JP7723760B2 - (メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
(メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法Info
- Publication number
- JP7723760B2 JP7723760B2 JP2023563579A JP2023563579A JP7723760B2 JP 7723760 B2 JP7723760 B2 JP 7723760B2 JP 2023563579 A JP2023563579 A JP 2023563579A JP 2023563579 A JP2023563579 A JP 2023563579A JP 7723760 B2 JP7723760 B2 JP 7723760B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- hydroxyl
- meth
- component
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
(B)下記一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステル 前記(A)成分の水酸基1モルに対するモル比が1~10となる量とを、
下記(C)成分及び下記(D)成分の存在下で反応させて前記(メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンを得る工程を含むことを特徴とする、前記製造方法を提供する。
(C)下記一般式(3)で表され、20℃で液状である化合物 前記(A)成分の水酸基1モルに対するモル比が0.001~0.1となる量
Zr(OR4)4 (3)
(式中、R4は、非置換又は置換の、炭素数1~10の直鎖状又は分岐状の一価炭化水素基であり、カルボニル基を含んでもよい)
(D)下記一般式(4)または(5)で表され、20℃で液状である化合物 前記(A)成分の水酸基1モルに対するモル比が0.002~0.8となる量
(式中、R8は互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数1~10の1価炭化水素基、アルコキシ基、前記水酸基含有基、又は、末端に(メタ)アクリロイルオキシ基を有する一価炭化水素基又は(ポリ)オキシアルキレンアルキル基(以下、まとめて(メタ)アクリロイルオキシ基含有基という)であり、少なくとも1のR8は前記(メタ)アクリロイルオキシ基含有基であり、lは2以上の正数であり、mは0又は正数であり、nは0又は正数であり、oは0又は正数であり、2≦l+m+n+o≦1,000であり、水酸基含有基が結合するケイ素原子の個数が全ケイ素原子の合計個数に対して0~30%である)。
本発明の製造方法は、下記平均式(1)で表される水酸基含有オルガノポリシロキサンと
(B)下記一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステル 前記(A)成分の水酸基1モルに対するモル比が1~10となる量とを、
下記(C)成分及び下記(D)成分の存在下で反応させて前記(メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンを得る工程を含むことを特徴とする、前記製造方法である。
(C)下記一般式(3)で表され、20℃で液状である化合物 前記(A)成分の水酸基1モルに対するモル比が0.001~0.1となる量
Zr(OR4)4 (3)
(式中、R4は、非置換又は置換の、炭素数1~10の直鎖状又は分岐状の一価炭化水素基であり、カルボニル基を含んでもよい)
(D)下記一般式(4)または(5)で表され、20℃で液状である化合物 前記(A)成分の水酸基1モルに対するモル比が0.002~0.8となる量
(B)成分は下記一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステルであり、(A)成分へ(メタ)アクリロイル基を導入するための反応試剤である。
(C)成分は下記一般式(3)で表され、20℃で液状である化合物である。
Zr(OR4)4 (3)
(式中、R4は、非置換又は置換の、炭素数1~10の直鎖状又は分岐状の一価炭化水素であり、カルボニル基を含んでもよい)
(D)成分は下記一般式(4)または(5)で表され、20℃で液状である化合物である。
(E)成分は重合禁止剤であり、反応中に(B)成分である(メタ)アクリル酸エステルが(A)成分と反応せずに重合することを抑制するための添加剤である。重合禁止剤としては、ラジカル重合を抑制する効果が得られるならば限定されないが、以下に挙げるようなアルキルフェノール類がある。
本発明のエステル交換反応は無溶剤で行うこともできるし、有機溶剤中で行ってもよい。有機溶剤としては、トルエン、及びキシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、及びイソパラフィン等の脂肪族炭化水素系溶剤、工業用ガソリン、石油ベンジン、及びソルベントナフサ等の炭化水素系溶剤、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、及び1,4-ジオキサン等のエーテル系溶剤、又はこれらの混合溶剤等が挙げられる。これらは1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。
本発明は(A)成分中に含まれる水酸基と(B)成分のアルキルエステル部位を、触媒である(C),(D)成分によってエステル交換させて目的となるオルガノポリシロキサンを得るというものである。反応の概略は以下のように示される。なお、式中のSiloxane-OHは、上記式(1)で表される水酸基含有オルガノポリシロキサンであり、上記(A)成分のために例示した化合物が挙げられる。
上述した通り、本発明で得られる(メタ)アクリロイル基を含有するオルガノポリシロキサンは下記平均式(5)で表される。
l、m、n、及びoの上限値は、2≦l+m+n+o≦1,000を満たし、オルガノポリシロキサンが上述した粘度を有する値であればよい。mの上限値は、好ましくは998以下であり、より好ましくは798以下であり、より好ましくは598以下である。mの下限値は0であってよいが、好ましくは、mは1以上であり、より好ましくは5以上であり、さらに好ましくは8以上がよい。すなわち、好ましくは1≦m≦998であり、より好ましくは5≦m≦798であり、さらに好ましくは8≦m≦598であるのがよい。nは好ましくは0≦n≦5であり、より好ましくは0≦n≦4であり、さらに好ましくは0≦n≦3であるのがよい。oは好ましくは0≦o≦4であり、より好ましくは0≦o≦3であり、さらに好ましくは0≦o≦2であるのがよい。上記平均式(5)で表されるオルガノポリシロキサンは、より好ましくは直鎖構造を有する。
以下において、表中の物性は、下記の試験法により測定されたものである。
なお、例中の部は質量部である。
実施例または比較例中のエステル交換反応の(メタ)アクリロイル基導入率は次のように計算した。本発明のエステル化反応による(メタ)アクリロイル基の導入率は1H-NMRを用いて、原料である水酸基を含有するオルガノポリシロキサンの水酸基を有する有機基のSi原子に結合したメチレン基のプロトン(δ=0.42)は反応前後で不変であるため、このプロトンのピークを基準とした。例えば、アクリロイル基の場合、基準となるメチレンのプロトンのピークの積分値を1.00とし、エステル化反応によるアクリロイル基の導入率が100%ならば、アクリロイル基の3つプロトンのうち、それぞれのプロトンのピーク積分値は0.50となる。これより、アクリロイル基の導入率は下記式により決定される。
アクリロイル基導入率=[(アクリロイル基の3つのプロトンピークの積分値の平均)/0.50]×100 (%)
撹拌装置、温度計、ディーンスターク装置を取り付けたセパラブルフラスコへ下記平均式(A-1)で表されるオルガノポリシロキサンを72.91g、(B-1)アクリル酸エチル47.09g(上記オルガノポリシロキサン(A-1)中の水酸基1モルに対し3モルとなる量)、重合禁止剤として2,2’-メチレンビス(6-tert-ブチル-4-メチルフェノール)モノアクリラート0.18g、(C-1)ジルコニウムテトラブトキシド(20℃で液体)の80%ブタノール溶液を0.902g(上記オルガノポリシロキサン(A-1)中の水酸基1モルに対し0.012モルとなる量)、(D-1)アセト酢酸エチル(20℃で液体)を0.979g(上記オルガノポリシロキサン(A-1)中の水酸基1モルに対し0.048モルとなる量)を仕込み、反応系内が85℃となる温度で副生するエタノールを窒素フローにより留去しながら24時間加熱撹拌し反応させた。この反応溶液を85℃で2時間20mmHgの減圧留去により未反応成分を除去することで、下記平均式(X-1)で示されるオルガノポリシロキサンを得た。目的物は黄色透明であり、アクリロイル基導入率は98%であった。
撹拌装置、温度計、ディーンスターク装置を取り付けたセパラブルフラスコへ下記平均式(A-2)で表されるオルガノポリシロキサンを72.91g、(B-1)アクリル酸エチル47.09g(上記オルガノポリシロキサン(A-1)中の水酸基1モルに対し3モルとなる量)、重合禁止剤として2,2’-メチレンビス(6-tert-ブチル-4-メチルフェノール)モノアクリラート0.18g、(C-1)ジルコニウムテトラブトキシド(20℃で液体)の80%ブタノール溶液を1.503g(上記オルガノポリシロキサン(A-2)中の水酸基1モルに対し0.02モルとなる量)、(D-1)アセト酢酸エチル(20℃で液体)を1.632g(上記オルガノポリシロキサン(A-2)中の水酸基1モルに対し0.08モルとなる量)仕込み、反応系内が85℃となる温度で副生するエタノールを留去しながら24時間加熱撹拌し反応させた。この反応溶液を85℃で2時間20mmHgの減圧留去により未反応成分を除去することで、黄色透明の生成物を得た。生成物は下記平均式(X-2)で示されるオルガノポリシロキサンであった。アクリロイル基導入率は98%であった。
上記実施例2において(D-1)アセト酢酸エチルの代わりに、(D-2)アセト酢酸メチル(20℃で液体)1.456g(上記オルガノポリシロキサン(A-2)中の水酸基1モルに対し0.08モルとなる量)を用いた他は実施例2を繰り返して、黄色透明の目的物を得た。アクリロイル基導入率は96%であった。
上記実施例2において(C-1)ジルコニウムテトラブトキシドの80%ブタノール溶液の代わりに、(C-2)ジルコニウムテトラプロポキシド(20℃で液体)の70%プロパノール溶液を3.668g(上記オルガノポリシロキサン(A-2)中の水酸基1モルに対し0.05モルとなる量)を用い、(D-1)アセト酢酸エチルの量を4.080g(上記オルガノポリシロキサン(A-2)中の水酸基1モルに対し0.2モルとなる量)とした他は、実施例2を繰り返して、黄色透明の目的物を得た。アクリロイル基導入率は98%であった。
実施例2において(D-1)アセト酢酸エチルの代わりに、(D-3)アセチルアセトン1.256g(上記オルガノポリシロキサン(A-2)中の水酸基1モルに対し0.08モルとなる量)を用いた他は、実施例2を繰り返して、黄色透明の目的物を得た。アクリロイル基導入率は98%であった。
実施例1において(D-1)アセト酢酸エチルを使用しない他は実施例1を繰り返して黄色透明の目的物を得た。アクリロイル基導入率は19%であった。
実施例1において(C-1)ジルコニウムテトラブトキシドの80%ブタノール溶液を使用しない他は実施例1を繰り返して黄色透明の目的物を得た。アクリロイル基導入率は5%であった。
実施例1において(C-1)ジルコニウムテトラブトキシドの80%ブタノール溶液を0.902g(上記オルガノポリシロキサン(A-1)中の水酸基1モルに対し0.012モルとなる量)を用い、及び(D-1)アセト酢酸エチルの代わりにジルコニウムアセチルアセトナート(Zr(acac)4、融点191°C)0.764g(上記オルガノポリシロキサン(A-1)中の水酸基1モルに対し0.01モルとなる量)を用いた他は、実施例1を繰り返した。得られた生成物は、Zr(acac)4由来の固体が残存しており、黄色微濁の溶液であった。アクリロイル基導入率は98%であった。
実施例2において、(C-1)ジルコニウムテトラブトキシドの80%ブタノール溶液を0.902g(上記オルガノポリシロキサン(A-1)中の水酸基に対し0.012当量となる量)用い、及び(D-1)アセト酢酸エチルの代わりにジルコニウムアセチルアセトナート(Zr(acac)4、融点191°C)0.764g(上記オルガノポリシロキサン(A-1)中の水酸基1モルに対し0.01モルとなる量)を用いた他は、実施例2を繰り返して黄色透明の目的物を得た。アクリロイル基導入率は99%であった。
Claims (7)
- (メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法であって、
(A)下記平均式(1)で表される水酸基含有オルガノポリシロキサンと
(式中、R1は互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数1~10の1価炭化水素基、アルコキシ基、又は、末端に水酸基を有する、一価炭化水素基又は(ポリ)オキシアルキレンアルキル基(以下、まとめて水酸基含有基という)であり、R1のうち少なくとも1つは水酸基含有基であり、該水酸基含有オルガノポリシロキサンは前記水酸基含有基が結合するケイ素原子の数が全ケイ素原子の数に対して1~50%である数の水酸基含有基を有し、aは2以上の正数であり、bは0又は正数であり、cは0又は正数であり、dは0又は正数であり、及び2≦a+b+c+d≦1,000である)
(B)下記一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステル 前記(A)成分の水酸基1モルに対するモル比が1~10となる量とを、
(式中、R2は水素原子又はメチル基であり、R3は、非置換又は置換の、炭素数1~5の直鎖状又は分岐状の一価炭化水素基である)
下記(C)成分及び下記(D)成分の存在下で反応させて前記(メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンを得る工程を含むことを特徴とする、前記製造方法
(C)下記一般式(3)で表され、20℃で液状である化合物 前記(A)成分の水酸基1モルに対するモル比が0.001~0.1となる量
Zr(OR4)4 (3)
(式中、R4は、非置換又は置換の、炭素数1~10の直鎖状又は分岐状の一価炭化水素基であり、カルボニル基を含んでもよい)
(D)下記一般式(4)または(5)で表され、20℃で液状である化合物 前記(A)成分の水酸基1モルに対するモル比が0.002~0.8となる量
(式中、R5およびR6は、互いに独立に、非置換又は置換の、炭素数1~6の一価炭化水素基である)
(式中、R7は、非置換又は置換の、炭素数1~6の一価炭化水素基である)。 - 前記(A)成分中の前記水酸基含有基が結合するケイ素原子の数が、全ケイ素原子の数に対して3~40%である、請求項1記載の製造方法。
- (C)成分が、前記R4として炭素数1~6のアルキル基を有するジルコニウムアルコキシドである、請求項1又は2記載の製造方法。
- 前記工程において、さらに(E)重合禁止剤を前記(A)成分100質量部に対し0.01~1質量部配合する、請求項1又は2記載の製造方法。
- 前記工程において、前記(A)~(D)成分、及び任意的に(E)成分を反応容器内にて混合撹拌しながら該反応容器内の混合物が70~150℃になるように加熱し、副生するアルコールを反応容器外に排除しながら前記(A)成分と(B)成分とを反応させることを特徴とする、請求項1又は2記載の製造方法。
- 前記(メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンが下記平均式(5)で表される、請求項1又は2記載の製造方法
(式中、R8は互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数1~10の1価炭化水素基、アルコキシ基、前記水酸基含有基、又は、末端に(メタ)アクリロイルオキシ基を有する一価炭化水素基又は(ポリ)オキシアルキレンアルキル基(以下、まとめて(メタ)アクリロイルオキシ基含有基という)であり、少なくとも1のR8は前記(メタ)アクリロイルオキシ基含有基であり、lは2以上の正数であり、mは0又は正数であり、nは0又は正数であり、oは0又は正数であり、2≦l+m+n+o≦1,000であり、水酸基含有基が結合するケイ素原子の個数が全ケイ素原子の合計個数に対して0~30%である)。 - 前記水酸基含有基が下記から選ばれる少なくとも1である、請求項1又は2記載の製造方法
(式中、R2は、水素原子又はメチル基である。eは1~10の整数であり、f及びgは互いに独立に1~5の整数であり、上記式において、括弧内に示されるエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの結合順序は制限されるものでなく、ランダムに配列していても、ブロック構造を形成していてもよく、式中、破線はオルガノポリシロキサンのケイ素原子との結合手を示す)。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021191124 | 2021-11-25 | ||
| JP2021191124 | 2021-11-25 | ||
| PCT/JP2022/040480 WO2023095556A1 (ja) | 2021-11-25 | 2022-10-28 | (メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2023095556A1 JPWO2023095556A1 (ja) | 2023-06-01 |
| JP7723760B2 true JP7723760B2 (ja) | 2025-08-14 |
Family
ID=86539299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023563579A Active JP7723760B2 (ja) | 2021-11-25 | 2022-10-28 | (メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7723760B2 (ja) |
| TW (1) | TW202337965A (ja) |
| WO (1) | WO2023095556A1 (ja) |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005530821A (ja) | 2002-06-18 | 2005-10-13 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 高電荷密度を有するカチオン性ポリマー及びコンディショニング剤を含有する組成物 |
| JP2006509792A (ja) | 2002-12-12 | 2006-03-23 | サーフェース スペシャリティーズ、エス.エイ. | カルバモイルオキシ(メタ)アクリレートの製造法および新規カルバモイルオキシ(メタ)アクリレート |
| JP2007186557A (ja) | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリウレタンフォーム用整泡剤及びポリウレタンフォームの製造方法 |
| JP2008266285A (ja) | 2006-10-24 | 2008-11-06 | Shiseido Co Ltd | オルガノシロキサン誘導体 |
| JP2010138255A (ja) | 2008-12-10 | 2010-06-24 | Ipposha Oil Ind Co Ltd | ポリエーテル変性ポリシロキサン化合物およびこれを含有する放射線硬化性組成物 |
| JP2011153233A (ja) | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Lion Corp | 液体洗浄剤組成物 |
| JP2013209763A (ja) | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Toray Ind Inc | 繊維構造物 |
| CN108794750A (zh) | 2017-04-26 | 2018-11-13 | 上海飞凯光电材料股份有限公司 | 一种具有(甲基)丙烯酸酯基的聚硅氧烷及其制备方法和应用 |
| WO2020230723A1 (ja) | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 信越化学工業株式会社 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6094486A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 印字適性を有する剥離性処理剤 |
| FR3038608A1 (fr) * | 2015-07-06 | 2017-01-13 | Bluestar Silicones France | Procede de preparation d'organopolysiloxanes avec des fonctions (meth)acrylates |
-
2022
- 2022-10-28 JP JP2023563579A patent/JP7723760B2/ja active Active
- 2022-10-28 WO PCT/JP2022/040480 patent/WO2023095556A1/ja not_active Ceased
- 2022-11-14 TW TW111143360A patent/TW202337965A/zh unknown
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005530821A (ja) | 2002-06-18 | 2005-10-13 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 高電荷密度を有するカチオン性ポリマー及びコンディショニング剤を含有する組成物 |
| JP2006509792A (ja) | 2002-12-12 | 2006-03-23 | サーフェース スペシャリティーズ、エス.エイ. | カルバモイルオキシ(メタ)アクリレートの製造法および新規カルバモイルオキシ(メタ)アクリレート |
| JP2007186557A (ja) | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリウレタンフォーム用整泡剤及びポリウレタンフォームの製造方法 |
| JP2008266285A (ja) | 2006-10-24 | 2008-11-06 | Shiseido Co Ltd | オルガノシロキサン誘導体 |
| JP2010138255A (ja) | 2008-12-10 | 2010-06-24 | Ipposha Oil Ind Co Ltd | ポリエーテル変性ポリシロキサン化合物およびこれを含有する放射線硬化性組成物 |
| JP2011153233A (ja) | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Lion Corp | 液体洗浄剤組成物 |
| JP2013209763A (ja) | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Toray Ind Inc | 繊維構造物 |
| CN108794750A (zh) | 2017-04-26 | 2018-11-13 | 上海飞凯光电材料股份有限公司 | 一种具有(甲基)丙烯酸酯基的聚硅氧烷及其制备方法和应用 |
| WO2020230723A1 (ja) | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 信越化学工業株式会社 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202337965A (zh) | 2023-10-01 |
| JPWO2023095556A1 (ja) | 2023-06-01 |
| WO2023095556A1 (ja) | 2023-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6991236B2 (ja) | ラジカル重合性オルガノポリシロキサンの製造方法、放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物、及び剥離シート | |
| US20050136269A1 (en) | Polysiloxanes containing (meth)acrylic ester groups attached via SiOC groups, processes for preparing them and their use as a radiation-curable abhesive coating | |
| TWI861103B (zh) | 放射線硬化性有機聚矽氧烷組成物、硬化物、以及剝離片 | |
| CN107698766A (zh) | 支链聚有机硅氧烷及相关的可固化组合物、方法、用途和器件 | |
| KR20150118139A (ko) | 안정한 열 라디칼 경화성 실리콘 접착제 조성물 | |
| EP1401919B1 (en) | Liquid alkoxysilyl-functional silicone resins, method for their preparation, and curable silicone resin compositions | |
| US9845401B2 (en) | Surface control additive for radiation curing system, preparation method therefor and application thereof | |
| US20200299462A1 (en) | Method for preparing ultraviolet (uv) curing polymethyl siloxane containing acrylate structure | |
| WO2024225074A1 (ja) | (メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| WO2024225075A1 (ja) | (メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP2018193492A (ja) | 重合性基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP7723760B2 (ja) | (メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| EP3647341B1 (en) | (meth)acryloyl group-containing organosiloxane | |
| JP2004527609A (ja) | ヒドロキシアルキルポリシロキサンの製法 | |
| CN114015053A (zh) | 紫外线固化有机硅离型剂 | |
| CN110156996B (zh) | 单封端反应性有机硅及其制备方法 | |
| JP7059233B2 (ja) | (メタ)アクリル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| TW200844145A (en) | Organopolysiloxanes containing organic functional groups and multiple kinds of alkoxy groups having different carbon numbers | |
| WO2023095555A1 (ja) | (メタ)アクリロイル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| TWI468444B (zh) | An organopolysiloxane compound containing a? -keto ester group | |
| JPH10324749A (ja) | エポキシ基含有オルガノポリシルセスキオキサンおよびその製造法 | |
| CN108503840A (zh) | 一种紫外光(uv)固化型侧基含甲基丙烯酸酯结构的聚甲基硅氧烷的制备方法 | |
| JP2025529444A (ja) | 紫外線硬化性樹脂-直鎖状ポリシロキサンホットメルト組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240425 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20250312 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20250314 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250507 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20250626 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250708 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20250729 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20250801 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7723760 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |