてもよい。すなわち、隣り合う二つの第２凹部３５の間に、基材２１の第２面２１ｂが残存していない場所が存在していてもよい。また、図示はしないが、第２面２１ｂの全域にわたって隣り合う二つの第２凹部３５が接続されるようにエッチングが実施されてもよい。

図１に示すようにして蒸着マスク装置１０が蒸着装置９０に収容された場合、図５に二点鎖線で示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａが、有機ＥＬ基板９２に対面し、蒸着マスク２０の第２面２０ｂが、蒸着材料９８を保持したるつぼ９４側に位置する。したがって、蒸着材料９８は、次第に開口面積が小さくなっていく第２凹部３５を通過して有機ＥＬ基板９２に付着する。図５において第２面２０ｂ側から第１面２０ａへ向かう矢印で示すように、蒸着材料９８は、るつぼ９４から有機ＥＬ基板９２に向けて有機ＥＬ基板９２の法線方向Ｎに沿って移動するだけでなく、有機ＥＬ基板９２の法線方向Ｎに対して大きく傾斜した方向に移動することもある。このとき、蒸着マスク２０の厚みが大きいと、斜めに移動する蒸着材料９８の多くは、貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に到達するよりも前に、第２凹部３５の壁面３６に到達して付着する。従って、蒸着材料９８の利用効率を高めるためには、蒸着マスク２０の厚みｔを小さくし、これによって、第２凹部３５の壁面３６や第１凹部３０の壁面３１の高さを小さくすることが好ましいと考えられる。すなわち、蒸着マスク２０を構成するための基材２１として、蒸着マスク２０の強度を確保できる範囲内で可能な限り厚みｔの小さな基材２１を用いることが好ましいと言える。この点を考慮し、本実施の形態において、好ましくは蒸着マスク２０の厚みｔは、５０μｍ以下に、例えば５μｍ以上且つ５０μｍ以下に設定される。なお厚みｔは、周囲領域２３の厚み、すなわち蒸着マスク２０のうち第１凹部３０および第２凹部３５が形成されていない部分の厚みである。従って厚みｔは、基材２１の厚みであると言うこともできる。

図５において、貫通孔２５の最小開口面積を持つ部分となる接続部４１と、第２凹部３５の壁面３６の他の任意の位置と、を通過する直線Ｌ１が、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに対してなす最小角度が、符号θ１で表されている。斜めに移動する蒸着材料９８を、壁面３６に到達させることなく可能な限り有機ＥＬ基板９２に到達させるためには、角度θ１を大きくすることが有利となる。角度θ１を大きくする上では、蒸着マスク２０の厚みｔを小さくすることの他にも、上述のトップ部４３の幅βを小さくすることも有効である。

図７において、符号αは、基材２１の第１面２１ａの有効領域２２のうちエッチングされずに残っている部分（以下、リブ部とも称する）の幅を表している。リブ部の幅αおよび貫通部４２の寸法ｒ_２は、有機ＥＬ表示装置の寸法および表示画素数に応じて適宜定められる。例えば、リブ部の幅αは５μｍ以上且つ４０μｍ以下であり、貫通部４２の寸法ｒ_２は１０μｍ以上且つ６０μｍ以下である。

限定はされないが、本実施の形態による蒸着マスク２０は、４５０ｐｐｉ以上の画素密度の有機ＥＬ表示装置を作製する場合に特に有効なものである。以下、図８を参照して、そのような高い画素密度の有機ＥＬ表示装置を作製するために求められる蒸着マスク２０の寸法の一例について説明する。図８は、図５に示す蒸着マスク２０の貫通孔２５およびその近傍の領域を拡大して示す断面図である。

図８においては、貫通孔２５の形状に関連するパラメータとして、蒸着マスク２０の第１面２０ａから接続部４１までの、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った方向における距離、すなわち第１凹部３０の壁面３１の高さが符号ｒ_１で表されている。さらに、第１凹部３０が第２凹部３５に接続する部分における第１凹部３０の寸法、すなわち貫通部４２の寸法が符号ｒ_２で表されている。また図８において、接続部４１と、基材２１の第１面２１ａ上における第１凹部３０の先端縁と、を結ぶ直線Ｌ２が、基材２１の法線方向Ｎに対して成す角度が、符号θ２で表されている。

４５０ｐｐｉ以上の画素密度の有機ＥＬ表示装置を作製する場合、貫通部４２の寸法ｒ_２は、好ましくは１０μｍ以上且つ６０μｍ以下に設定される。これによって、高い画素密度の有機ＥＬ表示装置を作製することができる蒸着マスク２０を提供することができる。好ましくは、第１凹部３０の壁面３１の高さｒ_１は、６μｍ以下に設定される。

次に、図８に示す上述の角度θ２について説明する。角度θ２は、基材２１の法線方向Ｎに対して傾斜するとともに接続部４１近傍で貫通部４２を通過するように飛来した蒸着材料９８のうち、有機ＥＬ基板９２に到達することができる蒸着材料９８の傾斜角度の最大値に相当する。なぜなら、接続部４１を通って角度θ２よりも大きな傾斜角度で飛来した蒸着材料９８は、有機ＥＬ基板９２に到達するよりも前に第１凹部３０の壁面３１に付着するからである。従って、角度θ２を小さくすることにより、大きな傾斜角度で飛来して貫通部４２を通過した蒸着材料９８が有機ＥＬ基板９２に付着することを抑制することができ、これによって、有機ＥＬ基板９２のうち貫通部４２に重なる部分よりも外側の部分に蒸着材料９８が付着してしまうことを抑制することができる。すなわち、角度θ２を小さくすることは、有機ＥＬ基板９２に付着する蒸着材料９８の面積や厚みのばらつきの抑制を導く。このような観点から、例えば貫通孔２５は、角度θ２が４５度以下になるように形成される。なお図８においては、第１面２１ａにおける第１凹部３０の寸法、すなわち、第１面２１ａにおける貫通孔２５の開口寸法が、接続部４１における第１凹部３０の寸法ｒ２よりも大きくなっている例を示した。すなわち、角度θ２の値が正の値である例を示した。しかしながら、図示はしないが、接続部４１における第１凹部３０の寸法ｒ２が、第１面２１ａにおける第１凹部３０の寸法よりも大きくなっていてもよい。すなわち、角度θ２の値は負の値であってもよい。

蒸着マスクの製造方法
次に、蒸着マスク２０を製造する方法について説明する。

（金属板の準備）
はじめに、蒸着マスクを製造するための金属板６４を準備する。金属板６４は、例えば、長尺状の金属板を巻き取ることにより得られるロールの形態で準備される。金属板６４としては、例えば、ニッケルを含む鉄合金から構成された金属板を用いる。金属板６４の厚みは、例えば３μｍであり、５μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよい。また、金属板６４の厚みは、例えば５０μｍ以下であり、３０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以下であってもよい。所望の厚みを有する金属板６４を作製する方法としては、圧延法、めっき成膜法などを採用することができる。

次に、金属板６４を用いて蒸着マスク２０を製造する方法について、主に図９～図２２を参照して説明する。以下に説明する蒸着マスク２０の製造方法では、図９に示すように、金属板６４を加工して、金属板６４に、貫通孔２５を含む複数の蒸着マスク部分を形成し（加工工程）、その後、蒸着マスク部分を金属板６４から分離する（分離工程）ことによって、枚葉状の蒸着マスク２０を得ることができる。

（加工工程）
金属板６４を加工する工程は、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを長尺の金属板６４に施して、金属板６４に第１面６４ａの側から第１凹部３０を形成する工程と、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを金属板６４に施して、金属板６４に第２面６４ｂの側から第２凹部３５を形成する工程と、を含んでいる。そして、金属板６４に形成された第１凹部３０と第２凹部３５とが互いに通じ合うことによって、金属板６４に貫通孔２５が作製される。以下に説明する例では、第１凹部３０の形成工程を、第２凹部３５の形成工程の前に実施し、且つ、第１凹部３０の形成工程と第２凹部３５の形成工程の間に、作製された第１凹部３０を封止する工程を実施する。以下、各工程の詳細を説明する。

図９には、蒸着マスク２０を作製するための製造装置６０が示されている。図９に示すように、まず、金属板６４をコア６１に巻き取った巻き体６２を準備する。そして、このコア６１を回転させて巻き体６２を巻き出すことにより、図９に示すように帯状に延びる金属板６４を供給する。

供給された金属板６４は、搬送ローラー７２によって、加工装置（エッチング手段）７０に搬送される。加工装置７０によって、図１０～図１７に示された各処理が施される。なお本実施の形態においては、金属板６４の幅方向に複数の蒸着マスク２０を割り付ける。言い換えると、金属板６４から分離されて蒸着マスク２０となる後述する蒸着マスク部分が、金属板６４の幅方向に複数並ぶように、金属板６４を加工する。この場合、好ましくは、蒸着マスク部分すなわち蒸着マスク２０の長辺２６の方向が、長尺状の金属板６４の長手方向に一致するよう、複数の蒸着マスク２０を金属板６４に割り付ける。

まず、図１０に示すように、金属板６４の第１面６４ａ上および第２面６４ｂ上にネガ型の感光性レジスト材料を含むレジスト膜６５ｃ、６５ｄを形成する。例えば、金属板６４の第１面６４ａ上および第２面６４ｂ上に、ネガ型の感光性レジスト材料を含む塗布液を塗布し、その後、塗布液を乾燥させることにより、レジスト膜６５ｃ、６５ｄを形成する。

次に、レジスト膜６５ｃ、６５ｄのうちの除去したい領域に光を透過させないようにした露光マスク６８ａ、６８ｂを準備し、露光マスク６８ａ、６８ｂをそれぞれ図１１に示すようにレジスト膜６５ｃ、６５ｄ上に配置する。露光マスク６８ａ、６８ｂとしては、例えば、レジスト膜６５ｃ、６５ｄのうちの除去したい領域に光を透過させないようにしたガラス乾板を用いる。その後、真空密着によって露光マスク６８ａ、６８ｂをレジスト膜６５ｃ、６５ｄに十分に密着させる。
なお感光性レジスト材料として、ポジ型のものが用いられてもよい。この場合、露光マスクとして、レジスト膜のうちの除去したい領域に光を透過させるようにした露光マスクを用いる。

その後、レジスト膜６５ｃ、６５ｄを露光マスク６８ａ、６８ｂ越しに露光する（露光工程）。さらに、露光されたレジスト膜６５ｃ、６５ｄに像を形成するためにレジスト膜６５ｃ、６５ｄを現像する（現像工程）。以上のようにして、図１２に示すように、金属板６４の第１面６４ａ上に第１レジストパターン６５ａを形成し、金属板６４の第２面６４ｂ上に第２レジストパターン６５ｂを形成することができる。なお現像工程は、レジスト膜６５ｃ、６５ｄの硬度を高めるための、または金属板６４に対してレジスト膜６５ｃ、６５ｄをより強固に密着させるためのレジスト熱処理工程を含んでいてもよい。レジスト熱処理工程は、例えば室温以上且つ４００℃以下で実施され得る。

次に、図１３に示すように、金属板６４の第１面６４ａのうち第１レジストパターン６５ａによって覆われていない領域を、第１エッチング液を用いてエッチングする第１面エッチング工程を実施する。例えば、第１エッチング液を、搬送される金属板６４の第１面６４ａに対面する側に配置されたノズルから、第１レジストパターン６５ａ越しに金属板６４の第１面６４ａに向けて噴射する。この結果、図１３に示すように、金属板６４のうちの第１レジストパターン６５ａによって覆われていない領域で、第１エッチング液による浸食が進む。これによって、金属板６４の第１面６４ａに多数の第１凹部３０が形成される。第１エッチング液としては、例えば塩化第２鉄溶液及び塩酸を含むものを用いる。

その後、図１４に示すように、後の第２面エッチング工程において用いられる第２エッチング液に対する耐性を有した樹脂６９によって、第１凹部３０を被覆する。すなわち、第２エッチング液に対する耐性を有した樹脂６９によって、第１凹部３０を封止する。図１４に示す例においては、樹脂６９の膜を、形成された第１凹部３０だけでなく、第１面６４ａ（第１レジストパターン６５ａ）も覆うように形成する。

次に、図１５に示すように、金属板６４の第２面６４ｂのうち第２レジストパターン６５ｂによって覆われていない領域をエッチングし、第２面６４ｂに第２凹部３５を形成する第２面エッチング工程を実施する。第２面エッチング工程は、第１凹部３０と第２凹部３５とが互いに通じ合い、これによって貫通孔２５が形成されるようになるまで実施される。第２エッチング液としては、上述の第１エッチング液と同様に、例えば塩化第２鉄溶液及び塩酸を含むものを用いる。

なお第２エッチング液による浸食は、金属板６４のうちの第２エッチング液に触れている部分において行われていく。従って、浸食は、金属板６４の法線方向Ｎ（厚み方向）のみに進むのではなく、金属板６４の板面に沿った方向にも進んでいく。ここで好ましくは、第２面エッチング工程は、第２レジストパターン６５ｂの隣り合う二つの孔６６ａに対面する位置にそれぞれ形成された二つの第２凹部３５が、二つの孔６６ａの間に位置するブリッジ部６７ａの裏側において合流するよりも前に終了される。これによって、図１６に示すように、金属板６４の第２面６４ｂに上述のトップ部４３を残すことができる。

その後、図１７に示すように、金属板６４から樹脂６９を除去する。樹脂６９は、例えばアルカリ系剥離液を用いることによって、除去することができる。アルカリ系剥離液が用いられる場合、図１７に示すように、樹脂６９と同時にレジストパターン６５ａ，６５ｂも除去される。なお、樹脂６９を除去した後、樹脂６９を剥離させるための剥離液とは異なる剥離液を用いて、樹脂６９とは別途にレジストパターン６５ａ，６５ｂを除去してもよい。

図１８は、上述のようにして蒸着マスク２０を加工して貫通孔２５を形成することによって得られた中間製品５０を示す平面図である。中間製品５０には、蒸着マスク２０が割り付けられている。言い換えると、中間製品５０は、複数の蒸着マスク部分５１と支持部分５６とを備える。図１８において、符号Ｔ１は、蒸着マスク２０の製造工程における金属板６４の搬送方向を表し、符号Ｔ２は、搬送方向Ｔ１に直交する方向（以下、幅方向とも称する）を表す。搬送方向Ｔ１は、長尺状の金属板６４の長手方向に一致する。

蒸着マスク部分５１は、金属板６４のうち、分離されることによって蒸着マスク２０となる部分である。蒸着マスク部分５１は、蒸着マスク２０の一対の長辺２６及び一対の短辺２７に対応する一対の長辺５２及び一対の短辺５３を含む。また、蒸着マスク部分５１には、複数の貫通孔２５が形成されている。例えば、蒸着マスク部分５１は、複数の貫通孔２５が形成された有効領域２２と、有効領域２２を取り囲む周囲領域２３と、を含む。

図１８に示すように、複数の蒸着マスク部分５１は、長辺５２に交差する方向に並んでいる。例えば、長辺５２は搬送方向Ｔ１に平行であり、複数の蒸着マスク部分５１が並ぶ方向は幅方向Ｔ２に平行である。

支持部分５６は、平面視において複数の蒸着マスク部分５１を囲むとともに蒸着マスク部分５１に部分的に接続されている部分である。図１８に示す例において、支持部分５６は、金属板６４のうち蒸着マスク部分５１以外の部分である。

以下、蒸着マスク部分５１と支持部分５６との間の接続箇所５４について説明する。図１９は、図１８の中間製品５０のうち符号XIXが付された点線で囲われた領域を拡大して示す図である。図１８及び図１９に示す例において、蒸着マスク部分５１の短辺５３は、支持部分５６に部分的に接続されている。例えば、図１９に示すように、蒸着マスク部分５１の短辺５３は、支持部分５６に向かって突出し、且つ支持部分５６に接続されている複数の凸部５３ａを含んでいる。一方、蒸着マスク部分５１の長辺５２は、支持部分５６に接続されていない。言い換えると、蒸着マスク部分５１の長辺５２と支持部分５６との間には、長辺５２の全域にわたって隙間５５が存在している。また、隣り合う２つの蒸着マスク部分５１の長辺５２の間にも、支持部分５６が存在していない。言い換えると、隣り合う２つの蒸着マスク部分５１の長辺５２の間には、長辺５２の全域にわたって隙間５５が存在している。

隙間５５は、上述の加工工程において貫通孔２５と同時に形成され得る。例えば、上述の加工工程において、金属板６４のうち隙間５５が形成されるべき部分にはレジストパターン６５ａ、６５ｂが残らないように、レジスト膜６５ｃ、６５ｄを露光及び現像する。続いて、金属板６４のうちレジストパターン６５ａ、６５ｂによって覆われていない領域を、エッチングによって除去する。これによって、複数の貫通孔２５と同時に、図１８及び図１９に示す隙間５５を金属板６４に形成することができる。

なお、隙間５５を形成するためのエッチングは、金属板６４の第１面６４ａ及び第２面６４ｂの両側でそれぞれ実施されてもよく（例１）、金属板６４の第１面６４ａ及び第２面６４ｂのいずれか一方の側のみで実施されてもよい（例２）。

例１の場合、金属板６４の第１面６４ａのうち隙間５５が形成されるべき部分（以下、隙間予定部とも称する）にはレジストパターン６５ａが残らないように、レジスト膜６５ｃを露光及び現像する。また、金属板６４の第２面６４ｂの隙間予定部にもレジストパターン６５ｂが残らないように、レジスト膜６５ｄを露光及び現像する。続いて、金属板６４を第１面６４ａ側からエッチングする。これによって、金属板６４の第１面６４ａのうち蒸着マスク２０の有効領域２２となるべき部分に第１凹部３０を形成し、同時に、第１面６４ａの隙間予定部に第１凹部３０を形成する。次に、樹脂６９によって第１凹部３０を被覆する。その後、金属板６４を第２面６４ｂ側からエッチングする。これによって、金属板６４の第２面６４ｂのうち蒸着マスク２０の有効領域２２となるべき部分に第２凹部３５を形成し、同時に、第２面６４ｂの隙間予定部に第２凹部３５を形成する。これによって、貫通孔２５と同時に隙間５５を形成することができる。

例２の場合、例えば、金属板６４の第２面６４ｂの隙間予定部にはレジストパターン６５ｂが残らないように、レジスト膜６５ｄを露光及び現像する。一方、金属板６４の第１面６４ａの隙間予定部にはレジストパターン６５ａが残るように、レジスト膜６５ｃを露光及び現像する。続いて、金属板６４を第１面６４ａ側からエッチングし、金属板６４のうち蒸着マスク２０の有効領域２２となるべき部分に第１凹部３０を形成する。この際、第１面６４ａの隙間予定部には第１凹部３０が形成されない。次に、樹脂６９によって第１凹部３０を被覆する。この際、第１面６４ａの隙間予定部も樹脂６９によって被覆される。その後、金属板６４を第２面６４ｂ側からエッチングする。これによって、金属板６４の第２面６４ｂのうち蒸着マスク２０の有効領域２２となるべき部分に第２凹部３５を形成し、同時に、第２面６４ｂの隙間予定部に第２凹部３５を形成する。この際、第２凹部３５が第１面６４ａ側にまで達するようにエッチングを実施することにより、隙間予定部に隙間５５を形成することができる。
例２の場合、第１凹部３０を形成する第１のエッチング工程の際に、金属板６４の第１面６４ａの隙間予定部にハーフエッチングが施されない。このため、金属板６４の厚みが小さい場合であっても、第１のエッチング工程の後に金属板６４の隙間予定部に折れが生じてしまうことを抑制することができる。

隙間５５の寸法は、中間製品５０の搬送などの際に蒸着マスク部分５１が支持部分５６や他の蒸着マスク部分５１に接触しないよう、設定される。蒸着マスク部分５１と支持部分５６との間の隙間５５の、幅方向Ｔ２における寸法Ｓ１は、例えば０．１ｍｍ以上且つ５ｍｍ以下である。また、隣り合う２つの蒸着マスク部分５１の間の隙間５５の、幅方向Ｔ２における寸法Ｓ２は、例えば０．１ｍｍ以上且つ５ｍｍ以下である。また、蒸着マスク部分５１の短辺５３と支持部分５６との間の、搬送方向Ｔ１における寸法Ｓ３は、例えば３０μｍ以上且つ１００μｍ以下である。また、短辺５３の方向における凸部５３ａのピッチＰは、例えば２００μｍ以上且つ４００μｍ以下である。

（分離工程）
続いて、上述の中間製品５０において蒸着マスク部分５１を支持部分５６から分離する分離工程を実施する。まず、図９に示すように、金属板６４を加工することによって得られた中間製品５０を、分離工程を実施するための分離装置７３へ搬送する。例えば、中間製品５０を狭持した状態で回転する搬送ローラー７２，７２により、分離装置７３へ搬送する。ところで、上述のように中間製品５０において蒸着マスク部分５１の長辺５２が支持部分５６に接続されていない場合、搬送時に蒸着マスク部分５１が揺れたり撓んだりし易いと考えられる。この点を考慮し、蒸着マスク部分５１の揺れや撓みを抑制する抑制手段を、中間製品５０、搬送ローラー７２又は搬送路に設けてもよい。例えば、抑制手段は、中間製品５０の第１面側及び第２面側に設けられた一対のフィルムを含む。中間製品５０を一対のフィルムで挟んだ状態で中間製品５０を７３へ搬送することにより、蒸着マスク部分５１が揺れたり撓んだりすることを抑制することができる。

図２０は、蒸着マスク部分５１を支持部分５６から分離する分離工程を示す図である。上述のように、蒸着マスク部分５１の長辺５２と支持部分５６とは接続されていない。このため、短辺５３において蒸着マスク部分５１と支持部分５６との間の接続箇所５４を破断させることにより、蒸着マスク部分５１を支持部分５６から分離して蒸着マスク２０を得ることができる。図２１は、中間製品５０から得られた蒸着マスク２０を拡大して示す平面図である。

分離工程は、例えば、蒸着マスク部分５１の短辺５３のうち支持部分５６に接続されている接続箇所５４を破断させる破断工程を含む。この場合、図２１に示すように、蒸着マスク２０のうち接続箇所５４が破断された箇所、例えば短辺５３の凸部５３ａの先端が、破断面２７ｂとなる。このように、蒸着マスク２０の短辺２７には部分的に破断面２７ｂが存在する。図２２は、図２１の矢印XXIIの方向から蒸着マスク２０の短辺２７の凸部２７ａの破断面２７ｂを見た場合を示す側面図である。

破断工程においては、蒸着マスク部分５１を支持部分５６に対して例えば図２２の上方向に引っ張ることによって、蒸着マスク部分５１の短辺５３と支持部分５６との間の接続箇所５４を破断させる。この場合、凸部２７ａの破断面２７ｂには、図２２に示すように、破断時に支持部分５６から受けた力に起因するバリ２７ｃが生じることがある。バリ２７ｃは、破断時に支持部分５６から受けた力の方向（図２２においては下方向）に向かって延びている。破断面２７ｂは、このようなバリ２７ｃが存在する面として定義され得る。一方、蒸着マスク部分５１の長辺５２は支持部分５６に接続されていないので、蒸着マスク２０の長辺２６には破断面が存在しない。

図２３Ａ及び図２３Ｂはそれぞれ、図２２の蒸着マスク２０のうち符号XXIIIが付された点線で囲われた長辺２６の領域を、第１面２０ａ側及び第２面２０ｂ側から観察した結果を示す図である。また、図２４Ａ及び図２４Ｂはそれぞれ、図２２の蒸着マスク２０のうち符号XXIVが付された点線で囲われた短辺２７の領域を、第１面２０ａ側及び第２面２０ｂ側から観察した結果を示す図である。図２３Ａ、図２３Ｂ、図２４Ａ及び図２４Ｂのいずれにおいても、観察時の倍率は１０倍である。

図２４Ａに示すように、短辺２７の凸部２７ａの先端には、黒く見える部分（以下、暗部とも称する）２７ｘが観察された。暗部２７ｘの幅は、１３．８μｍであった。図２４Ｂに示すように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂ側から観察した場合にも同様の暗部２７ｙが確認された。

一方、長辺２６の領域には、暗部が確認されなかったか、若しくは、短辺２７の場合よりも小さな厚みを有する暗部が確認された。例えば図２３Ｂに示すように、第２面２０ｂ側から見た場合に、５．１μｍの幅の暗部２６ｙが確認された。

図２５Ａは、図２２の蒸着マスク２０のうち符号XXIIIが付された点線で囲われた領域、すなわち蒸着マスク２０の長辺２６の断面形状を模式的に示す図である。また、図２５Ｂは、長辺２６の断面形状の一変形例を示す図である。図２５Ａ及び図２５Ｂに示すように、蒸着マスク２０の長辺２６には、貫通孔２５を形成するために実施するエッチング工程の際に生じるサイドエッチングに起因して、内側に凸となる形状の湾曲面が形成されることがある。図２５Ａは、金属板６４の第２面６４ｂのみからのエッチングによって隙間５５を形成する場合の、長辺２６の断面形状の一例を示す図である。また、図２５Ｂは、金属板６４の第１面６４ａ及び第２面６４ｂの両側からのエッチングによって隙間５５を形成する場合の、長辺２６の断面形状の一例を示す図である。図２３Ａ及び図２３Ｂに示す平面写真に対応する断面形状は、図２５Ａの方である。

金属板６４の第２面６４ｂのみからのエッチングによって隙間５５を形成する場合、長辺２６には、図２５Ａに示すように、第２面２０ｂ側から第１面２０ａ側に向かうにつれて外側に広がる湾曲面が形成される。この湾曲面は、長辺２６を第２面２０ｂ側から観察した場合には視認されるが、長辺２６を第１面２０ａ側から観察した場合には視認されない。言い換えると、長辺２６は、第１面２０ａと交わる部分において最も外側に突出した断面形状を有する。長辺２６を第２面２０ｂ側から観察した場合に確認された暗部２６ｙは、湾曲面における光の散乱に起因していると考えられる。

金属板６４の第１面６４ａ及び第２面６４ｂの両側からのエッチングによって隙間５５を形成する場合、長辺２６には、図２５Ｂに示すように、第１面２０ａ側に位置する、第１凹部３０を形成する際のサイドエッチングに起因する湾曲面と、第２面２０ｂ側に位置する、第２凹部３５を形成する際のサイドエッチングに起因する湾曲面とが形成される。この場合、長辺２６は、第１面２０ａ側の湾曲面と第２面２０ｂ側の湾曲面とが交わる部分において最も外側に突出した断面形状を有する。第２面２０ｂ側の第２凹部３５の寸法の方が第１面２０ａ側の第１凹部３０の寸法よりも大きいので（図５～７参照）、サイドエッチングの程度も第２面２０ｂ側の方が大きくなる。このため、長辺２６に形成される湾曲面も、第２面２０ｂ側の方が大きくなる。従って、長辺２６を第２面２０ｂ側から観察した場合に確認される暗部の幅も、長辺２６を第１面２０ａ側から観察した場合に確認される暗部の幅よりも大きくなると考えられる。

図２５Ｃは、図２５Ａに示す断面形状を有する長辺２６を備えた蒸着マスク２０が有機ＥＬ基板９２に対面している様子を示す図である。また、図２５Ｄは、図２５Ｂに示す断面形状を有する長辺２６を備えた蒸着マスク２０が有機ＥＬ基板９２に対面している様子を示す図である。図２５Ｃ及び図２５Ｄに示す例においては、複数の蒸着マスク２０が短辺２７の方向に所定の間隔Ｍを空けて並ぶように配列されている。間隔Ｍは、隣接する２つの蒸着マスク２０の長辺２６同士が接触することを防ぐよう、所定の離間距離以上に設定されている。間隔Ｍは、隣接する２つの蒸着マスク２０の長辺２６のうち外側に最も突出している部分の間の間隔である。図２５Ｃに示す例においては、長辺２６のうち第１面２０ａと交わる部分における間隔Ｍが所定の離間距離以上になるよう、蒸着マスク２０が配列される。図２５Ｄに示す例においては、長辺２６のうち第１面２０ａ側の湾曲面と第２面２０ｂ側の湾曲面とが交わる部分における間隔Ｍが所定の離間距離以上になるよう、蒸着マスク２０が配列される。

図２５Ｃに示す例と図２５Ｄに示す例を比較すると、図２５Ｃに示す例の方が、有機ＥＬ基板９２に対する接触面積が大きくなる。このため、有機ＥＬ基板９２に対する密着性という点で、図２５Ｃに示す例の方が有利である。

なお、仮に図２５Ｄに示す例において、有機ＥＬ基板９２に対する蒸着マスク２０の第１面２０ａの接触面積を図２５Ｃに示す例の場合と同等にしようとすると、隣接する２つの蒸着マスク２０の長辺２６の間の距離が小さくなり、蒸着マスク２０同士が接触するリスクが高くなる。

このように、有機ＥＬ基板９２に対する密着性の向上と、隣接する２つの蒸着マスク２０同士の接触リスクの低減は、互いにトレードオフの関係にある。図２５Ｃに示す例によれば、トレードオフの関係にある２つの要求を、図２５Ｄに示す例の場合に比べて高いレベルで満たすことができる。

なお、蒸着マスク２０同士が接触すると、蒸着マスク２０の損傷や変形が生じてしまう。蒸着マスク２０が変形すると、有機ＥＬ基板９２に対する蒸着マスク２０の第１面２０ａの接触面積が減少し、有機ＥＬ基板９２に対する密着性が低下してしまう。このように、隣接する２つの蒸着マスク２０の間の距離を過剰に縮めることは、有機ＥＬ基板９２に対する密着性の低下を生じさせ得る。

図２６は、図２２の蒸着マスク２０のうち符号XXIVが付された点線で囲われた領域を模式的に示す断面図である。図２６に示すように、蒸着マスク２０の短辺２７には、上述の破断工程の際に短辺２７が支持部分５６から第１面２０ａ側へ引っ張られることに起因して、第２面２０ｂ側に、外側に凸となる形状の湾曲面が形成されることがある。短辺２７を第２面２０ｂ側から観察した場合に確認された暗部２７ｙは、湾曲面における光の散乱に起因していると考えられる。また、第１面２０ａ側には、第１面２０ａから突出したバリ２７ｃが形成されることがある。短辺２７を第１面２０ａ側から観察した場合に確認された暗部２７ｘは、バリ２７ｃにおける光の散乱に起因していると考えられる。

（本実施の形態の作用）
蒸着マスク２０の長辺２６から貫通孔２５までの、基材２１の面方向における最短距離Ｓ４（図２１参照）は、一般に、短辺２７から貫通孔２５までの、基材２１の面方向における最短距離に比べて小さい。このため、長辺２６に波打ち形状などの変形が現れると、長辺２６の近傍に位置する貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に付着する蒸着材料９８の寸法精度や位置精度が低下してしまう。ここで本実施の形態においては、中間製品５０の蒸着マスク部分５１が支持部分５６に接続されていない。このため、蒸着マスク部分５１を支持部分５６から分離する分離工程の際に、長辺５２は、支持部分５６からの力を受けないので、長辺２６に波打ち形状などの変形が現れることを抑制することができる。これによって、高い寸法精度や位置精度で有機ＥＬ基板９２に蒸着材料９８を付着させることができる。

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。

（接続箇所及び破断面の変形例）
上述の実施の形態においては、中間製品５０の蒸着マスク部分５１の長辺５２の全域が支持部分５６に接続されていない例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、貫通孔２５の位置精度に影響を及ぼさない範囲内で、中間製品５０の蒸着マスク部分５１の長辺５２が支持部分５６に接続されていてもよい。例えば、長辺５２のうち、中間製品５０の幅方向Ｔ２に沿って長辺５２を見た場合に貫通孔２５と重ならない領域において、長辺５２が支持部分５６に接続されていてもよい。言い換えると、蒸着マスク部分５１の長辺５２のうち、少なくとも、中間製品５０の幅方向Ｔ２に沿って長辺５２を見た場合に貫通孔２５と重なる領域は、支持部分５６に接続されていないことが好ましい。この場合、蒸着マスク２０の幅方向において長辺２６を見た場合に貫通孔２５と重なる領域には破断面が存在しない。言い換えると、蒸着マスク２０の幅方向において長辺２６を見た場合に貫通孔２５と重ならない領域には、破断面が存在していてもよい。蒸着マスク部分５１の長辺５２のうち幅方向Ｔ２において貫通孔２５と重なる領域を支持部分５６に接続しないことにより、蒸着マスク部分５１を支持部分５６から分離する際に蒸着マスク部分５１に生じる変形が貫通孔２５の位置精度に影響を及ぼすことを抑制することができる。

好ましくは、中間製品５０において、蒸着マスク部分５１の長辺５２のうち支持部分５６に接続されている箇所の比率が、蒸着マスク部分５１の短辺５３のうち支持部分５６に接続されている箇所の比率よりも小さくなるようにする。これによって、破断時の長辺５２の変形に起因して蒸着工程の精度が低下してしまうことを抑制することができる。この場合、分離工程によって得られる蒸着マスク２０において、長辺２６における破断面の比率が、短辺２７における破断面の比率よりも小さくなる。

蒸着マスク部分５１の短辺５３のうち支持部分５６に接続されている箇所の比率は、例えば、短辺５３のうち支持部分５６に接続されている部分の幅Ｋ４（図１９参照）の総和を短辺５３の長さＫ２（図１８参照）で割ることにより算出される。幅Ｋ４は、例えば図１９に示すように、支持部分５６に接続されている凸部５３ａのうち最も狭い部分の幅である。同様に、蒸着マスク部分５１の長辺５２のうち支持部分５６に接続されている箇所の比率は、例えば、長辺５２のうち支持部分５６に接続されている部分の幅の総和を長辺５２の長さＫ１（図１８参照）で割ることにより算出される。

また、蒸着マスク２０の短辺２７における破断面２７ｂの比率は、例えば、短辺２７に存在する破断面２７ｂの幅Ｋ６（図２１参照）の総和を短辺２７の長さＫ５（図２１参照）で割ることにより算出される。同様に、蒸着マスク２０の長辺２６における破断面の比率は、例えば、長辺２６に存在する破断面の幅の総和を長辺２６の長さで割ることにより算出される。

若しくは、蒸着マスク部分５１の短辺５３のうち支持部分５６に接続されている箇所の比率は、短辺５３のうち支持部分５６に接続されている部分の個数を短辺５３の長さＫ２で割ることにより算出されてもよい。図１９に示す例において、短辺５３のうち支持部分５６に接続されている部分の個数は４である。同様に、蒸着マスク部分５１の長辺５２のうち支持部分５６に接続されている箇所の比率は、長辺５２のうち支持部分５６に接続されている部分の個数を長辺５２の長さＫ１で割ることにより算出されてもよい。

同様に、蒸着マスク２０の短辺２７における破断面２７ｂの比率は、短辺２７に存在する破断面２７ｂの個数を短辺２７の長さＫ５で割ることにより算出されてもよい。同様に、蒸着マスク２０の長辺２６における破断面の比率は、長辺２６に存在する破断面の個数を長辺２６の長さで割ることにより算出されてもよい。

（支持部分の変形例）
上述の実施の形態においては、隣り合う２つの蒸着マスク部分５１の長辺５２の間に支持部分５６が存在しない例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図２７に示すように、隣り合う２つの蒸着マスク部分５１の長辺５２の間に、搬送方向Ｔ１に延び、且つ蒸着マスク部分５１の長辺５２に接続されていない支持部分５６が存在していてもよい。

１０ 蒸着マスク装置
１５ フレーム
２０ 蒸着マスク
２１ 基材
２２ 有効領域
２３ 周囲領域
２５ 貫通孔
２６ 長辺
２７ 短辺
２７ａ 凸部
２７ｂ 破断面
２７ｃ バリ
３０ 第１凹部
３１ 壁面
３５ 第２凹部
３６ 壁面
４１ 接続部
４３ トップ部
５０ 中間製品
５１ 蒸着マスク部分
５２ 長辺
５３ 短辺
５３ａ 凸部
５４ 接続箇所
５５ 隙間
５６ 支持部分
６４ 金属板
６５ａ 第１レジストパターン
６５ｂ 第２レジストパターン
６５ｃ 第１レジスト膜
６５ｄ 第２レジスト膜
７０ 加工装置
７２ 搬送ローラー
７３ 分離装置
９０ 蒸着装置
９２ 有機ＥＬ基板
９８ 蒸着材料

Claims (28)

1. 一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスクの製造方法であって、
   金属板を準備する工程と、
   前記金属板を、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに前記長辺に沿って配列された複数の有効領域を有する複数の蒸着マスク部分と、前記複数の蒸着マスク部分を囲むとともに前記複数の蒸着マスク部分の前記短辺に部分的に接続されている支持部分と、を備える中間製品に加工する加工工程と、
   前記蒸着マスク部分を前記支持部分から分離して前記蒸着マスクを得る分離工程と、を備え、
   前記蒸着マスク部分及び前記支持部分は、同一の金属板によって構成されており、
   前記蒸着マスク部分の前記有効領域は複数の前記貫通孔を含み、一つの前記有効領域は一つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応しており、
   前記有機ＥＬ表示装置は、スマートフォン又はタブレットＰＣであり、
   前記中間製品において、前記蒸着マスク部分の前記長辺は、前記支持部分に接続されていない、蒸着マスクの製造方法。
2. 一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスクの製造方法であって、
   金属板を準備する工程と、
   前記金属板を、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに前記長辺に沿って配列された複数の有効領域を有する複数の蒸着マスク部分と、前記複数の蒸着マスク部分を囲むとともに前記複数の蒸着マスク部分に部分的に接続されている支持部分と、を備える中間製品に加工する加工工程と、
   前記蒸着マスク部分を前記支持部分から分離して前記蒸着マスクを得る分離工程と、を備え、
   前記蒸着マスク部分及び前記支持部分は、同一の金属板によって構成されており、
   前記蒸着マスク部分の前記有効領域は複数の前記貫通孔を含み、一つの前記有効領域は一つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応しており、
   前記有機ＥＬ表示装置は、スマートフォン又はタブレットＰＣであり、
   前記中間製品において、前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率が、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率よりも小さい、蒸着マスクの製造方法。
3. 前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記長辺のうち前記支持部分に接続されている部分の幅の総和を前記長辺の長さで割ることにより算出され、
   前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記短辺のうち前記支持部分に接続されている部分の幅の総和を前記短辺の長さで割ることにより算出される、請求項２に記載の蒸着マスクの製造方法。
4. 前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記長辺のうち前記支持部分に接続されている部分の個数を前記長辺の長さで割ることにより算出され、
   前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記短辺のうち前記支持部分に接続されている部分の個数を前記短辺の長さで割ることにより算出される、請求項２に記載の蒸着マスクの製造方法。
5. 前記中間製品において、前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち、前記中間製品の幅方向に沿って前記長辺を見た場合に前記貫通孔と重なる領域は、前記支持部分に接続されていない、請求項２に記載の蒸着マスクの製造方法。
6. 前記中間製品において、前記蒸着マスク部分の前記短辺は、前記支持部分に向かって突出し、且つ前記支持部分に接続されている複数の凸部を含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
7. 前記中間製品において、前記複数の蒸着マスク部分は、前記長辺に交差する方向に並んでおり、
   隣り合う２つの前記蒸着マスク部分の前記長辺の間には、前記支持部分が存在しない、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
8. 前記加工工程は、前記金属板をエッチングして、前記貫通孔、及び、前記蒸着マスク部分の前記長辺と前記支持部分との間の隙間を形成する工程を含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
9. 前記加工工程において、前記蒸着マスク部分の前記長辺の方向に沿って前記金属板を搬送しながら前記金属板を加工する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
10. 前記分離工程において、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所を破断させることによって、前記蒸着マスク部分を前記支持部分から分離する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
11. 前記金属板の厚みが、５０μｍ以下である、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
12. 一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスクが割り付けられた、金属製の板状の中間製品であって、
    一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに前記長辺に沿って配列された複数の有効領域を有する蒸着マスク部分と、
    前記蒸着マスク部分を囲むとともに前記蒸着マスク部分の前記短辺に部分的に接続されている支持部分と、を備え、
    前記蒸着マスク部分及び前記支持部分は、同一の金属板によって構成されており、
    前記蒸着マスク部分の前記有効領域は複数の前記貫通孔を含み、一つの前記有効領域は一つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応しており、
    前記有機ＥＬ表示装置は、スマートフォン又はタブレットＰＣであり、
    前記蒸着マスク部分の前記長辺は、前記支持部分に接続されていない、中間製品。
13. 一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された蒸着マスクが割り付けられた、金属製の板状の中間製品であって、
    一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに前記長辺に沿って配列された複数の有効領域を有する蒸着マスク部分と、
    前記蒸着マスク部分を囲むとともに前記蒸着マスク部分に部分的に接続されている支持部分と、を備え、
    前記蒸着マスク部分及び前記支持部分は、同一の金属板によって構成されており、
    前記蒸着マスク部分の前記有効領域は複数の前記貫通孔を含み、一つの前記有効領域は一つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応しており、
    前記有機ＥＬ表示装置は、スマートフォン又はタブレットＰＣであり、
    前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率が、前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率よりも小さい、中間製品。
14. 前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記長辺のうち前記支持部分に接続されている部分の幅の総和を前記長辺の長さで割ることにより算出され、
    前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記短辺のうち前記支持部分に接続されている部分の幅の総和を前記短辺の長さで割ることにより算出される、請求項１３に記載の中間製品。
15. 前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記長辺のうち前記支持部分に接続されている部分の個数を前記長辺の長さで割ることにより算出され、
    前記蒸着マスク部分の前記短辺のうち前記支持部分に接続されている箇所の比率は、前記短辺のうち前記支持部分に接続されている部分の個数を前記短辺の長さで割ることにより算出される、請求項１３に記載の中間製品。
16. 前記蒸着マスク部分の前記長辺のうち、前記中間製品の幅方向に沿って前記長辺を見た場合に前記貫通孔と重なる領域は、前記支持部分に接続されていない、請求項１３に記載の中間製品。
17. 前記蒸着マスク部分の前記短辺は、前記支持部分に向かって突出し、且つ前記支持部分に接続されている複数の凸部を含む、請求項１２乃至１６のいずれか一項に記載の中間製品。
18. 前記蒸着マスク部分及び前記支持部分の厚みが、５０μｍ以下である、請求項１２乃至１６のいずれか一項に記載の中間製品。
19. 前記複数の蒸着マスク部分は、前記長辺に交差する方向に並んでおり、
    隣り合う２つの前記蒸着マスク部分の前記長辺の間には、前記支持部分が存在しない、請求項１２乃至１６のいずれか一項に記載の中間製品。
20. 蒸着マスクであって、
    一対の長辺及び一対の短辺を含む、金属製の板状の基材と、
    前記長辺に沿って配列された複数の有効領域と、を備え、
    前記有効領域は、前記基材に形成された複数の貫通孔を含み、一つの前記有効領域は一つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応しており、
    前記有機ＥＬ表示装置は、スマートフォン又はタブレットＰＣであり、
    前記基材の前記短辺には部分的に破断面が存在し、一方、前記基材の前記長辺には破断面が存在しない、蒸着マスク。
21. 蒸着マスクであって、
    一対の長辺及び一対の短辺を含む、金属製の板状の基材と、
    前記長辺に沿って配列された複数の有効領域と、を備え、
    前記有効領域は、前記基材に形成された複数の貫通孔を含み、一つの前記有効領域は一つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応しており、
    前記有機ＥＬ表示装置は、スマートフォン又はタブレットＰＣであり、
    前記基材の前記長辺における破断面の比率が、前記基材の前記短辺における破断面の比率よりも小さい、蒸着マスク。
22. 前記基材の前記長辺における破断面の比率は、前記長辺に存在する前記破断面の幅の総和を前記長辺の長さで割ることにより算出され、
    前記基材の前記短辺における破断面の比率は、前記短辺に存在する前記破断面の幅の総和を前記短辺の長さで割ることにより算出される、請求項２１に記載の蒸着マスク。
23. 前記基材の前記長辺における破断面の比率は、前記長辺に存在する前記破断面の個数を前記長辺の長さで割ることにより算出され、
    前記基材の前記短辺における破断面の比率は、前記短辺に存在する前記破断面の個数を前記短辺の長さで割ることにより算出される、請求項２１に記載の蒸着マスク。
24. 前記破断面は、前記蒸着マスクの幅方向に沿って前記長辺を見た場合に前記貫通孔と重なる領域には存在しない、請求項２１に記載の蒸着マスク。
25. 前記基材の前記短辺は、外方に突出するとともに前記破断面を有する複数の凸部を含む、請求項２０乃至２４のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
26. 前記基材の前記長辺から前記貫通孔までの、前記基材の面方向における最短距離が、５０μｍ以下である、請求項２０乃至２４のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
27. 前記基材は、前記貫通孔を通った蒸着材料が付着する基板に対面する第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、を有し、
    前記基材の前記長辺は、前記第１面と交わる部分において最も外側に突出した断面形状を有する、請求項２０乃至２４のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
28. 前記基材の厚みが、５０μｍ以下である、請求項２０乃至２４のいずれか一項に記載の蒸着マスク。

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