JPH01101191A - 記録方法 - Google Patents
記録方法Info
- Publication number
- JPH01101191A JPH01101191A JP62258793A JP25879387A JPH01101191A JP H01101191 A JPH01101191 A JP H01101191A JP 62258793 A JP62258793 A JP 62258793A JP 25879387 A JP25879387 A JP 25879387A JP H01101191 A JPH01101191 A JP H01101191A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- recording
- energy
- film
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、発光性物質にエネルギーを付与して情報を記
録し、発光を利用して記録を読み取る、安定かつ高感度
の記録方法に関する。
録し、発光を利用して記録を読み取る、安定かつ高感度
の記録方法に関する。
従来、情報の記録方法としては磁気ヘッドを用いて磁気
ディスクや磁気テープに磁化パターンとして記録し、磁
気的にこの情報を読み取る磁気記録方式、Japane
se Journalof Applied P
hysics Vol、19 L731 (198
0)に見られるようなレーザービームによる加熱と磁場
印加により磁性ディスク等に磁化パターンとして記録し
た情報を、偏光を用いて光学的に読み取る光峰気記録方
式、レーザー光照射又はレーザー光照射によって発生す
る熱により記録媒体上に光学反射率パターンや光学透過
率パターンとして記録した情報をレーザービーム等によ
り光学的に読み取る光記録方式など様々な方式が検討さ
れ、実用に供されて来た。特に光記録方式は、1)他の
記録方式に較べて記録密度が高い、2)1ビット当りの
コストが低い、3)記録媒体の表面汚れや塵埃に強い、
4)非接触で記録再生できるなどの利点があるため注目
されて来た。光記録といっても読出し専用、追記型、書
換可能型など様々な方法がある。これらの中で従来使わ
れて来たものは、記録部と非記録部との反射光強度の差
異を利用する方式が主体であった。この様な反射光強度
の変調方法の例としては読出し専用型では記録媒体生産
時に、また追記型では情報書込時に媒体表面に形成した
凹凸、いわゆるピ°ットを利用する方法が提案されてい
る。追記型光記録媒体のピット形成は該記録媒体の記録
層のレーザービーム照射等による分解、融解など及び膜
内応力などを利用して行われる事が多い。この様なピッ
ト形成を利用した記録媒体としてはJournal
ofApplied Physics Vol。
ディスクや磁気テープに磁化パターンとして記録し、磁
気的にこの情報を読み取る磁気記録方式、Japane
se Journalof Applied P
hysics Vol、19 L731 (198
0)に見られるようなレーザービームによる加熱と磁場
印加により磁性ディスク等に磁化パターンとして記録し
た情報を、偏光を用いて光学的に読み取る光峰気記録方
式、レーザー光照射又はレーザー光照射によって発生す
る熱により記録媒体上に光学反射率パターンや光学透過
率パターンとして記録した情報をレーザービーム等によ
り光学的に読み取る光記録方式など様々な方式が検討さ
れ、実用に供されて来た。特に光記録方式は、1)他の
記録方式に較べて記録密度が高い、2)1ビット当りの
コストが低い、3)記録媒体の表面汚れや塵埃に強い、
4)非接触で記録再生できるなどの利点があるため注目
されて来た。光記録といっても読出し専用、追記型、書
換可能型など様々な方法がある。これらの中で従来使わ
れて来たものは、記録部と非記録部との反射光強度の差
異を利用する方式が主体であった。この様な反射光強度
の変調方法の例としては読出し専用型では記録媒体生産
時に、また追記型では情報書込時に媒体表面に形成した
凹凸、いわゆるピ°ットを利用する方法が提案されてい
る。追記型光記録媒体のピット形成は該記録媒体の記録
層のレーザービーム照射等による分解、融解など及び膜
内応力などを利用して行われる事が多い。この様なピッ
ト形成を利用した記録媒体としてはJournal
ofApplied Physics Vol。
50 P、8881 (1979)にある様なTe系
のものやこれを改良したものなどが提案されている。ま
た結晶相と非晶質相の間の相変化をレーザービーム照射
によって引き起して、結晶相と非晶質相との反射率の差
あるいは透過率の差を利用して情報記録とその読取りを
行う方法も提案されている。
のものやこれを改良したものなどが提案されている。ま
た結晶相と非晶質相の間の相変化をレーザービーム照射
によって引き起して、結晶相と非晶質相との反射率の差
あるいは透過率の差を利用して情報記録とその読取りを
行う方法も提案されている。
この方式の例としては例えばAppliedPhysi
cs Letters Vol。
cs Letters Vol。
18 P、254 (1971)に見られる機側など
がある。また特開昭61−220891号公報に見られ
る様なA−Siを利用した例もある。またApplie
d PhysicsLetters Vol、3
P2S5 (1980)に見られる様な有機色素をポ
リマー中に分散させた記録層の反射率変化を利用した例
もある。
がある。また特開昭61−220891号公報に見られ
る様なA−Siを利用した例もある。またApplie
d PhysicsLetters Vol、3
P2S5 (1980)に見られる様な有機色素をポ
リマー中に分散させた記録層の反射率変化を利用した例
もある。
〔発明が解決しようとしている問題点〕しかしながら、
これらの方式においては通常、情報の書込みと、書込ま
れた情報の読み出しはともに同一の波長のレーザー光を
用い、単にそのレーザー光の強度を制御する事によって
書込みと読み出しの区別をしているだけである。このた
め読み出しの際も記録層に徐々に変化が生じ、記録が破
壊されて行(という現象が見られる。これを回避するた
めには記録媒体への書込みが出来る温度を上げれば良い
が、これは記録感度を下げる事になり消費電力の増大や
半導体レーザーその他の記録用光源のコスト上昇につな
がるという欠点及び問題点があった。レーザー光を上記
のようなヒートモードではな(、光エネルギーとして直
接用いるフォトンモードで利用する方法も一部では提案
されているが、同一波長のレーザー光を書込みと読取り
の両方に用いる限りヒートモードと同様読み取り時に不
要な書き込み現象が徐々に進行し、このような変化が蓄
積されて行(ため根本的な問題の解決にはならなかった
。
これらの方式においては通常、情報の書込みと、書込ま
れた情報の読み出しはともに同一の波長のレーザー光を
用い、単にそのレーザー光の強度を制御する事によって
書込みと読み出しの区別をしているだけである。このた
め読み出しの際も記録層に徐々に変化が生じ、記録が破
壊されて行(という現象が見られる。これを回避するた
めには記録媒体への書込みが出来る温度を上げれば良い
が、これは記録感度を下げる事になり消費電力の増大や
半導体レーザーその他の記録用光源のコスト上昇につな
がるという欠点及び問題点があった。レーザー光を上記
のようなヒートモードではな(、光エネルギーとして直
接用いるフォトンモードで利用する方法も一部では提案
されているが、同一波長のレーザー光を書込みと読取り
の両方に用いる限りヒートモードと同様読み取り時に不
要な書き込み現象が徐々に進行し、このような変化が蓄
積されて行(ため根本的な問題の解決にはならなかった
。
そこで本発明の目的は、かかる従来例の問題点を解決し
、情報が容易に書き込めて、読取る際に記録情報が破壊
されず、S/N比を大きくすることができる新規な記録
方法を提供することにある。
、情報が容易に書き込めて、読取る際に記録情報が破壊
されず、S/N比を大きくすることができる新規な記録
方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕上記の目的は
、以下の本発明によって達成される。
、以下の本発明によって達成される。
即ち本発明は、発光部材を含む記録媒体にエネルギーを
付与し、エネルギー付与部と非付与部とに発光波長の差
を生ぜしめて記録を行うことを特徴とする記録方法であ
る。
付与し、エネルギー付与部と非付与部とに発光波長の差
を生ぜしめて記録を行うことを特徴とする記録方法であ
る。
本発明の記録方法は、記録層に発光部材を用い、書き込
み時のエネルギーによって記録部の発光波長を変化ある
いはシフトさせる事に特徴を有する。
み時のエネルギーによって記録部の発光波長を変化ある
いはシフトさせる事に特徴を有する。
本発明の記録方法において、情報の書込みが行われる為
には発光部材から成る記録層の記録しようとする部分に
エネルギー付与する事により、該記録層に化学的及び/
または物理的変化を生せしめる必要がある。
には発光部材から成る記録層の記録しようとする部分に
エネルギー付与する事により、該記録層に化学的及び/
または物理的変化を生せしめる必要がある。
本発明に用いる発光部材とは励起エネルギーにより光を
放出するものであり、発光の励起エネルギーとしては電
場、電子線、赤外線、可視光。
放出するものであり、発光の励起エネルギーとしては電
場、電子線、赤外線、可視光。
紫外線及びX線等が考えられる。
この様な発光は蛍光、燐光として知られたものであるが
、発光部材その゛ものが可視光領域の発光をするものが
好ましい。
、発光部材その゛ものが可視光領域の発光をするものが
好ましい。
発光部材が本来可視光領域の発光を行い、書き込み時の
エネルギーによって可視光領域ではあるが、他の波長の
発光を行う材料であれば、記録部分の読取りは通常の光
読み取りセンサーを用いる事が出来る。
エネルギーによって可視光領域ではあるが、他の波長の
発光を行う材料であれば、記録部分の読取りは通常の光
読み取りセンサーを用いる事が出来る。
例えば、後述する本発明に用いる非晶質水素化シリコン
微粒子膜を発光部材として用いると、400〜500n
m程度の励起光を照射したときに680〜730nm程
度の蛍光を発する。この蛍光は情報書き込み時のエネル
ギー付与(例えばco2レーザ、半導体レーザ、He−
Neレーザあるいは加熱ヘッド等が用いられる)により
、600〜650nm程度の蛍光を発する。そこで、6
00〜650nmの光のみを検知する光検知手段を設け
れば記録された情報を読み出す事が出来る。
微粒子膜を発光部材として用いると、400〜500n
m程度の励起光を照射したときに680〜730nm程
度の蛍光を発する。この蛍光は情報書き込み時のエネル
ギー付与(例えばco2レーザ、半導体レーザ、He−
Neレーザあるいは加熱ヘッド等が用いられる)により
、600〜650nm程度の蛍光を発する。そこで、6
00〜650nmの光のみを検知する光検知手段を設け
れば記録された情報を読み出す事が出来る。
この様な特定の波長領域を選択して検知する方へ
法は、1)プ1へズ字を利用する方法、2)回折格子を
利用する方法1,3)ファブリペロ−型の様な干渉計を
利用する方法、4)フィルターを利用する方法等、光学
その他の分野で良く知られている。
利用する方法1,3)ファブリペロ−型の様な干渉計を
利用する方法、4)フィルターを利用する方法等、光学
その他の分野で良く知られている。
選択した光の検知には、1)光電管、2)フォトダイオ
ード、3)光読取り用センサ等が利用出来る。
ード、3)光読取り用センサ等が利用出来る。
本発明の特徴は情報の読取り時に発光の励起エネルギー
と発光エネルギーに差を設ける点にあり、これを利用す
ると読取りの際のS/Nが向上する。
と発光エネルギーに差を設ける点にあり、これを利用す
ると読取りの際のS/Nが向上する。
例えば、干渉フィルター等を用いて600〜650nm
程度の光を選択的に検知すれば、400〜500nmの
励起光は読取りに際して全(、ノイズにならない。
程度の光を選択的に検知すれば、400〜500nmの
励起光は読取りに際して全(、ノイズにならない。
従って励起光をいくら2強くしても純粋に記録情報のみ
を検知する事が一出来る。発光は半導体レーザー等によ
る書込みによりほぼ完全に消失させる事が可能なので、
励起光の強度を強くする事により発光が飽和しない限り
又発光部材の部質が起きない限りい(らでもS/N比を
高める事が出来るという利点がある。
を検知する事が一出来る。発光は半導体レーザー等によ
る書込みによりほぼ完全に消失させる事が可能なので、
励起光の強度を強くする事により発光が飽和しない限り
又発光部材の部質が起きない限りい(らでもS/N比を
高める事が出来るという利点がある。
励起光の照射は光検知側と反対の裏側から行っても良い
。励起光の波長と発光波長とが異なる場合、前記の回折
格子や干渉フィルターなどにより発光波長のみを選択す
る様にすれば、記録媒体の裏側から照射した励起光が記
録媒体を透過して光検知ヘッドにとどき、ノイズとなる
事はない。
。励起光の波長と発光波長とが異なる場合、前記の回折
格子や干渉フィルターなどにより発光波長のみを選択す
る様にすれば、記録媒体の裏側から照射した励起光が記
録媒体を透過して光検知ヘッドにとどき、ノイズとなる
事はない。
励起光強度を強くして発光を強くし、この結果透過光が
増えてもS/N比は低下せず、高まるのみであり、より
はっきりと本発明の効果が現われる。
増えてもS/N比は低下せず、高まるのみであり、より
はっきりと本発明の効果が現われる。
本発明に用いる事の出来る記録媒体としては、エネルギ
ー付与によって発光波長が変化あるいはシフトさせる事
が出来る発光部材を含むものであれば良いが、本発明者
らの研究結果によれば、発光部が微粒子凝集体の膜状で
あり、かつ第■族元素から成る非晶質材料が良好であっ
た。
ー付与によって発光波長が変化あるいはシフトさせる事
が出来る発光部材を含むものであれば良いが、本発明者
らの研究結果によれば、発光部が微粒子凝集体の膜状で
あり、かつ第■族元素から成る非晶質材料が良好であっ
た。
微粒子凝集体が効果的であったのは微粒子がもつ熱伝導
性の悪さ、融点の低下等により、情報記録エネルギーに
よって容易に化学的及び/または物理的変化がエネルギ
ー付与部分のみに起こる為と考察している。
性の悪さ、融点の低下等により、情報記録エネルギーに
よって容易に化学的及び/または物理的変化がエネルギ
ー付与部分のみに起こる為と考察している。
本発明において微粒子の大きさは1000Å以下、望ま
しくは500Å以下である。
しくは500Å以下である。
上記微粒子の形は特に重要ではないが、比較的球に近く
大きさの揃ったものを用いる方が効果的顕微鏡(TEM
)及び電界放射型走査電子顕微鏡(FE−8EM)によ
る観察結果では100Å以下、数十人の平均粒径をもつ
ものであっても効果が認められる。
大きさの揃ったものを用いる方が効果的顕微鏡(TEM
)及び電界放射型走査電子顕微鏡(FE−8EM)によ
る観察結果では100Å以下、数十人の平均粒径をもつ
ものであっても効果が認められる。
実用上は上記の様な微粒子を取扱う為には、それを何ら
かの基体上にのせて固定すれば良い。その際個々の微粒
子は必ずしも相互に接触している必要はな(基体上で孤
立していても良いが、−船釣には微粒子の集合体、例え
ば凝集体や堆積膜などの方が望ましい。記録媒体の利用
形態によっては微粒子相互が接触していても良いし、何
らかの結着材中に分散して相互には接触しないか少なく
とも一部が接触しない様な使い方も出来る。
かの基体上にのせて固定すれば良い。その際個々の微粒
子は必ずしも相互に接触している必要はな(基体上で孤
立していても良いが、−船釣には微粒子の集合体、例え
ば凝集体や堆積膜などの方が望ましい。記録媒体の利用
形態によっては微粒子相互が接触していても良いし、何
らかの結着材中に分散して相互には接触しないか少なく
とも一部が接触しない様な使い方も出来る。
第■族元素から成る非晶質材料が効果的であったのは、
発光する非晶質材料が情報記録エネルギーによって比較
的容易に発光波長を変化及びシフトする事が可能であっ
た為と考察している。
発光する非晶質材料が情報記録エネルギーによって比較
的容易に発光波長を変化及びシフトする事が可能であっ
た為と考察している。
即ち、エネルギー付与によって化学的及び/または物理
的変化を生じ易い為、その材料組成また、第■族元素か
ら成る材料が有効であったのは大気中で比較的安定であ
り、エネルギー付与いる。
的変化を生じ易い為、その材料組成また、第■族元素か
ら成る材料が有効であったのは大気中で比較的安定であ
り、エネルギー付与いる。
実際エネルギー付与により大気中の酸素または窒素を取
り込むものも有効である事を実験的に把んだ。
り込むものも有効である事を実験的に把んだ。
以上説明した様に、記録媒体として第■族元素を含む非
晶質材料の微粒子凝集体膜状物から成る発光部材を用い
ることにより、情報書込み時のエネルギーによって記録
部の発光波長が変化あるいはシフトし、本発明に述べる
記録法が提供できる。
晶質材料の微粒子凝集体膜状物から成る発光部材を用い
ることにより、情報書込み時のエネルギーによって記録
部の発光波長が変化あるいはシフトし、本発明に述べる
記録法が提供できる。
本発明に用いる非晶質発光部材を得る方法としては、例
えば、第3図に示す装置を使用する事が出来る。
えば、第3図に示す装置を使用する事が出来る。
第3図の中で1は縮小拡大ノズル、2はノズルののど部
、3は磁紮=≠#、4は下流室、5は空胴共振器、6は
基体ホルダー、7は基体、8はマイクロ波投入窓、9は
マイクロ波の導波管、10はガス導入口である。反応ガ
スをlOがら空胴共振器内5へ導入した時は反応は5の
中で起き、5は反応室として働く。
、3は磁紮=≠#、4は下流室、5は空胴共振器、6は
基体ホルダー、7は基体、8はマイクロ波投入窓、9は
マイクロ波の導波管、10はガス導入口である。反応ガ
スをlOがら空胴共振器内5へ導入した時は反応は5の
中で起き、5は反応室として働く。
例えば非晶質水素化シリコンの微粒子膜をつくる場合に
はガス導入口10より5IH4ガスと、必要ならばH2
ガスを送り込み、反応室内でプラズマを発生させてガス
を分解して反応させ微粒子を形成させる。
はガス導入口10より5IH4ガスと、必要ならばH2
ガスを送り込み、反応室内でプラズマを発生させてガス
を分解して反応させ微粒子を形成させる。
そしてこれを一部未反応の気体状の活性種とともにノズ
ル2から吹き出させ基体7の上に吹きつけて固定する。
ル2から吹き出させ基体7の上に吹きつけて固定する。
プラズマにエネルギーを与える手段としてはマイクロ波
や紫外線あるいはRFなどの高周波などの電磁波や低周
波や直流などの電場印加などが使える。実用上置も使い
易いのは紫外線又はマイクロ波であり、この時は反応室
の形状を工夫する必要はあるが、反応室内に電極などの
構造物を置く必要はな(、エネルギー投入用の窓があれ
ば良い。マイクロ波プラズマを用いる場合にも色々なや
り方があり同軸管を用いるJapanese Jou
rnal of Applied Physi
cs 21 [8コ L470 (1982
)などに見られる方法やJ、Non−Crystall
ine 5olids Vol。
や紫外線あるいはRFなどの高周波などの電磁波や低周
波や直流などの電場印加などが使える。実用上置も使い
易いのは紫外線又はマイクロ波であり、この時は反応室
の形状を工夫する必要はあるが、反応室内に電極などの
構造物を置く必要はな(、エネルギー投入用の窓があれ
ば良い。マイクロ波プラズマを用いる場合にも色々なや
り方があり同軸管を用いるJapanese Jou
rnal of Applied Physi
cs 21 [8コ L470 (1982
)などに見られる方法やJ、Non−Crystall
ine 5olids Vol。
77−78,813.1985に見られる方法などがあ
るが、効率的な微粒子形式を行う立場からみれば反応室
5をマイクロ波の空胴共振器とする方法が非常に有効で
ある。
るが、効率的な微粒子形式を行う立場からみれば反応室
5をマイクロ波の空胴共振器とする方法が非常に有効で
ある。
空胴共振器の軸方向の長さlを共振波長λの1/2にす
ることで堆積速度を上げることが出来る。空胴共振器の
長さを長くしてl=λとした場合S iHa濃度を上げ
て行くとl=λの場合は堆積速度の増加が頭打ちになる
のに対して!=λ/2の場合にはこのような限界が認め
られず、直線的に増加する事がわかる。f>2λでは堆
積速度が極めて遅くなり、実用的ではない事を確認した
。従って、空胴共振器の長さlはl≦3λ/2の条件を
満す必要がある。
ることで堆積速度を上げることが出来る。空胴共振器の
長さを長くしてl=λとした場合S iHa濃度を上げ
て行くとl=λの場合は堆積速度の増加が頭打ちになる
のに対して!=λ/2の場合にはこのような限界が認め
られず、直線的に増加する事がわかる。f>2λでは堆
積速度が極めて遅くなり、実用的ではない事を確認した
。従って、空胴共振器の長さlはl≦3λ/2の条件を
満す必要がある。
また圧力を高めて行くと堆積速度は増加して行く。圧力
を1.0.Torr以上にすれば1μ/ s e c程
度の高速堆積も可能である。ノズルはプラズマ内で出来
た微粒子を一部の活性種とともに高速で吹き出し、基体
に吹きつけて固定化するために設けである。次にノズル
の形状は一般的には何でも良いが、微粒子の基体への付
着力を高め、また微粒子をビーム化して基体上に効率的
に集めるためには上流側から下流側へいわゆる縮小拡大
型の口径変化をもつ超音速ノズルを使用する事が望まし
い。その断面形状は円形だけでなく特開昭61−221
377号公報に示されている様な様々な変形が目的に応
じて使用可能である。
を1.0.Torr以上にすれば1μ/ s e c程
度の高速堆積も可能である。ノズルはプラズマ内で出来
た微粒子を一部の活性種とともに高速で吹き出し、基体
に吹きつけて固定化するために設けである。次にノズル
の形状は一般的には何でも良いが、微粒子の基体への付
着力を高め、また微粒子をビーム化して基体上に効率的
に集めるためには上流側から下流側へいわゆる縮小拡大
型の口径変化をもつ超音速ノズルを使用する事が望まし
い。その断面形状は円形だけでなく特開昭61−221
377号公報に示されている様な様々な変形が目的に応
じて使用可能である。
ノズルより下流側の基体室付近は通常10−3位
100’1=lFギマ程度ある事が望ましい。
基体はシリコン・ウェハー、ガラス、ネサガラス、プラ
ズマチツクス、金属その他大抵のものが使用可能である
。その形状は平面でも良いし、それ以外でも良い。微粒
子堆積中に基体の加熱をすれば得られる膜状物中の結合
水素量に変化が認められたが、基体を400℃迄加熱し
ても結合水素の全量が抜ける事はなかった。
ズマチツクス、金属その他大抵のものが使用可能である
。その形状は平面でも良いし、それ以外でも良い。微粒
子堆積中に基体の加熱をすれば得られる膜状物中の結合
水素量に変化が認められたが、基体を400℃迄加熱し
ても結合水素の全量が抜ける事はなかった。
本発明における非晶質微粒子発光部材の作成用原料とし
ては■族元素のソースとして、■族元素であるSi、C
,Sn等及びこれらの水素化物、ハロゲン化物等をあげ
る事が出来る。
ては■族元素のソースとして、■族元素であるSi、C
,Sn等及びこれらの水素化物、ハロゲン化物等をあげ
る事が出来る。
本発明においてはソースガスをH,ガスで希釈して用い
ても良い。
ても良い。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
実施例1
第3図の装置を用いて、非晶質シリコン微粒子凝集体を
基体上に形成した。
基体上に形成した。
ノズル1はノズル人口1aの断面積と喉部2の断面積と
の比が31、ノズル出口1bの断面積と喉部2の断面積
との比が7であり、ポリテトラフロロエチレン(PTF
E)製とした。
の比が31、ノズル出口1bの断面積と喉部2の断面積
との比が7であり、ポリテトラフロロエチレン(PTF
E)製とした。
空胴共振器5はステンレス(SUS)製で、その軸長の
長さlは共振波長λgの1/2とした。
長さlは共振波長λgの1/2とした。
非晶質シリコン微粒子凝集体から成る膜を得る為に次の
操作を行った。
操作を行った。
まず、ガラス7を基体としてホルダー6に固定した後、
排気系11で下流室4内を2X10−’Torr迄減圧
した。次にH,ガスで3.5%に希釈したS iH4ガ
スをガス導入管10から空胴共振器5内へ流量1100
8CCで流した。すると、空胴共振器5内の圧力は4.
2xlO−’Torrとなり、ノズル1から下流室4へ
吹き出した。このとき下流室4の圧力は4.6X10−
’Torr程度になった。次に、マイクロ波発振器(不
図示、2.45GHz、IKW)からマイクロ波導波管
9を介して石英窓8から空胴共振器5へ送り込み空胴共
振器内で放電プラズマを発生させた。
排気系11で下流室4内を2X10−’Torr迄減圧
した。次にH,ガスで3.5%に希釈したS iH4ガ
スをガス導入管10から空胴共振器5内へ流量1100
8CCで流した。すると、空胴共振器5内の圧力は4.
2xlO−’Torrとなり、ノズル1から下流室4へ
吹き出した。このとき下流室4の圧力は4.6X10−
’Torr程度になった。次に、マイクロ波発振器(不
図示、2.45GHz、IKW)からマイクロ波導波管
9を介して石英窓8から空胴共振器5へ送り込み空胴共
振器内で放電プラズマを発生させた。
マイクロ波のパワーは150Wであった。するとプラズ
マ内で微粒子が形成されて、残りのガス成分と共にノズ
ル1から吹き出し、微粒子ビームとなって下流室を進み
基体7に衝突して固定された。基体上に付着した超微粒
子凝集体の堆積した層の厚みは3分間の放電で7.2μ
mであった。
マ内で微粒子が形成されて、残りのガス成分と共にノズ
ル1から吹き出し、微粒子ビームとなって下流室を進み
基体7に衝突して固定された。基体上に付着した超微粒
子凝集体の堆積した層の厚みは3分間の放電で7.2μ
mであった。
基体の加熱は行わなかった。ホルダー6を移動しながら
微粒子凝集体を堆積後、ガスを止め、下流室4内を充分
に排気してから、真空をN、でリークし、成膜された基
体を取り出したところ微粒子凝集体膜は外観上黄褐色の
光沢のある膜状物として基体上に均一に堆積出来た(第
1図(a4=))。
微粒子凝集体を堆積後、ガスを止め、下流室4内を充分
に排気してから、真空をN、でリークし、成膜された基
体を取り出したところ微粒子凝集体膜は外観上黄褐色の
光沢のある膜状物として基体上に均一に堆積出来た(第
1図(a4=))。
ひき続きSEM観察をしたところ、この膜状物は直径1
00〜200人程度の比較的粒径の揃った超微粒子が堆
積した構造であり、膜状物表面及び断面のいずれにも微
粒子の存在が確認出来た。
00〜200人程度の比較的粒径の揃った超微粒子が堆
積した構造であり、膜状物表面及び断面のいずれにも微
粒子の存在が確認出来た。
SEM観察によれば超微粒子凝集体はかなり密に堆積し
ている様に見えた。
ている様に見えた。
次に、X線回折のパターンを検討したところ、Siは微
結晶は含まれていると思われる程度の小さなパターンし
か示さなかった。
結晶は含まれていると思われる程度の小さなパターンし
か示さなかった。
また、この膜のフォトルミネッセンスを蛍光分光光度計
で測定したところ、第2図(a)に示す様な発光スペク
トが得られた。
で測定したところ、第2図(a)に示す様な発光スペク
トが得られた。
この記録媒体の表面に空気中でHe−Neレーザを照射
したところ、照射部分が第1図(b)に示す様な直径5
〜100μmの陥没部分43を形成出来た。陥没の深さ
は約1.5μmで陥没部分の微粒子構造はSEMでは確
認出来なかった。この記録情報を読み出す為にAr+レ
ーザ(λ=488nm)を基板の裏側から照射したとこ
ろ、上記陥没部分以外は650nm付近にピークをもつ
発光を示した第2図(a)が、陥没部は600nm付近
にピークをもつ発光(第21図(b))を示した。
したところ、照射部分が第1図(b)に示す様な直径5
〜100μmの陥没部分43を形成出来た。陥没の深さ
は約1.5μmで陥没部分の微粒子構造はSEMでは確
認出来なかった。この記録情報を読み出す為にAr+レ
ーザ(λ=488nm)を基板の裏側から照射したとこ
ろ、上記陥没部分以外は650nm付近にピークをもつ
発光を示した第2図(a)が、陥没部は600nm付近
にピークをもつ発光(第21図(b))を示した。
この発光波長の差を干渉フィルタ(600±25nm)
を用いて光読取りヘッドにより検出したところ、陥没部
に相当する650nm付近の光だけを検出する事が出来
た。
を用いて光読取りヘッドにより検出したところ、陥没部
に相当する650nm付近の光だけを検出する事が出来
た。
干渉フィルタを用いれば非記録部の発光はノイズとはな
らず、極めて良好な情報が得られる事は判明した。
らず、極めて良好な情報が得られる事は判明した。
尚、通常の平板型RFグロー放電法により同一条件で作
成した非晶質水素化シリコン均一膜にHe−Neレーザ
光を照射したが、陥没部分を形成する事が出来ず、発光
現象を観察する事も出来なかった。
成した非晶質水素化シリコン均一膜にHe−Neレーザ
光を照射したが、陥没部分を形成する事が出来ず、発光
現象を観察する事も出来なかった。
実施例2
第3図の装置を用い導入するガスを5iH43%、 G
e Ha 0. 4%にした以外は実施例1とほぼ同
様の方法でポリエチレンテレフタレート(PEl)フィ
ルム基体上に5iGeHを含有する記録層をもつ記録媒
体を作成した。基体温度は50℃に設定した。
e Ha 0. 4%にした以外は実施例1とほぼ同
様の方法でポリエチレンテレフタレート(PEl)フィ
ルム基体上に5iGeHを含有する記録層をもつ記録媒
体を作成した。基体温度は50℃に設定した。
記録層膜厚は6μmで、SEM観察によれば300人程
度の大きさの微粒子から成り、そのX線回折パターンは
非晶質相を主体とするものである。
度の大きさの微粒子から成り、そのX線回折パターンは
非晶質相を主体とするものである。
この記録媒体の表面に空気中で、半導体レーザを照射し
たところ直径7μm、深さ1μmの陥没部を形成出来た
。
たところ直径7μm、深さ1μmの陥没部を形成出来た
。
Ar+レーザ照射により陥没部以外は赤味のある白色で
発光し、550nmより短波長の光をカットするフィル
ターを用いて情報を読取る事が出来た。
発光し、550nmより短波長の光をカットするフィル
ターを用いて情報を読取る事が出来た。
実施例3
第3図の装置を用いてポリカーボネート基体上に記録層
の成膜を行った。基体温度は基体ホルダー加熱により、
100℃に設定した。
の成膜を行った。基体温度は基体ホルダー加熱により、
100℃に設定した。
ガス導入口からSiH,2%、CH,=CH。
0.5%を含むH,ガスを150secM流し、マイク
波投入パワーは150Wとした。
波投入パワーは150Wとした。
このとき上流室5の圧力はlXl0−’Torrであっ
た。得られた膜はSEMによれば250人程度の微粒子
堆積膜であり、膜中には50at%程度の水素を含み、
X線回折によれば主に非晶質相から成っていた。FT−
IRを測定したところ酸化の吸収ピークが存在する事が
判った。
た。得られた膜はSEMによれば250人程度の微粒子
堆積膜であり、膜中には50at%程度の水素を含み、
X線回折によれば主に非晶質相から成っていた。FT−
IRを測定したところ酸化の吸収ピークが存在する事が
判った。
この膜は低圧水銀等を光源とし、350nmよりも短波
長をカットして照射すると白っぽい発光を呈したので、
記録層にHe−Neレーザを照射したところ、照射部分
からの発光はやや青白く見えた。
長をカットして照射すると白っぽい発光を呈したので、
記録層にHe−Neレーザを照射したところ、照射部分
からの発光はやや青白く見えた。
そこで、350〜400nmの紫外線照射下で、実施例
1と同様の読取りヘッドを用い、550 nm以下の短
波長をカットして読取りを行い、情報読取りを行う事が
出来た。
1と同様の読取りヘッドを用い、550 nm以下の短
波長をカットして読取りを行い、情報読取りを行う事が
出来た。
実施例4
第3図の装置を用い、実施例1とほぼ同様の条件で記録
層の成膜を行った。ガス導入口からSiH,2,2%、
StH,0,8%を含むガス11005ecを流した。
層の成膜を行った。ガス導入口からSiH,2,2%、
StH,0,8%を含むガス11005ecを流した。
マイクロ波の投入パワーは180Wで、空胴共振器の圧
力は4xlO−’Torr、下流室の圧力は4.5x
10−’To r rであった。
力は4xlO−’Torr、下流室の圧力は4.5x
10−’To r rであった。
得られた膜はSEMによれば280人程度の微粒子膜で
あり、X線回折によれば主に非晶質相から成っていた。
あり、X線回折によれば主に非晶質相から成っていた。
FT−I Rを測定したところ、酸化の吸収ピークが存
在する事が判った。この膜は低圧水銀等を光源とし、3
50nmよりも短波長をカットして照射すると白っぽい
発光を呈したので、記録層にHe−Neレーザを照射し
たところ照射部からの発光はやや青白(見えた。
在する事が判った。この膜は低圧水銀等を光源とし、3
50nmよりも短波長をカットして照射すると白っぽい
発光を呈したので、記録層にHe−Neレーザを照射し
たところ照射部からの発光はやや青白(見えた。
そこで、300〜350nmの紫外線照射下で、実施例
1と同様の読取りヘッドを用い、550nm以下の短波
長をカットして読取りを行ったところ情報読取りが出来
た。
1と同様の読取りヘッドを用い、550nm以下の短波
長をカットして読取りを行ったところ情報読取りが出来
た。
以上説明した様に、本発明によれば発光を利用した新規
な記録方式が可能となり、しかも記録感度の向上、記録
読出し時のS/N比の改善の効果があった。
な記録方式が可能となり、しかも記録感度の向上、記録
読出し時のS/N比の改善の効果があった。
第1図(a)、(b)は本発明に用いる記録媒体とそれ
を用いた記録方法を示す図、第2図(a)、(b)は、
本発明に用いる記録媒体の記録前後の発光スペクトルを
示す図、第3図は、本発明に用いる記録媒体を製造する
ための装置図である。 41・・・発光部材 42・・・基体 43・・・記録部
を用いた記録方法を示す図、第2図(a)、(b)は、
本発明に用いる記録媒体の記録前後の発光スペクトルを
示す図、第3図は、本発明に用いる記録媒体を製造する
ための装置図である。 41・・・発光部材 42・・・基体 43・・・記録部
Claims (4)
- (1)発光部材を含む記録媒体にエネルギーを付与し、
エネルギー付与部と非付与部とに発光波長の差を生ぜし
めて記録を行うことを特徴とする記録方法。 - (2)前記発光部材がIV族元素又はその化合物を主成分
とする微粒子を含む特許請求の範囲第1項記載の記録方
法。 - (3)前記発光部材が微粒子膜を含む特許請求の範囲第
1項記載の記録方法。 - (4)前記微粒子が非晶質材料からなる特許請求の範囲
第2項記載の記録方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62258793A JPH01101191A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62258793A JPH01101191A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 記録方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01101191A true JPH01101191A (ja) | 1989-04-19 |
Family
ID=17325148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62258793A Pending JPH01101191A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 記録方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01101191A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8178907B2 (en) | 1999-07-02 | 2012-05-15 | President And Fellows Of Harvard College | Nanoscopic wire-based electrical crossbar memory-devices and arrays |
-
1987
- 1987-10-14 JP JP62258793A patent/JPH01101191A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8178907B2 (en) | 1999-07-02 | 2012-05-15 | President And Fellows Of Harvard College | Nanoscopic wire-based electrical crossbar memory-devices and arrays |
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