JP7721578B2 - 青色スペクトル領域に高いソラリゼーション耐性を有するビームガイドエレメントを含む撮像システム - Google Patents
青色スペクトル領域に高いソラリゼーション耐性を有するビームガイドエレメントを含む撮像システムInfo
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Description
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源B、および
b)ビームガイドエレメント
を備え、
レーザー光源Bは、ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、ビームガイドエレメントは、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、ここでF(436nm)<15ppm/Wであるガラスから成る、
撮像システムによって解決される。
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源B、490nm超から585nmまでのスペクトル領域に波長λGを有する少なくとも1つのレーザー光源G、585nm超から750nmまでのスペクトル領域に波長λRを有する少なくとも1つのレーザー光源R、および
b)ビームガイドエレメント
を備え、
レーザー光源B、レーザー光源Gおよびレーザー光源Rは、ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、ビームガイドエレメントは、品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/kを有し、F(RGB)<40ppm/Wであるガラスから成る、
撮像システムによっても解決される。
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源B、および
b)ビームガイドエレメント
を備え、
レーザー光源Bは、ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、ビームガイドエレメントは、誘起吸光度Ext1(436nm)を有し、Ext1(436nm)<0.01/cmであるガラスから成る、
撮像システムによっても解決される。
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源B、490nm超から585nmまでのスペクトル領域に波長λGを有する少なくとも1つのレーザー光源G、585nm超から750nmまでのスペクトル領域に波長λRを有する少なくとも1つのレーザー光源R、および
b)ビームガイドエレメント
を備え、
レーザー光源B、レーザー光源Gおよびレーザー光源Rは、ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、ビームガイドエレメントは、誘起吸光度Ext1(RGB)=Ext1(436nm)+Ext1(546nm)+Ext1(644nm)を有し、Ext1(RGB)<0.03/cmであるガラスから成る、
撮像システムによっても解決される。
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源B、および
b)ビームガイドエレメント
を備え、
レーザー光源Bは、ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、ビームガイドエレメントは、次の特性、すなわち
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、ここでF(436nm)<15ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
のうちの1つもしくは複数を有するガラスから成る、
撮像システムによっても解決される。
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源B、490nm超から585nmまでのスペクトル領域に波長λGを有する少なくとも1つのレーザー光源G、585nm超から750nmまでのスペクトル領域に波長λRを有する少なくとも1つのレーザー光源R、および
b)ビームガイドエレメント
を備え、
レーザー光源B、レーザー光源Gおよびレーザー光源Rは、ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、ビームガイドエレメントは、次の特性、すなわち
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、ここでF(436nm)<15ppm/W、
・品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/k、ここでF(RGB)<40ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
・誘起吸光度Ext1(RGB)=Ext1(436nm)+Ext1(546nm)+Ext1(644nm)、ここでExt1(RGB)<0.03/cm、
のうちの1つもしくは複数、例えばこれらの特性のうちの少なくとも2つまたは少なくとも3つを有するガラスから成る、
撮像システムによっても解決される。
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源B、490nm超から585nmまでのスペクトル領域に波長λGを有する少なくとも1つのレーザー光源G、585nm超から750nmまでのスペクトル領域に波長λRを有する少なくとも1つのレーザー光源R、および
b)ビームガイドエレメント
を備え、
レーザー光源B、レーザー光源Gおよびレーザー光源Rは、ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、ビームガイドエレメントは、次の特性、すなわち
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、ここでF(436nm)<15ppm/W、
・品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/k、ここでF(RGB)<40ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
のうちの1つもしくは複数、例えばこれらの特性のうちの少なくとも2つを有するガラスから成る、
撮像システムによって解決される。
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO2成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO2成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%のCeO2成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている。
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO2成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO2成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%のCeO2成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている。
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO2成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO2成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%のCeO2成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている。
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO2成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO2成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%のCeO2成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている。
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO2成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO2成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%のCeO2成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている。
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、ここでF(436nm)<15ppm/W、
・品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/k、ここでF(RGB)<40ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
・誘起吸光度Ext1(RGB)=Ext1(436nm)+Ext1(546nm)+Ext1(644nm)、ここでExt1(RGB)<0.03/cm、
のうちの1つもしくは複数、例えばこれらの特性のうちの少なくとも2つもしくは少なくとも3つを有するガラスから成るビームガイドエレメントにも関する。
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、ここでF(436nm)<15ppm/W、
・品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/k、ここでF(RGB)<40ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
のうちの1つもしくは複数、例えばこれらの特性のうちの少なくとも2つを有するガラスからなるビームガイドエレメントに関する。
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、ここでF(436nm)<15ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
のうちの1つもしくは複数を有するガラスから成るビームガイドエレメントに関する。
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、ここでF(436nm)<15ppm/W、
・品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/k、ここでF(RGB)<40ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
・誘起吸光度Ext1(RGB)=Ext1(436nm)+Ext1(546nm)+Ext1(644nm)、ここでExt1(RGB)<0.03/cm、
のうちの1つもしくは複数、例えばこれらの特性のうち少なくとも2つまたは少なくとも3つを有するガラスにも関する。
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、ここでF(436nm)<15ppm/W、
・品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/k、ここでF(RGB)<40ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
のうちの1つもしくは複数、例えばこれらの特性のうちの少なくとも2つを有するガラスにも関する。
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、ここでF(436nm)<15ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
のうちの1つもしくは複数を有するガラスにも関する。
本発明の実施例1~8および本発明でない比較例Aでの、サンプル厚さ100mmの例示的なガラスのサンプルに、波長455nmのレーザー光をそれぞれ345W/cm2の電力密度で72時間にわたって照射した。高い電力密度とサンプルへの均一な照射との双方を達成するために、照射前にサンプルを全ての側辺で研磨し、4×4mm2の大きさの入射面に内部全反射(TIR)の角度でレーザー光を照射した。これにより、55Wレーザーを用いて、345W/cm2の電力密度での照射が達成された。ボリューム中の電力密度は約331W/cm2であった。
2 ビームガイドエレメント
3 画像生成チップ
4 投影光学系
5 レーザー光源からビームガイドエレメントへ到達した光
6 光がビームガイドエレメントから画像生成チップへ向かって偏向される
7 画像生成チップによって生成された画像がビームガイドエレメントに到達する
8 色合成画像が投影光学系に到達する。
Claims (25)
- 撮像システムであって、前記撮像システムは、
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源Bと、
b)ビームガイドエレメントと、
を備え、
前記レーザー光源Bは、前記ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、
前記ビームガイドエレメントは、誘起吸光度Ext1(436nm)を有し、Ext1(436nm)<0.01/cmであるガラスから成り、
前記ガラスは、0から50重量%の割合のNb 2 O 5 と、0から0.3重量%の割合のTiO 2 と、を含み、
次の条件、すなわち
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO 2 成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO 2 成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%から多くとも0.05重量%のCeO 2 成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている、
撮像システム。 - 撮像システムであって、前記撮像システムは、
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源Bと、
b)ビームガイドエレメントと、
を備え、
前記レーザー光源Bは、前記ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、
前記ビームガイドエレメントは、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有するガラスから成り、ここで、S(436nm)は、波長436nmでの加熱度であり、Ext1(436nm)は、厚さ100mmのサンプルに波長455nmのレーザー光を72時間にわたって345W/cm2の電力密度で照射した後の、Ext0(436nm)に比べて追加された、波長436nmでの吸光度であり、Ext0(436nm)は、厚さ100mmのサンプルにおける相応の照射のない場合の波長436nmでの吸光度であり、kは、熱伝導率であり、F(436nm)<15ppm/Wであり、
前記ガラスは、0から50重量%の割合のNb 2 O 5 と、0から0.3重量%の割合のTiO 2 と、を含み、
次の条件、すなわち
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO 2 成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO 2 成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%から多くとも0.05重量%のCeO 2 成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている、撮像システム。 - 撮像システムであって、前記撮像システムは、
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源Bと、490nm超から585nmまでのスペクトル領域に波長λGを有する少なくとも1つのレーザー光源Gと、585nm超から750nmまでのスペクトル領域に波長λRを有する少なくとも1つのレーザー光源Rと、
b)ビームガイドエレメントと、
を備え、
前記レーザー光源B、前記レーザー光源Gおよび前記レーザー光源Rは、前記ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、
前記ビームガイドエレメントは、誘起吸光度Ext1(RGB)=Ext1(436nm)+Ext1(546nm)+Ext1(644nm)を有し、Ext1(RGB)<0.03/cmであるガラスから成り、
前記ガラスは、0から50重量%の割合のNb 2 O 5 と、0から0.3重量%の割合のTiO 2 と、を含み、
次の条件、すなわち
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO 2 成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO 2 成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%から多くとも0.05重量%のCeO 2 成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている、
撮像システム。 - 撮像システムであって、前記撮像システムは、
a)380nm~490nmのスペクトル領域に波長λBを有する少なくとも1つのレーザー光源Bと、490nm超から585nmまでのスペクトル領域に波長λGを有する少なくとも1つのレーザー光源Gと、585nm超から750nmまでのスペクトル領域に波長λRを有する少なくとも1つのレーザー光源Rと、
b)ビームガイドエレメントと、
を備え、
前記レーザー光源B、前記レーザー光源Gおよび前記レーザー光源Rは、前記ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で10W/cm2超の平均表面電力密度を発生させるのに適しており、
前記ビームガイドエレメントは、品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/kを有し、F(RGB)<40ppm/Wであるガラスから成り、kは、熱伝導率であり、
前記ガラスは、0から50重量%の割合のNb 2 O 5 と、0から0.3重量%の割合のTiO 2 と、を含み、
次の条件、すなわち
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO 2 成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO 2 成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%から多くとも0.05重量%のCeO 2 成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている、
撮像システム。 - 前記レーザー光源は、ダイオードレーザーである、
請求項1から4までのいずれか1項記載の撮像システム。 - 前記ビームガイドエレメントは、プリズムである、
請求項1から5までのいずれか1項記載の撮像システム。 - 前記レーザー光源は、前記ビームガイドエレメントの少なくとも1つの点で20W/cm2~300W/cm2の平均表面電力密度を発生させるのに適している、
請求項1から6までのいずれか1項記載の撮像システム。 - S(436nm)、S(546nm)およびS(644nm)は、最大50ppm/Kである、
請求項1から7までのいずれか1項記載の撮像システム。 - Ext0(436nm)、Ext0(546nm)およびExt0(644nm)は、0.01/cm未満である、
請求項1から8までのいずれか1項記載の撮像システム。 - Ext1(436nm)、Ext1(546nm)およびExt1(644nm)は、0.009/cm未満である、
請求項1から9までのいずれか1項記載の撮像システム。 - 前記熱伝導率kは、0.005W/(cm・K)超である、
請求項2または4記載の撮像システム。 - 20℃~40℃の温度領域における波長436nm、波長546nmおよび/または波長644nmでの平均dn/dTが、0.1ppm/K~8.0ppm/Kの領域にある、
請求項1から11までのいずれか1項記載の撮像システム。 - ビームガイドエレメントであって、前記ビームガイドエレメントは、次の特性、すなわち
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、F(436nm)<15ppm/W、
・品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/k、F(RGB)<40ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
・誘起吸光度Ext1(RGB)=Ext1(436nm)+Ext1(546nm)+Ext1(644nm)、ここでExt1(RGB)<0.03/cm、
のうちの1つもしくは複数を有するガラスから成り、kは、熱伝導率であり、
前記ガラスは、0から50重量%の割合のNb 2 O 5 と、0から0.3重量%の割合のTiO 2 と、を含み、
次の条件、すなわち
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO 2 成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO 2 成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%から多くとも0.05重量%のCeO 2 成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている、
ビームガイドエレメント。 - ビームガイドエレメントであって、
前記ビームガイドエレメントは、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、F(436nm)<15ppm/Wであるガラスから成り、
前記ガラスは、0から50重量%の割合のNb 2 O 5 と、0から0.3重量%の割合のTiO 2 と、を含み、
次の条件、すなわち
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO 2 成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO 2 成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%から多くとも0.05重量%のCeO 2 成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている、ビームガイドエレメント。 - 前記ビームガイドエレメントは、レンズ、プリズム、非球面、平面プレート、フリーフォーム、高速軸コリメータおよび/または導光ロッドから選択されている、
請求項13および14のいずれか1項記載のビームガイドエレメント。 - ガラスであって、前記ガラスは、次の特性、すなわち
・品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k、F(436nm)<15ppm/W、
・品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/k、F(RGB)<40ppm/W、
・誘起吸光度Ext1(436nm)<0.01/cm、
・誘起吸光度Ext1(RGB)=Ext1(436nm)+Ext1(546nm)+Ext1(644nm)、ここでExt1(RGB)<0.03/cm、
のうちの1つもしくは複数を有し、kは、熱伝導率であり、
前記ガラスは、0から50重量%の割合のNb 2 O 5 と、0から0.3重量%の割合のTiO 2 と、を含み、
次の条件、すなわち
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO 2 成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO 2 成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%から多くとも0.05重量%のCeO 2 成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている、
ガラス。 - ガラスであって、
前記ガラスは、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、F(436nm)<15ppm/Wであり、kは、熱伝導率であり、
前記ガラスは、0から50重量%の割合のNb 2 O 5 と、0から0.3重量%の割合のTiO 2 と、を含み、
次の条件、すなわち
(i)1.0ppm(重量ベース)未満のMnO 2 成分、
(ii)少なくとも0.1重量%のSnO 2 成分および少なくとも0.05重量%のCl成分、
(iii)少なくとも0.005重量%から多くとも0.05重量%のCeO 2 成分、
のうちの少なくとも1つが満たされている、
ガラス。 - プロジェクタまたは材料加工における、請求項1から12までのいずれか1項記載の撮像システムの使用方法。
- 請求項1から12までのいずれか1項記載の撮像システムを含む、プロジェクタ。
- 前記ガラスは、次の成分を記載の割合(重量%)で含む、
請求項1から12までのいずれか1項記載の撮像システム。 - 前記ガラスは、SiO 2 を30重量%から80重量%の割合で、または、43重量%から80重量%の割合で含む、
請求項1から12までのいずれか1項記載の撮像システム。 - 前記ガラスは、次の成分を記載の割合(重量%)で含む、
請求項13から15までのいずれか1記載のビームガイドエレメント。 - 前記ガラスは、SiO 2 を30重量%から80重量%の割合で、または、43重量%から80重量%の割合で含む、
請求項13から15までのいずれか1記載のビームガイドエレメント。 - 前記ガラスは、次の成分を記載の割合(重量%)で含む、
請求項16または17記載のガラス。 - 前記ガラスは、SiO 2 を30重量%から80重量%の割合で、または、43重量%から80重量%の割合で含む、
請求項16または17記載のガラス。
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