JPH01102723A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は薄膜型磁気記録媒体に関する。史に詳細には、
本発明は耐食性が向上された保護膜を有する薄膜型磁気
記録媒体に関する。

［従来の技術］ 従来から一般に庁及している磁気記録媒体は、針状の磁
性粉と高分子結合剤とを主体とする磁性塗料を非磁性基
体上に塗布して磁性層を形成した塗布型の磁気記録媒体
である。

現在、磁気記録再生装置はますます高密度化の傾向にあ
り、短波長記録特性に優れた磁気記録媒体が要望されて
いる。

しかし、塗布型磁気記録媒体における短波長記録特性の
改善には限界がある。これに対して、Ｃｏ＋　ＣｏＮｉ
、ＣｏＮ１Ｐ、ＣｏＣｒなどのＣｏを主成分とする強磁
性体を真空蒸着、スパッタリング、またはイオンブレー
ティング等のいわゆる物理蒸着法によって非磁性基体上
に形成する金属薄膜型の磁気記録媒体は、その磁性層中
に非磁性の結合剤が混入されていないので著しく高い［
？磁束密度を得ることができ、かつ、磁性層を極めて薄
く形成することができるために、高出力で短波長応答性
に優れているという利点を有する。この特徴により、最
近は薄膜型磁気記録媒体が磁気媒体の主流となりつつあ
る。

薄膜型磁気記録媒体は磁気記録密度が大きく、優れた短
波長記録特性を有する反面、ｃｏが比較的腐食され易＜
、シかも、磁性層が露出しているために耐食性が悪く、
磁気的に劣化しやすい欠点を有しており、これが実用上
人きな問題点となっている。

この問題点を解決するために例えば、磁性層−ＬにＴｉ
、Ｃｒ等の保護層を設けることが提案されているが、耐
食性を十分に改善するに至っていない。特に、８０２な
どの腐食性ガスに対する耐食性に問題があった。

［発明が解決しようとする問題点コ この発明は、上記従来技術が持っていた、腐食性ガスに
弱いという欠点を解決し、以て耐食性に優れた磁気記録
媒体を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ 本発明者らが長年にわたり広範な実験と試作を続けた結
果、Ｃｏを主成分とする強磁性金属薄膜Ｅに、Ｎｉを特
徴とする特定の原子比の無機保護膜を設ける際、該強磁
性金属薄膜層と無機保護膜との間に絶縁膜を介在させる
ことにより磁気記録媒体の耐食性が著しく向上されるこ
とが発見された。本発明は斯かる知見に基づき完成され
た。

本発明の磁気記録媒体の断面構造を第１図に示す。図中
、２０は非磁性基体であり、３０はＣｏ系強磁性金属薄
膜（磁性膜）であり、４０は絶縁膜、５０はＮｉ系無機
保護膜である。

Ｃｏを主成分とする強磁性金属薄膜上に、Ｎｉを主成分
とする無機保護膜を設けることによって、耐食性はある
程度向上するが、これだけでは、保護膜の欠陥からＣｏ
が腐食され、不十分である。

ところが、強磁性金属薄膜と無機保護膜との間に、絶縁
薄膜を設けることで優れた耐食性を得ることができる。

正確なメカニズムは未だ解明されていないので推測の域
を出ないが、絶縁膜の存在により、Ｎｉ保護膜とＧｏ強
磁性薄膜との間の電池反応が抑制され、耐食性が改善さ
れるものと考えられる。

絶縁膜は例えば、ＳｉＯ２などから構成することができ
る。その他の材料、例えば、ポリエチレン、アルミナ等
も本発明の絶縁膜の形成に使用できる。

絶縁膜の厚さ自体は本発明の必須要件ではない。

一般的な指標として、絶縁膜は３０人〜３００人程度の
範囲内の厚さを有することが好ましい。

３０人人情溝厚さでは均一な膜厚分布を有する絶縁膜を
形成することが困難である。一方、３００人超０厚さに
なるとスペーシングロス等の問題が発生し好ましくない
。

また、Ｎｉを主成分とする保護膜の酸素濃度を１５〜５
０ａｔ％とすることによって、優れた耐摩耗性を得るこ
とができる。１５ａｔ％未満ではやわらか＜、５０ａｔ
％超ではもろくなるため、耐摩耗性が劣化する。

更に、保護膜中に原子比Ｆｅ／Ｎｉ＋Ｆｅが０゜０５〜
０．４となるようにＦｅを含ませると一層優れた耐食性
が得られる。Ｆｅの原子比が０．４超になると上記酸素
濃度範囲内でも、耐摩耗性が低下する。

本発明の磁気記録媒体における強磁性薄膜はＣｏまたは
Ｃｏ合金からなり、Ｃｏ合金の場合、Ｃｏを５０％超含
有する。磁気記録媒体の磁性膜に適したＣｏ合金は当業
者に周知である。

強磁性金属薄膜、絶縁膜およびＮｉ保護膜はいスレモペ
ーパーデポジション法により成膜することができる。′
ベーパニブポジション法”とは気体または真空空間中で
、析出させようとする物質あるいは化合物等を蒸気また
はイオン化蒸気として気体上に析出させる方法を意味す
る。この方法には、真空蒸着法、イオン・ブレーティン
グ法。

高周波イオン・ブレーティング法、イオン・クラスター
ビーム法、イオンビームデポジション法。

スパッタリング法、ＣＶＤ法などがある。各膜は斜め蒸
着または垂直蒸着のいずれの態様でも形成できる。

本発明の磁気記録媒体に使用される非磁性基板としては
、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート等の高分子
フィルム、ガラス類、セラミック。

アルミ、陽極酸化アルミ、黄銅などの金属板、Ｓｉ？１
１結晶板１表面を熱酸化処理したＳｉ単結晶板などがあ
る。この非磁性基体は必要に応じて、平面研磨やテクス
チャリング加工を行うためのニッケル・リン系合金層や
アルマイト処理層等の下地研磨層を設けることもできる
。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープや磁気ディスク、合成樹脂フィルム、アル
ミニウム板およびガラス板等からなる円盤やドラムを基
体とする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと
摺接する構造の種々の形態を包含する。

［実施例］ 以ｆ１実施例により本発明を更に詳細に説明する。

実部［ 第２図に示されるような装置を用いて磁気記録媒体を作
製した。

ポリエチレンテレフタレートフィルム（１０μｍ厚）５
上に、まず真空槽ｌ内でＣｏ　Ｎ　ｉ　（８０−２０）
蒸着磁性膜（膜厚１５００人）を最低入射角５０°、酸
素導入量２００　ｍｌ／ｍｉｎで作成した後、真空槽２
内で酸化ケイ素絶縁膜（膜厚１００人）をスパッタリン
グにより作成し、さらに、真空槽３内でＮ　ｉ　Ｆ　ｅ
　（８０−２０）蒸着保護膜（膜厚１００人）を最低入
射角５０°、酸素導入量１００　ｍｌ／ｍｉｎで作成し
、磁気記録媒体を得た。

尖胤匠１ ＮｉＦｅ蒸着時の酸素導入量を２００　ｍｌ／ｍｉｎと
した以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製し
た。

実講ｌ舛Ｊ工 ＮｉＦｅ蒸着時の酸素導入量を５０　ｍｌ／ｎ＋ｉｎと
した以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製し
た。

実重量」１ ＮｉＦｅ蒸着時の酸素導入量を４００　ａ＋Ｉ／ｌ１ｉ
ｎとした以外ば実施例１と同様にして磁気記録媒体を作
製した。

実五〇舛ｊ− ＮｉＦｅ蒸着時の酸素導入量を省いた以外は実施例１と
同様にして磁気記録媒体を作製した。

尖五髭１ Ｎ　ｉ　Ｆ　ｅ　（８０−２０）にかえて、Ｎ　ｉ　Ｆ
　ｅ　（９５−５）とした以外は、実施例１と同様にし
て磁気記録媒体を作製した。

実】１舛１− Ｎ　ｉ　Ｆ　ｅ　（８Ｇ−２０）にかえて、Ｎ　ｉ　Ｆ
　ｅ　（ｌｌｉｏ−４０）とした以外は、実施例１と同
様にして磁気記録媒体を作製した。

実１１舛Ｊよ Ｎ　ｉ　Ｆ　ｅ　（８Ｇ−２０）にかえて、Ｎ　ｉ　（
１００）とした以外は、実施例１と同様にして磁気記録
媒体を作製した。

実ｌＩ（罎 Ｎ　ｉ　Ｆ　ｅ　（８０−２０）にかえて、Ｎ　ｉ　Ｆ
　ｅ　（４０−ＧＯ）とした以外は、実施例１と同様に
して磁気記録媒体を作製した。

北上ｎ 酸化ケイ素絶縁膜の作成を省いた以外は実施例１と同様
にして磁気記録媒体を作製した。

比ＭＡ舛２− Ｎ　ｉ　Ｆ　ｅ　（８０−２０）保護膜の作成を省いた
以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。

止校阻１ 酸化ケイ素絶縁膜とＮｉＦｅ保護膜の作成を省いた以外
は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。

以」二のようにして作製された各磁気テープについて、
オージェ電子分光法によりＮｉＦｅ保護膜中の酸素とＦ
ｅの濃度を測定した。また、各磁気テープの耐食性を評
価するため、テープを５０２０．５ｐｐｍ、ＮＯ２Ｏ，
５ｐｐｍ、８２００．２５ｐｐｍ。

３５°Ｃ９７５％ＲＨ雰囲気に４０時間曝露して、５．
１０．２０および４０時間後に表面を光学顕微鏡で観察
し、孔食の有無を観察した。更に、各磁気テープのスチ
ル時間（ＶＨ８型ＶＴＲを用いて、＋１７生出力が初期
の１／２に低下するまでの時間）を測定した。測定結果
を下記の表１に要約して示す。

表１ 前記の結果から明らかなように、ｃｏ系系外性膜Ｎｉ系
保護膜との間に絶縁膜を介在させることによって、磁気
記録媒体の耐食性を著しく改善することができ、更に、
Ｎｉ系保護膜における酸素とＦｅを各々、０．１５≦Ｏ
／Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｏ≦０．５０゜０．０５≦Ｆｅ／Ｎｉ＋
Ｆｅ≦０．４０とすることによって−・層優れた耐食性
と耐摩耗性か得られる。

［発明の効果コ 以り説明したように、本発明により、強磁性金属薄膜と
無機保護膜との間に絶縁保護膜を介在させることにより
、また、無機保護膜として、特定の酸素およびＦｅ原子
比のＮｉ系保護膜を使用することにより耐食性および耐
摩耗性にすぐれた磁気記録媒体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の構造を示す概認断面図
であり、　第２図は本発明の磁気記録媒体の作製に使用
される装置の一例を示す概要図である。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基体上に強磁性薄膜と無機保護膜とを有す
   る磁気記録媒体において、前記強磁性薄膜と無機保護膜
   との間に絶縁保護膜が介在されていることを特徴とする
   磁気記録媒体。
2. （２）無機保護膜が酸素を除く全元素の中で、Ｎｉを主
   成分とし、かつ、酸素を１５〜５０ａｔ％の範囲で含む
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録
   媒体。
3. （３）無機保護膜が、原子比Ｆｅ／Ｎｉ＋Ｆｅが０．０
   ５〜０．４の範囲内となるようにＦｅを含むことを特徴
   とする特許請求の範囲第１項または第２項記載の磁気記
   録媒体。
4. （４）絶縁保護膜はＳｉＯ＿２からなることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
5. （５）強磁性薄膜が、Ｃｏを主成分とすることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。