JPH01100151A - トリフェニルアミンまたはその核置換体の製造方法 - Google Patents
トリフェニルアミンまたはその核置換体の製造方法Info
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- JPH01100151A JPH01100151A JP62258545A JP25854587A JPH01100151A JP H01100151 A JPH01100151 A JP H01100151A JP 62258545 A JP62258545 A JP 62258545A JP 25854587 A JP25854587 A JP 25854587A JP H01100151 A JPH01100151 A JP H01100151A
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- Japan
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- phenol
- triphenylamine
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- catalyst
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔本発明の目的〕
本発明はトリフェニルアミンまたはその核置換体（以下
トリフェニルアミン類と略記する）の新規な製造方法に
関する。トリフェニルアミン類は、染料、ゴム薬等を製
造するための中間体として有用な化合物である。
トリフェニルアミン類と略記する）の新規な製造方法に
関する。トリフェニルアミン類は、染料、ゴム薬等を製
造するための中間体として有用な化合物である。
従来、水素移動触媒を用いるトリフェニルアミン類の製
造方法としては、特開昭６０−２１５６５３号に、ジフ
ェニルアミン類及び過剰量のシクロヘキサノン類とを加
熱反応する方法が、又、特開昭６１−１８３２５０号に
は、ジフェニルアミン類、過剰量のフェノール類及びフ
ェノール類に対応する触媒量のシクロヘキサノン類とを
加熱反応する方法が開示されている。しかしながら、特
開昭６０−２１５６５３号の方法では過剰量のシクロヘ
キサノン類を、又、特開昭６１−１８３２５０号の方法
では過剰量のフェノール類を用いているため反応１回あ
たりのトリフェニルアミン類の生成濃度は大きくなく、
工業的製法としては満足できるものとは云い難い。
造方法としては、特開昭６０−２１５６５３号に、ジフ
ェニルアミン類及び過剰量のシクロヘキサノン類とを加
熱反応する方法が、又、特開昭６１−１８３２５０号に
は、ジフェニルアミン類、過剰量のフェノール類及びフ
ェノール類に対応する触媒量のシクロヘキサノン類とを
加熱反応する方法が開示されている。しかしながら、特
開昭６０−２１５６５３号の方法では過剰量のシクロヘ
キサノン類を、又、特開昭６１−１８３２５０号の方法
では過剰量のフェノール類を用いているため反応１回あ
たりのトリフェニルアミン類の生成濃度は大きくなく、
工業的製法としては満足できるものとは云い難い。
本発明者等は、トリフェニルアミン類の製造方法を更に
検討した結果、水素移動触媒の存在下にフェノール類及
び一般式（Ｉ）で表わされるアミン類とを加熱反応する
と、容易に脱水素反応及び縮合反応が起きトリフェニル
アミン類が生成することを見いだし、本発明に到達した
。
検討した結果、水素移動触媒の存在下にフェノール類及
び一般式（Ｉ）で表わされるアミン類とを加熱反応する
と、容易に脱水素反応及び縮合反応が起きトリフェニル
アミン類が生成することを見いだし、本発明に到達した
。
本発明の方法において原料として使用されるフェノール
類としては、フェノール、メチルフェノール、エチルフ
ェノール、イソプロピルフェノール、ブチルフェノール
、２，４−ジメチルフェノール、２，４．６− ）−ジ
メチルフェノール等のアルキルフェノール、３−メトキ
シフェノール、４−メトキシフェノール等のアルコキシ
フェノール等を例示することができる。その使用量は一
般式（Ｉ）で表わされるアミン類に対し等モル倍以上で
あれば実施可能であるが、反応終了液中のトリフェニル
アミン類の濃度を高くするには。
類としては、フェノール、メチルフェノール、エチルフ
ェノール、イソプロピルフェノール、ブチルフェノール
、２，４−ジメチルフェノール、２，４．６− ）−ジ
メチルフェノール等のアルキルフェノール、３−メトキ
シフェノール、４−メトキシフェノール等のアルコキシ
フェノール等を例示することができる。その使用量は一
般式（Ｉ）で表わされるアミン類に対し等モル倍以上で
あれば実施可能であるが、反応終了液中のトリフェニル
アミン類の濃度を高くするには。
一般式（Ｉ）で表わされるアミン類に対し１〜５モル倍
とすることが好ましい。
とすることが好ましい。
本発明の方法において使用できる一般式（Ｉ）で表わさ
れるアミン類とは、具体的にはシクロヘキシルアミン、
ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−シクロへキシルアニリン
及び炭素原子数１〜４のアルキル基すなわちメチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、５ｅｅ−ブチル基、ｔａｒｔ−ブチル基、イソブ
チル基で置換されたシクロヘキシルアミン類、ジシクロ
ヘキシルアミン類、Ｎ−シクロヘキシルアニリン類であ
る。
れるアミン類とは、具体的にはシクロヘキシルアミン、
ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−シクロへキシルアニリン
及び炭素原子数１〜４のアルキル基すなわちメチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、５ｅｅ−ブチル基、ｔａｒｔ−ブチル基、イソブ
チル基で置換されたシクロヘキシルアミン類、ジシクロ
ヘキシルアミン類、Ｎ−シクロヘキシルアニリン類であ
る。
本発明の方法において使用される触媒としては、脱水素
反応及び還元反応の両方に機能する触媒であることが必
要であるが、通常の水素化還元触媒は脱水素触媒として
使用可能である。
反応及び還元反応の両方に機能する触媒であることが必
要であるが、通常の水素化還元触媒は脱水素触媒として
使用可能である。
具体的には、ラネーニッケル、還元ニッケル。
ニッケルをケイソウ土、アルミナ、シリカ等の種々の担
体に担持したニッケル担体触媒；ラネーコバルト、還元
コバルト、コバルト担体触媒等のコバルト触媒；ラネー
銅、還元銅、銅担体触媒等の銅触媒；ラネーパラジウム
、パラジウム−炭素、パラジウム−アルミナ、パラジウ
ム−炭酸カルシウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラ
ジウム黒等のパラジウム触媒；白金−炭素、白金黒、酸
化白金、ロジウム−白金等の白金触媒；ロジウム−炭素
、酸化ロジウム等のロジウム触媒；ルテニウム−炭素、
酸化ルテニウム等のルテニウム触媒；周期律表第８族の
貴金属触媒あるいはその貴金属担体触媒、銅クロム酸化
物触媒、酸化モリブデン触媒等を例示することができる
。これらの触媒のうちでは、パラジウム触媒を用いるこ
とが好ましく、特にパラジウム−炭素触媒の使用が好ま
しい。
体に担持したニッケル担体触媒；ラネーコバルト、還元
コバルト、コバルト担体触媒等のコバルト触媒；ラネー
銅、還元銅、銅担体触媒等の銅触媒；ラネーパラジウム
、パラジウム−炭素、パラジウム−アルミナ、パラジウ
ム−炭酸カルシウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラ
ジウム黒等のパラジウム触媒；白金−炭素、白金黒、酸
化白金、ロジウム−白金等の白金触媒；ロジウム−炭素
、酸化ロジウム等のロジウム触媒；ルテニウム−炭素、
酸化ルテニウム等のルテニウム触媒；周期律表第８族の
貴金属触媒あるいはその貴金属担体触媒、銅クロム酸化
物触媒、酸化モリブデン触媒等を例示することができる
。これらの触媒のうちでは、パラジウム触媒を用いるこ
とが好ましく、特にパラジウム−炭素触媒の使用が好ま
しい。
触媒の使用量は、仕込原料混合液量に対し、触媒の金属
重量として、通常０．０１〜２．０重量％、好ましくは
０．０５〜１．０重量％の範囲である。これ以下の触媒
の使用量であると反応速度が小さくなる。
重量として、通常０．０１〜２．０重量％、好ましくは
０．０５〜１．０重量％の範囲である。これ以下の触媒
の使用量であると反応速度が小さくなる。
ｃ本発明の反応条件〕
反応温度は、通常１５０〜３５０℃の範囲で、好ましく
は２００〜３００℃の範囲から選ばれる。
は２００〜３００℃の範囲から選ばれる。
反応は生成水を逐次系外へ留出させながら行えば速く進
行させることができる。
行させることができる。
本発明の方法では、反応−回あたりのトリフェニルアミ
ン類の生成濃度が大きく、目的とするトリフェニルアミ
ン類は、触媒を分離した反応液を蒸留、晶析等の常法に
よる処理で簡単に単離することができる。
ン類の生成濃度が大きく、目的とするトリフェニルアミ
ン類は、触媒を分離した反応液を蒸留、晶析等の常法に
よる処理で簡単に単離することができる。
これら反応後の後処理が容易で、且つ反応−回あたりの
トリフェニルアミン類の生成濃度が高いので、経済的に
有利で、工業的実施に適した製造方法といえる。
トリフェニルアミン類の生成濃度が高いので、経済的に
有利で、工業的実施に適した製造方法といえる。
以下実施例をもって本発明を更に具体的に説明する。
実施例１
撹拌機、温度計、圧力計、生成水留出ライン及び冷却器
を備えた内容積０．５ａのオートクレーブに、シクロヘ
キシルアミン４９．６ｇ（０，５モル）。
を備えた内容積０．５ａのオートクレーブに、シクロヘ
キシルアミン４９．６ｇ（０，５モル）。
フェノール１４１．２ ｇ （Ｉ，５モル）、及び５％
パラジウム−炭素（日本エンゲルハルト社ｉｌり ７．
６ｇを仕込み、密閉後、撹拌昇温し、２７０℃とした。
パラジウム−炭素（日本エンゲルハルト社ｉｌり ７．
６ｇを仕込み、密閉後、撹拌昇温し、２７０℃とした。
この時の圧力は約１１Ｋｇ／ａＪＧであった。以後２７
０℃を保って２時間毎に圧を抜いて（約１５→５ｋｇ／
ｄＧ）生成水を留出させながら１５時間反応を行った。
０℃を保って２時間毎に圧を抜いて（約１５→５ｋｇ／
ｄＧ）生成水を留出させながら１５時間反応を行った。
反応終了液を約６０℃に冷却後、グラスフィルターで濾
過して触媒を分離した。炉液の一部をガスクロマトグラ
フィーにより分析して未反応原料及び生成物を定量した
結果、フェノール４２．８ｇ、ジフェニルアミン１９．
５ｇ及びトリフェニルアミン８４ 、９ｇ （収率６９
．２％対ジシクロヘキシルアミンであった０反応仕込原
料混合液量に対するトリフェニルアミンの生成量は４４
．５重量％であった。反応液を精留して、フェノール及
びジフェニルアミンを前留分として留出させ、トリフェ
ニルアミン（沸点２０３℃／１０ｍｍ１ｇ） ８３．８
ｇヲ主留分として得た。得られたトリフェニルアミンは
、純度９９．２％であった。
過して触媒を分離した。炉液の一部をガスクロマトグラ
フィーにより分析して未反応原料及び生成物を定量した
結果、フェノール４２．８ｇ、ジフェニルアミン１９．
５ｇ及びトリフェニルアミン８４ 、９ｇ （収率６９
．２％対ジシクロヘキシルアミンであった０反応仕込原
料混合液量に対するトリフェニルアミンの生成量は４４
．５重量％であった。反応液を精留して、フェノール及
びジフェニルアミンを前留分として留出させ、トリフェ
ニルアミン（沸点２０３℃／１０ｍｍ１ｇ） ８３．８
ｇヲ主留分として得た。得られたトリフェニルアミンは
、純度９９．２％であった。
実施例２
ジシクロヘキシルアミン９０．７ ｇ （０，５モル）
、フェノール９４．１ ｇ （Ｉ，０モル）及び５％パ
ラジウム−炭素７．４ｇを実施例１と同様に反応して、
反応終了液の一部を濾過後、反応終了液の組成を分析し
た結果、フェノール８．９ｇ、ジフェニルアミン１７．
４ｇ及びトリフェニルアミン７２．１ｇ（収率５８．８
％対レジシクロヘキシルアミンであった。
、フェノール９４．１ ｇ （Ｉ，０モル）及び５％パ
ラジウム−炭素７．４ｇを実施例１と同様に反応して、
反応終了液の一部を濾過後、反応終了液の組成を分析し
た結果、フェノール８．９ｇ、ジフェニルアミン１７．
４ｇ及びトリフェニルアミン７２．１ｇ（収率５８．８
％対レジシクロヘキシルアミンであった。
反応仕込原料混合液量に対するトリフェニルアミンの生
成量は３９．０重量％であった。
成量は３９．０重量％であった。
実施例３
Ｎ−２２口へキシルアニリン８７．６ｇ（０，５モル）
、フェノール９４．１ｇ（Ｉ，０モル）及び５％パラジ
ウム−炭素７．３ｇを実施例１と同様に反応して、反応
終了液の一部を濾過後１反応液の組成を分析した結果、
フェノール８．２ｇ、ジフェニルアミン１６．４ ｇ及
びトリフェニルアミン６８．７ｇ（収率５６゜θ％対Ｎ
−シクロヘキシルアニリン）であった０反応仕込原料混
合液量に対するトリフェニルアミンの生成量は３７．８
重量％であった。
、フェノール９４．１ｇ（Ｉ，０モル）及び５％パラジ
ウム−炭素７．３ｇを実施例１と同様に反応して、反応
終了液の一部を濾過後１反応液の組成を分析した結果、
フェノール８．２ｇ、ジフェニルアミン１６．４ ｇ及
びトリフェニルアミン６８．７ｇ（収率５６゜θ％対Ｎ
−シクロヘキシルアニリン）であった０反応仕込原料混
合液量に対するトリフェニルアミンの生成量は３７．８
重量％であった。
実施例４
４−メチルシクロヘキシルアミン５６．６ ｇ （０，
５モル）、フェノール１４１．２ ｇ （Ｉ，５モル）
及び５％パラジウム−炭素７．９ｇを実施例１と同様に
反応して、反応終了液の一部を濾過後、反応液の組成を
分析した結果、フェノール５３．６ ｇ、４−メチルジ
フェニルアミン２０．２ｇ及び４−メチルトリフェニル
アミン５９．３ｇ（収率４５．８％対４−メチルシクロ
ヘキシルアミン）であった８反応仕込原料混合液量に対
する４−メチルトリフェニルアミンの生成量は３０．０
重量％であった。
５モル）、フェノール１４１．２ ｇ （Ｉ，５モル）
及び５％パラジウム−炭素７．９ｇを実施例１と同様に
反応して、反応終了液の一部を濾過後、反応液の組成を
分析した結果、フェノール５３．６ ｇ、４−メチルジ
フェニルアミン２０．２ｇ及び４−メチルトリフェニル
アミン５９．３ｇ（収率４５．８％対４−メチルシクロ
ヘキシルアミン）であった８反応仕込原料混合液量に対
する４−メチルトリフェニルアミンの生成量は３０．０
重量％であった。
実施例５
ジシクロヘキシルアミン９０．７ ｇ （０，５モル）
、３−メチルフェノール１０８．１ ｇ （Ｉ，０モル
）及び５％パラジウム−炭素８．０ｇを実施例１と同様
に反応して１反応終了液の一部を濾過後、反応終了液の
組成を分析した結果、３−メチルフェノール５８゜４ｇ
、ジフェニルアミン２０．３ｇ及び３−メチルトリフェ
ニルアミン５５．７ｇ（収率４３．０％対フジシクロヘ
キシルアミンであった。反応仕込原料混合液量に対する
３−メチルトリフェニルアミンの生成量は２８．０重量
％であった。
、３−メチルフェノール１０８．１ ｇ （Ｉ，０モル
）及び５％パラジウム−炭素８．０ｇを実施例１と同様
に反応して１反応終了液の一部を濾過後、反応終了液の
組成を分析した結果、３−メチルフェノール５８゜４ｇ
、ジフェニルアミン２０．３ｇ及び３−メチルトリフェ
ニルアミン５５．７ｇ（収率４３．０％対フジシクロヘ
キシルアミンであった。反応仕込原料混合液量に対する
３−メチルトリフェニルアミンの生成量は２８．０重量
％であった。
実施例６
５％パラジウム−炭素７．６ｇの代りに、５％パラジウ
ム−アルミナ（日本エンゲルハルト社製）７゜６ｇを使
用した以外は実施例１と同様に反応を行った。反応終了
液の一部を演過後、反応終了液の組成を分析した結果、
フェノール４４．２ｇ、ジフェニルアミン２２．０ｇ及
びトリフェニルアミン７８．５ｇ（収率６４．０％対ジ
シクロヘキシルアミンであった１反応仕込原料混合液量
に対するトリフェニルアミンの生成量は４１．１重量％
であった。
ム−アルミナ（日本エンゲルハルト社製）７゜６ｇを使
用した以外は実施例１と同様に反応を行った。反応終了
液の一部を演過後、反応終了液の組成を分析した結果、
フェノール４４．２ｇ、ジフェニルアミン２２．０ｇ及
びトリフェニルアミン７８．５ｇ（収率６４．０％対ジ
シクロヘキシルアミンであった１反応仕込原料混合液量
に対するトリフェニルアミンの生成量は４１．１重量％
であった。
実施例７〜１４
実施例１と同じ条件により下記第１表の原料。
触媒を使用して、それぞれの目的生成物を得た。
第１表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、水素移動触媒の存在下に、フェノールまたはその核
置換体及び一般式（ I ）で表わされるアミン類を加熱
反応することを特徴とするトリフェニルアミンまたはそ
の核置換体の製造方法。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼〔式中Ｒ＿１は、水
素原子、シクロ ヘキシル基又はフェニル基を 示し、Ｒ＿２は、水素原子又は 低級アルキル基を示す。〕 ２、水素移動触媒が、パラジウム触媒である特許請求の
範囲第１項記載の方法。 ３、加熱反応温度が、２００〜３００℃である特許請求
の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62258545A JPH01100151A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | トリフェニルアミンまたはその核置換体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62258545A JPH01100151A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | トリフェニルアミンまたはその核置換体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01100151A true JPH01100151A (ja) | 1989-04-18 |
Family
ID=17321717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62258545A Pending JPH01100151A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | トリフェニルアミンまたはその核置換体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01100151A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0632014A1 (en) * | 1993-06-30 | 1995-01-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member and electrophotographic apparatus using same |
| JP2002019229A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-23 | Sato Corp | ポータブルプリンタ |
-
1987
- 1987-10-13 JP JP62258545A patent/JPH01100151A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0632014A1 (en) * | 1993-06-30 | 1995-01-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member and electrophotographic apparatus using same |
| US5616442A (en) * | 1993-06-30 | 1997-04-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member and electrophotographic apparatus using same |
| JP2002019229A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-23 | Sato Corp | ポータブルプリンタ |
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