JP7741694B2 - 半導体製造装置用バルブ - Google Patents

半導体製造装置用バルブ

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Description

本発明は、半導体製造装置用バルブに関し、特に、腐食性ガスなどの弁座シートに悪影響を及ぼす流体を高圧で流す場合に好適な高圧用のバルブに関する。
半導体製造工程においては、腐食性ガスを含む様々な高圧流体が用いられることが多く、これらの流体を制御する半導体製造装置用バルブは、確実に漏れを防ぐために弁閉時に強い締付け荷重を必要とする。このため、例えば、高圧用のダイヤフラムバルブの場合、シール用弁座シートがその締付け荷重に流体の腐食性もあいまってダメージを受けやすい。このような状態でバルブを使用し続けた場合、弁座シートが塑性変形して潰れや破損が進行し、その表面や損傷部分から高圧流体が浸透して一層弁座シートが破損しやすくなる。シートが破損して剥がれると、このシートが詰まって流路が閉塞したり、シートの破損により弁閉時の漏れが発生したりすることもある。
弁座シートのダメージを防ぐためには、一般に、耐力の高いシート材料を使用してその強度を高めたり、或は、弁閉時に加わる弁座シートへの締付け荷重、すなわちダイヤフラム(弁体)を押圧するためのステムからの推力を軽減することがある。また、弁座シートの有効面積、すなわち弁座シートのダイヤフラム側からの受圧面積(ダイヤフラムとの接触面積)を増やして弁座シートへの面圧(単位面積当たりに加わる荷重)を低減し、この面圧を弁座シートの材料が備える耐圧性能以下に抑えようとする場合がある。
一方、特許文献1のメタルダイヤフラム弁は、弁座と駆動側出力軸との間に緩衝体が設けられた構成になっている。このダイヤフラム弁は、出力軸を弁閉方向に駆動したときに、この出力軸が緩衝体を介してメタルダイヤフラムを弁座に圧接することで、緩衝体によって弁閉時のシール部の衝撃を緩和しようとするものである。
特許文献2のダイヤフラム弁においては、樹脂材料からなるフィルム状のダイヤフラムを備え、駆動側ピストン軸(出力軸)には、このピストン軸とダイヤフラムの中央部との間になるように弾性ゴム材料製の緩衝体が組付けられている。ピストン軸の弁閉方向への駆動時には、このピストン軸からの力を緩衝体により軽減しようとしている。
ところで、半導体製造工程で使用されるバルブは、他の複数のバルブや制御装置などと組み合わせて集積化した状態で利用されることが多い。そのため、この種のバルブは、設置箇所でスペースを極力占有しないようにコンパクトな外形サイズであることが求められる。この場合、バルブの小型化に伴って、弁機構すなわち弁座シートの小型化(小径化)も必要になり、バルブがダイヤフラムバルブの場合、弁座シートを小径化してダイヤフラムとの受圧面積(接触面積)が小さくなったときにも、弁閉時には高圧流体が漏洩することなく高いシール性能を発揮する必要がある。
特開平6-94142号公報 特開2020-63777号公報
上述したバルブにおいて、弁座シートのダメージを防ぐために耐力の高いシート材料を用いようとする場合、バルブがダイヤフラムバルブであるときには、流体への耐薬品性能を考慮するとPCTFEやPFAなどのフッ素樹脂等の一般に半導体製造で用いられる材料を使用する場合が通常であることから、その選択肢が非常に少なくなっている。しかも、このようにフッ素樹脂などの樹脂材料を用いて弁座シートを設けただけでは、弁閉時の強い締付け荷重をその材料特性のみでは十分に緩和することができず、弁座シートのダメージを防ぐことが難しい。
一方、ステムからの推力を軽減して弁座シートにかかる力を減少するために、ステムの推力(締付け荷重)を減らした場合には、バルブの耐圧限度の低下に直結し、高圧流体の漏洩を確実に防ぐために必要な締付け力を得られにくくなる。このため、このようなバルブは、高圧流体を弁閉封止する場合には適していない。
他方、弁座シートの有効面積(受圧面積)を増やして弁座シートへの面圧を低減しようとする場合、所定の流路径を維持して流量を確保するためには、弁座シートを外径方向に拡径して面積を広げることになる。この場合、弁座シートの外径の増加に伴ってこの弁座シート側の流路と他方側の流路との間隔が広がって外形サイズが増大する問題が生じる。これに加えて、バルブがダイヤフラムバルブである場合には、ダイヤフラムの外径も大きくなり、このダイヤフラムの有効面積に対して、確実に締付けるためのステムの推力も増大することになる。
また、特許文献1や2のダイヤフラム弁は、何れの場合にも弁座と出力軸との間に直列状態で緩衝体が介在された構成であり、弁閉時に締付けたときには緩衝体によって出力軸側からの推力を吸収し、この推力が減少して弁座に伝わるようになっている。このため、これらのバルブを半導体製造用の高圧バルブとして用いる場合には、十分なシール性能を発揮することができず、高圧流体を流したときには漏れを生じるおそれがある。
さらに、上記の何れの場合においても、集積化などに応じてバルブをコンパクトに設ける場合、これに伴って弁座シートも小径化して弁体側(例えばダイヤフラム)との接触面積が小さくなる。このようにシール面積が減少すると、ステム側から高圧流体に対応した強い推力が働いたときに弁座シートに過大な面圧が加わり、これによって弁座シートがダメージを受けやすくなる。弁座シートがその耐力を超えたダメージを受けると、この弁座シートが潰れたり破損したりして流路の閉塞や漏れなどにつながることもある。
これらの理由から、弁開時には腐食性ガスなどの流体を高圧で流し、かつこの高圧流体の弁閉時の漏れを確実に阻止するためには、シール性能が損なわれないようにステム側からの推力を強く確保する一方で、弁座シートのダメージの発生については許容せざるを得なくなっていた。
本発明は、上記の問題点を解決するために開発したものであり、その目的とするところは、弁座シートの拡径を防いで全体のコンパクト性を維持しつつ、高圧流体の漏洩を防ぐために必要な推力を発揮して弁閉時のシール性を確保でき、かつ、弁座シートへの過大な面圧を防いで耐久性を向上した耐腐食性に優れた半導体製造装置用バルブを提供することにある。
上記目的を達成するため、請求項1に係る発明は、バルブ本体に設けたダイヤフラムと弁座シートとの接離によって開閉する半導体製造装置用バルブにおいて、バルブ本体には、ダイヤフラムを押圧して弁閉させる開閉機構を設け、この開閉機構の内部には荷重分散部材を配置し、この荷重分散部材は、弁座シートに対して並列状態で、かつ弁開状態のとき、開閉機構の連設部位と荷重分散部材とが所定の隙間を有した状態で配置され、前記開閉機構が発生する推力を維持しながら、弁閉時に必要な締付け荷重を弁座シートと荷重分散部材とで分散して受ける二重化構造とし、弁座シートは、単位面積当たりで負担する荷重を材料の耐圧限界内の数値としつつ受圧面積の増加を抑えるように設けられ、弁座シートと荷重分散部材とは、これらの弾性変形の範囲、機械的な公差範囲を含みつつ、伝達される荷重がバランスよく分担されるように荷重を受けるときの面積配分が設定され、荷重分散部材の硬さや厚さ方向に対する弾性変形可能な寸法の割合に応じて弁座シートの厚み、又は荷重分散部材の厚みが設定された状態で、弁閉動作時には、ダイヤフラムと弁座シートとが接触すると同時に、開閉機構からの推力が荷重分散部材に加わるように設けられている半導体製造装置用バルブである。
請求項2に係る発明は、荷重分散部材は、バルブ本体の流路内の流体に接触しない部位に設けられている半導体製造装置用バルブである。
請求項3に係る発明は、荷重分散部材は、樹脂製のリング状の荷重分散シート又はバネ特性を有する皿バネである半導体製造装置用バルブである。
請求項4に係る発明は、開閉機構は、自動弁の場合は、アクチュエータのピストン又はスプリングで構成され、手動弁の場合は、ハンドルに設けたステムである半導体製造装置用バルブである。
請求項5に係る発明は、荷重分散部材は、ダイヤフラムと弁座シートとが接触すると同時に、アクチュエータのピストン或はスプリング、又はハンドルに設けたステムからの推力が加わる位置に配置されている半導体製造装置用バルブである。
請求項1に係る発明によると、開閉機構の内部に設けた荷重分散シートを弁座シートに対して並列状態で設け、弁開状態のときには、開閉機構の連設部位と荷重分散部材とが所定の隙間を有した状態で配置し、弁閉時に必要な締付け荷重を弁座シートと荷重分散部材とで分散して受ける二重化構造としているので、弁座シートの拡径を防ぎつつこの弁座シートをバルブ本体に装着して全体のコンパクト性を維持し、弁閉時において、高圧流体の漏洩を防ぐために必要な推力を発揮して弁閉時のシール性を確保でき、かつ、弁座シートへの過大な面圧を防ぐことで耐久性を向上して弁座シートのダメージを防止できる。この場合、耐薬品性に優れた樹脂材料で弁座シートを設けて耐腐食性を向上した状態で、弾性材料によって設けた荷重分散部材を用いて締付け荷重を分散して耐性を確保できる。
弁座シートが受ける面圧を小さくすることによりダメージを受けることを阻止でき、弁座シートへの圧力を抑えるためにそのサイズを大きくして面圧面積を増加することもない。弁座シートと荷重分散部材との面積配分を設定した後に、これらの厚みを設定でき、これらの厚さを大きくすることで荷重分散部材又は弁座シートの一方に先に荷重が集中することを防ぐ。弁閉動作時には、ダイヤフラムと弁座シートとの当接と同時に開閉部材からの推力が荷重分散部材に加わることで、先に弁座シートに荷重が加わってダメージが生じることを阻止し、その推力が荷重分散部材と弁座シートとにそれぞれ分担させるように加わることで、弁座シートへの負担をこの弁座シートを構成する材料の耐圧限界以下に確実に抑える。


請求項2に係る発明によると、開閉機構から推力が加わる荷重分散部材を、バルブ本体の流路内の流体に接触しない部位に設けていることで、この荷重分散部材が腐食性ガスや熱などによる影響を受けにくくなり、その機能性を維持できる。これにより、腐食性ガスや熱などの影響により弁座シートが軟化した場合でも、荷重分散部材を通して開閉機構からの推力を確実に伝達させることができ、このように荷重分散シートが荷重を受け持つことで、弁座シートの潰れによる沈み込みやシール高さの低下、或は弁座シートの破壊を防いで優れたシール性能を維持する。
請求項3に係る発明によると、荷重分散部材を、樹脂製のリング状の荷重分散シート又はバネ特性を有する皿バネにより設けることができ、荷重分散部材をフッ素樹脂等の樹脂材料により設けることで耐食性や耐薬品性を向上でき、一方、皿バネとすることにより開閉機構による推力を維持しながら荷重を緩和して耐久性を向上できる。
請求項4に係る発明によると、アクチュエータのピストン或はスプリング、又はバルブに設けたステムを用いて開閉機構を設けることにより、自動弁又は手動弁の何れにも対応でき、全体のコンパクト性を維持しつつ、弁閉時に必要な推力を維持してシール性を確保するバルブを提供できる。
請求項5に係る発明によると、先に荷重分散部材がアクチュエータのピストン或はスプリング、又はハンドルに設けたステムと接触して漏れが発生することを防ぐと共に、先に弁座シートに荷重が加わってダメージが生じることを阻止し、弁閉時に発生する推力が荷重分散シートと弁座シートとがそれぞれ分担するように加わる。このため、弁座シートへの負担をこの弁座シートを構成する材料の耐圧限界以下に確実に抑えることができ、又は、強度の低い材料により弁座シートを設けることもできる。
本発明における半導体製造装置用バルブの実施形態を示す中央縦断面図である。 (a)は、図1の要部拡大断面図である。(b)は、(a)の弁閉状態を示す要部拡大断面図である。 本発明における半導体製造装置用バルブの他の実施形態を示す中央縦断面図である。 (a)は、図3の要部拡大断面図である。(b)は、(a)の弁閉状態を示す要部拡大断面図である。
以下に、本発明における半導体製造装置用バルブの実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1においては、本発明の半導体製造装置用バルブ(以下、バルブ本体1という)の実施形態を示している。図において、バルブ本体1は自動弁からなり、ボデー2、ベース体3、ステム部材4、ダイヤフラムピース5、ダイヤフラム6、弁座シート7を備えている。バルブ本体1は、ダイヤフラム6と弁座シート7との接離によって開閉するダイヤフラムバルブからなる半導体製造装置用バルブであり、このバルブ本体1には、ダイヤフラム6を押圧して弁閉させる開閉機構8が設けられ、この開閉部材8の内部には荷重分散部材10が設けられている。
バルブ本体1は、上部にアクチュエータ11を備えており、このアクチュエータ11によって自動操作で開閉制御可能に設けられている。
図1において、バルブ本体1のボデー2の左右方向には一次側流路12、二次側流路13がそれぞれ形成され、これら一次側流路12と二次側流路13との間に弁室14が設けられている。弁室14内には環状の装着溝15、弁室14の上方側には開口部16がそれぞれ形成され、開口部16の上部内周側には雌ねじ17が形成されている。雌ねじ17より下方側の弁室14との間には、丸穴状の嵌合部18が形成される。
弁座シート7は、例えばPCTFE(ポリクロロトリフルオロエチレン)やPFA(四フッ化エチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体)などのフッ素樹脂などの樹脂材料によりリング状に形成され、先方側のシール面7aがダイヤフラム6とシール可能に弁室14側に突出した状態で装着溝15に装着される。弁座シート7は、流体の流れを制御するためにダイヤフラム6と対向して配置される。
ダイヤフラム6は、薄板状の金属材料が複数枚重ねられて構成され、自然状態において、片側(上方)に向けて中心部を頂点とした緩やかな凸曲面状となるような円板形状に設けられ、この形状に自己復帰可能な弾性力を備えている。ダイヤフラム6は、弁座シート7の上部側において嵌合部18に装着される。
ダイヤフラム6の上部には、円筒状に形成されたボンネット19が嵌合部18を通して嵌合され、このボンネット19の中央には略円柱状に形成されたダイヤフラムピース5が上下方向に摺動可能な状態で挿着される。ダイヤフラムピース5は、ステム部材4によりボンネット19に対して上下方向に移動可能に設けられ、このダイヤフラムピース5を通してダイヤフラム6が弁座シート7方向に押圧される。
ベース体3は、中央に貫通孔20が形成され、その下部外周側には雌ねじ17に螺合可能な雄ねじ21が形成される。ベース体3の上部には円形状の凹状溝22が形成され、この凹状溝22には有底状の底面部23が設けられ、一方、ベース体3の上部外周には雄螺子部24が形成される。ベース体3は、ボデー2との間にダイヤフラム6、ボンネット19、ダイヤフラムピース5が装着された状態で、雄ねじ21と雌ねじ17との螺着によってボンネット19上部に取付けられ、これらの螺着後には、ベース体3の底面側でボンネット19が押圧され、このボンネット19によりダイヤフラム6がボデー2との間の所定箇所に位置決め固定される。
ステム部材4は、下部側に形成された軸部4aと、この軸部4aよりもやや拡径した拡径段部4bと、この拡径段部4bよりもさらに拡径した拡径環状部4cとを有する形状に設けられる。軸部4aは、Oリング25でシールされた状態で貫通孔20に挿着され、これによりステム部材4がベース体3に対して昇降動可能になっている。ステム部材4の下端側は、ダイヤフラムピース5の上端面側に当接され、ステム部材4の上下移動によってダイヤフラムピース5を通してダイヤフラム6が弁座シート7を押圧する。
拡径環状部4cと、貫通孔20の外径側に形成された環状装着溝26との間には、コイルスプリング27が弾発状態で装着され、このスプリング27によりステム部材4がベース体3に対して上方に向けて常時付勢されている。
アクチュエータ11は、略円筒状のカバー30、環状のケーシング31、ピストン32、コイル状のスプリング33を有している。カバー30の中央下部にはガイド孔34が形成され、このガイド孔34の上部には吸排気口35が連通して形成されている。ガイド孔34よりも外径側には環状の取付溝36が形成され、この取付溝36にスプリング33が装着可能に設けられている。
ガイド孔34には、ピストン32に形成された縮径軸32aが挿着されると共に、ピストン32と取付溝36との間にはスプリング33が挿着される。カバー30の下部外周側にはケーシング31内周が螺合により一体化され、ピストン32とケーシング31との間に圧縮エアが供給されるシリンダ室37が設けられる。ケーシング31の下部内周側には、雌螺子部38が形成される。
アクチュエータ11は、雌螺子部38と雄螺子部24との螺合によりベース体3に固着されて一体化される。アクチュエータ11の組付後には、ピストン32がその下端面側が拡径環状部4cの上面側に当接した状態で上下方向に往復動可能に装着され、このピストン32がスプリング33の弾発力により付勢されてケーシング31に対して下降可能に設けられる。また、吸排気口35から、ピストン32に形成された流路孔32bを通してシリンダ室37に圧縮エアが給気可能に設けられ、この圧縮エアによりピストン32がスプリング33の弾発付勢力に抗して上昇可能に設けられている。
このような構成により、図2(b)の圧縮エアの供給停止時におけるピストン32の下降時には、このピストン32によりステム部材4を下方向に押圧してダイヤフラムピース5を介してダイヤフラム6を押圧し、このダイヤフラム6が弁座シート7に着座したときに弁閉シール状態となる。一方、図2(a)の圧縮エアの供給時におけるピストン32の上昇時には、ステム部材4、ダイヤフラムピース5によるダイヤフラム6への押圧が解除され、前述した自己復帰力によりダイヤフラム6が中心部を頂点とした凸曲面の形状に戻ることで弁座シート7から離れて弁開状態となる。
前述した開閉機構8は、本実施形態のアクチュエータを用いた自動弁の場合は、アクチュエータ11のピストン32又はスプリング33で構成され、これらピストン32、スプリング33によりダイヤフラムを弁閉又は弁開動作するための推力を発生する。
開閉機構8から発生する推力は、推力[N]=受圧面積[mm]×圧力[MPa]で表され、この関係式に基づいてピストン32からステム部材4に推力が伝達される。前記関係式において、受圧面積は、推力が加わる総面積であり、圧力は、受圧面積の単位面積当たりに加わる力である。
開閉機構8の内部に配置される荷重分散部材10は、例えば、PCTFEやPFAなどのフッ素樹脂、ナイロン、ABSなどの樹脂材料などの弾性を有する材料によりリング状に形成された荷重分散シートよりなる。本実施形態では、フッ素樹脂によって荷重分散シート10が形成されている。
荷重分散シート10は、開閉機構8(ピストン32、スプリング33)の連設部位であるステム部材4の拡径段部4bとベース体3の底面部23との間に、底面部23に載置された状態で装着され、この荷重分散シート10によりピストン32(ステム部材4)からの荷重を分散可能になっている。
この場合、ダイヤフラム6がボデー2とボンネット19との間に挟着されて流体をシールしていることにより、荷重分散シート10が、バルブ本体1の流路(一次側流路12、二次側流路13、弁室14)内の流体に接触しない部位に配置された状態になっている。
荷重分散シート10は、弁座シート7に対して並列状態に設けられ、かつ、弁開状態のとき、荷重分散シート10と開閉機構8の上記連設部位(ステム部材の拡径段部4b、ベース体の底面部23)とが、図2(a)に示した所定の隙間X1を有した状態で配置される。本実施形態では、荷重分散シート10と弁座シート7とが平行になるように装着されている。
一方、ダイヤフラム6装着側においては、弁開状態のとき、ダイヤフラム6の底面側と弁座シート7のシール面7aとが、ダイヤフラム6のストロークである所定の隙間X2を有する状態に設けられている。
これらの弁開状態における隙間X1と隙間X2とは、隙間X1=隙間X2の関係であり、弁閉動作時には、ダイヤフラム6が弁座シート7に当接(着座)すると同時に、拡径段部4bの当接側が荷重分散シート10に接触し、アクチュエータ11のピストン32或はスプリング33からの推力が荷重伝達シート10にも加わるようになっている。
これにより、バルブ本体1は、開閉機構8が発生する推力を維持しながら、弁閉時に必要な締付け荷重を弁座シート7と荷重分散シート10とで分散して受ける二重化構造となっている。
前述した荷重分散シート10、弁座シート7を設ける場合には、これら荷重分散シート10及び弁座シート7の双方にピストン32から伝達される荷重をバランスよく分担(分散)させる必要がある。そのため、何れのシート7、10に対しても、弾性変形の範囲、配置後における機械的な公差範囲などを考慮して寸法を設定する必要がある。
例えば、弁閉時に、ダイヤフラム6が弁座シート7に着座する前に、拡径段部4bが荷重分散シート10に接触すると、弁閉シール状態とならずに流体の漏れが発生することになる。一方、拡径段部4bが荷重分散シート10に接触する前に、ダイヤフラム6が弁座シート7に着座すると、この弁座シート7にダイヤフラム6側からピストン32による全ての荷重が集中することになる。これらの何れの場合にも、弁座シート7と荷重分散シート10との二重化構造によって荷重を分散することができなくなる。
これに加えて、機械的な加工のバラツキによる寸法誤差をゼロにすることは困難であるので、加工公差などを考慮した上で、弁座シート7の許容可能な弾性変形範囲において、荷重分散シート10に拡径段部4bが接触するように、バランスよく効果的に配置する設計をおこなう必要がある。
これらシート7、10を設ける場合には、先ず、各シート7、10が荷重を受けるときの面積配分を設定した後に、荷重分散シート10の硬さや厚さ方向に対する弾性変形可能な寸法の割合により、弁座シート7側の厚み(シール面7aの高さ)を設定するとよい。また、必要に応じて、荷重分散シート10の厚みが十分に大きくなるように設計してもよい。これらの理由としては、弁座シート7は、その厚さを大きく設定することで安全に弾性変形する伸縮範囲を増やすことができ、さらには、荷重分散シート10の厚さを大きくした場合にも、同様に弾性変形する範囲を増すことができるためである。
これらのように、荷重分散シート10や弁座シート7の厚さを大きくすることで、先に荷重分散シート10がステム部材4に接触してこの部位に荷重が集中して弁閉が不完全となることで漏れが生じることを防ぎ、又は、先にダイヤフラム6が弁座シート7に接触してこの弁座シート7に荷重が集中してダメージが生じることを防ぐことが可能となる。
具体例として、例えば、これらシート7、10をPCTFEにより設ける場合、このPCTFEの耐圧の限界を超えない荷重範囲における弾性変形量が最大10%とし、このとき、ダイヤフラム6やステム部材4の加工公差と組立誤差とによる複合的な影響で生じる弁座シート7及び荷重分散シート10の高さ方向の積み上げ誤差が、±0.1mm(幅値で0.2mm)となる場合、弁座シート7の肉厚を、この誤差の幅0.2[mm]/10[%]=2.0mm以上に設けるようにすればよい。
仮に、何らかの理由により、弁座シート7の厚さを十分に確保できない場合には、この弁座シート7の代わりに荷重分散シート10の厚さを上記と同様に設定すればよい。ただし、荷重分散シート10を厚くする場合には、その弾性変形の範囲が大きくなるために、弁座シート7が軟化したときに、この弁座シート7の沈み込みに対して厚さを維持する機能がやや小さくなるおそれがあることを考慮する必要がある。
例えば、荷重分散シート10の受ける荷重がその厚さにかかわらず一定であり、荷重により10%変形すると仮定すると、その厚さ1.0mmであるときの10%変形量が0.1mmとなる。また、厚さ2.0mmであるときの10%変形量が0.2mmとなる。これらを比較すると、変形量の差が0.1mmになり、これによって弾性変形の範囲の差が広がることから、弁座シート7が軟化したときにこの弁座シート7が沈み込みすぎる現象が生じる可能性がある。
また、荷重分散シート10の材料を設定するときには、その弾性や硬さなどの材料特性を考慮する必要がある。さらには、これ以外にも、荷重分散シート10の配置位置の周囲のステム部材4、ベース体3などの部品の特性や内部に塗布するグリスとの相性、及びバルブ本体1の使用温度などの外部環境についても考慮することが望ましい。
なお、荷重分散部材10は、樹脂製以外の各種の材料や、リング状シート以外の各種の形状などのあらゆる態様に設けることができる。図示しないが、バネ特性を有する皿バネ或は板バネを荷重分散部材とし、これら皿バネ或は板バネを拡径段部と底面部との間に装着することもできる(図示せず)。
また、荷重分散部材10は、推力を維持しながら、弁閉時に必要な締付け荷重を弁座シート7との間で分散して受ける二重化構造であれば、ベース体3の底面部23側や、ステム部材4の拡径段部4b側に固定される構造であってもよい。さらには、ステム部材4とベース体3との間に限ることもなく、バルブ本体1内のあらゆる位置に荷重分散シート10を設けることもできる。
荷重分散シート10を設ける場合、隙間X1と隙間X2と大きさに差を設けることもでき、弁閉時に必要な締付け荷重を弁座シート7と荷重分散シート10とで分散する二重化構造であれば、例えば、荷重分散シート10の弾性力や材料、又はダイヤフラム6の形状や材料などを適宜設定し、これに応じて隙間X1と隙間X2とを適宜設定してもよい。
本実施形態では、半導体製造装置用バルブとしてダイヤフラムバルブに適用した例を説明したが、ダイヤフラムバルブに限ることはなく、例えば、図示しないニードル形やグローブ形などの各種バルブに適用することもできる。
次いで、本発明の半導体製造装置用バルブの上記実施形態における動作並びに作用を説明する。
図1、図2において、バルブ本体1は、アクチュエータ11の動作と共に開閉機構8、ステム部材4、ダイヤフラムピース5、コイルスプリング27などの部品が連動し、発生した推力をダイヤフラム6や弁座シート7に伝えてこれらのシール部位同士が密着して弁閉或は弁開状態となって流体の流れを制御可能となっている。
図1及び図2(a)において、圧縮エアが吸排気口35より流路孔32bを通ってシリンダ室37に供給されると、この圧縮エアによってピストン32がスプリング33の弾発付勢力に抗して上昇する。これにより、ステム部材4、ダイヤフラムピース6によるダイヤフラム6への押圧が解除され、ダイヤフラム6が弁座シート7から離れて弁開状態となる。
この場合、開閉機構8(ピストン32、スプリング33)の連設部位であるステム部材4の拡径段部4b及びベース体3の底面部23と、荷重分散シート10とが、所定の隙間X1を有した状態で配置され、ピストン32からの締付け荷重が加わることがない。このため、開閉機構8による推力が荷重分散シート10及び弁座シート7との何れにも働くことはない。
弁座シート7側においては、この弁座シート7とダイヤフラム6との間に隙間X1と同じ高さの隙間X2が設けられ、この隙間X2により流路が確実に確保されて一次側流路12から二次側流路13にスムーズに流体が流れるようになっている。
一方、図2(b)において、圧縮エアの供給を停止したときには、ピストン32を上昇させる力が停止されると共に、スプリング33の弾発付勢力によりピストン33を下降させる力が働く。このピストン33の力の作用によりステム部材4、ダイヤフラムピース5が下方向に押圧され、ダイヤフラムピース5によってダイヤフラム6が押圧される。これにより、ダイヤフラム6が弁座シート7に着座して弁閉シール状態になる。
前述したように、開閉機構8が発生する推力を維持しながら、弁閉時に必要な締付け荷重を、弁座シート7と、この弁座シート7とは別部材として開閉機構8の内部に並列状態に配置した荷重分散シート10とにより、締付け荷重を分散して受ける二重化構造としているので、弁閉シールするために必要なピストン32の締付け荷重による推力の大きさを変えることなく、この推力による圧力を弁座シート7と荷重分散シート10とに分散させることができる。
このとき、弁座シート7と荷重分散シート10とが並列状態に設けられていることから、前述した、推力=受圧面積×圧力の関係式より、ピストン32による推力=(弁座シート7の受圧面積×弁座シート7にかかる圧力)+(荷重分散シート10×荷重分散シート10にかかる圧力)と表すことができる。
これにより、弁座シート7が受ける面圧(単位面積当たりで負担する荷重)を小さくし、弁座シート7が受けるダメージを軽減することを可能としながら、開閉機構8が発生する推力を下げる必要が無いため、高い流体の圧力に対しても十分な締め付け能力を発揮する。この場合、ピストン32による締付け力を減少させることなく、漏洩を防ぐために必要な所定の大きさの推力を、弁座シート7及び荷重分散シート10に各圧力(面圧)を下げた状態で働かせることができ、荷重分散シート10を設けていない場合に比較して、弁座シート7への負担が軽減される。このため、弁座シート7や荷重分散シート10として耐薬品性に優れたフッ素樹脂を選択し、アクチュエータ11側から余分な荷重(推力)を加えることなく締付け荷重を緩和して、弁座シート7、荷重分散シート10がダメージを受けたり、バルブ本体1が故障したりすることを防ぐことができる。
弁座シート7への圧力を抑えるためにこの弁座シート7のサイズを大きくして受圧面積を増やすこともなく、バルブ本体1の大型化を防いでコンパクト性も確保できる。バルブ本体1内を流れる流体圧力の大きさを制限する必要もなく、弁座シート7に加わる面圧(圧力)だけを下げることで、バルブ本体1に要求されるシール性能や流量特性などの機能性を確保しつつ高圧流体を流すことができる。これにより、バルブ本体1を集積化などによりコンパクトに設ける場合にも、小径化した弁座シート7に対して二重化構造で締付け荷重を分散し、過大な面圧を防いで耐久性を向上できる。
荷重分散シート10をバルブ本体1内の流体に接触しない凹状溝22側に設けているので、荷重分散シート10の劣化や破損を防止できる。そのため、仮に、腐食性流体によって弁座シート7に軟化が生じた場合には、荷重分散シート10がこの弁座シート7が受けていた荷重を代わりに受け持つことも可能になる。これによって、弁座シート7が潰れ続けることによってシール性能を失うことを防ぐことができ、弁座シート7の軟化に対しても正常な動作を続けることが可能な高耐久性のバルブ本体1を提供できる。
ピストン32を押付けるスプリング荷重や、駆動用エア圧力等の仕様を予め計算して設計しつつ、弁閉時に流体によって弁開する方向に圧力を受けた場合であっても、ピストン32から発生した推力により自然に弁開動作することを防止できる。なお、後述するハンドルを使用した手動弁についても同様の機能を有し、その場合には、ハンドルから発生する推力を締付け荷重として利用し、ハンドルに設けられたネジ径やネジピッチを予め計算して設計することで自然の弁開動作を阻止する。
バルブ本体1を設ける場合、特に高圧向けのバルブは、高圧流体に動作を妨げられることのないより大きい締付け荷重が必要になるため、ピストン32の推力を大きく設定する必要がある。この場合、例えば、弁座シート7の材料をPCTFEとすると、このPCTFEの引張り強さは最大で41MPa程度であることが知られている。この値を限界値としたときに、荷重分散シート10を設けることなく弁座シート7を単独で設けた場合には、弁座シート7に41MPaを超えた面圧が加わったときに、弁座シート7が塑性変形して潰れたり破壊したりする可能性がある。荷重分散シート10を設けた場合には、この荷重分散シート10に面圧が分散して加わることで、弁座シート7に41MPaを超える面圧が加わることを防止することが可能になる。
図3、図4においては、本発明の半導体製造装置用バルブの他の実施形態を示している。なお、この実施形態において上記実施形態と同一部分は同一符号によって表し、その説明を省略する。
この実施形態のバルブ本体40は手動弁からなり、ボデー41、ベース体42、ステム43、ダイヤフラムピース44、ダイヤフラム45、弁座シート46、荷重分散シート(荷重分散部材)47、ハンドル48を備えたダイヤフラムバルブからなっている。
バルブ本体40には開閉機構43が設けられ、この開閉機構43はハンドル48に設けたステムにより構成される。このステム43を通してダイヤフラム45を押圧して弁閉可能に設けられる。ボデー41内の所定位置には、前記実施形態と同様に弁座シート46が装着され、この弁座シート46の上からダイヤフラム45が装入された状態で、ダイヤフラムピース44がボンネット49を介してボデー41に装着されている。
ベース体42は、円筒状に形成され、中央に貫通孔50、下部にはボデー41上部に形成されたオネジ51に螺合するメネジ52がそれぞれ形成されており、ベース体42は、これらオネジ51とメネジ52との螺合によってボデー41に一体化される。このとき、ベース体42の内周底面側に設けられた押圧面53がボンネット上面49aを押圧することにより、ボンネット49がダイヤフラム45を押圧し、ボンネット49とボデー41との間にダイヤフラム45が位置決め固定される。貫通孔50の上部側にはめねじ部54が形成されている。
ステム43の外周には、めねじ部54と螺合するおねじ部55が形成され、これらおねじ部55とめねじ部54との螺合により、ステム43がベース体42に対して昇降動可能な状態で取付けられる。ステム43の上端側には、ハンドル48が止めねじ56により固定され、ステム43は、ハンドル48を回動操作することで、このハンドル48と一体に回動してベース体42に対して昇降動するようになっている。ステム43の底面側には縮径状の突部43aが形成され、この突部43aの上部側にはより拡径した拡径段部43bが形成されている。ステム43を昇降動したときには、突部43aがダイヤフラムピース44、ダイヤフラム45を押圧又は押圧解除して流路を開閉可能となる。
荷重分散シート47は、ステム突部43aの外周側と、ボンネット上面49aとの間に位置決め状態で装着される。これにより、前記実施形態と同様に荷重分散シート47が弁座シート46に対して並列状態で配置される。
図4(a)において、開閉機構であるステム43が上昇した弁開状態のときには、開閉機構43の連設部位である拡径段部43bと荷重分散シート47とが所定の隙間Y1を有した状態で配置される。
このとき、ダイヤフラム45装着側では、弁開状態のとき、ダイヤフラム45の底面側と弁座シート46のシール面46aとが、ダイヤフラム45のストロークである隙間Y2を有する状態で開口している。弁開状態において、これら隙間Y1と隙間Y2とは、隙間Y1=隙間Y2の関係となる。
一方、図4(b)において、ハンドル48を回転させてステム43を下降させるときに推力が発生し、この推力を維持しながら弁閉時に必要な締付け荷重を弁座シート46と荷重分散シート47とで分散して受けることが可能な二重化構造に設けられている。すなわち、荷重分散シート47は、ダイヤフラム45と弁座シート46とが接触するときに、ハンドル48に設けたステム43からの推力が加わる位置に配置されている。
上記のように、開閉機構43を手動弁に適用し、弁座シート46と荷重分散シート47とで締付け荷重を分散させていることにより、前述した実施形態と同様の機能を発揮し、特には、ハンドル48の締め過ぎによる弁座シート46の破壊等を防止することが可能であることに加えて、推力が大きくなるように設計したとしても弁座シート46への影響を極力抑えて十分なシール性能を維持できる。このため、締付け荷重を抑えた場合に生じやすい、突部43a底面側とダイヤフラムピース44、おねじ部55とめねじ部54との各摺動抵抗が不足することを防止し、この摺動抵抗不足によるハンドル48の戻り現象による閉止の不具合の発生も抑制する。
続いて、半導体製造装置用バルブの弁座シート、荷重分散シートを設定する場合の実施例を説明する。
図1の構成の実施形態のバルブ本体1において、荷重分散シート10を設けることなく弁座シート7単独で締付け荷重(推力)を受ける場合と、前記実施形態における荷重分散シート10と弁座シート7との双方で推力を設ける場合と比較するために、それぞれの場合におけるシート7、10にかかる力の大きさを求めた。
高圧ガス向けのバルブの条件として、例えば、20.6MPaの圧力まで使用可能なバルブ本体1を設けた。この場合、設計時おけるマージンを10%、ダイヤフラム6の有効面積を仮に88.4mmとし、流体圧によりダイヤフラム6に生じる反力Pを、反力P=88.4×20.6×1.1≒2003[N]と設定した。この反力Pを受けるダイヤフラム6を押圧して確実に弁閉動作させるために、反力Pをスプリング33による推力Fが超えるように、そのスプリング荷重を含む開閉機構8全体やその他の各部品を設計した。さらに、弁閉時における推力Fにより生じるシール荷重が、流体の供給が停止して内圧が無い状態であっても常にかかり続けるようにした。
上記バルブ本体1で使用する弁座シート7のシール面7aのサイズは、外径φ6.6mm、内径φ3.6mmとし、その有効面積は、(6.6/2)×π-(3.6/2)×π≒24.0mmとした。
先ず、バルブ本体1内に荷重分散シート10を設けることなく、弁座シート7のみを使用した場合には、反力Pによる面圧が、最大で2003÷24.0=83.5[MPa]となった。
このように、荷重分散シート10を設けていないときには、前述したPCTFEの耐力(引張り強さ)である41MPaを、面圧(83.5MPa)が大きく超える結果となった。これにより、繰り返し使用した場合には、弁座シート7が面圧に耐えきれずに塑性変形し、損傷したり破断したりする可能性が極めて高くなることが認められた。
一方、弁座シート7と荷重分散シート10とを並列状態に設ける際には、シール面サイズ(有効面積)が24.0mmの弁座シート7に加えて、有効面積(拡径段部及び底面部のそれぞれに対向する面積)が26.0mmの荷重分散シート10を使用した。これにより、弁座シート7と荷重分散シート10との有効面積の総和(合計面積)は50.0mmとなった。
このことから、これらの合計面積50mmへの上記反力P(2003[N])による面圧は、2003÷50.0≒40[MPa]となった。
上記のように荷重分散シート10を設けた場合には、一般的なPCTFEの耐力である41MPaに対して、弁座シート7が受ける面圧が材料の耐圧限界内の数値に収まる。このため、弁座シート7がダメージを受けることを阻止することができた。
さらには、弁座シート7に腐食性ガス等が浸透してこの弁座シート7が軟化した場合においても、弁座シート7のダメージを低減することができた。
例えば、弁座シート7の耐力が、薬品等によって20.5MPa(一般的な値である41MPaの50%)に低下したときに、荷重分散シート10を設けていない場合には、83.5MPaの面圧が弁座シート7のみにかかってしまうことから、これらの比は、83.5[MPa]÷20.5[MPa]=4.1となり、この4.1倍の面圧を受けて破壊等が進行しやすくなる傾向がみられた。
これに対して、弁座シート7と荷重分散シート10との双方を使用した場合には、これらの合計面積にかかる面圧は40MPaであることから、この面圧と弁座シート7の耐力との比が、40[MPa]÷20.5[MPa]=1.95となる。このように、1.95倍の面圧に抑えることで、荷重分散シート10を設けていない場合に比較してダメージを大幅に低減することができた。
さらに、上記において、荷重分散シート10は、弁座シート7にかかる推力や耐力などとの関係を考慮した設計した。具体的には、弁座シート7の耐力が20.5MPaに低下したときの弁座シート7単独の限界推力(塑性変形しない推力)は、シール面の面積(有効面積)×軟化後の耐圧により、24.0[mm]×20.5[MPa]=492[N]となる。ピストンが発生する全推力が2003Nであるため、荷重分散シート10を設ける場合に単独で受け持つべく推力は、2003[N]-492[N]=1511[N]となる。
この推力に対して荷重分散シート10が受ける面圧は、1511[N]÷26.0[mm]=58.1[MPa]となる。これにより、荷重分散シート10の耐圧が58.1MPaよりも大きくなるようにし、本例では、MCナイロン(登録商標)(耐力96MPa)を材料とした。この場合には、仮に、弁座シート7が軟化して潰れたりしたとしても、荷重分散シート10が単独で比較的高い荷重を受けることが可能になり、弁座シート7の弾性変形の範囲を超える潰れなどの変形を防止できた。
上記のように荷重分散シート10を設定することで適切に推力を分散しながら、バルブ本体1の性能や製品サイズ等に設計上の制限を加えることなくコンパクト性を維持した状態で製作可能となった。また、弁座シート7の耐力が失われてその機能性が損なわれることもないことが確認された。
以上、本発明の実施の形態について詳述したが、本発明は、前記実施の形態記載に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲に記載されている発明の精神を逸脱しない範囲で、種々の変更ができるものである。
1、40 バルブ本体
4 ステム部材
6 ダイヤフラム
7 弁座シート
8 開閉機構
10 荷重分散シート(荷重分散部材)
11 アクチュエータ
32 ピストン
33 スプリング
43 ステム
48 ハンドル
X1、X2、Y1、Y2 隙間

Claims (5)

  1. バルブ本体に設けたダイヤフラムと弁座シートとの接離によって開閉する半導体製造装置用バルブにおいて、前記バルブ本体には、前記ダイヤフラムを押圧して弁閉させる開閉機構を設け、この開閉機構の内部には荷重分散部材を配置し、この荷重分散部材は、前記弁座シートに対して並列状態で、かつ弁開状態のとき、前記開閉機構の連設部位と前記荷重分散部材とが所定の隙間を有した状態で配置され、前記開閉機構が発生する推力を維持しながら、弁閉時に必要な締付け荷重を前記弁座シートと前記荷重分散部材とで分散して受ける二重化構造とし、前記弁座シートは、単位面積当たりで負担する荷重を材料の耐圧限界内の数値としつつ受圧面積の増加を抑えるように設けられ、前記弁座シートと前記荷重分散部材とは、これらの弾性変形の範囲、機械的な公差範囲を含みつつ、伝達される荷重がバランスよく分担されるように荷重を受けるときの面積配分が設定され、前記荷重分散部材の硬さや厚さ方向に対する弾性変形可能な寸法の割合により前記弁座シートの厚み、又は前記荷重分散部材の厚みが設定された状態で、弁閉動作時には、前記ダイヤフラムと前記弁座シートとが接触すると同時に、前記開閉機構からの推力が前記荷重分散部材に加わるように設けられていることを特徴とする半導体製造装置用バルブ。
  2. 前記荷重分散部材は、前記バルブ本体の流路内の流体に接触しない部位に設けられている請求項1に記載の半導体製造装置用バルブ。
  3. 前記荷重分散部材は、樹脂製のリング状の荷重分散シート又はバネ特性を有する皿バネである請求項1又は2に記載の半導体製造装置用バルブ。
  4. 前記開閉機構は、自動弁の場合は、アクチュエータのピストン或はスプリングで構成され、手動弁の場合は、ハンドルに設けたステムである請求項1乃至3の何れか1項に記載の半導体製造装置用バルブ。
  5. 前記荷重分散部材は、前記ダイヤフラムと前記弁座シートとが接触すると同時に、前記アクチュエータのピストン或はスプリング、又はハンドルに設けたステムからの推力が加わる位置に配置されている請求項4に記載の半導体製造装置用バルブ。
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