JP7726760B2 - ウェーハの製造方法および研削装置 - Google Patents

ウェーハの製造方法および研削装置

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Description

本発明は、ウェーハの製造方法および研削装置に関する。
特許文献1に開示の技術では、SiCに対して透過性の波長を有するレーザー光線を、円柱状のSiCのインゴットの上面側から照射し、所定の深さに集光させた集光点を、上面に平行に移動させる。これにより、改質層と改質層から伸びたクラックとを含む剥離層を形成し、剥離層を起点に、円板状のワークを剥離する。このワークを研削することによって、インゴットからウェーハを製造する。
この技術を用いてウェーハを製造する際には、インゴットから複数のワークを取得し終わったら、新たなインゴットにレーザー光線を照射してワークを取得している。
この際、新たなインゴットに照射するレーザー光線の出力が、前のインゴットに照射したレーザー光線の出力と同じ場合、剥離層が薄くなったり、厚くなったりすることがある。
剥離層が薄い場合には、インゴットの上面から見て隣同士のクラックが繋がってないなどのためワークを剥離することが困難となる。一方、剥離層が厚い場合には、剥離して取得したワークが薄くなったり、インゴットから取得できるワークの枚数が少なくなったりする。
このような問題を解決するため、レーザー光線の出力を調整して、剥離層が予め設定した所定の厚みになるようにしている。つまり、インゴットが変わるたびに、剥離層の厚みを測定している。
この剥離層の厚みの測定では、インゴットに剥離層を形成して剥離層を起点にワークを剥離した後、インゴットの剥離面に残っている剥離層を研削して除去するとともに、ワークの剥離面に残っている剥離層を研削して除去する。そして、剥離層の除去後のインゴットの厚みと、剥離層の除去後のワークの厚みとを、剥離層を形成する前のインゴットの厚み(長さ)から差し引く。これにより、剥離層の厚みが求められる。そして、このようにして求められた剥離層の厚みが、予め設定した範囲内(許容範囲内)に入るように、レーザー光線の出力調整を行う。つまり、剥離層の厚みが予め設定した範囲内に入るまで、剥離層の形成と、インゴットからのワークの剥離と、インゴットおよびワークからの剥離層の除去と、剥離層の厚み測定と、レーザー光線の出力調整と、を繰り返している。
このようにしてレーザー光線の出力調整が完了したら、剥離層の形成と、インゴットからのワークの剥離と、インゴットの上面に残っている剥離層の除去とを繰り返す。これによって得られるワークは、剥離層が残ったままで、カセットに収容される。そして、研削機構を2つ備える研削装置のカセットステージにカセットを載置して、一方の研削機構でワークの剥離層を除去した後、他方の研削機構で、ワーク両面の研削痕を除去するとともに、均一な厚みとなるように、ワークを研削している。
特開2016-111143号公報
レーザー光線の出力調整の際に取得した剥離層を除去したワークと、レーザー光線の出力調整が終わった後に取得した剥離層が残っているワークとでは、厚みが異なるとともに、面の状態も異なる。このため、従来、これらのワークを別々に研削してウェーハにしている。そのため、インゴットから取り出せるワークの全てをウェーハにするまでには、研削時間がかかる。
したがって、本発明の目的は、剥離層が有るワークと、剥離層が無いワークとがカセット内に混在していても、これらのワークを研削して、所定の厚みのウェーハを製造することにある。
本発明にかかるウェーハの製造方法(本製造方法)は、インゴットに対して透過性を有するレーザー光線をインゴットの一方の面側から照射して、所定の深さに集光させた集光点を該一方の面に平行に移動させて剥離層を形成し、該剥離層を起点に剥離して取得した板状のワークを研削砥石で研削してウェーハを製造するウェーハの製造方法であって、インゴットに調整用剥離層を形成して、該調整用剥離層を起点に剥離した調整用ワークに残存している剥離層である第1残存剥離層を除去して、インゴットに照射されるレーザー光線の出力調整を行う出力調整工程と、該出力調整したレーザー光線をインゴットに照射して剥離層を形成し、該剥離層を起点にインゴットからワークを剥離することによって、一方の面に第1残存剥離層を有するワークを取得するワーク取得工程と、該第1残存剥離層が除去された該調整用ワークと、該第1残存剥離層を有する該ワークとの両面を研削して、所定の厚みのウェーハを製造する研削工程と、を含む。
本製造方法では、該出力調整工程は、該調整用剥離層を形成する前のインゴットの厚みである第1厚みを測定する第1厚み測定工程と、該インゴットに該調整用剥離層を形成する第1剥離層形成工程と、該調整用剥離層を起点に該インゴットから調整用ワークを剥離する第1剥離工程と、該インゴットに残存している剥離層である第2残存剥離層を剥離層砥石で研削除去する第1インゴット研削工程と、該第2残存剥離層を研削除去した該インゴットの厚みである第2厚みを測定する第2厚み測定工程と、該インゴットから剥離された該調整用ワークの該第1残存剥離層を該剥離層砥石で研削除去するワーク研削工程と、該第1残存剥離層を研削除去した該調整用ワークの厚みである第3厚みを測定する第3厚み測定工程と、該第1厚みから該第2厚みと該第3厚みとを差し引くことによって該調整用剥離層の厚みを測定する調整用剥離層厚み測定工程と、該調整用剥離層厚み測定工程で測定した該調整用剥離層の厚みが予め設定した厚みになるように、レーザー光線の出力を調整する調整工程と、を備えてもよい。
本製造方法では、該ワーク取得工程は、該出力調整したレーザー光線をインゴットに照射して剥離層を形成する第2剥離層形成工程と、該剥離層を起点に剥離した第1残存剥離層を有するワークと、該ワークが剥離されて残った第2残存剥離層を有するインゴットと、を取得する第2剥離工程と、該第2剥離工程の後、該インゴットの該第2残存剥離層を研削除去する第2インゴット研削工程と、該第2剥離層形成工程と、該第2剥離工程と、該第2インゴット研削工程と、を繰り返して該第1残存剥離層を有するワークを取得する繰り返し工程と、を備えてもよい。
本製造方法では、該ワーク取得工程は、該繰り返し工程により取得される該第1残存剥離層を有するワークと、該出力調整工程で取得される該第1残存剥離層が除去された該調整用ワークとを、カセットに混在させることを含んでもよい。
本製造方法では、該研削工程は、該第1残存剥離層を一方の面に有するワークの他方の面を、チャックテーブルの保持面で保持する保持工程と、該保持面に保持されたワークの該第1残存剥離層を、剥離層砥石で研削除去する剥離層研削工程と、該剥離層砥石で研削されたワークの両面に形成された研削痕を、仕上げ砥石で研削除去する仕上げ研削工程と、を備えてもよい。
本製造方法では、該研削工程は、ワークの一方の面に第1残存剥離層が有るか無いかを判断する剥離層有無判断工程を備えてもよく、該第1残存剥離層が有ると判断された際には、該ワークの該第1残存剥離層を剥離層砥石で研削除去したのち、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する一方、該第1残存剥離層が無いと判断された際は、該剥離層砥石による研削を実施せずに、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削してもよい。
本製造方法では、該剥離層有無判断工程は、保持面に保持された該ワークの厚みを測定する第4厚み測定工程と、該第4厚み測定工程で測定された該ワークの厚みが予め設定した厚み以上のときに該ワークに該第1残存剥離層が有ると判断する一方、該ワークの厚みが、予め設定した厚みよりも薄いときに該ワークに該第1残存剥離層が無いと判断する厚み判断工程と、を含んでもよい。
本製造方法では、該剥離層有無判断工程は、該ワークの一方の面を撮像する撮像工程と、該撮像によって得られる撮像画における隣接するピクセルの明度差が、予め設定した差以上のときに、該ワークに該第1残存剥離層が有ると判断する一方、該ピクセルの明度差が、予め設定した差よりも小さいときに、該ワークに該第1残存剥離層が無いと判断する画像判断工程と、を含んでもよい。
本製造方法では、該研削工程は、該第4厚み測定工程で測定された該ワークの厚みが、少なくとも、予め設定されている該仕上げ砥石で研削される研削量と、予め設定されているウェーハの所定の厚みとを足した値よりも小さいとき、ウェーハの製造ができないと判断する第1判断工程を備えてもよい。
本製造方法では、該研削工程は、該ワークの一方の面に第1残存剥離層が有るか無いかを判断する剥離層有無判断工程を備えてもよく、該第1残存剥離層が有ると判断された際には、該ワークの該第1残存剥離層を剥離層砥石で研削除去したのち、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する一方、該第1残存剥離層が無いと判断された際には、該ワークの厚みを測定する追加厚み測定工程と、該追加厚み測定工程で測定された厚みが、該仕上げ砥石で研削される研削量と、予め設定されているウェーハの所定の厚みとを足した値である基準値よりも大きいとき、該剥離層砥石によって、該ワークに形成されている研削痕に交差する研削痕を形成しつつ、該ワークを該基準値の厚みに研削する、厚み調整研削工程と、該厚み調整研削工程の後、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する仕上げ研削工程と、を実施してもよい。
本製造方法に用いられる研削装置(本研削装置)は、ワークを収容したカセットを載置するためのカセットステージと、保持面によってワークを保持するチャックテーブルと、該保持面に保持されたワークの該第1残存剥離層を、剥離層砥石によって研削する剥離層研削機構と、該保持面に保持されたワークを仕上げ砥石によって研削する仕上げ研削機構と、該カセットステージと該チャックテーブルとの間でワークを搬送する搬送機構と、ワークの上下面を反転する反転機構と、該保持面に保持されたワークの厚みを測定する厚み測定器と、該ワークの一方の面に該第1残存剥離層が有るか無いかを検知する剥離層有無検知ユニットと、制御部と、を備え、該制御部は、該剥離層有無検知ユニットが、該第1残存剥離層が有ると判断した際には、該ワークの該第1残存剥離層を剥離層砥石で研削除去したのち、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する一方、該剥離層有無検知ユニットが該第1残存剥離層が無いと判断した際には、該剥離層砥石による研削を実施せずに、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する制御を実施する。
本研削装置では、該剥離層有無検知ユニットは、該厚み測定器によって該保持面に保持されたワークの厚みを測定して、該ワークの厚みが予め設定した厚み以上のときに、該ワークに該第1残存剥離層が有ると判断する一方、該ワークの厚みが予め設定した厚みに達していないときに該ワークに該第1残存剥離層が無いと判断する厚み判断部を備えてもよい。
本研削装置では、該剥離層有無検知ユニットは、該ワークの一方の面を撮像するカメラと、該カメラの撮像画の隣接するピクセルの明度差が、予め設定した差以上のときに、該ワークに該第1残存剥離層が有ると判断する一方、該ピクセルの明度差が、予め設定した差よりも小さいときに、該ワークに該第1残存剥離層が無いと判断する画像判断部と、を備えてもよい。
本製造方法では、ワークが、一方の面に第1残存剥離層を有するワークである場合でも、また、第1残存剥離層をもたない調整用ワークである場合にも、ワークの両面を研削して、所定の厚みのウェーハを製造している。すなわち、本製造方法では、ワークの両面を研削しているため、一方の面に第1残存剥離層が有るか否かによらず、2種類のワークから同様のウェーハを製造することができる。したがって、2種類のワークが混在していても、これらのワークから、所定の厚みのウェーハを容易に製造することができる。このため、2種類のワークを別々に研削する場合に比して、全体的な加工時間を短縮することができる。
レーザー加工装置の構成を示す斜視図である。 研削ユニットを示す説明図である。 カセットステージおよびカセットを示す斜視図である。 第1ロボットを示す斜視図である。 第1剥離層形成工程および第2剥離層形成工程を示す斜視図である。 インゴットに形成される剥離層を示す説明図である。 第1剥離工程および第2剥離工程を示す斜視図である。 第1剥離工程および第2剥離工程を示す斜視図である。 第1剥離工程および第2剥離工程において得られるワークを示す斜視図である。 第1剥離工程および第2剥離工程において得られるインゴットを示す斜視図である。 研削装置の構成を示す説明図である。 第1残存剥離層の撮像画の例を示す説明図である。 研削工程の一例を示すフローチャートである。
本実施形態にかかるウェーハの製造方法(本製造方法)は、図1に示すインゴット86に剥離層を形成し、この剥離層を起点に剥離して取得した後述する板状のワークを研削砥石で研削して、ウェーハを製造する。剥離層の形成では、インゴット86に対して透過性を有するレーザー光線をインゴット86の第1端面88側から照射して、所定の深さに集光させた集光点を第1端面88に平行に移動させて、第1端面88に平行な面状の剥離層を形成する。
そして、本製造方法は、出力調整工程と、ワーク取得工程と、研削工程とを含んでいる。出力調整工程では、インゴット86に照射されるレーザー光線の出力調整を行う。ワーク取得工程では、出力調整されたレーザー光線をインゴット86に照射して剥離層を形成し、この剥離層を起点にインゴット86から剥離したワークを取得する。研削工程では、ワークの両面を研削して、所定の厚みのウェーハを製造する。
図1に示すレーザー加工装置1は、上述した出力調整工程およびワーク取得工程を実施するための装置である。レーザー加工装置1は、インゴット86を保持する保持ユニット4と、集光器6を有し、レーザー光線によってインゴット86に帯状の剥離層を形成するレーザー光線照射ユニット8と、保持ユニット4と集光器6とを相対的にX軸方向に加工送りするX軸送りユニット10と、保持ユニット4と集光器6とを相対的にY軸方向に割り出し送りするY軸送りユニット12と、第1制御部16とを備える。
レーザー加工装置1では、たとえばSiCから形成された円柱状のインゴット86を加工する。インゴット86は、円形状の第1端面88、第1端面88と反対側の円形状の第2端面90、および、外周面92を有する。また、インゴット86の外周面92には、いずれも結晶方位を示す矩形状の第一のオリエンテーションフラット96および第二のオリエンテーションフラット98が形成されている。
また、インゴット86は、図6に示すように、c軸511(<0001>方向)と、c軸511に直交するc面512({0001}面)とを有している。c軸511は、第1端面88から第2端面90に至り、第1端面88の垂線513に対してオフ角αだけ傾斜している。オフ角αは、たとえば1°~6°の範囲で自由に設定されることができる。図6に示すオフ角αは、4°である。第一のオリエンテーションフラット96は、オフ角αが形成される方向に平行である。また、第二のオリエンテーションフラット98は、オフ角αが形成される方向に直交している。
図1に示す保持ユニット4は、このようなインゴット86を保持するように構成されている。保持ユニット4は、X軸方向に移動自在に基台18に搭載されたX軸可動板20と、X軸可動板20上の案内レール21と、Y軸方向に移動自在にX軸可動板20に搭載されたY軸可動板22と、Y軸可動板22の上面に回転自在に搭載された円形の保持テーブル24と、保持テーブル24を回転させる保持テーブル用モータ(図示せず)とを含む。
X軸送りユニット10は、基台18の上面に沿ってX軸方向に延びるボールねじ38と、ボールねじ38を回転させるモータ40とを有する。ボールねじ38のナット部(図示せず)は、保持ユニット4のX軸可動板20に連結されている。そして、X軸送りユニット10では、モータ40によってボールねじ38が回転されることにより、基台18上の案内レール19に沿って、X軸可動板20がX軸方向に移動される。
Y軸送りユニット12は、X軸可動板20の上面に沿ってY軸方向に延びるボールねじ42と、ボールねじ42を回転させるモータ44とを有する。ボールねじ42のナット部(図示せず)は、保持ユニット4のY軸可動板22に連結されている。そして、Y軸送りユニット12では、モータ44によってボールねじ42が回転されることにより、X軸可動板20上の案内レール21に沿って、Y軸可動板22がY軸方向に移動される。
レーザー光線照射ユニット8は、保持ユニット4に保持されているインゴット86に対して、レーザー光線によって剥離層を形成する。レーザー光線照射ユニット8は、基台18に備えられたハウジング26、および、ハウジング26に備えられた集光器6を含む。
ハウジング26には、インゴット86に対して透過性を有する波長のレーザー光線を発振する発振器、レーザー光線の出力を調整するアッテネータ、および、レーザー光線を反射して集光器6に導くミラー等が内蔵されている(全て図示せず)。
集光器6は、レーザー光線の集光点をインゴット86における生成すべきワークの厚みに対応する深さに位置づけて、レーザー光線をインゴット86に照射する。
ハウジング26の先端下面には、保持ユニット4に保持されたインゴット86を撮像する撮像ユニット34が装着されている。また、ハウジング26の上面には、撮像ユニット34で撮像した画像を表示する表示装置36が配置されている。
また、ハウジング26における撮像ユニット34の近傍には、保持ユニット4の保持テーブル24に保持されているインゴット86あるいはワークの厚みを測定する厚み測定器37が設けられている。
厚み測定器37は、たとえば、被測定物であるインゴット86あるいはワークの厚みを非接触で測定するレーザー式の厚み測定器である。この場合、厚み測定器37は、たとえば、被測定物を透過する波長のレーザー光線を被測定物に照射し、被測定物の下面からの反射光と上面からの反射光とを受光し、各反射光の光路差に基づいて、被測定物の厚みを測定する。あるいは、厚み測定器37は、被測定物の下面からの反射光と上面からの反射光との干渉光を解析することにより被測定物の厚みを測定する分光干渉式ウェーハ厚み計であってもよい。なお、測定光は、可視光線から赤外線の波長域を用いるとよい。厚み測定器37は、測定光を出射する光源として、SLD(Super Luminescent Diode)を備えてもよい。
なお、厚み測定器37は、白色共焦点方式を利用した非接触式の上面測定器または三角測量方式を利用した非接触式の上面高さ測定器、または、被加工物の上面に接触させたプローブの高さ位置を読み取る接触式の上面高さ測定器を用いて、保持面と上面高さとの差を算出して被加工物の厚みを測定してもよい。
レーザー加工装置1は、さらに、インゴット86から剥離層を起点としてウェーハを剥離する剥離ユニット50と、インゴット86の第1端面88を研削して平坦面に形成する研削ユニット52と、を備えている。
剥離ユニット50は、基台18上の案内レール19の終端部に配置されたケーシング54と、ケーシング54に昇降自在に支持された基端からX軸方向に延びるアーム56と、アーム56を昇降させるアーム昇降ユニット(図示せず)とを含む。アーム昇降ユニットは、たとえば、アーム56に連結され上下方向に延びるボールねじと、このボールねじを回転させるモータとを有する。
アーム56の先端にはモータ58が付設され、モータ58の下面には、上下方向に延びる軸線を中心として回転自在に吸着片60が連結されている。吸着片60の下面には複数の吸引孔(図示せず)が形成され、吸着片60は吸引ユニット61(図7参照)に接続されている。また、吸着片60には、吸着片60の下面に対して超音波振動を付与する超音波振動付与ユニット(図示せず)が内蔵されている。
研削ユニット52は、コラム62と、コラム62の片面に昇降自在に装着された昇降板64と、昇降板64を昇降させる昇降ユニット66とを含む。昇降ユニット66は、コラム62の片面に沿って上下方向に延びるボールねじ68と、ボールねじ68を回転させるモータ70とを有する。ボールねじ68のナット部(図示せず)は、昇降板64に連結されている。そして、昇降ユニット66においては、モータ70によってボールねじ68が回転されることにより、コラム62の片面に付設された案内レール63に沿って、昇降板64が昇降される。
昇降板64の片面には、Y軸方向に突出する支持壁72が固定されている。支持壁72には、上下方向に延びる軸線を中心として回転自在に、スピンドル74が支持されている。支持壁72の上面には、スピンドル74を回転させるスピンドル用モータ76が搭載されている。
図1およびに図2に示すように、スピンドル74の下端には円板状のホイールマウント78が固定され、ホイールマウント78の下面には、ボルト80によって環状の研削ホイール82が固定されている。研削ホイール82の下面の外周縁部には、周方向に間隔をおいて環状に配置された、複数の剥離層砥石84が固定されている。本実施形態では、剥離層砥石84は、インゴット86あるいはワークに残存している残存剥離層を除去する砥石である。
レーザー加工装置1の基台18の正面側(-Y方向側)には、カセットユニット110および第1ロボット115が備えられている。
図3に示すように、カセットユニット110は、カセットステージ111、および、カセットステージ111上に載置された第1のカセット112を備えている。第1のカセット112は、内部に複数の棚を備えており、各棚に一枚ずつ、ワークを収容することができる。
第1のカセット112の開口(図示せず)は、-X方向側を向いている。この開口の-X向側には、第1ロボット115が配設されている。図3に示すように、第1ロボット115は、ワークを保持する保持面118を備えたロボットハンド116、および、ロボットハンド116を移動させる移動機構117を備えている。第1ロボット115は、レーザー加工装置1によって得られたワークを、カセットユニット110の第1のカセット112に収容するように構成されている。
第1制御部16は、制御プログラムに従って演算処理を行うCPU、および、メモリ等の記憶媒体等を備えている。第1制御部16は、レーザー加工装置1の上述した各部材を制御して、インゴット86に対する加工処理を実行する。
次に、レーザー加工装置1によって実施される、本製造方法の出力調整工程およびワーク取得工程について説明する。
[1.出力調整工程]
まず、出力調整工程について説明する。
出力調整工程では、インゴット86に調整用剥離層を形成して、この調整用剥離層を起点に剥離した調整用ワークに残存している剥離層である第1残存剥離層、および、インゴット86に残存している剥離層である第2残存剥離層を除去して、インゴット86に照射されるレーザー光線の出力調整を行う。以下に、出力調整工程を具体的に説明する。
(1-1.第1厚み測定工程)
まず、作業者が、第1端面88が上向きとなるように、適宜の接着剤を用いて、インゴット86を、保持ユニット4の保持テーブル24の上面に固定する。これにより、インゴット86が、保持テーブル24に保持される。なお、保持テーブル24の上面に複数の吸引孔が形成されており、保持テーブル24の上面によってインゴット86を吸引保持してもよい。
次に、第1制御部16が、X軸送りユニット10およびY軸送りユニット12を用いて、インゴット86を保持している保持テーブル24を、厚み測定器37の下方に位置づける。そして、第1制御部16は、厚み測定器37を用いて、保持テーブル24に保持されているインゴット86の厚みである第1厚みを測定する。
なお、インゴット86の厚みを測定する厚み測定器37は、保持テーブル24の上面の高さと保持テーブル24に保持されているインゴット86の上面の高さとの差を第1厚みとして算出する。
なお、本実施形態では、第1端面88は、研削ユニット52の剥離層砥石84によって、予め平坦化されている。第1端面88が平坦化されていない場合には、第1制御部16は、厚み測定器37による測定の前に、研削ユニット52の剥離層砥石84を用いて第1端面88の平坦化を実施する。この第1端面88の平坦化により、次工程の第1剥離層形成が可能になる。
(1-2.第1剥離層形成工程)
次に、第1制御部16は、インゴット86に調整用剥離層を形成する第1剥離層形成工程を実施する。
第1剥離層形成工程では、第1制御部16は、まず、X軸送りユニット10およびY軸送りユニット12を用いて、インゴット86を保持している保持テーブル24を、撮像ユニット34の下方に位置付ける。そして、第1制御部16は、インゴット86の上方から、撮像ユニット34によって、インゴット86を撮像する。
次いで、第1制御部16は、撮像ユニット34で撮像したインゴット86の画像に基づいて、X軸送りユニット10、Y軸送りユニット12および保持テーブル用モータによって、保持テーブル24を移動および回転させることにより、インゴット86の向きを所定の向きに調整すると共に、インゴット86と集光器6とのXY平面における位置を調整する。インゴット86の向きを所定の向きに調整する際は、図5に示すとおり、第二のオリエンテーションフラット98をX軸方向に整合させることによって、オフ角α(図6参照)が形成される方向501と直交する方向をX軸方向に整合させると共に、オフ角αが形成される方向501をY軸方向に整合させる。
次いで、第1制御部16は、集光点位置調整ユニットで集光器6を昇降させることにより、インゴット86の第1端面88から、生成すべきワークの厚みに対応する深さ(第1深さ)に、レーザー光線601の集光点602(図6参照)を位置づける。なお、集光点602が位置づけられる第1端面88からの深さ(第1深さ)は、厚み測定器37で測定したインゴット86の上面高さの値を用いて求めるとよい。次いで、第1制御部16は、X軸送りユニット10によって、保持テーブル24を、所定の加工送り速度でX軸方向に加工送りしながら、インゴット86に対して透過性を有する波長のレーザー光線601を、集光器6からインゴット86に照射する。
これにより、図5および図6に示すように、インゴット86における第1端面88から第1深さの部分に、改質部515が形成される。この改質部515は、レーザー光線601の照射によりインゴット86におけるSiCがSi(シリコン)とC(炭素)とに分離され、次に照射されるレーザー光線601が前に形成されたCに吸収されて、連鎖的に、SiCがSiとCとに分離することによって形成される部分である。
このようにして、オフ角αが形成される方向501と直交するX軸方向に、改質部515が連続的に形成される。さらに、改質部515からc面に沿って等方的に延びるクラック516が生成される。これにより、改質部515とクラック516とを含む剥離層517が、X軸方向に沿って連続的に形成される。
この剥離層形成加工に続いて、第1制御部16は、Y軸送りユニット12を用いて、インゴット86と集光点602とを、クラック516の幅を超えない範囲で、Y軸方向に、所定の割り出し送り量620だけ相対的に割り出し送りする。
そして、第1制御部16は、剥離層形成加工と割り出し送りとを、交互に繰り返す。これにより、X軸方向に連続的に延びる剥離層517を、Y軸方向に所定の割り出し送り量620の間隔をおいて、複数、形成することができる。
このようにして、インゴット86の第1端面88から第1深さの部分に、X軸方向に沿う複数の剥離層517を順次生成することができる。この剥離層517は、改質部515およびクラック516のために強度が低下している部分であり、インゴット86からワークを剥離するための界面となる部分である。
そして、本実施形態では、第1剥離層形成工程において生成された剥離層517は、調整用剥離層として用いられる。
(1-3.第1剥離工程)
次に、第1制御部16は、調整用剥離層を起点にインゴット86から調整用ワークを剥離する第1剥離工程を実施する。
第1剥離工程では、第1制御部16は、まず、X軸送りユニット10およびY軸送りユニット12を用いて、図7に示すように、剥離ユニット50の吸着片60の下方に、インゴット86を保持している保持テーブル24を位置づける。
次いで、第1制御部16は、アーム昇降ユニットでアーム56を下降させ、図8に示すとおり、吸着片60の下面を、インゴット86の第1端面88に密着させる。次いで、第1制御部16は、吸引ユニット61を作動させ、吸着片60の下面をインゴット86の第1端面88に吸着させる。次いで、第1制御部16は、超音波振動付与ユニットを作動させ、吸着片60の下面に対して超音波振動を付与すると共に、モータ58で吸着片60を回転させる。これによって、調整用剥離層を起点として、図9に示すように、インゴット86から調整用ワーク700を剥離することができる。
なお、図9に示すように、調整用ワーク700の一方の面である剥離面701には、調整用剥離層の一部である第1残存剥離層900が残存している。また、図10に示すように、調整用ワーク700が剥離された後のインゴット86の第1端面88にも、調整用剥離層の一部である第2残存剥離層89が残存している。
なお、調整用ワーク700の他方の面は、第1剥離工程の前のインゴット86の第1端面88に対応する面であり、平坦化されている。
(1-4.第1インゴット研削工程)
次に、第1制御部16は、インゴット86の残存剥離層である第2残存剥離層89を、剥離層砥石84で研削除去する第1インゴット研削工程を実施する。
第1インゴット研削工程では、第1制御部16は、まず、X軸送りユニット10およびY軸送りユニット12(図1参照)によって、保持テーブル24を、図2に示すように、研削ユニット52の研削ホイール82の下方に位置づける。次いで、第1制御部16は、上方からみて反時計回りに、保持ユニット4の保持テーブル用モータにより、保持テーブル24を回転させる。また、第1制御部16は、上方からみて反時計回りに、研削ユニット52のスピンドル用モータ76(図1参照)によりスピンドル74を回転させる。
次いで、第1制御部16は、研削ユニット52の昇降ユニット66を用いてスピンドル74を下降させ、インゴット86の第1端面88に、剥離層砥石84を接触させる。その後、第1制御部16は、所定の研削送り速度でスピンドル74を下降させることによって、インゴット86の第1端面88を剥離層砥石84によって研削する。これにより、インゴット86の第1端面88に形成されている第2残存剥離層89を、研削除去することができる。なお、この研削により第2残存剥離層89が除去されて平坦化された第1端面88には、剥離層砥石84による研削痕87が形成される。
(1-5.第2厚み測定工程)
次に、第1制御部16は、第2残存剥離層89を研削除去したインゴット86の厚みである第2厚みを、第1厚み測定工程と同様にして、厚み測定器37を用いて測定する。
(1-6.ワーク研削工程)
次に、第1制御部16は、インゴット86から剥離された調整用ワーク700の残存剥離層である第1残存剥離層900を、剥離層砥石84で研削除去するワーク研削工程を実施する。
すなわち、まず、作業者が、保持ユニット4の保持テーブル24からインゴット86を取り外して、保持テーブル24に、第1残存剥離層900が形成されている剥離面701が上向きとなるように調整用ワーク700を保持させる。
なお、インゴット86から剥離した調整用ワーク700を保持テーブル24に搬送する搬送機構を備えていてもよい。
その後、第1制御部16が、上述した第1インゴット研削工程と同様にして、剥離層砥石84によって、保持ユニット4の保持テーブル24に保持されている調整用ワーク700の第1残存剥離層900を剥離面701から研削する。これにより、調整用ワーク700に形成されている第1残存剥離層900を、研削除去することができる。なお、この研削により、調整用ワーク700は、両面が平坦化されたワークとなる。また、調整用ワーク700の両面には、剥離層砥石84による研削痕(図示せず)が形成される。
(1-7.第3厚み測定工程)
次に、第1制御部16は、第1残存剥離層900を研削除去した調整用ワーク700の厚みである第3厚みを、第1厚み測定工程と同様に、厚み測定器37を用いて測定する。この第3厚み測定工程の後、調整用ワーク700は、図4に示した第1ロボット115により、図3に示したカセットユニット110の第1のカセット112に収容される。
(1-8.調整用剥離層厚み測定工程)
次に、第1制御部16は、調整用ワーク700が剥離される前のインゴット86の厚みである第1厚みから、調整用ワーク700が剥離されて第2残存剥離層89が除去された後のインゴット86の厚みである第2厚みと、第1残存剥離層900が除去された後の調整用ワーク700の厚みである第3厚みとを差し引くことによって、第1剥離層形成工程においてインゴット86に形成された調整用剥離層の厚みを測定する。
(1-9.出力調整工程)
次に、第1制御部16は、調整用剥離層厚み測定工程で測定した調整用剥離層の厚みが予め設定した厚みになるように、レーザー光線照射ユニット8のアッテネータ等を制御することにより、集光器6から照射されるレーザー光線の出力を調整する。
[2.ワーク取得工程]
次に、ワーク取得工程について説明する。
ワーク取得工程では、出力調整工程において出力調整されたレーザー光線をインゴット86に照射して剥離層を形成し、この剥離層を起点にインゴットからワークを剥離することによって、第1残存剥離層900を有するワークを取得する。
(2-1.第2剥離層形成工程)
第2剥離層形成工程では、作業者が、第1端面88を上に向けて、インゴット86を、保持ユニット4の保持テーブル24に保持させる(図5参照)。そして、第1制御部16が、出力調整したレーザー光線をインゴット86に第1端面88側から照射して、剥離層517を形成する。すなわち、第1制御部16は、上述した第1剥離層形成工程と同様にして、インゴット86の第1端面88から、生成すべきワークの厚みに対応する深さ(第1深さ)に、出力調整したレーザー光線601の集光点602(図6参照)を位置づけて、この位置に剥離層517を形成する。
(2-2.第2剥離工程)
次に、第1制御部16は、剥離層517を起点に剥離した第1残存剥離層900を有するワークと、ワークが剥離されて残った第2残存剥離層89を有するインゴット86と、を取得する第2剥離工程を実施する。
第2剥離工程では、第1制御部16は、上述した第1剥離工程と同様にして、剥離ユニット50を用いて、保持テーブル24に保持されているインゴット86からワークを剥離する。以下では、第2剥離工程において得られるワークを、通常ワーク800と称する(図9参照)。
調整用ワーク700の場合と同様に、図9に示すように、通常ワーク800の一方の面である剥離面801には、剥離層の一部である第1残存剥離層900が残存している。なお、通常ワーク800の他方の面は、後述の第2インゴット研削工程により平坦化されている。
また、図10に示すように、通常ワーク800が剥離された後のインゴット86の第1端面88にも、剥離層の一部である第2残存剥離層89が残存している。このようにして、第1制御部16は、一方の面に第1残存剥離層900を有するワーク、および、第1端面88に第2残存剥離層89を有するインゴット86を取得する。
(2-2.第2インゴット研削工程)
第2剥離工程の後、第1制御部16は、インゴット86の第2残存剥離層89を研削除去する。すなわち、第1制御部16は、上述した第1インゴット研削工程と同様にして、剥離層砥石84によって、保持ユニット4の保持テーブル24に保持されているインゴット86の第1端面88を研削する(図2参照)。これにより、インゴット86の第1端面88に形成されている第2残存剥離層89を研削除去して、第1端面88を平坦化することができる。なお、この研削により、インゴット86の第1端面88に、研削痕87が形成される。
(2-3.繰り返し工程)
そして、第1制御部16は、上述した第2剥離層形成工程と、第2剥離工程と、第2インゴット研削工程とを繰り返すことにより、一方の面に第1残存剥離層900を有する複数の通常ワーク800を取得する。
なお、通常ワーク800は、図4に示した第1ロボット115により、図3に示したカセットユニット110の第1のカセット112に収容される。すなわち、ワーク取得工程では、繰り返し工程により取得される第1残存剥離層900を有する通常ワーク800と、出力調整工程で取得される第1残存剥離層900が除去された調整用ワーク700とを、第1のカセット112に混在させることを含む。
このようにして、第1のカセット112に、一方の面に第1残存剥離層900を有するとともに他方の面が平坦化されている通常ワーク800、および、一方の面および他方の面の両面が平坦化されており第1残存剥離層900を有しない調整用ワーク700を収容することができる。なお、第1ロボット115は、調整用ワーク700および通常ワーク800の一方の面が上向きになるように、これらを第1のカセット112に収容する。したがって、通常ワーク800は、第1残存剥離層900が形成されている一方の面が上向きになるように、第1のカセット112に収容される。
本実施形態では、これら通常ワーク800および調整用ワーク700は、本製造方法の研削工程において研削されて、所定の厚みのウェーハとなる。そして、研削工程は、図11に示す研削装置120によって実施される。
まず、研削装置120の構成について説明する。
研削装置120は、剥離層研削機構132および仕上げ研削機構133を備え、チャックテーブル140上に保持された被加工ワークを、剥離層研削機構132および仕上げ研削機構133により研削する。なお、被加工ワークという表現は、研削装置120によって研削加工されるワーク、すなわち、調整用ワーク700および通常ワーク800のいずれかのワークを意味する。
研削装置120は、第1の装置ベース122と、第1の装置ベース122の後方(+Y方向側)に配置された第2の装置ベース123とを有している。
第1の装置ベース122の正面側(-Y方向側)には、被加工ワークを収容したカセットを載置するための第1のカセットステージ160および第2のカセットステージ162が設けられている。
第1のカセットステージ160には、加工前の被加工ワークが収容されている上述した第1のカセット112が載置されている。第2のカセットステージ162には、加工後の被加工ワークが収容される第2のカセット163が載置されている。
第1のカセット112および第2のカセット163の開口(図示せず)は、+Y方向側を向いている。これらの開口の+Y方向側には、第2ロボット155が配設されている。
第2ロボット155、ならびに、後述する搬入機構170および搬出機構172は、カセットステージ160・162とチャックテーブル140との間でワークあるいはウェーハを搬送する搬送機構として機能する。
第2ロボット155は、第1ロボット115と同様の構成を有している。すなわち、第2ロボット155は、図3に示すように、被加工ワークを保持する保持面118を備えたロボットハンド116、および、ロボットハンド116を移動させる移動機構117を備えている。
第2ロボット155は、加工後の被加工ワークを第2のカセット163に搬入(収納)する。また、第2ロボット155は、第1のカセット112から加工前の被加工ワークを取り出して、一方の面が上向きとなるように、仮置きテーブル154に載置する。上述したように、調整用ワーク700の一方の面は平坦面であり、通常ワーク800の一方の面には、第1残存剥離層900が形成されている。
また、第2ロボット155は、保持した被加工ワークを反転させることも可能である。すなわち、第2ロボット155は、被加工ワークの上下面を反転する反転機構としても機能する。
仮置きテーブル154の近傍には、カメラ152が備えられている。カメラ152は、仮置きテーブル154に載置された被加工ワークの一方の面を撮像する。カメラ152には、後述する画像判断部153が接続されている。
さらに、仮置きテーブル154に隣接する位置には、搬入機構170が設けられている。搬入機構170は、仮置きテーブル154に仮置きされた被加工ワークを、吸引パッド171によって吸引保持して、一方の面が上向きとなるように、チャックテーブル140の保持面142に載置する。
チャックテーブル140の保持面142は、吸引源(図示せず)に連通されて、被加工ワークを吸引保持することが可能である。チャックテーブル140は、保持面142によって被加工ワークを吸引保持した状態で、保持面142の中心を通りZ軸方向に延在する中心軸を中心として、回転可能である。
本実施形態では、第2の装置ベース123上に配設されたターンテーブル145の上面に、3つのチャックテーブル140が、ターンテーブル145の中心を中心とする円上に、等間隔に配設されている。ターンテーブル145の中心には、ターンテーブル145を自転させるための図示しない回転軸が配設されている。ターンテーブル145は、この回転軸によって、Z軸方向に延びる軸心を中心に自転することができる。ターンテーブル145が自転することで、3つのチャックテーブル140が公転する。これにより、チャックテーブル140を、仮置きテーブル154の近傍、剥離層研削機構132の下方、および、仕上げ研削機構133の下方に、順次、位置付けることができる。
第2の装置ベース123上の後方(+Y方向側)には、第1のコラム124が立設されている。第1のコラム124の前面には、剥離層研削機構132、および、剥離層研削機構132を研削送りする剥離層研削送り機構130が配設されている。
剥離層研削送り機構130は、Z軸方向に平行な一対のガイドレール201、このガイドレール201上をスライドする昇降テーブル203、ガイドレール201と平行なボールネジ200、ボールネジ200を回転駆動するモータ202、および、昇降テーブル203に取り付けられたホルダ204を備えている。ホルダ204は、剥離層研削機構132を保持している。
昇降テーブル203は、ガイドレール201にスライド可能に設置されている。図示しないナット部が、昇降テーブル203に固定されている。このナット部には、ボールネジ200が螺合されている。モータ202は、ボールネジ200の一端部に連結されている。
剥離層研削送り機構130では、モータ202がボールネジ200を回転させることにより、昇降テーブル203が、ガイドレール201に沿って、Z軸方向に移動する。これにより、昇降テーブル203に取り付けられたホルダ204、および、ホルダ204に保持された剥離層研削機構132も、昇降テーブル203とともにZ軸方向に移動する。このようにして、剥離層研削送り機構130は、剥離層研削機構132をZ軸方向に沿って研削送りする。
剥離層研削機構132は、チャックテーブル140の保持面142に保持された通常ワーク800の第1残存剥離層900を、剥離層砥石306によって研削するものである。剥離層研削機構132は、ホルダ204に固定されたスピンドルハウジング301、スピンドルハウジング301に回転可能に保持されたスピンドル300、スピンドル300を回転駆動するモータ302、スピンドル300の下端に取り付けられたホイールマウント303、および、ホイールマウント303の下面に着脱可能に接続された研削ホイール304を備えている。
スピンドルハウジング301は、Z軸方向に延びるようにホルダ204に保持されている。スピンドル300は、チャックテーブル140の保持面142と直交するようにZ軸方向に延び、スピンドルハウジング301に回転可能に支持されている。
モータ302は、スピンドル300の上端側に連結されている。このモータ302により、スピンドル300は、Z軸方向に延びる回転軸を中心として回転する。
ホイールマウント303は、円板状に形成されており、スピンドル300の下端(先端)に固定されて、スピンドル300の回転に応じて回転する。ホイールマウント303は、研削ホイール304を支持している。
研削ホイール304は、外径がホイールマウント303の外径と略同径を有するように形成されている。研削ホイール304は、たとえば金属材料から形成された円環状のホイール基台305を含む。ホイール基台305の下面には、全周にわたって、略直方体形状の複数の剥離層砥石306が、環状に配置および固定されている。剥離層砥石306は、スピンドル300の回転により回転され、チャックテーブル140に保持された被加工ワークを研削する。剥離層砥石306は、たとえば、比較的大きな砥粒を含む砥石である。
剥離層研削機構132の下方に配置されたチャックテーブル140に隣接する位置には、第1ハイトゲージ143が配設されている。第1ハイトゲージ143および後述する第2ハイトゲージ144は、保持面142に保持された被加工ワークの厚みを測定する厚み測定器である。第1ハイトゲージ143は、被加工ワークの厚みを接触式または非接触式にて測定する。第1ハイトゲージ143には、後述する厚み判断部141が接続されている。
また、第2の装置ベース123上の後方には、第2のコラム125が、X軸方向に沿って第1のコラム124に隣接するように、立設されている。第2のコラム125の前面には、被加工ワークを仕上げ研削する仕上げ研削機構133、および、仕上げ研削機構133を研削送りする仕上げ研削送り機構131が配設されている。仕上げ研削機構133は、保持面142によって吸引保持された被加工物を加工する加工機構の一例である。
仕上げ研削送り機構131は、剥離層研削送り機構130と同様の構成を有しており、仕上げ研削機構133をZ軸方向に沿って研削送りすることができる。仕上げ研削機構133は、チャックテーブル140の保持面142に保持された被加工ワークを仕上げ砥石307で研削するものである。仕上げ研削機構133は、剥離層砥石306に代えて、仕上げ砥石307を備えていることを除いて、剥離層研削機構132と同様の構成を有している。仕上げ砥石307は、たとえば、比較的小さな砥粒を含む砥石である。
仕上げ研削機構133の下方に配置されたチャックテーブル140に隣接する位置には、第2ハイトゲージ144が配設されている。第2ハイトゲージ144は、被加工ワークの厚みを接触式または非接触式にて測定する。
仕上げ研削後の被加工ワークは、所定の厚みのウェーハとなり、搬出機構172によって搬出される。搬出機構172は、チャックテーブル140に保持されたウェーハを、吸引パッド173によって吸引保持して、スピンナ洗浄機構156に搬送する。
スピンナ洗浄機構156は、ウェーハを洗浄するスピンナ洗浄ユニットである。スピンナ洗浄機構156は、ウェーハを保持するスピンナテーブル157、および、スピンナテーブル157に向けて洗浄水および乾燥エアを噴射するノズル158を備えている。
スピンナ洗浄機構156によって洗浄されたウェーハは、第2ロボット155により、第2のカセットステージ162上の第2のカセット163に搬入される。
また、研削装置120は、第1の装置ベース122および第2の装置ベース123を覆う筐体135を備えている。筐体135の側面には、タッチパネル136が設置されている。
タッチパネル136には、研削装置120による研削に関する各種情報が表示される。また、タッチパネル136は、デバイスデータ等の各種情報を入力するためにも用いられる。このように、タッチパネル136は、情報を表示するための表示部材として機能するとともに、情報を入力するための入力部材としても機能する。
また、研削装置120は、その内部に、研削装置120の制御のための第2制御部180を有している。第2制御部180は、制御プログラムに従って演算処理を行うCPU、および、メモリ等の記憶媒体等を備えている。第2制御部180は、研削装置120の上述した各部材を制御して、被加工ワークに対する研削工程を実行する。
以下に、このような構成を有する研削装置120によって実施される、本製造方法の研削工程について説明する。
[3.研削工程]
研削工程では、第1残存剥離層900が除去された調整用ワーク700と、第1残存剥離層900を有する通常ワーク800との両面を研削して、所定の厚みのウェーハを製造する。
(3-1.保持工程)
まず、第2制御部180は、第2ロボット155を用いて、第1のカセット112から被加工ワークを取り出して、一方の面が上向きとなるように、仮置きテーブル154に載置させる。さらに、第2制御部180は、仮置きテーブル154に仮置きされた被加工ワークを、搬入機構170によって一方の面が上向きとなるようにチャックテーブル140の保持面142に載置させて、被加工ワークの他方の面を保持面142に保持させる(保持工程)。
そして、第2制御部180は、ターンテーブル145を自転させることにより、被加工ワークを保持しているチャックテーブル140を、剥離層研削機構132の下方に配置する。
(3-2.剥離層有無判断工程)
この工程では、厚み判断部141が、被加工ワークの一方の面に第1残存剥離層900が有るか無いかを判断する。
具体的には、厚み判断部141は、第1ハイトゲージ143を用いて、チャックテーブル140の保持面142に保持された被加工ワークの厚みを測定する(第4厚み測定工程)。
そして、厚み判断部141は、被加工ワークの厚みが予め設定した厚み以上のときに、被加工ワークに第1残存剥離層900が有ると判断する一方、被加工ワークの厚みが予め設定した厚みに達していないとき(予め設定した厚みよりも薄いとき)に、被加工ワークに第1残存剥離層900が無いと判断する(厚み判断工程)。
このように、この剥離層有無判断工程では、第1ハイトゲージ143および厚み判断部141が、被加工ワークの一方の面に第1残存剥離層900が有るか無いかを検知する剥離層有無検知ユニットとして機能する。
厚み判断部141が第1残存剥離層900があると判断した際には、第2制御部180は、被加工ワークが通常ワーク800であると判断して、以下に示す剥離層研削工程および仕上げ研削工程を実施する。
(3-3.剥離層研削工程)
剥離層研削工程では、第2制御部180は、通常ワーク800の第1残存剥離層900を、剥離層砥石306で研削除去する。
具体的には、第2制御部180は、通常ワーク800を保持しているチャックテーブル140を回転させるとともに、剥離層研削機構132の剥離層砥石306を回転させた状態で、剥離層研削送り機構130によって剥離層研削機構132をZ軸方向に沿って降下させる。これにより、剥離層砥石306が通常ワーク800の一方の面に接触して、この面に形成されている第1残存剥離層900が、剥離層砥石306によって除去される。このような剥離層研削工程の後、仕上げ研削工程が実施される。
なお、この剥離層研削工程では、通常ワーク800を、仕上げ砥石307による研削量が残る厚みとなるように、すなわち、仕上げ砥石307によって研削される部分が残る厚みに、研削する。
(3-4.仕上げ研削工程)
仕上げ研削工程では、第2制御部180は、通常ワーク800が所定の厚みを有するように、通常ワーク800の両面を仕上げ砥石307で研削する。
具体的には、第2制御部180は、ターンテーブル145を自転させることで、剥離層研削工程後の通常ワーク800を保持しているチャックテーブル140を、仕上げ研削機構133の下方に配置する。そして、第2制御部180は、チャックテーブル140を回転させるとともに、仕上げ研削機構133の仕上げ砥石307を回転させた状態で、仕上げ研削送り機構131によって仕上げ研削機構133をZ軸方向に沿って降下させる。これにより、仕上げ砥石307が通常ワーク800の一方の面に接触して、この面を、所定の研削量だけ仕上げ研削する。
次に、第2制御部180は、チャックテーブル140上の通常ワーク800を反転させる(反転工程)。すなわち、第2制御部180は、ターンテーブル145を自転させることで、一方の面が仕上げ研削された通常ワーク800を保持しているチャックテーブル140を、仮置きテーブル154の近傍に配置する。そして、第2制御部180は、搬出機構172によって、チャックテーブル140に保持されている通常ワーク800を、第2ロボット155に受け渡す。そして、第2制御部180は、第2ロボット155を制御して、通常ワーク800を反転させて、他方の面が上向きとなるように仮置きテーブル154に載置させる。さらに、第2制御部180は、仮置きテーブル154に仮置きされた通常ワーク800を、搬入機構170によって、他方の面が上向きとなるようにチャックテーブル140の保持面142に載置させて、保持面142に保持させる。
その後、第2制御部180は、ターンテーブル145を自転させて、通常ワーク800を保持しているチャックテーブル140を、仕上げ研削機構133の下方に配置し、仕上げ研削機構133によって、通常ワーク800の他方の面を、通常ワーク800が所定の厚みを有するように、所定の研削量だけ仕上げ研削する。これにより、通常ワーク800から、所定の厚みのウェーハが製造される。
なお、この仕上げ研削工程では、剥離層砥石306によって通常ワーク800の一方の面に形成された研削痕、および、レーザー加工装置1の剥離層砥石84(図2参照)によって通常ワーク800の他方の面に形成された研削痕が、仕上げ砥石307によって研削除去される。仕上げ研削工程では、たとえば、通常ワーク800の両面が、同じ量(たとえば、5μmあるいは10μm)だけ削られる。
一方、厚み判断部141が被加工ワークに第1残存剥離層900が無いと判断した際には、第2制御部180は、被加工ワークが調整用ワーク700であると判断し、剥離層砥石306による研削を実施せずに、調整用ワーク700が所定の厚みを有するように、調整用ワーク700の両面を仕上げ砥石307で研削する。
すなわち、第2制御部180は、上述の剥離層研削工程を実施せずに、上述の仕上げ研削工程のみを実施することにより、調整用ワーク700が所定の厚みを有するように、調整用ワーク700の両面を仕上げ砥石307で研削する。この仕上げ研削工程では、レーザー加工装置1の剥離層砥石84(図2参照)によって調整用ワーク700に形成された研削痕が、仕上げ砥石307によって研削除去される。これにより、調整用ワーク700から、所定の厚みのウェーハが製造される。
調整用ワーク700および通常ワーク800から製造された所定の厚みのウェーハは、搬出機構172によってスピンナ洗浄機構156に搬送されて洗浄された後、第2ロボット155によって、第2のカセットステージ162上の第2のカセット163に搬入される。
以上のように、本実施形態では、被加工ワークが、一方の面に第1残存剥離層900を有する通常ワーク800である場合でも、また、第1残存剥離層900をもたない調整用ワーク700である場合にも、被加工ワークの両面を研削して、所定の厚みのウェーハを製造している。すなわち、本実施形態では、被加工ワークの両面を研削しているため、一方の面に第1残存剥離層900があるか否かによらず、2種類の被加工ワークからウェーハを製造することができる。したがって、2種類の被加工ワークが第1のカセット112内に混在していても、これらの被加工ワークから、所定の厚みのウェーハを容易に製造することができる。このため、調整用ワーク700と通常ワーク800とを別々に研削する場合に比して、全体的な加工時間を短縮することができる。
また、本実施形態では、厚み判断部141によって第1残存剥離層900の有無を検知し、検知結果に基づいて、剥離層研削工程を実施するか否かを決定している。したがって、調整用ワーク700および通常ワーク800に対して、第1残存剥離層900の有無に応じた適切な研削加工を実施することができる。
なお、研削工程は、以下の第1判断工程を含んでいてもよい。この第1判断工程では、第2制御部180は、剥離層有無判断工程における第4厚み測定工程で測定された被加工ワークの厚みが、少なくとも、予め設定されている仕上げ砥石307で研削される研削量と、予め設定されているウェーハの所定の厚みとを足した値よりも小さいとき、ウェーハの製造ができないと判断する。そして、第2制御部180は、上述した剥離層研削工程および仕上げ研削工程を実施することなく研削工程を中止して、タッチパネル136を用いて、ウェーハの製造ができない旨を作業者に報知する。
また、本実施形態では、剥離層有無判断工程を、カメラ152および画像判断部153を用いて実施してもよい。この場合、剥離層有無判断工程において、以下の撮像工程および画像判断工程が実施される。
撮像工程では、第2制御部180が、カメラ152を用いて、一方の面が上向きとなるように仮置きテーブル154に載置されている被加工ワークの一方の面を撮像することにより、撮像画を取得する(撮像工程)。
被加工ワークの一方の面に第1残存剥離層900が有る場合には、一方の面の撮像画として、第1残存剥離層900の撮像画が得られる。図12に示すように、第1残存剥離層900の撮像画では、グレーの部分と黒色の部分とが、互いに隣接するように混在して配置されている。一方、被加工ワークの一方の面に第1残存剥離層900が無い場合には、一方の面の撮像画として、レーザー加工装置1の剥離層砥石84(図2参照)によって研削された平坦な研削面の撮像画(図示せず)が得られる。研削面の撮像画には、略均一なグレーの部分のみが表示される。
次に、画像判断部153が、カメラ152の撮像画における隣接するピクセルの明度差が、予め設定した差以上であるか否かを判断する。
上記したように、第1残存剥離層900の撮像画では、グレーの部分と黒色の部分とが互いに隣接するように混在して配置されるため、撮像画における隣接するピクセルの明度差が、比較的に大きくなる。したがって、画像判断部153は、ピクセルの明度差が予め設定した差以上であるときに、被加工ワークに第1残存剥離層900が有ると判断する。
一方、第1残存剥離層900がない場合に取得される研削面の撮像画では、略均一なグレーの部分のみが表示されるため、撮像画における隣接するピクセルの明度差が、比較的に小さくなる。したがって、画像判断部153は、ピクセルの明度差が予め設定した差よりも小さいときに、被加工ワークに第1残存剥離層900が無い、と判断する(画像判断工程)。
画像判断部153が被加工ワークに第1残存剥離層900が有ると判断した際には、第2制御部180は、被加工ワークが通常ワーク800であると判断して、上述した剥離層研削工程および仕上げ研削工程を実施する。
一方、画像判断部153が被加工ワークに第1残存剥離層900が無いと判断した際には、第2制御部180は、被加工ワークが調整用ワーク700であると判断し、上述の剥離層研削工を実施せずに、仕上げ研削工程のみを実施する。
このように、この剥離層有無判断工程では、カメラ152および画像判断部153が、被加工ワークの一方の面に第1残存剥離層900が有るか無いかを検知する剥離層有無検知ユニットとして機能する。
また、第2制御部180は、研削工程を、図13に示すフローチャートのように実施してもよい。
まず、第2制御部180は、上述した保持工程を実施して、被加工ワークを保持しているチャックテーブル140を、剥離層研削機構132の下方に配置する(S1)。
次に、第2制御部180は、第1ハイトゲージ143および厚み判断部141を用いて、被加工ワークの厚みに基づいた剥離層有無判断工程を実施する(S2)。
なお、第2制御部180は、剥離層有無判断工程を、カメラ152および画像判断部153を用いて、被加工ワークの撮像画に基づいて実施してもよい。
そして、第2制御部180は、剥離層有無判断工程において、被加工ワークに第1残存剥離層900が有ると判断した場合(S3;YES)、被加工ワークが通常ワーク800であると判断する。そして、第2制御部180は、上述した剥離層研削工程(S4)を実施して、剥離層砥石306によって通常ワーク800から第1残存剥離層900を研削除去する。
さらに、第2制御部180は、上述した仕上げ研削工程(S5)を実施して、通常ワーク800が所定の厚みを有するように、通常ワーク800の両面を仕上げ砥石307で研削することにより、所定の厚みのウェーハを製造して、研削工程を終了する。
一方、第2制御部180は、剥離層有無判断工程において、被加工ワークに第1残存剥離層900が無いと判断した場合(S3;NO)、被加工ワークが調整用ワーク700であると判断する。そして、第2制御部180は、第1ハイトゲージ143(図11参照)を用いて、チャックテーブル140の保持面142に保持された調整用ワーク700の厚みを測定する追加厚み測定工程を実施する(S6)。
そして、第2制御部180は、追加厚み測定工程で測定された調整用ワーク700の厚みが、基準値よりも厚いか否かを判断する(S7)。この基準値は、予め設定されている仕上げ砥石307で研削される研削量と、予め設定されているウェーハの所定の厚み(仕上げ研削工程によって得られるウェーハの厚み)とを足した値である。
第2制御部180は、追加厚み測定工程で測定された調整用ワーク700の厚みが基準値よりも厚い場合(S7;YES)、厚み調整研削工程を実施する(S8)。
上述したように、調整用ワーク700には、レーザー加工装置1の剥離層砥石84(図2参照)による研削痕が形成されている。そして、この厚み調整研削工程では、第2制御部180は、研削装置120の剥離層砥石306によって、調整用ワーク700に形成されている剥離層砥石84による研削痕に交差する研削痕を形成しつつ、調整用ワーク700を、仕上げ砥石307で研削する研削量と、予め設定されているウェーハの所定の厚みとを足した値(すなわち基準値)の厚みに研削する。
具体的には、第2制御部180は、回転するチャックテーブル140に保持されている調整用ワーク700の一方の面を回転する剥離層砥石306によって研削する際に、チャックテーブル140の傾き、チャックテーブル140の回転方向、および、剥離層砥石306の回転方向の少なくともいずれかを、適切に調整する。これによって、第2制御部180は、調整用ワーク700の一方の面に形成されている剥離層砥石84による研削痕に交差する研削痕を形成するように、剥離層砥石306によって、調整用ワーク700の一方の面を研削することができる。
第2制御部180は、このような剥離層砥石306による研削を、調整用ワーク700が基準値の厚みになるまで実施する。
なお、第2制御部180は、調整用ワーク700の一方の面を剥離層砥石306によって所定量だけ研削した後、上述した反転工程を実施して、調整用ワーク700を、他方の面が上向きとなるようにチャックテーブル140に保持させてもよい。そして、第2制御部180は、調整用ワーク700の他方の面を、この面に形成されている剥離層砥石84による研削痕に交差する研削痕を形成するように剥離層砥石306によって研削して、調整用ワーク700の厚みを基準値の厚みとしてもよい。
その後、第2制御部180は、上述した仕上げ研削工程(S5)を実施して、調整用ワーク700が所定の厚みを有するように、調整用ワーク700の両面を仕上げ砥石307で研削することにより、所定の厚みのウェーハを製造して、研削工程を終了する。
一方、第2制御部180は、追加厚み測定工程で測定された調整用ワーク700の厚みが基準値以下である場合(S7;NO)、上述した第1判断工程を実施し、ウェーハの製造ができないと判断する。そして、第2制御部180は、上述した剥離層研削工程および仕上げ研削工程を実施することなく研削工程を中止して、タッチパネル136を用いて、ウェーハの製造ができない旨を作業者に報知する。
この研削工程では、調整用ワーク700を、剥離層砥石306によって研削した後、仕上げ砥石307によって研削している。したがって、仕上げ砥石307のみによって調整用ワーク700を研削する構成に比して、仕上げ砥石307の消耗を抑制することができる。
1:レーザー加工装置、4:保持ユニット、6:集光器、
8:レーザー光線照射ユニット、10:X軸送りユニット、
12:Y軸送りユニット、16:第1制御部、18:基台、19:案内レール、
20:X軸可動板、21:案内レール、22:Y軸可動板、24:保持テーブル、
26:ハウジング、34:撮像ユニット、36:表示装置、37:厚み測定器、
38:ボールねじ、40:モータ、42:ボールねじ、44:モータ、
50:剥離ユニット、52:研削ユニット、54:ケーシング、56:アーム、
58:モータ、60:吸着片、61:吸引ユニット、62:コラム、
63:案内レール、64:昇降板、66:昇降ユニット、68:ボールねじ、
70:モータ、72:支持壁、74:スピンドル、76:スピンドル用モータ、
78:ホイールマウント、80:ボルト、82:研削ホイール、84:剥離層砥石、
86:インゴット、87:研削痕、88:第1端面、89:第2残存剥離層、
90:第2端面、92:外周面、96:第一のオリエンテーションフラット、
98:第二のオリエンテーションフラット、110:カセットユニット、
111:カセットステージ、112:第1のカセット、115:第1ロボット、
116:ロボットハンド、117:移動機構、120:研削装置、
122:第1の装置ベース、123:第2の装置ベース、124:第1のコラム、
125:第2のコラム、130:剥離層研削送り機構、
131:仕上げ研削送り機構、132:剥離層研削機構、133:仕上げ研削機構、
135:筐体、136:タッチパネル、140:チャックテーブル、
141:厚み判断部、142:保持面、143:第1ハイトゲージ、
144:第2ハイトゲージ、145:ターンテーブル、152:カメラ、
153:画像判断部、154:仮置きテーブル、155:第2ロボット、
156:スピンナ洗浄機構、157:スピンナテーブル、158:ノズル、
160:第1のカセットステージ、162:第2のカセットステージ、
163:第2のカセット、
170:搬入機構、171:吸引パッド、172:搬出機構、
173:吸引パッド、180:第2制御部、200:ボールネジ、
201:ガイドレール、202:モータ、203:昇降テーブル、
204:ホルダ、300:スピンドル、301:スピンドルハウジング、
302:モータ、303:ホイールマウント、304:研削ホイール、
305:ホイール基台、306:剥離層砥石、307:仕上げ砥石、
501:方向、511:c軸、512:c面、513:垂線、515:改質部、
516:クラック、517:剥離層、601:レーザー光線、602:集光点、
620:割り出し送り量、700:調整用ワーク、701:剥離面、
800:通常ワーク、801:剥離面、900:第1残存剥離層

Claims (13)

  1. インゴットに対して透過性を有するレーザー光線をインゴットの一方の面側から照射して、所定の深さに集光させた集光点を該一方の面に平行に移動させて剥離層を形成し、該剥離層を起点に剥離して取得した板状のワークを研削砥石で研削してウェーハを製造するウェーハの製造方法であって、
    インゴットに調整用剥離層を形成して、該調整用剥離層を起点に剥離した調整用ワークに残存している剥離層である第1残存剥離層を除去して、インゴットに照射されるレーザー光線の出力調整を行う出力調整工程と、
    該出力調整したレーザー光線をインゴットに照射して剥離層を形成し、該剥離層を起点にインゴットからワークを剥離することによって、一方の面に第1残存剥離層を有するワークを取得するワーク取得工程と、
    該第1残存剥離層が除去された該調整用ワークと、該第1残存剥離層を有する該ワークとの両面を研削して、所定の厚みのウェーハを製造する研削工程と、を含む、ウェーハの製造方法。
  2. 該出力調整工程は、
    該調整用剥離層を形成する前のインゴットの厚みである第1厚みを測定する第1厚み測定工程と、
    該インゴットに該調整用剥離層を形成する第1剥離層形成工程と、
    該調整用剥離層を起点に該インゴットから調整用ワークを剥離する第1剥離工程と、
    該インゴットに残存している剥離層である第2残存剥離層を剥離層砥石で研削除去する第1インゴット研削工程と、
    該第2残存剥離層を研削除去した該インゴットの厚みである第2厚みを測定する第2厚み測定工程と、
    該インゴットから剥離された該調整用ワークの該第1残存剥離層を該剥離層砥石で研削除去するワーク研削工程と、
    該第1残存剥離層を研削除去した該調整用ワークの厚みである第3厚みを測定する第3厚み測定工程と、
    該第1厚みから該第2厚みと該第3厚みとを差し引くことによって該調整用剥離層の厚みを測定する調整用剥離層厚み測定工程と、
    該調整用剥離層厚み測定工程で測定した該調整用剥離層の厚みが予め設定した厚みになるように、レーザー光線の出力を調整する調整工程と、を備える、
    請求項1記載のウェーハの製造方法。
  3. 該ワーク取得工程は、
    該出力調整したレーザー光線をインゴットに照射して剥離層を形成する第2剥離層形成工程と、
    該剥離層を起点に剥離した第1残存剥離層を有するワークと、該ワークが剥離されて残った第2残存剥離層を有するインゴットと、を取得する第2剥離工程と、
    該第2剥離工程の後、該インゴットの該第2残存剥離層を研削除去する第2インゴット研削工程と、
    該第2剥離層形成工程と、該第2剥離工程と、該第2インゴット研削工程と、を繰り返して該第1残存剥離層を有するワークを取得する繰り返し工程と、を備える、
    請求項1記載のウェーハの製造方法。
  4. 該ワーク取得工程は、
    該繰り返し工程により取得される該第1残存剥離層を有するワークと、該出力調整工程で取得される該第1残存剥離層が除去された該調整用ワークとを、カセットに混在させることを含む、
    請求項3記載のウェーハの製造方法。
  5. 該研削工程は、
    該第1残存剥離層を一方の面に有するワークの他方の面を、チャックテーブルの保持面で保持する保持工程と、
    該保持面に保持されたワークの該第1残存剥離層を、剥離層砥石で研削除去する剥離層研削工程と、
    該剥離層砥石で研削されたワークの両面に形成された研削痕を、仕上げ砥石で研削除去する仕上げ研削工程と、を備える、
    請求項1記載のウェーハの製造方法。
  6. 該研削工程は、
    ワークの一方の面に第1残存剥離層が有るか無いかを判断する剥離層有無判断工程を備え、
    該第1残存剥離層が有ると判断された際には、該ワークの該第1残存剥離層を剥離層砥石で研削除去したのち、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する一方、
    該第1残存剥離層が無いと判断された際は、該剥離層砥石による研削を実施せずに、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する、
    請求項1記載のウェーハの製造方法。
  7. 該剥離層有無判断工程は、
    保持面に保持された該ワークの厚みを測定する第4厚み測定工程と、
    該第4厚み測定工程で測定された該ワークの厚みが予め設定した厚み以上のときに該ワークに該第1残存剥離層が有ると判断する一方、該ワークの厚みが、予め設定した厚みよりも薄いときに該ワークに該第1残存剥離層が無いと判断する厚み判断工程と、を含む、
    請求項6記載のウェーハの製造方法。
  8. 該剥離層有無判断工程は、
    該ワークの一方の面を撮像する撮像工程と、
    該撮像によって得られる撮像画における隣接するピクセルの明度差が、予め設定した差以上のときに、該ワークに該第1残存剥離層が有ると判断する一方、該ピクセルの明度差が、予め設定した差よりも小さいときに、該ワークに該第1残存剥離層が無いと判断する画像判断工程と、を含む、
    請求項6記載のウェーハの製造方法。
  9. 該研削工程は、
    該第4厚み測定工程で測定された該ワークの厚みが、少なくとも、予め設定されている該仕上げ砥石で研削される研削量と、予め設定されているウェーハの所定の厚みとを足した値よりも小さいとき、ウェーハの製造ができないと判断する第1判断工程を備える、
    請求項7記載のウェーハの製造方法。
  10. 該研削工程は、
    該ワークの一方の面に第1残存剥離層が有るか無いかを判断する剥離層有無判断工程を備え、
    該第1残存剥離層が有ると判断された際には、該ワークの該第1残存剥離層を剥離層砥石で研削除去したのち、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する一方、
    該第1残存剥離層が無いと判断された際には、
    該ワークの厚みを測定する追加厚み測定工程と、
    該追加厚み測定工程で測定された厚みが、該仕上げ砥石で研削される研削量と、予め設定されているウェーハの所定の厚みとを足した値である基準値よりも大きいとき、該剥離層砥石によって、該ワークに形成されている研削痕に交差する研削痕を形成しつつ、該ワークを該基準値の厚みに研削する、厚み調整研削工程と、
    該厚み調整研削工程の後、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する仕上げ研削工程と、を実施する、
    請求項1記載のウェーハの製造方法。
  11. 請求項1記載のウェーハの製造方法に用いられる研削装置であって、
    ワークを収容したカセットを載置するためのカセットステージと、
    保持面によってワークを保持するチャックテーブルと、
    該保持面に保持されたワークの該第1残存剥離層を、剥離層砥石によって研削する剥離層研削機構と、
    該保持面に保持されたワークを仕上げ砥石によって研削する仕上げ研削機構と、
    該カセットステージと該チャックテーブルとの間でワークを搬送する搬送機構と、
    ワークの上下面を反転する反転機構と、
    該保持面に保持されたワークの厚みを測定する厚み測定器と、
    該ワークの一方の面に該第1残存剥離層が有るか無いかを検知する剥離層有無検知ユニットと、
    制御部と、を備え、
    該制御部は、
    該剥離層有無検知ユニットが、該第1残存剥離層が有ると判断した際には、該ワークの該第1残存剥離層を剥離層砥石で研削除去したのち、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する一方、
    該剥離層有無検知ユニットが該第1残存剥離層が無いと判断した際には、該剥離層砥石による研削を実施せずに、該ワークの両面を仕上げ砥石で研削する制御を実施する、
    研削装置。
  12. 該剥離層有無検知ユニットは、
    該厚み測定器によって該保持面に保持されたワークの厚みを測定して、該ワークの厚みが予め設定した厚み以上のときに、該ワークに該第1残存剥離層が有ると判断する一方、該ワークの厚みが予め設定した厚みに達していないときに該ワークに該第1残存剥離層が無いと判断する厚み判断部を備える、
    請求項11記載の研削装置。
  13. 該剥離層有無検知ユニットは、
    該ワークの一方の面を撮像するカメラと、
    該カメラの撮像画の隣接するピクセルの明度差が、予め設定した差以上のときに、該ワークに該第1残存剥離層が有ると判断する一方、該ピクセルの明度差が、予め設定した差よりも小さいときに、該ワークに該第1残存剥離層が無いと判断する画像判断部と、を備える、
    請求項11記載の研削装置。
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