JP7635388B2 - 接着層付き磁石、その製造方法および磁石アセンブリの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、上記背景技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、接着層を有する磁石の保管、運搬、キャリアとの接着を容易に行うことができる接着層を有する磁石、その製造方法、および磁石アセンブリの製造方法を提供することにある。
S110、調製工程:熱硬化性接着層の原料として熱硬化性接着剤に膨張剤を混合する。
膨張剤が物理膨張剤の場合、膨張剤の殻材と熱可塑性接着層の熱可塑性主剤とが異なる場合は、調製工程の前に、熱可塑性主剤のモノマーで膨張剤を改質処理する。
S210:キャリアの収容槽に接着層付き磁石を挿入した。
本願において「粘着性」とは、接着層が硬化する前に、重力または組立関連の操作によって生じる力の影響下で、キャリア上に配置された磁石構造が滑り落ちるまたは脱落することがないような性質を有することを意味する。
表1熱硬化性接着層原料( 100重量% )
表2熱可塑性接着層原料( 100重量% )
ここで、膨張剤の殻材は、熱可塑性主剤と同一である。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法::
調製工程:表1に基づいて熱硬化性接着層原料A-1を調製し、表2に基づいて熱可塑性接着層原料B-1を調製した。
磁石基体の表面に熱硬化性接着層原料A-1を塗布し、40℃で表面乾燥処理処理を施した後、熱硬化性接着層上に熱可塑性接着層原料B-1を塗布し、40℃で硬化して、表面に接着層を有する磁石を得た。ここで、熱硬化性接着層の厚さは80μm、熱可塑性接着層の厚さは20μm、接着層の厚さは100μmである。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法:
1、表1に基づいて熱硬化性接着層原料A-1を調製し、表2に基づいて熱可塑性接着層原料B-1を調製した。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法:
1、表1に基づいて熱硬化性接着層原料A-1を調製し、表2に基づいて熱可塑性接着層原料B-1を調製した。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法:
1、表1に基づいて熱硬化性接着層原料A-2を調製し、表2に基づいて熱可塑性接着層原料B-2を調製した。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法:
1、表1に基づいて熱硬化性接着層原料A-2を調製し、表2に基づいて熱可塑性接着層原料B-2を調製した。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法:
1、表1に基づいてウレタン変性エチルアクリレートとATPを混合してモノジグリセライドを添加して機械的に攪拌してエマルジョンとした後に熱硬化性接着剤に混入した熱硬化性接着層原料A-3を調製し、表2に基づいて熱可塑性接着層原料B-3を調製した。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法:
1、表1に基づいてウレタン変性エチルアクリレートとATPを混合してモノジグリセライドを添加して機械的に攪拌してエマルジョンとした後に熱硬化性接着剤に混入した熱硬化性接着層原料A-3を調製し、表2に基づいて熱可塑性接着層原料B-3を調製した。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法:
1、表1に基づいて熱硬化性接着層原料A-4を調製し、表2に基づいて熱可塑性接着層原料B-4を調製した。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法:
1、表2に基づいて実施例1の膨張剤を熱可塑性接着層原料B-1に同質量比で混入し、接着層原料とした。
以下のステップを含む磁石および磁石アセンブリの製造方法:
1、表1に基づいて熱硬化性接着層原料A-1を調製した。
項目1:接着層付き磁石50枚を縦方向に48時間重ねた。
表3の項目1において、接着なしは磁石同士の接着なしを意味し、磁石表面に接着なしを示す;僅かな接着は、磁石表面の僅かな粘着性を示す磁石間の僅かな接着を意味し;スティッキングが激しいということは、磁石間のスティッキングが激しいことを意味し、適用を考慮しないので、次の試験は行わなかった。
Claims (15)
- 磁石基体と、少なくとも1層の接着層とからなり、第一の前記接着層は前記磁石基体の表面に設けられており、
前記接着層は、熱硬化性接着層と熱可塑性接着層とを含み、前記熱硬化性接着層は、前記熱可塑性接着層よりも前記磁石基体表面の近くにある;
前記熱硬化性接着層が、膨張剤を含有し、
前記熱可塑性接着層が、40℃~90℃の条件で硬化して、非接着性の薄層を形成することを特徴とする接着層付き磁石。 - 前記接着層の数は複数であり、複数の前記接着層は、前記磁石基体の表面から外に向かって順に設けられ、
ここで、最外層の熱可塑性接着層の厚さと残りの任意の1層の熱可塑性接着層の厚さとの比は、2:1~8:1であることを特徴とする請求項1に記載の接着層付き磁石。 - 前記接着層の厚さの合計が80~150μmであることを特徴とする請求項1に記載の接着層付き磁石。
- 全ての前記熱硬化性接着層の厚みの和と、全ての前記熱可塑性接着層の厚みの和との比が、4:1~10:1であることを特徴とする請求項1に記載の接着層付き磁石。
- 前記熱可塑性接着層は、ナノ硫酸バリウム及びナノエチレンワックスを有する第1の助剤を含むことを特徴とする請求項1に記載の接着層付き磁石。
- 前記熱硬化性接着層は、硬化剤、フィラー、第2助剤を含み、
前記硬化剤が、グアニジン、置換グアニジン、芳香族アミン、及びグアニルアミン誘導体の少なくとも1種であり;
前記フィラーは、シリカ、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、およびタルクのうちの少なくとも1つであり;
前記第2助剤が、硬化促進剤、カップリング剤、消泡剤、繊維、ゴム粒子、希釈剤、難燃剤の少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の接着層付き磁石。 - 接着層を有する磁石の製造方法であって:
調製工程:熱硬化性接着層の原料として熱硬化性接着剤に膨張剤を混入して調製する工程と、
塗布工程:磁石基体の表面から外側に向かって少なくとも1つの接着層を順に塗布する工程と、を含み、
前記接着層が熱硬化性接着層と熱可塑性接着層からなり、前記熱硬化性接着層が、前記熱可塑性接着層よりも前記磁石基体の表面に近い位置に配置され、前記熱硬化性接着層が、40℃~90℃で表面乾燥処理を施され、前記熱可塑性接着層が、40℃~90℃で硬化処理を施されたことを特徴とする接着層を有する磁石の製造方法。 - 前記接着層の厚さの合計は、80~150μmであることを特徴とする、請求項7に記載の接着層付き磁石の製造方法。
- 前記塗布工程において前記接着層を複数層塗布する場合、最外層の熱可塑性接着層の厚さと残りの任意の1層の熱可塑性接着層の厚さとの比は、2:1~8:1であることを特徴とする請求項7に記載の接着層付き磁石の製造方法。
- 全ての熱硬化性接着層の厚さの合計と全ての熱可塑性接着層の厚さの合計との比が、4:1~10:1であることを特徴とする、請求項7に記載の接着層付き磁石の製造方法。
- 前記塗布工程の前に、前記熱可塑性接着層の原料として、熱可塑性主剤を合成するモノマーと、開始剤と、第1助剤とを蒸留水に混合する、
ことを特徴とする請求項7に記載の接着層付き磁石の製造方法。 - 熱硬化性接着層が1層のみの場合には、熱硬化性接着層の原料を複数回塗布することにより熱硬化性接着層を形成、
することを特徴とする請求項7に記載の接着層付き磁石の製造方法。 - 前記調製工程の前に、前記膨張剤を熱可塑性主剤を合成するモノマーで前処理する;
調製に際しては、熱硬化性接着剤に前処理後の膨張剤を混入して熱硬化性接着層の原料とする、
ことを特徴とする請求項7に記載の接着層付き磁石の製造方法。 - キャリアと請求項1~6のいずれか一項に記載の接着層付き磁石とを用いて製造される磁石アセンブリの製造方法であって、前記製造方法は:
挿入:前記接着層付き磁石を前記キャリアの収容槽に挿入するステップ;
加熱:前記接着層を加熱して前記膨張剤を膨張させ、前記熱硬化性接着層を架橋硬化させ、前記熱可塑性接着層と前記熱硬化性接着層とをブレンド共重合させ、前記キャリア収容槽の壁と前記磁石基体との間を前記加熱された接着層で充填する。 - 請求項14に記載の方法で製造された磁石アセンブリ。
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