JP7644477B2 - リン酸塩化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、リン酸塩化合物の製造方法に関する。より詳細には、リン酸エステルと原料塩との反応により、極めて簡便に、高純度のリン酸塩化合物の生成が可能なリン酸塩化合物の製造方法に関する。
リン酸塩化合物の利用は、洗浄剤組成物における界面活性剤、医薬品、帯電防止剤、難燃剤、及び二次電池用添加剤など多岐にわたり（特許文献１～４）、各用途に応じて多様なリン酸塩化合物の製造方法が開発されている。
例えば、特許文献５には、リン酸塩化合物としてのリン酸ジエステル塩の製造方法が開示されている。この製造方法によれば、水の存在下でリン酸トリエステルを加水分解してリン酸ジエステルを生成した後、当該リン酸ジエステルと、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等の水酸化物とを反応させて、リン酸ジエステル塩を生成させている。しかし、この製造方法では、未反応のリン酸トリエステルや、リン酸トリエステルの加水分解の際に副生するアルコール、及びリン酸トリエステルと水酸化物との反応の際に用いる反応溶媒を分離するための煩雑な工程が必要となる。また、出発原料であるリン酸トリエステルは、例えば、モノハロリン酸ジエステル等とヒドロキシ化合物とを、トリエチルアミン等の有機塩基の存在下で反応させることにより得られることが開示されているが、有機塩基の塩が副生するため、当該有機塩基の塩を除去するための工程も必要となる。従って、特許文献５に記載のリン酸ジエステル塩の製造方法では、精製・分離工程や廃棄物処理の観点から工業生産に於ける課題が多い。
特許文献６には、モノハロゲノリン酸エステル塩又はリン酸ジエステル塩の製造方法が開示されている。この製造方法によれば、ジハロゲノリン酸塩と、アルコール類等と、アルカリ金属塩基等とを反応させて、モノハロゲノリン酸エステル塩等を生成させている。しかし、反応制御が容易ではない上、生成物としてはリン酸ジエステル塩との混合物が得られる。そのため、モノハロゲノリン酸エステル塩等の単離・精製が必要となるが、これらの工程は極めて困難となる。一方、リン酸ジエステル塩が得られる場合、反応基質によっては生成物にモノハロリン酸エステル塩やアルカリ金属塩を含むことがある。その場合、リン酸ジエステル塩の単離工程が必要になるが、製造プロセスが煩雑になる。また、反応基質及び溶媒として、過剰量のアルコールを用いるため、生成物からリン酸ジエステル塩を分離する際、真空乾燥や加熱乾燥等によって多量のアルコールを留去する必要がある。
本発明は前記問題点に鑑みられたものであり、その目的は、極めて簡便な方法により、高純度のリン酸塩化合物を製造することが可能な新規のリン酸塩化合物の製造方法を提供することにある。
本発明に係るリン酸塩化合物の製造方法は、前記の課題を解決するために、以下の化学式（Ａ）で表されるリン酸エステルと、以下の化学式（Ｂ）で表される原料塩とを反応させて、以下の化学式（Ｃ）で表されるリン酸塩化合物を生成する工程（Ｉ）を少なくとも含むことを特徴とする。
前記の構成に於いては、前記化学式（Ａ）に於ける前記Ｚがケイ素原子である場合、以下の化学式（Ｄ）で表されるリン酸化合物と、以下の化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物とを反応させて、以下の化学式（Ｆ）で表されるリン酸シリルエステルを生成する工程（ＩＩ）を含むことが好ましい。
さらに前記の構成に於いては、前記化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物が、前記工程（Ｉ）で副生する副生物であることが好ましい。
前記の構成に於いて、前記リン酸化合物は、前記化学式（Ｄ）に於ける前記Ｘ１及びＸ２が、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルコキシ基であり、前記Ｍ’が水素原子である場合のリン酸ジエステルであることが好ましい。
また前記の構成に於いて、前記リン酸化合物は、前記化学式（Ｄ）に於ける前記Ｘ１及びＸ２の何れか一方がフッ素原子であり、他方が炭素数１～１０のアルコキシ基であり、前記Ｍ’が水素原子である場合のフルオロホスホリック酸エステルであることが好ましい。
さらに、前記の構成に於いて、前記リン酸化合物は、前記化学式（Ｄ）に於ける前記Ｘ１及びＸ２がフッ素原子であり、前記Ｍ’が水素原子である場合のジフルオロホスホリック酸であることが好ましい。
前記の構成に於いて、前記ケイ素化合物は、前記化学式（Ｅ）に於ける前記Ｘ３～Ｘ５が、それぞれ独立して、炭素数１～６の炭化水素基であり、前記Ｘ７がハロゲン原子である場合のトリアルキルシリルハロゲン化物であることが好ましい。
また、前記の構成に於いて、前記化学式（Ｂ）に於ける前記Ｍは、リチウム原子、ナトリウム原子、マグネシウム原子、１－メチル－１－プロピルピロリジニウム、又は１－エチル－３－メチルイミダゾリウムであることが好ましい。
前記の構成に於いては、前記工程（Ｉ）及び工程（ＩＩ）の少なくとも何れか一方を無溶媒下で行うことができる。
また、前記の構成に於いては、前記工程（Ｉ）及び工程（ＩＩ）の少なくとも何れか一方を非水溶媒中で行うこともできる。
さらに、前記の構成に於いては、前記非水溶媒が非プロトン性有機溶媒であることが好ましい。
本発明によれば、前記化学式（Ａ）で表されるリン酸エステルと、前記化学式（Ｂ）で表される原料塩とを反応させることで、前記化学式（Ｃ）で表されるリン酸塩化合物を、従来の製造方法よりも極めて簡便に、かつ効率良く、高純度で製造することができる。
（リン酸塩化合物の製造方法）
本実施の形態に係るリン酸塩化合物の製造方法について、以下に説明する。
本実施の形態のリン酸塩化合物の製造方法は、以下に示す化学反応式の通り、化学式（Ａ）で表されるリン酸エステルと、化学式（Ｂ）で表される原料塩とを反応させて、化学式（Ｃ）で表されるリン酸塩化合物を生成する工程（Ｉ）を少なくとも含む。
本実施の形態に係るリン酸塩化合物の製造方法について、以下に説明する。
本実施の形態のリン酸塩化合物の製造方法は、以下に示す化学反応式の通り、化学式（Ａ）で表されるリン酸エステルと、化学式（Ｂ）で表される原料塩とを反応させて、化学式（Ｃ）で表されるリン酸塩化合物を生成する工程（Ｉ）を少なくとも含む。
工程（Ｉ）の反応は、リン酸エステルのＸ３Ｘ４Ｘ５Ｚ－基と、原料塩のＭとが交換されて、リン酸塩化合物を生成するというものであり、当該リン酸塩化合物と当モル量の副生物（Ｅ’）も生成する。
＜リン酸エステル＞
前記リン酸エステルは、以下の化学式（Ａ）で表される。
前記リン酸エステルは、以下の化学式（Ａ）で表される。
前記化学式（Ａ）に於いて、前記Ｚは炭素原子又はケイ素原子を表す。
前記化学式（Ａ）に於いて、前記Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数が１～１０の炭化水素基、炭素数が１～１０のアルコキシ基、炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか１つを有する炭化水素基（以下、「ハロゲン原子等を有する炭化水素基」という場合がある。）、又は、炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか１つを有するアルコキシ基（以下、「ハロゲン原子等を有するアルコキシ基」という場合がある。）を表す。
尚、本明細書に於いて官能基に於ける「炭素数」とは、特記しない限り、官能基の総炭素数を意味する。また本明細書に於いて、例えば、「炭素数が１～１０の炭化水素基」とは、炭素数が１、２、３、・・・又は１０の炭化水素基の総称を意味しており、このことは炭素数を規定した他の官能基に於いても特記しない限り、同様の意味を有する。
前記Ｘ１及びＸ２に於ける炭素数が１～１０の炭化水素基としては、例えば、炭素数１～１０のアルキル基等が挙げられる。さらに、炭素数１～１０のアルキル基としては特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基及びデシル基からなる鎖状アルキル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。前記Ｘ１及びＸ２に於ける炭素数が１～１０の炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６の炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３の炭化水素基がより好ましい。
前記Ｘ１及びＸ２に於ける炭素数が１～１０のアルコキシ基としては特に限定されず、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基及びヘキソキシ基等の鎖状アルコキシ基、シクロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基等の環状アルコキシ基、フェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、３，５－ジメチルフェノキシ基等が挙げられる。前記Ｘ１及びＸ２に於ける炭素数が１～１０のアルコキシ基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のアルコキシ基が好ましく、炭素数１、２及び３のアルコキシ基がより好ましい。
前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０のハロゲン原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素の一部又は全部がハロゲン原子で置換された官能基を意味する。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子を表す。前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０のハロゲン原子を有する炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のハロゲン原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３のハロゲン原子を有する炭化水素基がより好ましい。
前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０のヘテロ原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素及び炭素の一部又は全部がヘテロ原子で置換された官能基を意味する。前記ヘテロ原子は、酸素、窒素、及び硫黄等の原子を表す。前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０のヘテロ原子を有する炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のヘテロ原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３のヘテロ原子を有する炭化水素基がより好ましい。
前記Ｘ１及びＸ２に於けるハロゲン原子又はヘテロ原子を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、ヨードメチル基、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジヨードメチル基、ジブロモメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリヨードメチル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、２－ヨードエチル基、２－ブロモエチル基、２－クロロエチル基、２－フルオロエチル基、１，２－ジヨードエチル基、１，２－ジブロモエチル基、１，２－ジクロロエチル基、１，２－ジフルオロエチル基、２，２－ジヨードエチル基、２，２－ジブロモエチル基、２，２－ジクロロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリブロモエチル基、２，２，２－トリクロロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基及びヘキサフルオロ－２－プロピル基等の鎖状含ハロゲン化アルキル基、２－ヨードシクロヘキシル基、２－ブロモシクロヘキシル基、２－クロロシクロヘキシル基及び２－フルオロシクロヘキシル基等の環状含ハロゲン化アルキル基、２－ヨードフェニル基、２－ブロモフェニル基、２－クロロフェニル基、２－フルオロフェニル基、３－ヨードフェニル基、３－ブロモフェニル基、３－クロロフェニル基、３－フルオロフェニル基、４－ヨードフェニル基、４－ブロモフェニル基、４－クロロフェニル基、４－フルオロフェニル基、２，６－ジヨードフェニル基、２，６－ジブロモフェニル基、２，６－ジクロロフェニル基、２，６－ジフルオロフェニル基、３，５－ジヨードフェニル基、３，５－ジブロモフェニル基、３，５－ジクロロフェニル基、３，５－ジフルオロフェニル基、ペンタヨードフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタクロロフェニル基及びペンタフルオロフェニル基等の含ハロゲン化アリール基、２－ニトロフェニル基、４－ニトロフェニル基、２，４－ジニトロフェニル基、２，６－ジニトロフェニル基及び３－アミノ－２－ナフチル基等の含ヘテロアリール基等が挙げられる。
前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基とは、例えば、炭素数が１～１０の範囲であって、炭素－炭素間に二重結合や三重結合を有する炭化水素基を意味する。さらに、当該不飽和結合を有する炭化水素基としては、不飽和結合数が１、２、３、４及び５の炭化水素基が好ましく、不飽和結合数が１、２及び３の炭化水素基がより好ましい。
前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、エテニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、イソプロペニル基、２－メチル－２－プロペニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、１－ペンテニル基、２－ペンテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、ペンタ－１，４－ジエニル基、ペンタ－２，４－ジエニル基、１－ヘキセニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、４－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、ヘキサ－１，３－ジエニル基、ヘキサ－１，５－ジエニル基、ヘキサ－２，４－ジエニル基、ヘキサ－２，５－ジエニル基、ヘキサ－３，５－ジエニル基及び３－メチル－ヘキサ－２，４－ジエニル基等の鎖状アルケニル基、１－シクロペンテニル基、２－シクロペンテニル基、２，４－シクロペンタジエニル基、１－シクロヘキセニル基、２－シクロヘキセニル基及び３－シクロヘキセニル基等の環状アルケニル基、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、１－ナフチル基及び２－ナフチル基等のアリール基、エチニル基、２－プロピニル基、ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、ペンチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基及び４－ペンチニル基等の鎖状アルキニル基等が挙げられる。
前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０のハロゲン原子を有するアルコキシ基とは、当該アルコキシ基中の水素の一部又は全部がハロゲン原子で置換された官能基を意味する。ここで、ハロゲン原子とは、前述の場合と同様、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子を意味する。前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０のハロゲン原子を有するアルコキシ基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のハロゲン原子を有するアルコキシ基が好ましく、炭素数１、２及び３のハロゲン原子を有するアルコキシ基がより好ましい。
また、前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０のヘテロ原子を有するアルコキシ基とは、当該アルコキシ基中の水素及び炭素の一部又は全部がヘテロ原子で置換された官能基を意味する。ここで、ヘテロ原子とは、前述の場合と同様、酸素、窒素、及び硫黄等の原子を意味する。前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０のヘテロ原子を有するアルコキシ基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のヘテロ原子を有するアルコキシ基が好ましく、炭素数１、２及び３のヘテロ原子を有するアルコキシ基がより好ましい。
前記Ｘ１及びＸ２に於けるハロゲン原子又はヘテロ原子を有するアルコキシ基の具体例としては、例えば、ヨードメトキシ基、ブロモメトキシ基、クロロメトキシ基、フルオロメトキシ基、ジヨードメトキシ基、ジブロモメトキシ基、ジクロロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリヨードメトキシ基、トリブロモメトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２－ヨードエトキシ基、２－ブロモエトキシ基、２－クロロエトキシ基、２－フルオロエトキシ基、１，２－ジヨードエトキシ基、１，２－ジブロモエトキシ基、１，２－ジクロロエトキシ基、１，２－ジフルオロエトキシ基、２，２－ジヨードエトキシ基、２，２－ジブロモエトキシ基、２，２－ジクロロエトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリブロモエトキシ基、２，２，２－トリクロロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基及びヘキサフルオロ－２－プロポキシ基等の鎖状含ハロゲン化アルコキシ基、２－ヨードシクロヘキシルオキシ基、２－ブロモシクロヘキシルオキシ基、２－クロロシクロヘキシルオキシ基及び２－フルオロシクロヘキシルオキシ基等の環状含ハロゲン化アルコキシ基、２－ヨードフェノキシ基、２－ブロモフェノキシ基、２－クロロフェノキシ基、２－フルオロフェノキシ基、３－ヨードフェノキシ基、３－ブロモフェノキシ基、３－クロロフェノキシ基、３－フルオロフェノキシ基、４－ヨードフェノキシ基、４－ブロモフェノキシ基、４－クロロフェノキシ基、４－フルオロフェノキシ基、２，６－ジヨードフェノキシ基、２，６－ジブロモフェノキシ基、２，６－ジクロロフェノキシ基、２，６－ジフルオロフェノキシ基、３，５－ジヨードフェノキシ基、３，５－ジブロモフェノキシ基、３，５－ジクロロフェノキシ基、３，５－ジフルオロフェノキシ基、ペンタヨードフェノキシ基、ペンタブロモフェノキシ基、ペンタクロロフェノキシ基及びペンタフルオロフェノキシ基等の含ハロゲン化アリール基、２－ニトロフェノキシ基、４－ニトロフェノキシ基、２，４－ジニトロフェノキシ基、２，６－ジニトロフェノキシ基及び３－アミノ－２－ナフトキシ基等の含ヘテロアリール基等が挙げられる。
前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０の範囲であって、不飽和結合を有するアルコキシ基とは、例えば、炭素－炭素間に二重結合や三重結合を有するアルコキシ基を意味する。さらに、当該不飽和結合を有するアルコキシ基としては、不飽和結合数が１、２、３、４及び５のアルコキシ基が好ましく、不飽和結合数が１、２及び３のアルコキシ基がより好ましい。
前記Ｘ１及びＸ２に於ける、炭素数が１～１０の不飽和結合を有するアルコキシ基の具体例としては、例えば、エテニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、２－プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、２－メチル－２－プロペニルオキシ基、２－ブテニルオキシ基、３－ブテニルオキシ基、３－メチル－２－ブテニルオキシ基、１－ペンテニルオキシ基、２－ペンテニルオキシ基、３－ペンテニルオキシ基、４－ペンテニルオキシ基、ペンタ－１，４－ジエニルオキシ基、ペンタ－２，４－ジエニルオキシ基、１－ヘキセニルオキシ基、２－ヘキセニルオキシ基、３－ヘキセニルオキシ基、４－ヘキセニルオキシ基、５－ヘキセニルオキシ基、ヘキサ－１，３－ジエニルオキシ基、ヘキサ－１，５－ジエニルオキシ基、ヘキサ－２，４－ジエニルオキシ基、ヘキサ－２，５－ジエニルオキシ基、ヘキサ－３，５－ジエニルオキシ基及び３－メチル－ヘキサ－２，４－ジエニルオキシ基等の鎖状アルケニルオキシ基、１－シクロペンテニルオキシ基、２－シクロペンテニルオキシ基、２，４－シクロペンタジエニルオキシ基、１－シクロヘキセニルオキシ基、２－シクロヘキセニルオキシ基、３－シクロヘキセニルオキシ基等の環状アルケニルオキシ基、フェノキシ基、２－メチルフェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、２，６－ジメチルフェノキシ基、３，５－ジメチルフェノキシ基、２，４，６－トリメチルフェノキシ基、１－ナフトキシ基及び２－ナフトキシ基等のアリールオキシ基、エチニルオキシ基、２－プロピニルオキシ基、ブチニルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、３－ブチニルオキシ基、ペンチニルオキシ基、２－ペンチニルオキシ基、３－ペンチニルオキシ基及び４－ペンチニルオキシ基等の鎖状アルキニルオキシ基等が挙げられる。
前記Ｘ１及びＸ２は、同種でもよく相互に異なっていてもよい。また、前記Ｘ１及びＸ２として前記に挙げた官能基は単なる例示に過ぎず、本実施の形態はこれらに限定されるものではない。
前記化学式（Ａ）に於けるＸ３～Ｘ５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数が１～１０の炭化水素基、炭素数が１～１０のアルコキシ基、ハロゲン原子等を有する炭化水素基、又は、ハロゲン原子等を有するアルコキシ基を表す。さらに、前記Ｘ３～Ｘ５の少なくとも１つは、前記炭素数１～１０の炭化水素基又は前記炭素数１～１０のアルコキシ基の何れかである。
前記炭素数が１～１０の炭化水素基、炭素数が１～１０のアルコキシ基、ハロゲン原子等を有する炭化水素基、及びハロゲン原子等を有するアルコキシ基は、前記Ｘ１及びＸ２で述べたのと同様である。従って、その詳細については省略する。
前記Ｘ３～Ｘ５は、同種でもよく相互に異なっていてもよい。また、前記Ｘ３～Ｘ５として前記に挙げた官能基は単なる例示に過ぎず、本実施の形態はこれらに限定されるものではない。
前記化学式（Ａ）で表されるリン酸エステルの具体例としては、例えば、トリメチルホスファート、トリエチルホスファート、トリプロピルホスファート、トリブチルホスファート、トリペンチルホスファート、トリヘキシルホスファート、２－エチルヘキシルジフェニルホスファート、トリアリルホスファート、トリプロパルギルホスファート、トリス（２－ブトキシエチル）ホスファート、トリス（２－クロロエチル）ホスファート、エチルビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、ジエチル２，２，２－トリフルオロエチルホスファート、トリス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、トリス（１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロピル）ホスファート、ジメチルフルオロホスファート、ジエチルフルオロホスファート、ジプロピルフルオロホスファート、ジブチルフルオロホスファート、ジペンチルフルオロホスファート、ジヘキシルフルオロホスファート、２－エチルヘキシルフェニルフルオロホスファート、ジアリルフルオロホスファート、ジプロパルギルフルオロホスファート、ビス（２－ブトキシエチル）フルオロホスファート、ビス（２－クロロエチル）フルオロホスファート、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）フルオロホスファート、ビス（１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロピル）フルオロホスファート、メチルジフルオロホスファート、エチルジフルオロホスファート、プロピルジフルオロホスファート、アリルジフルオロホスファート、プロパルギルジフルオロホスファート、２－ブトキシエチルジフルオロホスファート、２－クロロエチルジフルオロホスファート、２，２，２－トリフルオロエチルジフルオロホスファート、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロピルジフルオロホスファート、ジメチルトリメチルシリルホスファート、ジエチルトリメチルシリルホスファート、トリメチルシリルジプロピルホスファート、ジブチルトリメチルシリルホスファート、トリメチルシリルジペンチルホスファート、ジヘキシルトリメチルシリルホスファート、トリメチルシリルジフェニルホスファート、ジアリルトリメチルシリルホスファート、トリメチルシリルジプロパルギルホスファート、ビス（２－ブトキシエチル）トリメチルシリルホスファート、ビス（２－クロロエチル）トリメチルシリルホスファート、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファート、ビス（１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロピル）トリメチルシリルホスファート、メチルトリメチルシリルフルオロホスファート、エチルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリル（プロピル）フルオロホスファート、ブチルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリル（ペンチル）フルオロホスファート、ヘキシルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリル（フェニル）フルオロホスファート、アリルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリル（プロパルギル）フルオロホスファート、２－ブトキシエチルトリメチルシリルフルオロホスファート、２－クロロエチルトリメチルシリルフルオロホスファート、２，２，２－トリフルオロエチルトリメチルシリルフルオロホスファート、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロピルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリルジフルオロホスファート、ジメチルビニルシリルジフルオロホスファート、ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファート、トリエチルシリルジフルオロホスファート、シクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファート、トリイソプロピルシリルジフルオロホスファート、メチルジフェニルシリルジフルオロホスファート等が挙げられる。但し、前記化学式（Ａ）で表されるリン酸エステルは、これらの化合物群に限定されない。
＜原料塩＞
前記原料塩は、以下の化学式（Ｂ）で表される。
前記原料塩は、以下の化学式（Ｂ）で表される。
前記化学式（Ｂ）に於いて、前記Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウム、遷移金属、又はオニウムを表す。
前記アルカリ金属としては特に限定されず、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓが挙げられる。これらのアルカリ金属のうち、入手容易性の観点からは、Ｌｉ、Ｎａ及びＫが好ましく、リン酸塩化合物の汎用性の観点からは、Ｌｉ及びＮａがより好ましい。
前記アルカリ土類金属としては特に限定されず、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａが挙げられる。これらのアルカリ土類金属のうち、入手容易性及び安全性の観点からは、Ｍｇ、Ｃａ及びＢａが好ましく、リン酸塩化合物の汎用性の観点からは、Ｍｇがより好ましい。
前記遷移金属としては特に限定されず、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎが挙げられる。これらの遷移金属のうち、入手容易性の観点から、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ及びＣｕが好ましい。
前記オニウムとしては特に限定されず、第１級アンモニウム、第２級アンモニウム、第３級アンモニウム、第４級アンモニウム、第４級ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられる。
前記第１級アンモニウムとしては特に限定されず、例えば、メチルアンモニウム、エチルアンモニウム、プロピルアンモニウム、イソプロピルアンモニウム等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。
前記第２級アンモニウムとしては特に限定されず、例えば、ジメチルアンモニウム、ジエチルアンモニウム、ジプロピルアンモニウム、ジブチルアンモニウム、エチルメチルアンモニウム、メチルプロピルアンモニウム、ブチルメチルアンモニウム、ブチルプロピルアンモニウム、ジイソプロピルアンモニウム等が挙げられる。
前記第３級アンモニウムとしては特に限定されず、例えば、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウムアンモニウム、トリブチルアンモニウム、エチルジメチルアンモニウム、ジエチルメチルアンモニウム、トリイソプロピルアンモニウム、ジメチルイソプロピルアンモニウム、ジエチルイソプロピルアンモニウム、ジメチルプロピルアンモニウム、ブチルジメチルアンモニウム、１－メチルピロリジニウム、１－エチルピロリジニウム、１－プロピルピロリジニウム、１－ブチルプロピルピロリジニウム、１－メチルイミダゾリウム、１－エチルイミダゾリウム、１－プロピルイミダゾリウム、１－ブチルイミダゾリウム、ピラゾリウム、１－メチルピラゾリウム、１－エチルピラゾリウム、１－プロピルピラゾリウム、１－ブチルピラゾリウム、ピリジニウム等が挙げられる。
前記第４級アンモニウムとしては特に限定されず、例えば、脂肪族４級アンモニウム類、イミダゾリウム類、ピリジニウム類、ピラゾリウム類、ピリダジニウム類等が挙げられる。
さらに、前記脂肪族４級アンモニウム類としては特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトライソプロピルアンモニウム、エチルトリメチルアンモニウム、ジエチルジメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、トリメチルプロピルアンモニウム、トリメチルイソプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ブチルトリメチルアンモニウム、トリメチルペンチルアンモニウム、ヘキシルトリメチルアンモニウム、１－メチル－１－プロピルピロリジニウム、１－エチル－１－メチル－ピロリジニウム、１－ブチル－１－メチルピロリジニウム、１－エチル－１－メチル－ピペリジニウム、１－ブチル－１－メチルピペリジニウム等が挙げられる。
前記イミダゾリウム類としては特に限定されず、例えば、１，３－ジメチル－イミダゾリウム、１－エチル－３－メチルイミダゾリウム、１－ｎ－プロピル－３－メチルイミダゾリウム、１－ｎ－ブチル－３－メチルイミダゾリウム、１－ｎ－ヘキシル－３－メチルイミダゾリウム等が挙げられる。
前記ピリジニウム類としては特に限定されず、例えば、１－メチルピリジニウム、１－エチルピリジニウム、１－ｎ－プロピルピリジニウム等が挙げられる。
前記ピラゾリウム類としては特に限定されず、例えば、１，２－ジメチルピラゾリウム、２－エチル－１－メチルピラゾリウム、２－メチル－１－プロピルピラゾリウム、２－ブチル－１－メチルピラゾリウム、１－メチルピラゾリウム、３－メチルピラゾリウム、４－メチルピラゾリウム、４－ヨードピラゾリウム、４－ブロモピラゾリウム、４－ヨード－３－メチルピラゾリウム、４－ブロモー３－メチルピラゾリウム、３－トリフルオロメチルピラゾリウムが挙げられる。
前記ピリダジニウム類としては特に限定されず、例えば、１－メチルピリダジニウム、１－エチルピリダジニウム、１－プロピルピリダジニウム、１－ブチルピリダジニウム、３－メチルピリダジニウム、４－メチルピリダジニウム、３－メトキシピリダジニウム、３，６－ジクロロピリダジニウム、３，６－ジクロロ－４－メチルピリダジニウム、３－クロロ－６－メチルピリダジニウム、３－クロロ－６－メトキシピリダジニウムが挙げられる。
例示したオニウムのうち、入手容易性及び汎用性の観点からは、テトラエチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、１－メチル－１－プロピルピロリジニウム、及び１－エチル－３－メチルイミダゾリウム等が好ましい。
前記Ｘ６に於けるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子が挙げられる。これらのハロゲン原子のうち、脱離能の高さや副生成物の再利用の観点からは、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が好ましい。
前記Ｘ６に於ける炭素数１～１０のアルコキシ基としては特に限定されず、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基及びヘキソキシ基等の鎖状アルコキシ基、シクロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基等の環状アルコキシ基、フェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、３，５－ジメチルフェノキシ基等が挙げられる。前記Ｘ６に於ける炭素数１～１０のアルコキシ基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のアルコキシ基が好ましく、炭素数１、２及び３のアルコキシ基がより好ましい。
前記Ｘ６に於けるハロアシルオキシ基としては特に限定されないが、１～７個の何れかの炭素原子を有し、かつ１個又はそれ以上の水素原子がハロゲン原子により置換された官能基が好ましい。具体的には、例えば、ヨードアセチル基、ブロモアセチル基、クロロアセチル基、フルオロアセチル基、ジヨードアセチル基、ジブロモアセチル基、ジクロロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリヨードアセチル基、トリブロモアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、３，３，３－トリヨードプロパノイル基、３，３，３－トリブロモプロパノイル基、３，３，３－トリクロロプロパノイル基、３，３，３－トリフルオロプロパノイル基、ペンタヨードプロパノイル基、ペンタブロモプロパノイル基、ペンタクロロプロパノイル基、ペンタフルオロプロパノイル基、４，４，４－トリヨードブタノイル基、４，４，４－トリブロモブタノイル基、４，４，４－トリクロロブタノイル基、４，４，４－トリフルオロブタノイル基、３，３，４，４，４－ペンタヨードブタノイル基、３，３，４，４，４－ペンタブロモブタノイル基、３，３，４，４，４－ペンタクロロブタノイル基、３，３，４，４，４－ペンタフルオロブタノイル基、ヘプタヨードブタノイル基、ヘプタブロモブタノイル基、ヘプタクロロブタノイル基、ヘプタフルオロプブタノイル基、ペンタヨードベンゾイル基、ペンタブロモベンゾイル基、ペンタクロロベンゾイル基及びペンタフルオロベンゾイル基等が挙げられる。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素を表す。
前記Ｘ６に於けるスルホニルオキシ基は、－ＳＯ３Ｙ基で表される。ここで、前記Ｙは、ハロゲン原子、炭素数１～１０の炭化水素基、又は、炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか１つを有する炭化水素基を表す。
前記Ｙに於けるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子が挙げられる。
前記Ｙに於ける炭素数１～１０の炭化水素基としては特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。前記Ｙに於ける炭素数１～１０の炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６の炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３の炭化水素基がより好ましい。
前記Ｙに於ける炭素数が１～１０のハロゲン原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素の一部又は全部がハロゲン原子で置換された官能基を意味する。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子を表す。前記Ｙに於ける炭素数が１～１０のハロゲン原子を有する炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のハロゲン原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３のハロゲン原子を有する炭化水素基がより好ましい。
前記Ｙに於ける、炭素数が１～１０のヘテロ原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素及び炭素の一部又は全部がヘテロ原子で置換された官能基を意味する。前記ヘテロ原子は、酸素、窒素、及び硫黄等の原子を表す。前記Ｙに於ける、炭素数が１～１０のヘテロ原子を有する炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のヘテロ原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３のヘテロ原子を有する炭化水素基がより好ましい。
前記Ｙに於ける、炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子又はヘテロ原子を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、ヨードメチル基、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジヨードメチル基、ジブロモメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリヨードメチル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、２－ヨードエチル基、２－ブロモエチル基、２－クロロエチル基、２－フルオロエチル基、１，２－ジヨードエチル基、１，２－ジブロモエチル基、１，２－ジクロロエチル基、１，２－ジフルオロエチル基、２，２－ジヨードエチル基、２，２－ジブロモエチル基、２，２－ジクロロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリブロモエチル基、２，２，２－トリクロロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基及びヘキサフルオロ－２－プロピル基等の鎖状含ハロゲン化アルキル基、２－ヨードシクロヘキシル基、２－ブロモシクロヘキシル基、２－クロロシクロヘキシル基及び２－フルオロシクロヘキシル基等の環状含ハロゲン化アルキル基、２－ヨードフェニル基、２－ブロモフェニル基、２－クロロフェニル基、２－フルオロフェニル基、３－ヨードフェニル基、３－ブロモフェニル基、３－クロロフェニル基、３－フルオロフェニル基、４－ヨードフェニル基、４－ブロモフェニル基、４－クロロフェニル基、４－フルオロフェニル基、２，６－ジヨードフェニル基、２，６－ジブロモフェニル基、２，６－ジクロロフェニル基、２，６－ジフルオロフェニル基、３，５－ジヨードフェニル基、３，５－ジブロモフェニル基、３，５－ジクロロフェニル基、３，５－ジフルオロフェニル基、ペンタヨードフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタクロロフェニル基及びペンタフルオロフェニル基等の含ハロゲン化アリール基、２－ニトロフェニル基、４－ニトロフェニル基、２，４－ジニトロフェニル基、２，６－ジニトロフェニル基、及び３－アミノ－２－ナフチル基等の含ヘテロアリール基等が挙げられる。
前記Ｙに於ける、炭素数が１～１０の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基とは、例えば、炭素数が１～１０の範囲であって、炭素－炭素間に二重結合や三重結合を有する炭化水素基を意味する。さらに、当該不飽和結合を有する炭化水素基としては、不飽和結合数が１、２、３、４及び５の炭化水素基が好ましく、不飽和結合数が１、２及び３の炭化水素基がより好ましい。
前記Ｙに於ける炭素数が１～１０の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、エテニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、イソプロペニル基、２－メチル－２－プロペニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、１－ペンテニル基、２－ペンテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、ペンタ－１，４－ジエニル基、ペンタ－２，４－ジエニル基、１－ヘキセニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、４－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、ヘキサ－１，３－ジエニル基、ヘキサ－１，５－ジエニル基、ヘキサ－２，４－ジエニル基、ヘキサ－２，５－ジエニル基、ヘキサ－３，５－ジエニル基及び３－メチル－ヘキサ－２，４－ジエニル基等の鎖状アルケニル基、１－シクロペンテニル基、２－シクロペンテニル基、２，４－シクロペンタジエニル基、１－シクロヘキセニル基、２－シクロヘキセニル基及び３－シクロヘキセニル基等の環状アルケニル基、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、１－ナフチル基及び２－ナフチル基等のアリール基、エチニル基、２－プロピニル基、ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、ペンチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基及び４－ペンチニル基等の鎖状アルキニル基等が挙げられる。
前記化学式（Ｂ）で表される原料塩の具体例としては、例えば、フッ化リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、フッ化セシウム、塩化セシウム、臭化セシウム、ヨウ化セシウム、フッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、フッ化カルシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、ヨウ化カルシウム、フッ化アルミニウム、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、塩化マンガン（ＩＩ）、臭化マンガン（ＩＩ）、ヨウ化マンガン（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩ）、塩化銅（ＩＩ）、臭化銅（ＩＩ）、ヨウ化銅（ＩＩ）、テトラエチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムヨージド、トリエチルメチルアンモニウムフルオリド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、トリエチルメチルアンモニウムブロミド、トリエチルメチルアンモニウムヨージド、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムフルオリド、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムクロリド、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムブロミド、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムヨージド、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムフルオリド、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムクロリド、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムブロミド、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムヨージド等が挙げられる。但し、前記化学式（Ｂ）で表される原料塩は、これらの化合物群に限定されない。
前記ｎは価数であり、１～４の自然数を表す。
＜リン酸塩化合物＞
前記リン酸塩化合物は、以下の化学式（Ｃ）で表される。
前記リン酸塩化合物は、以下の化学式（Ｃ）で表される。
前記化学式（Ｃ）に於いて、前記Ｍは前記化学式（Ａ）と同一のカチオン種を表す。また、前記Ｘ１及びＸ２は、前記化学式（Ａ）と同一の官能基を表す。従って、これらの詳細については説明を省略する。
前記化学式（Ｃ）で表されるリン酸塩化合物の具体例としては、例えば、ジエチルリン酸リチウム、ジエチルリン酸ナトリウム、ジエチルリン酸カリウム、ジエチルリン酸マグネシウム、ジエチルリン酸カルシウム、ジエチルリン酸アルミニウム、ジエチルリン酸マンガン（ＩＩ）、ジエチルリン酸ニッケル（ＩＩ）、ジエチルリン酸コバルト（ＩＩ）、ジエチルリン酸銅（ＩＩ）、テトラエチルアンモニウムジエチルホスファート、トリエチルメチルアンモニウムジエチルホスファート、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムジエチルホスファート、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムジエチルホスファート、ジプロピルリン酸リチウム、ジプロピルリン酸ナトリウム、ジプロピルリン酸カリウム、ジプロピルリン酸マグネシウム、ジプロピルリン酸カルシウム、ジプロピルリン酸アルミニウム、ジプロピルリン酸マンガン（ＩＩ）、ジプロピルリン酸ニッケル（ＩＩ）、ジプロピルリン酸コバルト（ＩＩ）、ジプロピルリン酸銅（ＩＩ）、テトラエチルアンモニウムジプロピルホスファート、トリエチルメチルアンモニウムジプロピルホスファート、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムジプロピルホスファート、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムジプロピルホスファート、ジブチルリン酸リチウム、ジブチルリン酸ナトリウム、ジブチルリン酸カリウム、ジブチルリン酸マグネシウム、ジブチルリン酸カルシウム、ジブチルリン酸アルミニウム、ジブチルリン酸マンガン（ＩＩ）、ジブチルリン酸ニッケル（ＩＩ）、ジブチルリン酸コバルト（ＩＩ）、ジブチルリン酸銅（ＩＩ）、テトラエチルアンモニウムジブチルホスファート、トリエチルメチルアンモニウムジブチルホスファート、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムジブチルホスファート、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムジブチルホスファート、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸リチウム、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ナトリウム、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸カリウム、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸マグネシウム、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸カルシウム、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸アルミニウム、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸マンガン（ＩＩ）、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ニッケル（ＩＩ）、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸コバルト（ＩＩ）、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸銅（ＩＩ）、テトラエチルアンモニウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、トリエチルメチルアンモニウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸リチウム、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ナトリウム、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸カリウム、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸マグネシウム、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸カルシウム、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸アルミニウム、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸マンガン（ＩＩ）、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ニッケル（ＩＩ）、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸コバルト（ＩＩ）、エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸銅（ＩＩ）、テトラエチルアンモニウムエチル（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、トリエチルメチルアンモニウムエチル（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムエチル（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムエチル（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、リチウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、ナトリウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、カリウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、マグネシウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、カルシウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、アルミニウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、マンガン（ＩＩ）２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、ニッケル（ＩＩ）２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、コバルト（ＩＩ）２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、銅（ＩＩ）２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、テトラエチルアンモニウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、トリエチルメチルアンモニウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、１－プロピル－１－メチルピロリジニウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、１－エチル－３－メチルイミダゾリウム２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、リチウムジフルオロホスファート、ナトリウムジフルオロホスファート、カリウムジフルオロホスファート、セシウムジフルオロホスファート、マグネシウムジフルオロホスファート、カルシウムジフルオロホスファート、アルミニウムジフルオロホスファート、マンガン（ＩＩ）ジフルオロホスファート、ニッケル（ＩＩ）ジフルオロホスファート、コバルト（ＩＩ）ジフルオロホスファート、銅（ＩＩ）ジフルオロホスファート、テトラエチルアンモニウムジフルオロホスファート、トリエチルメチルアンモニウムジフルオロホスファート、１－プロピル－１－メチルピロリジニウムジフルオロホスファート、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムジフルオロホスファート等が挙げられる。但し、前記化学式（Ｃ）で表されるリン酸塩化合物は、これらの化合物群に限定されない。
＜工程（Ｉ）の反応条件＞
前記工程（Ｉ）の反応モル比は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。リン酸エステルと原料塩の反応モル比に於いて、通常は、リン酸エステルの下限値が、原料塩１モルに対し１モル以上である。また、リン酸エステルの上限値は、通常、２．５モル以下であり、工業生産の観点からは１．５モル以下が好ましい。
前記工程（Ｉ）の反応モル比は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。リン酸エステルと原料塩の反応モル比に於いて、通常は、リン酸エステルの下限値が、原料塩１モルに対し１モル以上である。また、リン酸エステルの上限値は、通常、２．５モル以下であり、工業生産の観点からは１．５モル以下が好ましい。
前記工程（Ｉ）の反応開始温度は、当該反応が進行する限りに於いて特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。反応開始温度の下限値は、通常は０℃以上であり、反応性の観点からは２０℃以上が好ましく、６０℃以上がより好ましい。また、反応開始温度の上限値は、通常は１５０℃以下であり、反応性の観点からは１２０℃以下が好ましく、１００℃以下がより好ましい。尚、反応開始温度の下限値を０℃以上にすることにより、反応速度が著しく減衰するのを防止することができる。その一方、反応開始温度の上限値を１５０℃以下にすることにより、反応に使用する過剰なエネルギーを抑制することができる。
反応開始温度の調整手段としては特に限定されない。例えば、反応開始温度を前記温度範囲内となる様に冷却して制御する場合には、リン酸エステルと原料塩が投入される反応容器を氷冷等により行うことができる。また、反応開始温度を前記温度範囲内となる様に加熱して制御する場合には、任意の温度に設定された油浴等により行うことができる。
前記工程（Ｉ）の反応時間は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。反応時間の下限値は、通常は１時間以上である。また、反応時間の上限値は、通常は１０時間以下であり、工業生産の観点からは６時間以下が好ましく、４時間以下がより好ましい。
前記工程（Ｉ）の反応は、無溶媒下又は非水溶媒中で行うことができる。工程（Ｉ）の反応を無溶媒下で行う場合、リン酸エステルが反応溶媒としての機能も果たす。
前記非水溶媒としては、他の反応物や生成物と反応するような支障が生じない限り、特に限定されないが、非プロトン性有機溶媒を用いるのが好ましい。
前記非プロトン性有機溶媒としては特に限定されず、例えば、アルコール類、ニトリル類、エステル類、ケトン類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。
前記アルコール類としては特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、２－プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、２－ヨードエタノール、２－ブロモエタノール、２－クロロエタノール、２－フルオロエタノール、１，２－ジヨードエタノール、１，２－ジブロモエタノール、１，２－ジクロロエタノール、１，２－ジフルオロエタノール、２，２－ジヨードエタノール、２，２－ジブロモエタノール、２，２－ジクロロエタノール、２，２－ジフルオロエタノール、２，２，２－トリブロモエタノール、２，２，２－トリクロロエタノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロ－２－プロパノール等が挙げられる。これらは、一種単独、又は二種類以上を使用することができる。
前記ニトリル類としては特に限定されず、例えば、アセトニトリル、プロパンニトリル等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。
前記エステル類としては特に限定されず、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。
前記ケトン類としては特に限定されず、例えば、アセトン、エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。
前記エーテル類としては特に限定されず、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。
前記ハロゲン化炭化水素としは特に限定されず、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，１，２，２－テトラクロロエタン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。
また、非水溶媒のその他の例として、トルエン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ニトロメタン、ニトロエタン等も挙げられる。
以上に例示した非水溶媒のうち、本発明に於いては、反応基質の溶解性及び入手容易性の観点から、ニトリル類、エステル類、ケトン類、エーテル類及びハロゲン化炭化水素類が好ましい。
前記非水溶媒の使用量に関し、その下限値は、前記リン酸エステル１モルに対し、１モル以上が好ましく、１０モル以上がより好ましい。前記非水溶媒の使用量の上限値は、前記リン酸エステル１モルに対し、１００００モル以下が好ましく、１０００モル以下がより好ましく、１００モル以下がさらに好ましい。非水溶媒の使用量の下限値を１モル以上にすることにより、リン酸エステルと原料塩との反応性が低下するのを防止し、リン酸塩化合物の収率やその純度の低下を抑制することができる。その一方、前記非水溶媒の使用量の上限値を１００００モル以下にすることにより、これを留去する際のエネルギーを抑制し、工業的生産に於いて不利になるのを防止することができる。
前記工程（Ｉ）で得られるリン酸塩化合物について、その純度に応じて単離・精製してもよい。その方法は特に限定されず、公知の方法を採用することができる。具体的には、常圧蒸留、減圧蒸留、濾過、濾取、再結晶、昇華精製、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、分取薄層クロマトグラフィー（ＰＴＬＣ）、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、イオンクロマトグラフィー（ＩＣ）等の方法が挙げられる。
（リン酸エステルの製造方法）
前記リン酸エステルは、前記Ｚがケイ素原子である場合、酸無水物等を原料として利用する公知の製造方法により得ることができる。但し、本実施の形態に於いては、以下に示す化学反応式の通り、化学式（Ｄ）で表されるリン酸化合物と、化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物とを反応させて、化学式（Ｆ）で表されるリン酸シリルエステルを生成する工程（ＩＩ）を含むのが好ましい。これにより、リン酸エステルを効率的に得ることができる。
前記リン酸エステルは、前記Ｚがケイ素原子である場合、酸無水物等を原料として利用する公知の製造方法により得ることができる。但し、本実施の形態に於いては、以下に示す化学反応式の通り、化学式（Ｄ）で表されるリン酸化合物と、化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物とを反応させて、化学式（Ｆ）で表されるリン酸シリルエステルを生成する工程（ＩＩ）を含むのが好ましい。これにより、リン酸エステルを効率的に得ることができる。
工程（ＩＩ）の反応であると、前記化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物として、工程（Ｉ）で副生するケイ素化合物の再利用が可能になる。これにより、生産効率が極めて高く、かつ、製造コストを低減してリン酸塩化合物を製造することができる。
＜リン酸化合物＞
前記リン酸化合物は、以下の化学式（Ｄ）で表される。
前記リン酸化合物は、以下の化学式（Ｄ）で表される。
前記化学式（Ｄ）に於いて、前記Ｘ１及びＸ２は、前記化学式（Ａ）と同一の官能基を表す。従って、これらの詳細については説明を省略する。
前記化学式（Ｄ）に於いて、前記Ｍ’は、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭素数が１～１０の第１級炭化水素基、炭素数が１～１０の第２級炭化水素基、炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか１つを有する第１級炭化水素基（以下、「ハロゲン原子等を有する第１級炭化水素基」という。）、又は、炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか１つを有する第２級炭化水素基（以下、「ハロゲン原子等を有する第２級炭化水素基」という。）を表す。
前記Ｍ’に於けるアルカリ金属としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓが挙げられる。これらのアルカリ金属のうち、入手容易性の点からは、Ｌｉ、Ｎａ及びＫが好ましい。
前記Ｍ’に於けるアルカリ土類金属としては特に限定されず、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａが挙げられる。これらのアルカリ土類金属のうち、入手容易性及び安全性の観点からは、Ｍｇ、Ｃａ及びＢａが好ましい。
前記Ｍ’に於ける炭素数１～１０の第１級炭化水素基としては特に限定されず、例えば、第１級アルキル基等が挙げられる。また、前記炭素数１～１０の第２級炭化水素基としては特に限定されず、例えば、第２級アルキル基等が挙げられる。炭素数１～１０の第１級アルキル基及び炭素数１～１０の第２級アルキル基としては特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。前記Ｍ’に於ける炭素数１～１０の第１級炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６の第１級炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３の第１級炭化水素基がより好ましい。また、前記Ｍ’に於ける炭素数１～１０の第２級炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６の第２級炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３の第２級炭化水素基がより好ましい。
前記Ｍ’に於ける、炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子等を有する第１級炭化水素基、及び炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子等を有する第２級炭化水素基としては特に限定されず、例えば、２－ヨードエチル基、２－ブロモエチル基、２－クロロエチル基、２－フルオロエチル基、１，２－ジヨードエチル基、１，２－ジブロモエチル基、１，２－ジクロロエチル基、１，２－ジフルオロエチル基、２，２－ジヨードエチル基、２，２－ジブロモエチル基、２，２－ジクロロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリブロモエチル基、２，２，２－トリクロロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基及びヘキサフルオロ－２－プロピル基等の鎖状含ハロゲン化アルキル基、２－ヨードシクロヘキシル基、２－ブロモシクロヘキシル基、２－クロロシクロヘキシル基、２－フルオロシクロヘキシル基等の環状含ハロゲン化アルキル基、２－プロペニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基等の鎖状アルケニル基、２－シクロペンテニル基、２－シクロヘキセニル基、３－シクロヘキセニル基等の環状アルケニル基、２－プロピニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基、４－ペンチニル基等の鎖状アルキニル基等が挙げられる。前記Ｍ’に於ける、炭素数が１～１０の範囲のハロゲン原子等を有する第１級炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のハロゲン原子等を有する第１級炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３のハロゲン原子等を有する第１級炭化水素基がより好ましい。また、前記Ｍ’に於ける、炭素数が１～１０の範囲のハロゲン原子等を有する第２級炭化水素基としては、炭素数１、２、３、４、５及び６のハロゲン原子等を有する第２級炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３のハロゲン原子等を有する第２級炭化水素基がより好ましい。
前記Ｍ’に於ける不飽和結合とは、例えば、炭素－炭素間に於ける二重結合、又は三重結合を意味する。
前記化学式（Ｄ）で表されるリン酸化合物は、より具体的には、前記Ｘ１及びＸ２が、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルコキシ基であり、前記Ｍ’が水素原子である場合のリン酸ジエステル、前記Ｘ１及びＸ２の何れか一方がフッ素原子であり、他方が炭素数１～１０のアルコキシ基であり、前記Ｍ’が水素原子である場合のフルオロホスホリック酸エステル、及び、前記Ｘ１及びＸ２がフッ素原子であり、前記Ｍ’が水素原子である場合のジフルオロホスホリック酸であることが好ましい。
前記化学式（Ｄ）で表されるリン酸化合物の具体例としては、例えば、ジメチルホスファート、ジエチルホスファート、ジプロピルホスファート、ジブチルホスファート、ジペンチルホスファート、ジヘキシルホスファート、ジフェニルホスファート、ジアリルホスファート、ジプロパルギルホスファート、ビス（２－ブトキシエチル）ホスファート、ビス（２－クロロエチル）ホスファート、ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート、ビス（１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロピル）ホスファート、メチルフルオロホスファート、エチルフルオロホスファート、プロピルフルオロホスファート、ブチルフルオロホスファート、ペンチルフルオロホスファート、ヘキシルフルオロホスファート、フェニルフルオロホスファート、アリルフルオロホスファート、プロパルギルフルオロホスファート、２－ブトキシエチルフルオロホスファート、２－クロロエチルフルオロホスファート、２，２，２－トリフルオロエチルフルオロホスファート、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロピルフルオロホスファート、ジフルオロホスホリック酸等が挙げられる。但し、前記化学式（Ｄ）で表されるリン酸化合物は、これらの化合物群に限定されない。
＜ケイ素化合物＞
前記ケイ素化合物は、以下の化学式（Ｅ）で表される。
前記ケイ素化合物は、以下の化学式（Ｅ）で表される。
前記化学式（Ｅ）に於いて、前記Ｘ３～Ｘ５は、前記化学式（Ａ）と同一の官能基を表す。従って、これらの詳細については説明を省略する。
前記Ｘ７は脱離基であって、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルコキシ基、ハロアシルオキシ基、又はスルホニルオキシ基を表す。
前記Ｘ７に於けるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子が挙げられる。これらのハロゲン原子のうち、脱離能の高さや副生成物の再利用の観点からは、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が好ましい。
前記Ｘ７における炭素数１～１０のアルコキシ基としては特に限定されず、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基及びヘキソキシ基等の鎖状アルコキシ基、シクロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基等の環状アルコキシ基、フェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、３，５－ジメチルフェノキシ基等が挙げられる。前記Ｘ７における炭素数１～１０のアルコキシ基は、炭素数１、２、３、４、５及び６のアルコキシ基が好ましく、１、２及び３のアルコキシ基がより好ましい。
前記Ｘ７におけるハロアシルオキシ基としては、特に限定されないが、１～７個の何れかの炭素原子を有し、かつ１個又はそれ以上の水素原子がハロゲン原子により置換された官能基が好ましい。具体的には、例えば、ヨードアセチル基、ブロモアセチル基、クロロアセチル基、フルオロアセチル基、ジヨードアセチル基、ジブロモアセチル基、ジクロロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリヨードアセチル基、トリブロモアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、３，３，３－トリヨードプロパノイル基、３，３，３－トリブロモプロパノイル基、３，３，３－トリクロロプロパノイル基、３，３，３－トリフルオロプロパノイル基、ペンタヨードプロパノイル基、ペンタブロモプロパノイル基、ペンタクロロプロパノイル基、ペンタフルオロプロパノイル基、４，４，４－トリヨードブタノイル基、４，４，４－トリブロモブタノイル基、４，４，４－トリクロロブタノイル基、４，４，４－トリフルオロブタノイル基、３，３，４，４，４－ペンタヨードブタノイル基、３，３，４，４，４－ペンタブロモブタノイル基、３，３，４，４，４－ペンタクロロブタノイル基、３，３，４，４，４－ペンタフルオロブタノイル基、ヘプタヨードブタノイル基、ヘプタブロモブタノイル基、ヘプタクロロブタノイル基、ヘプタフルオロブタノイル基、ペンタヨードベンゾイル基、ペンタブロモベンゾイル基、ペンタクロロベンゾイル基、ペンタフルオロベンゾイル基等が挙げられる。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素を表す。
前記Ｘ７に於けるスルホニルオキシ基は、－ＳＯ３Ｙ基で表される。ここで、前記Ｙは、ハロゲン原子、炭素数１～１０の炭化水素基、又は、炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか１つを有する炭化水素基を表す。
前記Ｙに於けるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子が挙げられる。
前記Ｙに於ける炭素数１～１０の炭化水素基としては特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。前記Ｙに於ける炭素数１～１０の炭化水素基は、炭素数１、２、３、４、５及び６の炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３の炭化水素基がより好ましい。
前記Ｙに於ける炭素数が１～１０のハロゲン原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素の一部又は全部がハロゲン原子で置換された官能基を意味する。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子を表す。前記Ｙに於ける炭素数が１～１０のハロゲン原子を有する炭化水素基は、炭素数１、２、３、４、５及び６のハロゲン原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３のハロゲン原子を有する炭化水素基がより好ましい。
前記Ｙに於ける、炭素数が１～１０のヘテロ原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素及び炭素の一部又は全部がヘテロ原子で置換された官能基を意味する。前記ヘテロ原子は、酸素、窒素、及び硫黄等の原子を表す。前記Ｙに於ける、炭素数が１～１０のヘテロ原子を有する炭化水素基は、炭素数１、２、３、４、５及び６のヘテロ原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数１、２及び３のヘテロ原子を有する炭化水素基がより好ましい。
前記Ｙに於ける、炭素数が１～１０の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基とは、例えば、炭素数が１～１０の範囲であって、炭素－炭素間に二重結合や三重結合を有する炭化水素基を意味する。さらに、当該不飽和結合を有する炭化水素基としては、不飽和結合数が１、２、３、４及び５の炭化水素基が好ましく、不飽和結合数が１、２及び３の炭化水素基がより好ましい。
前記Ｙに於ける、炭素数が１～１０の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子又は不飽和結合を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、ヨードメチル基、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジヨードメチル基、ジブロモメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリヨードメチル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、２－ヨードエチル基、２－ブロモエチル基、２－クロロエチル基、２－フルオロエチル基、１，２－ジヨードエチル基、１，２－ジブロモエチル基、１，２－ジクロロエチル基、１，２－ジフルオロエチル基、２，２－ジヨードエチル基、２，２－ジブロモエチル基、２，２－ジクロロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリブロモエチル基、２，２，２－トリクロロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基及びヘキサフルオロ－２－プロピル基等の鎖状含ハロゲン化アルキル基、２－ヨードシクロヘキシル基、２－ブロモシクロヘキシル基、２－クロロシクロヘキシル基及び２－フルオロシクロヘキシル基等の環状含ハロゲン化アルキル基、エテニル基、２－プロペニル基、イソプロペニル基、２－ブテニル基及び３－ブテニル基等の鎖状アルケニル基、２－シクロペンテニル基、２－シクロヘキセニル基及び３－シクロヘキセニル基等の環状アルケニル基、エチニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－ペンチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基及び４－ペンチニル基等の鎖状アルキニル基、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、２－ニトロフェニル基、４－ニトロフェニル基、２，４－ジニトロフェニル基及び２，６－ジニトロフェニル基等のアリール基、２－ヨードフェニル基、２－ブロモフェニル基、２－クロロフェニル基、２－フルオロフェニル基、３－ヨードフェニル基、３－ブロモフェニル基、３－クロロフェニル基、３－フルオロフェニル基、４－ヨードフェニル基、４－ブロモフェニル基、４－クロロフェニル基、４－フルオロフェニル基、２，６－ジヨードフェニル基、２，６－ジブロモフェニル基、２，６－ジクロロフェニル基、２，６－ジフルオロフェニル基、３，５－ジヨードフェニル基、３，５－ジブロモフェニル基、３，５－ジクロロフェニル基、３，５－ジフルオロフェニル基、ペンタヨードフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタクロロフェニル基及びペンタフルオロフェニル基等の含ハロゲン化アリール基、１－ナフチル基及び２－ナフチル基等のナフチル基等が挙げられる。
前記化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物は、より具体的には、前記Ｘ３～Ｘ５が、それぞれ独立して、炭素数１～６の炭化水素基であり、前記Ｘ７がハロゲン原子である場合のトリアルキルシリルハロゲン化物であることが好ましい。
前記化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物の具体例としては、例えば、クロロジメチルシラン、クロロトリメチルシラン、クロロ（エチル）ジメチルシラン、クロロトリエチルシラン、ジイソプロピルクロロシラン、クロロトリイソプロピルシラン、トリブチルクロロシラン、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルクロロシラン、クロロジメチルイソプロピルシラン、クロロジメチルビニルシラン、クロロジエチルイソプロピルシラン、クロロジメチルプロピルシラン、アリルクロロジメチルシラン、ブチルクロロジメチルシラン、クロロ（ヘキシル）ジメチルシラン、クロロトリヘキシルシラン、クロロ（シクロヘキシル）ジメチルシラン、クロロジメチルフェニルシラン、ベンジルクロロジメチルシラン、ジフェニルメチルクロロシラン、クロロトリフェニルシラン、クロロ（メチル）（フェニル）（ビニル）シラン、クロロ（メチル）ジフェニルシラン等が挙げられる。但し、前記化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物は、これらの化合物群に限定されない。
＜工程（ＩＩ）の反応条件＞
前記工程（ＩＩ）の反応モル比は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。リン酸化合物とケイ素化合物の反応モル比に於いて、通常は、ケイ素化合物の下限値が、リン酸化合物１モルに対し１モル以上である。また、リン酸化合物の上限値は５モル以下であり、工業生産の観点からは２．５モル以下が好ましく、１．５モル以下がより好ましい。
前記工程（ＩＩ）の反応モル比は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。リン酸化合物とケイ素化合物の反応モル比に於いて、通常は、ケイ素化合物の下限値が、リン酸化合物１モルに対し１モル以上である。また、リン酸化合物の上限値は５モル以下であり、工業生産の観点からは２．５モル以下が好ましく、１．５モル以下がより好ましい。
前記工程（ＩＩ）の反応開始温度は、当該反応が進行する限りに於いて特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。反応開始温度の下限値は、通常は０℃以上であり、反応性の観点からは２０℃以上が好ましく、４０℃以上がより好ましい。反応開始温度の上限値は、通常は１５０℃以下であり、反応性の観点からは１２０℃以下が好ましく、１００℃以下がより好ましい。尚、反応開始温度の下限値を０℃以上にすることにより、反応速度が著しく減衰するのを防止することができる。その一方、反応開始温度の上限値を１５０℃以下にすることにより、反応に使用する過剰なエネルギーを抑制することができる。
反応開始温度の調整手段としては特に限定されない。例えば、反応開始温度を前記温度範囲内となる様に冷却して制御する場合には、リン酸化合物とケイ素化合物が投入される反応容器を氷冷等により行うことができる。また、反応開始温度を前記温度範囲内となる様に加熱して制御する場合には、任意の温度に設定された油浴等により行うことができる。
前記工程（ＩＩ）の反応時間は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。反応時間の下限値は、通常は１時間以上である。また、反応時間の上限値は、通常は１２時間以下であり、工業生産の観点からは６時間以下が好ましく、３時間以下がより好ましい。
前記工程（ＩＩ）の反応は、無溶媒下又は非水溶媒中で行うことができる。工程（ＩＩ）の反応を無溶媒下で行う場合、ケイ素化合物が反応溶媒としての機能も果たす。
前記非水溶媒としては、前記工程（Ｉ）で述べた非水溶媒と同様のものを用いることができる。従って、その詳細については省略する。
前記非水溶媒の使用量に関し、その下限値は、前記リン酸化合物１モルに対し、１モル以上が好ましく、１０モル以上がより好ましい。前記非水溶媒の使用量の上限値は、前記リン酸化合物１モルに対し、１００００モル以下が好ましく、１０００モル以下がより好ましく、１００モル以下がさらに好ましい。非水溶媒の使用量の下限値を１モル以上にすることにより、リン酸化合物とケイ素化合物との反応性が低下するのを防止し、リン酸シリルエステルの収率やその純度の低下を抑制することができる。その一方、前記非水溶媒の使用量の上限値を１００００モル以下にすることにより、これを留去する際のエネルギーを抑制し、工業的生産に於いて不利になるのを防止することができる。
前記工程（ＩＩ）で得られるリン酸エステルについて、その純度に応じて単離・精製してもよい。その方法は特に限定されず、公知の方法を採用することができる。具体的には、常圧蒸留、減圧蒸留、濾過、濾取、再結晶、昇華精製、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、分取薄層クロマトグラフィー（ＰＴＬＣ）、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、イオンクロマトグラフィー（ＩＣ）等の方法が挙げられる。
以下に、本発明の好適な実施例を例示的に詳しく説明する。但し、この実施例に記載されている材料や配合量等は、特に限定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれらに限定する趣旨ではない。
尚、以下の実施例に於いて、純度の決定や理化学的性質の測定は、以下の装置を用いて行った。
（純度）
リン酸塩化合物の純度は、イオンクロマトグラフィーによるアニオン分析から算出した。分析装置及び測定条件は、以下の通りである。
装置：８５０ Ｐｒｏｆｅｓｓｉｏｎａｌ ＩＣ Ａｎｉｏｎ（Ｍｅｔｒｏｈｍ製）
カラム：Ｄｉｏｎｅｘ ＩｏｎＰａｃ ＡＳ２３ ２ｘ２５０ｍｍ
（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
試料：１００ｐｐｍの試料水溶液
流量：１ｍＬ／ｍｉｎ
溶離液：４．５ｍＭ Ｎａ２ＣＯ３のＨ２Ｏ－アセトニトリル（７：３）混合溶液
リン酸塩化合物の純度は、イオンクロマトグラフィーによるアニオン分析から算出した。分析装置及び測定条件は、以下の通りである。
装置：８５０ Ｐｒｏｆｅｓｓｉｏｎａｌ ＩＣ Ａｎｉｏｎ（Ｍｅｔｒｏｈｍ製）
カラム：Ｄｉｏｎｅｘ ＩｏｎＰａｃ ＡＳ２３ ２ｘ２５０ｍｍ
（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
試料：１００ｐｐｍの試料水溶液
流量：１ｍＬ／ｍｉｎ
溶離液：４．５ｍＭ Ｎａ２ＣＯ３のＨ２Ｏ－アセトニトリル（７：３）混合溶液
（ＮＭＲ測定）
卓上核磁気共鳴装置：Ｓｐｉｎｓｏｌｖｅ ６０ ＵＬＴＲＡ Ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ
（Ｍａｇｒｉｔｅｋ製）
卓上核磁気共鳴装置：Ｓｐｉｎｓｏｌｖｅ ６０ ＵＬＴＲＡ Ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ
（Ｍａｇｒｉｔｅｋ製）
（実施例１）
＜エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ナトリウム（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、原料塩としてのヨウ化ナトリウム（６３０ｍｇ、４．２０ｍｍｏｌ、富士フイルム和光純薬社製）を入れたのち、リン酸エステルとしてのジエチル２，２，２－トリフルオロエチルホスファート（１．１８ｇ、５．００ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、１２０℃で４時間、加熱した。反応混合物を室温まで放冷した後、反応混合物を濾過し、窒素気流下、１２０℃で終夜、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のエチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ナトリウム（９３０ｍｇ、９６．１％）を得た。エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ナトリウムの純度は９９．６％であった。
＜エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ナトリウム（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、原料塩としてのヨウ化ナトリウム（６３０ｍｇ、４．２０ｍｍｏｌ、富士フイルム和光純薬社製）を入れたのち、リン酸エステルとしてのジエチル２，２，２－トリフルオロエチルホスファート（１．１８ｇ、５．００ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、１２０℃で４時間、加熱した。反応混合物を室温まで放冷した後、反応混合物を濾過し、窒素気流下、１２０℃で終夜、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のエチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ナトリウム（９３０ｍｇ、９６．１％）を得た。エチル（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸ナトリウムの純度は９９．６％であった。
（実施例２）
＜ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸銅（ＩＩ）（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた１００ｍＬナス型フラスコに、原料塩としての塩化銅（ＩＩ）（９８０ｍｇ、７．２９ｍｍｏｌ、和光純薬社製）を入れたのち、リン酸エステルとしてのトリス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート（５０．０ｇ、１４５ｍｍｏｌ）を室温で加えた。この混合溶液を、窒素気流下、湯浴温度が１５５℃で６時間、加熱・還流した。反応混合物を室温まで放冷した後、反応混合物を濾過し、窒素気流下、１２０℃で終夜、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、淡青色固体のビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸銅（ＩＩ）（４．０６ｇ、９６．１％）を得た。ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸銅（ＩＩ）の純度は９８．４％であった。
＜ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸銅（ＩＩ）（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた１００ｍＬナス型フラスコに、原料塩としての塩化銅（ＩＩ）（９８０ｍｇ、７．２９ｍｍｏｌ、和光純薬社製）を入れたのち、リン酸エステルとしてのトリス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート（５０．０ｇ、１４５ｍｍｏｌ）を室温で加えた。この混合溶液を、窒素気流下、湯浴温度が１５５℃で６時間、加熱・還流した。反応混合物を室温まで放冷した後、反応混合物を濾過し、窒素気流下、１２０℃で終夜、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、淡青色固体のビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸銅（ＩＩ）（４．０６ｇ、９６．１％）を得た。ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸銅（ＩＩ）の純度は９８．４％であった。
（実施例３）
＜１－エチル－３－メチルイミダゾリウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、原料塩としての１－エチル－３－メチルイミダゾリウムブロミド（７６０ｍｇ、３．１１ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れたのち、リン酸エステルとしてのエチルビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート（９０５ｍｇ、３．１２ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、１２０℃で４時間、加熱した。反応混合物を室温まで放冷した後、エバポレーターを用いて、反応混合物を濃縮し、引き続き６０℃で１時間、液体を乾燥することで、リン酸塩化合物として、無色液体の１－エチル－３－メチルイミダゾリウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート（１．４９ｇ、定量的）を得た。１－エチル－３－メチルイミダゾリウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファートの純度は９９．１％であった。
＜１－エチル－３－メチルイミダゾリウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、原料塩としての１－エチル－３－メチルイミダゾリウムブロミド（７６０ｍｇ、３．１１ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れたのち、リン酸エステルとしてのエチルビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート（９０５ｍｇ、３．１２ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、１２０℃で４時間、加熱した。反応混合物を室温まで放冷した後、エバポレーターを用いて、反応混合物を濃縮し、引き続き６０℃で１時間、液体を乾燥することで、リン酸塩化合物として、無色液体の１－エチル－３－メチルイミダゾリウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート（１．４９ｇ、定量的）を得た。１－エチル－３－メチルイミダゾリウムビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファートの純度は９９．１％であった。
（実施例４）
＜ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸リチウムの合成（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、原料塩としての塩化リチウム（０．６３４ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（４０．０ｇ、９７４ｍｍｏｌ、キシダ化学社製）を入れたのち、リン酸エステルとしてのビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファート（５．００ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、８２℃で２時間、加熱・還流した。反応混合物を室温まで放冷した後、さらに０℃で冷却した際の析出物を濾過し、残渣を少量のアセトニトリルで洗浄した。エバポレーターを用いて、４５℃で２０分間、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸リチウム（２．２８ｇ、５６．９％）を得た。ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸リチウムの純度は９９．９％であった。
＜ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸リチウムの合成（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、原料塩としての塩化リチウム（０．６３４ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（４０．０ｇ、９７４ｍｍｏｌ、キシダ化学社製）を入れたのち、リン酸エステルとしてのビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファート（５．００ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、８２℃で２時間、加熱・還流した。反応混合物を室温まで放冷した後、さらに０℃で冷却した際の析出物を濾過し、残渣を少量のアセトニトリルで洗浄した。エバポレーターを用いて、４５℃で２０分間、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸リチウム（２．２８ｇ、５６．９％）を得た。ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）リン酸リチウムの純度は９９．９％であった。
（実施例５）
＜リチウムジフルオロホスファートの合成１（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、リン酸エステルとしてのトリメチルシリルジフルオロホスファート（３．５０ｇ、２０．１ｍｍｏｌ）を窒素保護下で加えた後、原料塩としての塩化リチウム（５６８ｍｇ、１３．４ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合物を、窒素気流下、８０℃で１時間、加熱した。室温まで放冷したのち、反応混合物を濾過し、残渣を少量のＤＭＣ（ジメチルカーボネート）で洗浄した。乾燥機を用いて、１２０℃で１５分間、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のリチウムジフルオロホスファート（９２０ｍｇ、６３．６％）を得た。リチウムジフルオロホスファートの純度は９９．５％であった。
＜リチウムジフルオロホスファートの合成１（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、リン酸エステルとしてのトリメチルシリルジフルオロホスファート（３．５０ｇ、２０．１ｍｍｏｌ）を窒素保護下で加えた後、原料塩としての塩化リチウム（５６８ｍｇ、１３．４ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合物を、窒素気流下、８０℃で１時間、加熱した。室温まで放冷したのち、反応混合物を濾過し、残渣を少量のＤＭＣ（ジメチルカーボネート）で洗浄した。乾燥機を用いて、１２０℃で１５分間、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のリチウムジフルオロホスファート（９２０ｍｇ、６３．６％）を得た。リチウムジフルオロホスファートの純度は９９．５％であった。
（実施例６）
＜リチウムジフルオロホスファートの合成２（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５００ｍＬナス型フラスコに、リン酸エステルとしてのトリメチルシリルジフルオロホスファート（５０．０ｇ、２８７ｍｍｏｌ）を窒素保護下で加えた後、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（１５０ｇ、３．６５ｍｏｌ、キシダ化学(株)製）で希釈した。さらに、原料塩としての塩化リチウム（１１．８ｇ、２７８ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。この混合物を、窒素気流下、８２℃で５時間、加熱・還流した。室温まで放冷したのち、エバポレーターを用いて、反応混合物を濃縮し、得られた残渣を濾過し、少量のＤＭＣ（ジメチルカーボネート）で洗浄した。乾燥機を用いて、１２０℃で１時間、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のリチウムジフルオロホスファート（２７．４ｇ、９１．４％）を得た。リチウムジフルオロホスファートの純度は９９．４％であった。
＜リチウムジフルオロホスファートの合成２（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５００ｍＬナス型フラスコに、リン酸エステルとしてのトリメチルシリルジフルオロホスファート（５０．０ｇ、２８７ｍｍｏｌ）を窒素保護下で加えた後、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（１５０ｇ、３．６５ｍｏｌ、キシダ化学(株)製）で希釈した。さらに、原料塩としての塩化リチウム（１１．８ｇ、２７８ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。この混合物を、窒素気流下、８２℃で５時間、加熱・還流した。室温まで放冷したのち、エバポレーターを用いて、反応混合物を濃縮し、得られた残渣を濾過し、少量のＤＭＣ（ジメチルカーボネート）で洗浄した。乾燥機を用いて、１２０℃で１時間、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のリチウムジフルオロホスファート（２７．４ｇ、９１．４％）を得た。リチウムジフルオロホスファートの純度は９９．４％であった。
（実施例７）
＜ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリメチルシラン（１６．６ｇ、１５３ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート（２０．０ｇ、７６．３ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、８０℃で６時間、加熱・還流した。エバポレーターによって、反応混合物から過剰のクロロトリメチルシランを除去することで、リン酸エステルとして、無色の液体のビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファート（２１．２ｇ、８３．１％）を得た。ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファートの純度は９９．７％であった。
＜ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリメチルシラン（１６．６ｇ、１５３ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのビス（２，２，２－トリフルオロエチル）ホスファート（２０．０ｇ、７６．３ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、８０℃で６時間、加熱・還流した。エバポレーターによって、反応混合物から過剰のクロロトリメチルシランを除去することで、リン酸エステルとして、無色の液体のビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファート（２１．２ｇ、８３．１％）を得た。ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファートの純度は９９．７％であった。
得られたビス（２，２，２－トリフルオロエチル）トリメチルシリルホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－０．０６（ｓ、９Ｈ）、４．０２（ｄｑ、４Ｈ、ＪＨ－Ｆ＝ＪＨ－Ｐ＝８．３Ｈｚ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－７４．８（ｔ、６Ｆ、ＪＨ－Ｆ＝８．３Ｈｚ）。
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－１０．１（ｔｔ、１Ｐ、ＪＨ－Ｐ＝８．３Ｈｚ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－０．０６（ｓ、９Ｈ）、４．０２（ｄｑ、４Ｈ、ＪＨ－Ｆ＝ＪＨ－Ｐ＝８．３Ｈｚ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－７４．８（ｔ、６Ｆ、ＪＨ－Ｆ＝８．３Ｈｚ）。
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－１０．１（ｔｔ、１Ｐ、ＪＨ－Ｐ＝８．３Ｈｚ）。
（実施例８）
＜トリメチルシリルジフルオロホスファートの合成１（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた２００ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリメチルシラン（４８．７ｇ、４４８ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（４５．７ｇ、４４８ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、５０℃で６時間、撹拌した。反応混合物の常圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリメチルシリルジフルオロホスファート（４９．０ｇ、６２．７％）を得た。トリメチルシリルジフルオロホスファートの純度は９５．６％であった。
＜トリメチルシリルジフルオロホスファートの合成１（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた２００ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリメチルシラン（４８．７ｇ、４４８ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（４５．７ｇ、４４８ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、５０℃で６時間、撹拌した。反応混合物の常圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリメチルシリルジフルオロホスファート（４９．０ｇ、６２．７％）を得た。トリメチルシリルジフルオロホスファートの純度は９５．６％であった。
（実施例９）
＜トリメチルシリルジフルオロホスファートの合成２（副生物であるクロロトリメチルシランの再利用、無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリメチルシラン｛７．１６ｇ、６５．９ｍｍｏｌ｝を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（６．７１ｇ、６５．８ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、５０℃で３時間、撹拌した。反応混合物の常圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリメチルシリルジフルオロホスファート（７．１２ｇ、６２．２％）を得た。トリメチルシリルジフルオロホスファートの純度は９６．１％であった。尚、クロロトリメチルシランとして、実施例５のリチウムジフルオロホスファートの合成の際に副生した副生物（工程（Ｉ）の副生物（Ｅ’））を用いた。
＜トリメチルシリルジフルオロホスファートの合成２（副生物であるクロロトリメチルシランの再利用、無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリメチルシラン｛７．１６ｇ、６５．９ｍｍｏｌ｝を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（６．７１ｇ、６５．８ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、５０℃で３時間、撹拌した。反応混合物の常圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリメチルシリルジフルオロホスファート（７．１２ｇ、６２．２％）を得た。トリメチルシリルジフルオロホスファートの純度は９６．１％であった。尚、クロロトリメチルシランとして、実施例５のリチウムジフルオロホスファートの合成の際に副生した副生物（工程（Ｉ）の副生物（Ｅ’））を用いた。
得られたトリメチルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．３３（ｓ、９Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－８０．４（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９８５．９Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２９．１（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９８５．９Ｈｚ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．３３（ｓ、９Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－８０．４（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９８５．９Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２９．１（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９８５．９Ｈｚ）。
（実施例１０）
＜ジメチルビニルシリルジフルオロホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた１００ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロジメチルビニルシラン（１０．１ｇ、８３．７ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（８．１４ｇ、７９．８ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、６０℃で３時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のジメチルビニルシリルジフルオロホスファート（２．３３ｇ、１５．７％）を得た。ジメチルビニルシリルジフルオロホスファートの純度は９７．９％であった。
＜ジメチルビニルシリルジフルオロホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた１００ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロジメチルビニルシラン（１０．１ｇ、８３．７ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（８．１４ｇ、７９．８ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、６０℃で３時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のジメチルビニルシリルジフルオロホスファート（２．３３ｇ、１５．７％）を得た。ジメチルビニルシリルジフルオロホスファートの純度は９７．９％であった。
得られたジメチルビニルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．４４（ｓ、７Ｈ）、６．０２－６．１３（ｍ、２Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－８０．０（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９９０．３Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２８．４（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９９０．３Ｈｚ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．４４（ｓ、７Ｈ）、６．０２－６．１３（ｍ、２Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－８０．０（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９９０．３Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２８．４（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９９０．３Ｈｚ）。
（実施例１１）
＜ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた１００ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロジメチルフェニルシラン（１６．８ｇ、９８．４ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れたのち、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（１０．１ｇ、９９．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、６０℃で３時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のジメチルフェニルシリルジフルオロホスファート（１０．６ｇ、４５．６％）を得た。ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの純度は９７．５％であった。
＜ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた１００ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロジメチルフェニルシラン（１６．８ｇ、９８．４ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れたのち、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（１０．１ｇ、９９．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、６０℃で３時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のジメチルフェニルシリルジフルオロホスファート（１０．６ｇ、４５．６％）を得た。ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの純度は９７．５％であった。
得られたジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．３７（ｓ、６Ｈ）、７．０７－７．４７（ｍ、５Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－７９．７（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９９１．４Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－３０．０（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９９１．４Ｈｚ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．３７（ｓ、６Ｈ）、７．０７－７．４７（ｍ、５Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－７９．７（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９９１．４Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－３０．０（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９９１．４Ｈｚ）。
（実施例１２）
＜トリエチルシリルジフルオロホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリエチルシラン（１０．０ｇ、６６．３ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（６．６９ｇ、６５．６ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、６０℃で４時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリエチルシリルジフルオロホスファート（７．２９ｇ、５１．４％）を得た。トリエチルシリルジフルオロホスファートの純度は９８．３％であった。
＜トリエチルシリルジフルオロホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリエチルシラン（１０．０ｇ、６６．３ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（６．６９ｇ、６５．６ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、６０℃で４時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリエチルシリルジフルオロホスファート（７．２９ｇ、５１．４％）を得た。トリエチルシリルジフルオロホスファートの純度は９８．３％であった。
得られたトリエチルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．４０－１．１１（ｍ、１５Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－８０．９（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９８６．４Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２９．５（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９８６．４Ｈｚ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．４０－１．１１（ｍ、１５Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－８０．９（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９８６．４Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２９．５（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９８６．４Ｈｚ）。
（実施例１３）
＜シクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロ（シクロヘキシル）ジメチルシラン（１２．０ｇ、６７．９ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（６．８３ｇ、６７．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、６０℃で４時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のシクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファート（９．９２ｇ、６１．０％）を得た。シクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファートの純度は９３．６％であった。
＜シクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファートの合成（無溶媒下）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロ（シクロヘキシル）ジメチルシラン（１２．０ｇ、６７．９ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸（６．８３ｇ、６７．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、６０℃で４時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のシクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファート（９．９２ｇ、６１．０％）を得た。シクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファートの純度は９３．６％であった。
得られたシクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．２９（ｓ、６Ｈ）、０．９２－１．６７（ｂｒ ｍ、１１Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－７９．８（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９８９．０Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２９．５（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９８９．０Ｈｚ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．２９（ｓ、６Ｈ）、０．９２－１．６７（ｂｒ ｍ、１１Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－７９．８（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９８９．０Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２９．５（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９８９．０Ｈｚ）。
（実施例１４）
＜ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの合成（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬスクリューバイアルに、リン酸化合物としてのナトリウムジフルオロホスファート（５．０１ｇ、４０．４ｍｍｏｌ）と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（２０．０ｇ、４８７ｍｍｏｌ、キシダ化学(株)製）を窒素保護下で加えた後、ケイ素化合物としてのクロロジメチルフェニルシラン（６．８２ｇ、４０．０ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素雰囲気下、６０℃で２時間、撹拌した。室温まで放冷した後、０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて反応混合物をろ過した。窒素ガスで１２時間、ろ液をバブリングし、アセトニトリルを除去した。０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて残渣をろ過することによって、リン酸エステルとして、無色の液体のジメチルフェニルシリルジフルオロホスファート（７．７９ｇ、８２．５％）を得た。ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの純度は９５．４％であった。
＜ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの合成（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬスクリューバイアルに、リン酸化合物としてのナトリウムジフルオロホスファート（５．０１ｇ、４０．４ｍｍｏｌ）と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（２０．０ｇ、４８７ｍｍｏｌ、キシダ化学(株)製）を窒素保護下で加えた後、ケイ素化合物としてのクロロジメチルフェニルシラン（６．８２ｇ、４０．０ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素雰囲気下、６０℃で２時間、撹拌した。室温まで放冷した後、０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて反応混合物をろ過した。窒素ガスで１２時間、ろ液をバブリングし、アセトニトリルを除去した。０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて残渣をろ過することによって、リン酸エステルとして、無色の液体のジメチルフェニルシリルジフルオロホスファート（７．７９ｇ、８２．５％）を得た。ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの純度は９５．４％であった。
（実施例１５）
＜トリイソプロピルシリルジフルオロホスファートの合成（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬスクリューバイアルに、リン酸化合物としてのナトリウムジフルオロホスファート（２．０２ｇ、１６．３ｍｍｏｌ）と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（９．１３ｇ、２２２ｍｍｏｌ、キシダ化学(株)製）を窒素保護下で加えた後、ケイ素化合物としてのクロロトリイソプロピルシラン（３．１４ｇ、１６．３ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素雰囲気下、６０℃で２時間、撹拌した。室温まで放冷した後、０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて反応混合物をろ過した。窒素ガスで１２時間、ろ液をバブリングし、アセトニトリルを除去した。０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて残渣をろ過することによって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリイソプロピルシリルジフルオロホスファート（１．００ｇ、２３．７％）を得た。トリイソプロピルシリルジフルオロホスファートの純度は９７．４％であった。
＜トリイソプロピルシリルジフルオロホスファートの合成（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬスクリューバイアルに、リン酸化合物としてのナトリウムジフルオロホスファート（２．０２ｇ、１６．３ｍｍｏｌ）と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（９．１３ｇ、２２２ｍｍｏｌ、キシダ化学(株)製）を窒素保護下で加えた後、ケイ素化合物としてのクロロトリイソプロピルシラン（３．１４ｇ、１６．３ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素雰囲気下、６０℃で２時間、撹拌した。室温まで放冷した後、０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて反応混合物をろ過した。窒素ガスで１２時間、ろ液をバブリングし、アセトニトリルを除去した。０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて残渣をろ過することによって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリイソプロピルシリルジフルオロホスファート（１．００ｇ、２３．７％）を得た。トリイソプロピルシリルジフルオロホスファートの純度は９７．４％であった。
得られたトリイソプロピルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．９８－１．２７（ｍ、２１Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－８０．４（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９８３．５Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２９．５（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９８９．０Ｈｚ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．９８－１．２７（ｍ、２１Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－８０．４（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９８３．５Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－２９．５（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９８９．０Ｈｚ）。
（実施例１６）
＜メチルジフェニルシリルジフルオロホスファートの合成（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬスクリューバイアルに、リン酸化合物としてのナトリウムジフルオロホスファート（３．０１ｇ、２４．３ｍｍｏｌ）と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（１０．０ｇ、２４４ｍｍｏｌ、キシダ化学(株)製）を窒素保護下で加えた後、ケイ素化合物としてのクロロ（メチル）ジフェニルシラン（５．３６ｇ、２３．０ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素雰囲気下、６０℃で１１時間、撹拌した。室温まで放冷した後、０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて反応混合物をろ過した。窒素ガスで１２時間、ろ液をバブリングし、アセトニトリルを除去した。０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて残渣をろ過することによって、リン酸エステルとして、無色の液体のメチルジフェニルシリルジフルオロホスファート（５．２２ｇ、７６．１％）を得た。メチルジフェニルシリルジフルオロホスファートの純度は８８．０％であった。
＜メチルジフェニルシリルジフルオロホスファートの合成（非水溶媒利用）＞
攪拌子を入れた５０ｍＬスクリューバイアルに、リン酸化合物としてのナトリウムジフルオロホスファート（３．０１ｇ、２４．３ｍｍｏｌ）と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル（１０．０ｇ、２４４ｍｍｏｌ、キシダ化学(株)製）を窒素保護下で加えた後、ケイ素化合物としてのクロロ（メチル）ジフェニルシラン（５．３６ｇ、２３．０ｍｍｏｌ、ＴＣＩ社製）を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素雰囲気下、６０℃で１１時間、撹拌した。室温まで放冷した後、０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて反応混合物をろ過した。窒素ガスで１２時間、ろ液をバブリングし、アセトニトリルを除去した。０．４５μｍメンブレンフィルターを用いて残渣をろ過することによって、リン酸エステルとして、無色の液体のメチルジフェニルシリルジフルオロホスファート（５．２２ｇ、７６．１％）を得た。メチルジフェニルシリルジフルオロホスファートの純度は８８．０％であった。
得られたメチルジフェニルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．９２（ｓ、３Ｈ）、７．２９－７．７３（ｍ、１０Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－７８．８（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９９５．６Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－３０．３（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９９５．６Ｈｚ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：０．９２（ｓ、３Ｈ）、７．２９－７．７３（ｍ、１０Ｈ）；
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－７８．８（ｄ、２Ｆ、Ｊ＝９９５．６Ｈｚ）；
３１Ｐ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ ｐｐｍ）：－３０．３（ｄｄ、１Ｐ、Ｊ＝９９５．６Ｈｚ）。
Claims (11)
- 以下の化学式（Ａ）で表されるリン酸エステルと、以下の化学式（Ｂ）で表される原料塩とを反応させて、以下の化学式（Ｃ）で表されるリン酸塩化合物を生成する工程（Ｉ）を少なくとも含むリン酸塩化合物の製造方法。
- 以下の化学式（Ｄ）で表されるリン酸化合物と、以下の化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物とを反応させて、以下の化学式（Ｆ）で表されるリン酸シリルエステルを生成する工程（ＩＩ）を含む請求項１に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
- 前記化学式（Ｅ）で表されるケイ素化合物が、前記工程（Ｉ）で副生する副生物である請求項２に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
- 前記リン酸化合物は、前記化学式（Ｄ）に於ける前記Ｘ１及びＸ２が、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルコキシ基であり、前記Ｍ’が水素原子である場合のリン酸ジエステルである請求項２又は３に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
- 前記リン酸化合物は、前記化学式（Ｄ）に於ける前記Ｘ１及びＸ２の何れか一方がフッ素原子であり、他方が炭素数１～１０のアルコキシ基であり、前記Ｍ’が水素原子である場合のフルオロホスホリック酸エステルである請求項２又は３に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
- 前記リン酸化合物は、前記化学式（Ｄ）に於ける前記Ｘ１及びＸ２がフッ素原子であり、前記Ｍ’が水素原子である場合のジフルオロホスホリック酸である請求項２又は３に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
- 前記ケイ素化合物は、前記化学式（Ｅ）に於ける前記Ｘ３～Ｘ５が、それぞれ独立して、炭素数１～６の炭化水素基であり、前記Ｘ７がハロゲン原子である場合のトリアルキルシリルハロゲン化物である請求項２～６の何れか１項に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
- 前記化学式（Ｂ）に於ける前記Ｍは、リチウム原子、ナトリウム原子、マグネシウム原子、又は１－エチル－３－メチルイミダゾリウムである請求項１～７の何れか１項に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
- 前記工程（Ｉ）及び工程（ＩＩ）の少なくとも何れか一方を無溶媒下で行う請求項２～８の何れか１項に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
- 前記工程（Ｉ）及び工程（ＩＩ）の少なくとも何れか一方を非水溶媒中で行う請求項２～８の何れか１項に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
- 前記非水溶媒が非プロトン性有機溶媒である請求項１０に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
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| CN113979454B (zh) * | 2021-11-23 | 2023-09-26 | 山东永浩新材料科技有限公司 | 一种氟磺酸碱金属盐的制备方法 |
| CN116496315A (zh) * | 2023-04-26 | 2023-07-28 | 河北圣泰材料股份有限公司 | 一种含二氟磷酸或亚磷酸基团的硅酯化合物的合成方法 |
| CN119674234B (zh) * | 2024-11-29 | 2025-10-03 | 九江天赐高新材料有限公司 | 电解液添加剂、电解液以及电池 |
| CN120365311B (zh) * | 2025-06-26 | 2025-09-19 | 广州天赐高新材料股份有限公司 | 二氟磷酸硅酯及其制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018040763A1 (zh) | 2016-08-29 | 2018-03-08 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 一种添加剂，其制备方法及含有所述添加剂的锂离子电池 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4939285A (en) * | 1987-07-13 | 1990-07-03 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of metal salts of phosphoric and phosphonic acid esters |
| JP3815692B2 (ja) * | 1994-11-11 | 2006-08-30 | 日本化学工業株式会社 | ジベンジルホスフェート・アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の製造方法 |
| DE102004060075A1 (de) * | 2004-12-14 | 2006-07-06 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Onium-Salzen mit Dialkylphosphat-, Dialkylphosphinat oder (O-Alkyl)-alkyl- oder Alkyl-phosphonat-Anionen mit geringem Halogenid-Gehalt |
| US9976037B2 (en) * | 2015-04-01 | 2018-05-22 | Versum Materials Us, Llc | Composition for treating surface of substrate, method and device |
-
2021
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Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018040763A1 (zh) | 2016-08-29 | 2018-03-08 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 一种添加剂，其制备方法及含有所述添加剂的锂离子电池 |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| Journal of the American Chemical Society，1955年，77，P.5354-5357 |
| Journal of the American Chemical Society，1995年，117(49)，P.12064-12069 |
| Journal of the American Chemical Society，1997年，119(52)，P.12710-12721 |
Also Published As
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