JPH01104623A - 少なくとも一つの単分子層より成るフイルム - Google Patents
少なくとも一つの単分子層より成るフイルムInfo
- Publication number
- JPH01104623A JPH01104623A JP63231512A JP23151288A JPH01104623A JP H01104623 A JPH01104623 A JP H01104623A JP 63231512 A JP63231512 A JP 63231512A JP 23151288 A JP23151288 A JP 23151288A JP H01104623 A JPH01104623 A JP H01104623A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- organic polymer
- temperature
- long
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
- B05D1/20—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping substances to be applied floating on a fluid
- B05D1/202—Langmuir Blodgett films (LB films)
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
- C08L33/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/261—In terms of molecular thickness or light wave length
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Lubricants (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、長鎖の弗素含有側鎖を持つ有機ポリマーより
成る少なくとも一つの単分子層を層状固体支持体の上に
あるフィルム並びにこれら化合物より成る層要素に関す
る。
成る少なくとも一つの単分子層を層状固体支持体の上に
あるフィルム並びにこれら化合物より成る層要素に関す
る。
長鎖の側鎖基を持つ有機ポリマーの配列した層を製造す
る為には、固体の支持体の上に物理的に吸着させる他に
ラングミュア−プロトゲット（Ｌａｎｇｍｕｉｒ−Ｂｌ
ｏｄｇｅｔｔ） （ＬＢ）法が利用される。
る為には、固体の支持体の上に物理的に吸着させる他に
ラングミュア−プロトゲット（Ｌａｎｇｍｕｉｒ−Ｂｌ
ｏｄｇｅｔｔ） （ＬＢ）法が利用される。
この方法の場合には、分子を水の表面に拡げ、分子光た
りの面積を減少させることによって平行に配列させそし
て浸漬−および引き出しによって一定の表面圧のもとに
基体に適用する。この場合浸漬操作光たり一つの単分子
層が核層の配列を保持したま一移される。
りの面積を減少させることによって平行に配列させそし
て浸漬−および引き出しによって一定の表面圧のもとに
基体に適用する。この場合浸漬操作光たり一つの単分子
層が核層の配列を保持したま一移される。
ＬＢ−層を製造する為には、両親媒性分子□即ち、親水
性末端（“ヘッド”）および疎水性末端（“テール”）
を持つ分子□を用いる。これには、疎水性単位としてペ
ルフルオロ化アルキル鎖が役立つモノマー両親媒性分子
がある。ＬＢ−フィルムも更に高い安定性を達成する為
に、既にポリマーのＬＢ−フィルムも製造されている。
性末端（“ヘッド”）および疎水性末端（“テール”）
を持つ分子□を用いる。これには、疎水性単位としてペ
ルフルオロ化アルキル鎖が役立つモノマー両親媒性分子
がある。ＬＢ−フィルムも更に高い安定性を達成する為
に、既にポリマーのＬＢ−フィルムも製造されている。
この場合には、適用した後に重合し得る両親媒性モノマ
ーも長いアルキル側鎖を持つ有機ポリマーも層を製造す
る為に使用される。これら両方の種類のポリマーのＬＢ
−フィルムの場合には、層における達成可能な配列はモ
ノマーのフィルムの場合より僅かである。何故ならば層
における重合の際に確かに殆ど大抵の場合両親媒性物質
の収縮が生じ（これは欠けた部分を生じさせる）そして
ポリマーが高い粘度の為に単一層がモノマーの両親媒性
物質のようにしばしば支持体の上に良好に移らないから
である。
ーも長いアルキル側鎖を持つ有機ポリマーも層を製造す
る為に使用される。これら両方の種類のポリマーのＬＢ
−フィルムの場合には、層における達成可能な配列はモ
ノマーのフィルムの場合より僅かである。何故ならば層
における重合の際に確かに殆ど大抵の場合両親媒性物質
の収縮が生じ（これは欠けた部分を生じさせる）そして
ポリマーが高い粘度の為に単一層がモノマーの両親媒性
物質のようにしばしば支持体の上に良好に移らないから
である。
本発明者は、フルオロ化されたアルキル鎖を側鎖基とし
て有する有機ポリマーより成るフィルムが高い緊密な配
列を有することを見出した。
て有する有機ポリマーより成るフィルムが高い緊密な配
列を有することを見出した。
このフィルムは例えばラングミュア−プロトゲット法に
よって製造できる。この製造方法によれば、層中におけ
る分子の配列は後からの加熱によってもフィルムの相移
動を経てそして再冷却によって改善される。
よって製造できる。この製造方法によれば、層中におけ
る分子の配列は後からの加熱によってもフィルムの相移
動を経てそして再冷却によって改善される。
従って本発明は特許請求の範囲に記載のフィルムに関す
る。
る。
本発明のフィルムは、長鎖のフルオロ化アルキル側鎖基
を持つ有機ポリマーを含有するかまたは該ポリマーより
成る少なくとも一つの単分子層で構成されている。アル
キル側鎖基としては式（Ｉ） ＣＦｉ−（ＣＦｚ）−−（Ｃｈ）−−（１）［式中、ｎ
は０〜２３、殊に５〜１１の数でありそして鵬は０〜２
４、殊にＯ〜８の数を意味する。］で表されるものが適
している。（ｎ＋ｍ）が少なくとも６である場合が特に
有利である。
を持つ有機ポリマーを含有するかまたは該ポリマーより
成る少なくとも一つの単分子層で構成されている。アル
キル側鎖基としては式（Ｉ） ＣＦｉ−（ＣＦｚ）−−（Ｃｈ）−−（１）［式中、ｎ
は０〜２３、殊に５〜１１の数でありそして鵬は０〜２
４、殊にＯ〜８の数を意味する。］で表されるものが適
している。（ｎ＋ｍ）が少なくとも６である場合が特に
有利である。
ポリマーは両親媒性でありそして極性基（“親水性テー
ル”）として好ましくは以下の基を含有 している： この種のポリマーは式（ｎ） Ｃｈ−（Ｃｈ）、１−（Ｃｈ）−−Ｘ−Ｒ’ （Ｉ
ｆ）［式中、Ｉおよびｎは上記の意味を有し、Ｘは一〇
−１−ＮＨ−１−０−Ｃ−ＮＨ−１−０−Ｃ−Ｎ１１−
１Ｏ００ −Ｃ−ＣＨ−ＣＩ（−ＣＨ＝ＣＨｚなる残基であり、但
し０は上記の意味を有しそしてＲ２は−１１、−ＣＨａ
、−ＣＮ、−ＣＺまたは−Ｆである。１ で表されるモノマーをラジカル重合することによって容
易に製造できる。
ル”）として好ましくは以下の基を含有 している： この種のポリマーは式（ｎ） Ｃｈ−（Ｃｈ）、１−（Ｃｈ）−−Ｘ−Ｒ’ （Ｉ
ｆ）［式中、Ｉおよびｎは上記の意味を有し、Ｘは一〇
−１−ＮＨ−１−０−Ｃ−ＮＨ−１−０−Ｃ−Ｎ１１−
１Ｏ００ −Ｃ−ＣＨ−ＣＩ（−ＣＨ＝ＣＨｚなる残基であり、但
し０は上記の意味を有しそしてＲ２は−１１、−ＣＨａ
、−ＣＮ、−ＣＺまたは−Ｆである。１ で表されるモノマーをラジカル重合することによって容
易に製造できる。
ホモ−もコポリマーも使用することができ、その際コポ
リマーが特に有利でありそして共重合性モノマーは式■
または■のモノマーである：ＣＩｌ□ ＝ Ｃ−Ｒ３（
Ｉｌ１） 但し、ｐおよびｑは０〜２４の数でありそしてｒは１〜
１０の数である。１ 式■のモノマー単位としてはアクリル酸、アクリル酸誘
導体、例えばメタクリル酸およびメタクリル酸誘導体を
用いるのが特に有利である。
リマーが特に有利でありそして共重合性モノマーは式■
または■のモノマーである：ＣＩｌ□ ＝ Ｃ−Ｒ３（
Ｉｌ１） 但し、ｐおよびｑは０〜２４の数でありそしてｒは１〜
１０の数である。１ 式■のモノマー単位としてはアクリル酸、アクリル酸誘
導体、例えばメタクリル酸およびメタクリル酸誘導体を
用いるのが特に有利である。
共重合性モノマーは水溶性であるのが有利である。
更に、上述のホモ−およびコポリマーは他の両親媒性物
質との混合状態で用いることもできる。か＼る物質には
例えば長鎖の脂肪酸、長鎖アルコール、長鎖アミン類、
長鎖アミド類または弐■ （Ｃ１（、）Ｑｌ １式中、Ｒ２、ｐおよびｑは上述の意味を有する。１で
表される化合物がある。
質との混合状態で用いることもできる。か＼る物質には
例えば長鎖の脂肪酸、長鎖アルコール、長鎖アミン類、
長鎖アミド類または弐■ （Ｃ１（、）Ｑｌ １式中、Ｒ２、ｐおよびｑは上述の意味を有する。１で
表される化合物がある。
本発明のフィルムを製造する為には、有機ポリマーを高
揮発性溶剤に溶解し、ラングミュア−プロトゲットのフ
ィルム秤（ｆｉｌｍ ｂａｌａｎｃｅ）中の水面にもた
らす（拡げる）、水面の寸法、広がり容積および溶液の
濃度から繰り返し単位当たりの平均面積を算出する。分
子を圧縮する際の相移動は剪断−面積−等温線において
追跡することができる。
揮発性溶剤に溶解し、ラングミュア−プロトゲットのフ
ィルム秤（ｆｉｌｍ ｂａｌａｎｃｅ）中の水面にもた
らす（拡げる）、水面の寸法、広がり容積および溶液の
濃度から繰り返し単位当たりの平均面積を算出する。分
子を圧縮する際の相移動は剪断−面積−等温線において
追跡することができる。
分子はバリヤーにて圧縮され、その際鎖は密度の増加に
つれて界面層に対して実質的に垂直に配向する。圧縮の
間に分子の自己組織化によって高配列単分子フィルムが
生じる。このフィルムの一定の層厚さは分子の鎖の長さ
およびその傾斜角（この角度は分子鎖が水の表面に常態
に対して傾斜している角度である）によって決められる
。か−るフィルムの典型的な厚さは２〜３ｎａ＋である
。
つれて界面層に対して実質的に垂直に配向する。圧縮の
間に分子の自己組織化によって高配列単分子フィルムが
生じる。このフィルムの一定の層厚さは分子の鎖の長さ
およびその傾斜角（この角度は分子鎖が水の表面に常態
に対して傾斜している角度である）によって決められる
。か−るフィルムの典型的な厚さは２〜３ｎａ＋である
。
このフィルムは適当な支持体を浸漬するかまたは引き上
げることによる一定の表面圧で配列を保持しながら水面
から除かれる。府中の配列は、フィルムを加熱すること
によって等方性の相への相転移を経て−即ち、側鎖の溶
融（Ｘ−線反射の消失）□そして再冷却によって改善す
ることができる。同様にフィルムを液晶系または等方性
相へ転移する直ぐ下（例えば０．５〜５℃）で若干の時
間（例えば数時間）保持してもよい。相転移および側鎖
の配列の高度さはＸ−線反射によって知ることができる
。
げることによる一定の表面圧で配列を保持しながら水面
から除かれる。府中の配列は、フィルムを加熱すること
によって等方性の相への相転移を経て−即ち、側鎖の溶
融（Ｘ−線反射の消失）□そして再冷却によって改善す
ることができる。同様にフィルムを液晶系または等方性
相へ転移する直ぐ下（例えば０．５〜５℃）で若干の時
間（例えば数時間）保持してもよい。相転移および側鎖
の配列の高度さはＸ−線反射によって知ることができる
。
支持体としては、種々の材料より成る任意の固体で好ま
しくは寸法安定性の基体が有利である。層支持体として
役立つ基体は例えば透明なまたは光透過性、導電性また
は絶縁性であってもよい。基体は疎水性または親水性で
もよい。
しくは寸法安定性の基体が有利である。層支持体として
役立つ基体は例えば透明なまたは光透過性、導電性また
は絶縁性であってもよい。基体は疎水性または親水性で
もよい。
ＬＢ−層が乗せられる基体の表面は疎水性処理されてい
てもよい。基体の被覆するべき面は出来るだけきれいで
あるべきであり、そうすれば薄い配列した層を形成する
ことを妨害されない。
てもよい。基体の被覆するべき面は出来るだけきれいで
あるべきであり、そうすれば薄い配列した層を形成する
ことを妨害されない。
特に界面活性剤が被覆される基体面に存在していると上
記層の製造に害を及ぼし得る。層支持体として役立つ基
体が被覆されるべき面に、ＬＢ−フィルムを乗せる前に
、例えばフィルムの基体への付着性を向上させる為に、
最初に中間層を設けておいてもよい。
記層の製造に害を及ぼし得る。層支持体として役立つ基
体が被覆されるべき面に、ＬＢ−フィルムを乗せる前に
、例えばフィルムの基体への付着性を向上させる為に、
最初に中間層を設けておいてもよい。
基体の為の材料としては、例えば金属、例えば金、プラ
チナ、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、クロム、
ニオブ、タンタル、チタン、鋼鉄およびこれらの類似物
を用いることができる。基体の為の他の適当な材料には
合成樹脂、例えばポリエステル、例えばポリエチレンテ
レフタレートまたはポリブチレンテレフタレート、ポリ
塩化ビニル、ポリビニリデンクロライド、ポリテトラフ
ルオロエチレン、ポリエチレンまたはポリプロピレンが
ある。
チナ、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、クロム、
ニオブ、タンタル、チタン、鋼鉄およびこれらの類似物
を用いることができる。基体の為の他の適当な材料には
合成樹脂、例えばポリエステル、例えばポリエチレンテ
レフタレートまたはポリブチレンテレフタレート、ポリ
塩化ビニル、ポリビニリデンクロライド、ポリテトラフ
ルオロエチレン、ポリエチレンまたはポリプロピレンが
ある。
珪素またはゲルマニウムの如き半導体、ガラス、二酸化
珪素、セラミック材料またはセルロース生成物も基体に
適している。ガラスおよび他の親水性基体の表面は、必
要な場合には、公知の方法で、例えばアルキルシラン類
またはヘキサメチルジシラザンと反応させて疎水性化し
てもよい。基体材料の選択は先ず第一に、本発明のフィ
ルムから製造される層状要素の用途目的に左右される。
珪素、セラミック材料またはセルロース生成物も基体に
適している。ガラスおよび他の親水性基体の表面は、必
要な場合には、公知の方法で、例えばアルキルシラン類
またはヘキサメチルジシラザンと反応させて疎水性化し
てもよい。基体材料の選択は先ず第一に、本発明のフィ
ルムから製造される層状要素の用途目的に左右される。
光学的要素の為には一般に透明な光透過性基体が層支持
体として使用される。
体として使用される。
本発明の層状要素を例えば電気工業または電気化学的プ
ロセスで使用する場合には、基体として特に導電性材料
、例えば金属または金属表面層、例えば合成樹脂シート
状物上のそれが役立つ。
ロセスで使用する場合には、基体として特に導電性材料
、例えば金属または金属表面層、例えば合成樹脂シート
状物上のそれが役立つ。
本発明のフィルムの為の支持体として役立つ基体は、用
途目的次第で任意の形を有することができる。例えばフ
ィルム状、シート状、板状、ベルト状または円筒状であ
ってもよいしまたは他の任意の形状を選択することがで
きる。一般に、層状支持体の場合には平たく平面的な基
体、例えばフィルム、シート、板、ベルトおよびこれら
の類似物が適している。基体の被覆される面は、ＬＢ−
フィルムを製造するのに一般的である様に、滑らかであ
るのが好ましい。平たく平面的な基体の場合には、本発
明のフィルムは該基体の片面または両面に乗せることが
でる。
途目的次第で任意の形を有することができる。例えばフ
ィルム状、シート状、板状、ベルト状または円筒状であ
ってもよいしまたは他の任意の形状を選択することがで
きる。一般に、層状支持体の場合には平たく平面的な基
体、例えばフィルム、シート、板、ベルトおよびこれら
の類似物が適している。基体の被覆される面は、ＬＢ−
フィルムを製造するのに一般的である様に、滑らかであ
るのが好ましい。平たく平面的な基体の場合には、本発
明のフィルムは該基体の片面または両面に乗せることが
でる。
本発明のフィルムは、僅かな欠損部しか有していない安
定で且つ同時に高配列度の多層構造に特徴がある。
定で且つ同時に高配列度の多層構造に特徴がある。
基体の上のか−るフィルムは例えば光学的導波管におい
てまたは光学的目的の為のフィルターの製造に適してい
る。臨界表面張力が僅かである為にこのフィルムは、材
料の摩擦特性を向上させるのにも、保護層を製造するの
にも並びに別の関係のある用途にも通している。
てまたは光学的目的の為のフィルターの製造に適してい
る。臨界表面張力が僅かである為にこのフィルムは、材
料の摩擦特性を向上させるのにも、保護層を製造するの
にも並びに別の関係のある用途にも通している。
本発明を以下の実施例によって更に詳細に説明する。
ＩＩｌ、 Ｉｌｌ、 ２１１．２１１−ペルフルオロド
デカノールおよびスパチュラの先端部量の２．６−ジー
第三ブチル−ｐ−クレゾール（抑制剤）を無水ジクロロ
メタンに溶解した２ｇ（３，５５ｍｍｏ１）の溶液に、
乾燥窒素雰囲気で約０．７ｃｍ’（６９０ｍｇ 、 ４
．４ ｍｍｏ１）の新鮮な蒸留イソシアネートエチルメ
タクリレート−２を添加し、次いで更に塩基性触媒とし
て２滴のトリエチルアミンを添加する。還流下に１０時
間煮沸し、回転蒸発器で溶剤を除きそして ジクロロメ
タンと石油エーテルとの１：２（容Ｍ／容量）混合物に
て二回再結晶処理して２．２ ｇ（理論収量の８５ｚ）
の純粋なＮ−（メチルアクリルオキシエチル）−カルバ
ミン酸−ＩＨ，ＩＨ，２１１，２１１−ペルフルオロド
デシルエステルを得る。純粋なこの化合物の融点は７１
°Ｃである。分析結果は以下の通りである： Ｃ３２，
５χ（計算値３１．７χ） 、１１１．８χ（計算値２
．０χ）、Ｆ ５６．０χ（計算値５５．５χ） 、Ｎ
１゜７χ（計算値１．９χ）。
デカノールおよびスパチュラの先端部量の２．６−ジー
第三ブチル−ｐ−クレゾール（抑制剤）を無水ジクロロ
メタンに溶解した２ｇ（３，５５ｍｍｏ１）の溶液に、
乾燥窒素雰囲気で約０．７ｃｍ’（６９０ｍｇ 、 ４
．４ ｍｍｏ１）の新鮮な蒸留イソシアネートエチルメ
タクリレート−２を添加し、次いで更に塩基性触媒とし
て２滴のトリエチルアミンを添加する。還流下に１０時
間煮沸し、回転蒸発器で溶剤を除きそして ジクロロメ
タンと石油エーテルとの１：２（容Ｍ／容量）混合物に
て二回再結晶処理して２．２ ｇ（理論収量の８５ｚ）
の純粋なＮ−（メチルアクリルオキシエチル）−カルバ
ミン酸−ＩＨ，ＩＨ，２１１，２１１−ペルフルオロド
デシルエステルを得る。純粋なこの化合物の融点は７１
°Ｃである。分析結果は以下の通りである： Ｃ３２，
５χ（計算値３１．７χ） 、１１１．８χ（計算値２
．０χ）、Ｆ ５６．０χ（計算値５５．５χ） 、Ｎ
１゜７χ（計算値１．９χ）。
実１例」
１Ｂ、 ＩＨ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロデシル−メタ
クリレートの単一重合： ７５０ ｍｇのモノマーのＩＩｌ、 Ｉｌｌ、 ２Ｈ，
２Ｈ−ペルフルオロデシル−メタクリレートを７．５
ｃｍ３のトリフルオロトルエンに溶解し、１２．４ ｍ
ｇ（５ｍｏｌχ）の第三ブチルペルオキシプロピルカル
ポナー）（ＴＢＰＩＣ）をこれに添加し、反応溶液を１
０分間アルゴンで洗浄しそして次いで四回減圧下に脱気
する。次に、この混合物を１８時間９０°Ｃに加熱する
。
クリレートの単一重合： ７５０ ｍｇのモノマーのＩＩｌ、 Ｉｌｌ、 ２Ｈ，
２Ｈ−ペルフルオロデシル−メタクリレートを７．５
ｃｍ３のトリフルオロトルエンに溶解し、１２．４ ｍ
ｇ（５ｍｏｌχ）の第三ブチルペルオキシプロピルカル
ポナー）（ＴＢＰＩＣ）をこれに添加し、反応溶液を１
０分間アルゴンで洗浄しそして次いで四回減圧下に脱気
する。次に、この混合物を１８時間９０°Ｃに加熱する
。
生成物を次に２００ ｃｍ３のジクロロメタン中に注ぎ
込むことによって沈澱させ、沈澱剤をデカンテーション
によって除き、ポリマーを遠心分離で取り出しそして減
圧下に乾燥する（軟量：２３４ ｍｇ、理論値の３１ｚ
）。分析結果は以下の通りである： Ｃ３１，５χ（計
算（ｉ ３１．６Ｘ） 、ＩＩ １．７χ（計算値１．
７２）、Ｆ ６１．２２ （計算値６０．７％） 。
込むことによって沈澱させ、沈澱剤をデカンテーション
によって除き、ポリマーを遠心分離で取り出しそして減
圧下に乾燥する（軟量：２３４ ｍｇ、理論値の３１ｚ
）。分析結果は以下の通りである： Ｃ３１，５χ（計
算（ｉ ３１．６Ｘ） 、ＩＩ １．７χ（計算値１．
７２）、Ｆ ６１．２２ （計算値６０．７％） 。
実施拠」
Ｎ−（メタクリルオキシエチル）−力ルバミン酸−ＩＩ
Ｉ、ｉｌｌ、２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロドデシルエステ
ルの単一重合： 実施例１で製造したモノマー３００ ｍｇを７ｃｍ’の
ジオキサンに溶解し、３．９７ ｍｇ（５ａ＋ｏｌχ）
のアゾ−ビス−イソブチロニトリル（＾ＩＢＮ）をこれ
に添加し、反応溶液を１０分間アルゴンで洗浄しそして
次いで四回減圧下に脱気する。次に、この混合物を１８
時間６０°Ｃに加熱する。生成物を次に２゜０ｃ１１１
の石油エーテル中に注ぎ込むことによって沈澱させ、沈
澱剤をデカンテーションによって除き、ポリマーを遠心
分離で取り出しそして減圧下に乾燥する（軟量：１Ｂ４
ｍｇ、理論値の６１χ）。分析結果は以下の通りであ
る： Ｃ３３，２χ（計算値３３．０り 、 Ｈ２，６
χ（計算値２．３２）、Ｆ ４６．１χ（計算値５２．
２χ”） 、Ｎ ２．２％ （計算値２．３％）。
Ｉ、ｉｌｌ、２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロドデシルエステ
ルの単一重合： 実施例１で製造したモノマー３００ ｍｇを７ｃｍ’の
ジオキサンに溶解し、３．９７ ｍｇ（５ａ＋ｏｌχ）
のアゾ−ビス−イソブチロニトリル（＾ＩＢＮ）をこれ
に添加し、反応溶液を１０分間アルゴンで洗浄しそして
次いで四回減圧下に脱気する。次に、この混合物を１８
時間６０°Ｃに加熱する。生成物を次に２゜０ｃ１１１
の石油エーテル中に注ぎ込むことによって沈澱させ、沈
澱剤をデカンテーションによって除き、ポリマーを遠心
分離で取り出しそして減圧下に乾燥する（軟量：１Ｂ４
ｍｇ、理論値の６１χ）。分析結果は以下の通りであ
る： Ｃ３３，２χ（計算値３３．０り 、 Ｈ２，６
χ（計算値２．３２）、Ｆ ４６．１χ（計算値５２．
２χ”） 、Ｎ ２．２％ （計算値２．３％）。
１胤■］
１０、１１Ｉ、 ２１１．２Ｈ−ヘ／ｌ／ ７ ルオロ
デシルーメタクリレートと２−ヒドロキシエチルメタク
リレートとの共重合： １２０ｍｇのモノマーのｉｌｌ、 ＩＩＩ、 ２１１．
２１１−ペルフルオロデシル−メタクリレートと１３０
．９ｍｇの共重合性モノマーの２−ヒドロキシエチルメ
タクリレートを、５ ｃｍ”のジオキサンに溶解し、５
５．５ ｍｇ（２、５ｍｏ ｌ Ｘ）のアゾ−ビス−イ
ソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）をこれに添加し、反応溶
液を１０分間アルゴンで洗浄しそして次いで四回減圧下
に脱気する。次に、この混合物を１０時間６０’Ｃに加
熱する。
デシルーメタクリレートと２−ヒドロキシエチルメタク
リレートとの共重合： １２０ｍｇのモノマーのｉｌｌ、 ＩＩＩ、 ２１１．
２１１−ペルフルオロデシル−メタクリレートと１３０
．９ｍｇの共重合性モノマーの２−ヒドロキシエチルメ
タクリレートを、５ ｃｍ”のジオキサンに溶解し、５
５．５ ｍｇ（２、５ｍｏ ｌ Ｘ）のアゾ−ビス−イ
ソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）をこれに添加し、反応溶
液を１０分間アルゴンで洗浄しそして次いで四回減圧下
に脱気する。次に、この混合物を１０時間６０’Ｃに加
熱する。
生成物を次に２００ ｃｔａ３の石油エーテル中に注ぎ
込むことによって沈澱させ、沈澱剤をデカンテーション
によって除き、ポリマーを遠心分離で取り出しそして滅
゛圧下に乾燥する（牧ｆｉｔ ：２１２ｍｇ、理論値の
８４χ）０分析結果は以下の通りである： Ｃ４０，９
χ（計算値４２．１χ）、夏１４．５χ（計算値４゜４
χ）、Ｆ ３０．１χ（計算値２９．０χ）。計算値は
、原料モノマー混合物の組成に相応するコポリマー組成
に関する。
込むことによって沈澱させ、沈澱剤をデカンテーション
によって除き、ポリマーを遠心分離で取り出しそして滅
゛圧下に乾燥する（牧ｆｉｔ ：２１２ｍｇ、理論値の
８４χ）０分析結果は以下の通りである： Ｃ４０，９
χ（計算値４２．１χ）、夏１４．５χ（計算値４゜４
χ）、Ｆ ３０．１χ（計算値２９．０χ）。計算値は
、原料モノマー混合物の組成に相応するコポリマー組成
に関する。
実施斑」
ポリ−＜ＩＨ，ＩＨ，２１１，２Ｎ−ペルフルオロデシ
ル）−メタクリレートより成るＬＢ−フィルムの製造お
よびＸ−線回折特徴： ポリエステル−シートの長方形の切片（１６０ｘ２６
ｍｍ）を長方形のＰＴＦｆ！−支持体（７６ｘ２６ｘ３
ａｒｍ）の上に張り、シートが張られたその支持体を
、最初にジエチルエーテルでそして次に脱イオン水で洗
浄することによって浄化する。
ル）−メタクリレートより成るＬＢ−フィルムの製造お
よびＸ−線回折特徴： ポリエステル−シートの長方形の切片（１６０ｘ２６
ｍｍ）を長方形のＰＴＦｆ！−支持体（７６ｘ２６ｘ３
ａｒｍ）の上に張り、シートが張られたその支持体を
、最初にジエチルエーテルでそして次に脱イオン水で洗
浄することによって浄化する。
実施例２において製造したポリマーの層をラングミュア
およびプロトゲットの方法によって、ラングミュア−フ
ィルム秤中においてｉｏａｍ’のトリクロロトリフルオ
ロメタンに５ｍｇのポリマーが溶解されている０、２５
ｃｍ’の溶液を水性のサブフェース（ｓｕｂｐｈａｓｅ
）の上に３０°ｃｃｒｉサブフ工−ス温度のもとで拡げ
ることによって、上記シートの上に移す。単一フィルム
で被覆された水面を縮小させることによって剪断（ｓｈ
ｅａｒ）を２０ ｍＮ／ｍに調節しそしてこの値を一定
に保つ。支持体を今度は上方から水面を通ってフィルム
秤中に垂直に浸漬しく浸漬速度： ０．３＋ｗｍ／秒）
そして僅かの時間（１０秒）の後に下限反転点から再び
引き上げる（引上げ速度： ０．２ｍｍ／秒）。浸漬並
びに引上げの際に、単一相が支持体の上に移る。
およびプロトゲットの方法によって、ラングミュア−フ
ィルム秤中においてｉｏａｍ’のトリクロロトリフルオ
ロメタンに５ｍｇのポリマーが溶解されている０、２５
ｃｍ’の溶液を水性のサブフェース（ｓｕｂｐｈａｓｅ
）の上に３０°ｃｃｒｉサブフ工−ス温度のもとで拡げ
ることによって、上記シートの上に移す。単一フィルム
で被覆された水面を縮小させることによって剪断（ｓｈ
ｅａｒ）を２０ ｍＮ／ｍに調節しそしてこの値を一定
に保つ。支持体を今度は上方から水面を通ってフィルム
秤中に垂直に浸漬しく浸漬速度： ０．３＋ｗｍ／秒）
そして僅かの時間（１０秒）の後に下限反転点から再び
引き上げる（引上げ速度： ０．２ｍｍ／秒）。浸漬並
びに引上げの際に、単一相が支持体の上に移る。
浸漬工程を上限反転点でのそれぞれ９分間の待ち時間の
後に数回繰り返すことによって、基体に１７重ね層が移
る。
後に数回繰り返すことによって、基体に１７重ね層が移
る。
この複合層中の層間隔を測定する為に、フィルムを粉末
Ｘ−線回折装置（Ｓｉｅｍｅｎｓ社の０５００）中でニ
ッケル濾過したＣｕ−にα放射線（λ＝０．１５４１ｎ
ｍ）の使用下にＸ−線回折試験する。２θ＝３．０５゜
での回折ピークから、２．９Ｈｍの層間隔が判る。
Ｘ−線回折装置（Ｓｉｅｍｅｎｓ社の０５００）中でニ
ッケル濾過したＣｕ−にα放射線（λ＝０．１５４１ｎ
ｍ）の使用下にＸ−線回折試験する。２θ＝３．０５゜
での回折ピークから、２．９Ｈｍの層間隔が判る。
、複合層の温度安定性を測定する為に、χ−線回折測定
を色々な温度で実施する。２θ・３．０５ ”での回折
ピークは決して強くない。５０および７０°Ｃに温度を
挙げることによって決して変化がないが、室温に再び冷
却した時にフィルム中の配列が向上する。このことは回
折ピークの強度が僅かに増加することによって明らかに
成る。試料を再び１００〜１３０ ’Ｃに高めることに
よって複合層は溶融し、面配列はもや認められない。し
かし室温に冷却した際にポリマーは再び配列する。今度
化じた配列は始めの試料の場合よりも蟲かに大きい。実
質的に強められている最初の配列の層反射に加えて、二
番目の配列の反射も測定できた。しかしながら最初の層
反射は僅かに移動しており、今度は２θ＝３；ＸＳｏ（
２，８Ｈｍの層間隔に相当する）で生じる。
を色々な温度で実施する。２θ・３．０５ ”での回折
ピークは決して強くない。５０および７０°Ｃに温度を
挙げることによって決して変化がないが、室温に再び冷
却した時にフィルム中の配列が向上する。このことは回
折ピークの強度が僅かに増加することによって明らかに
成る。試料を再び１００〜１３０ ’Ｃに高めることに
よって複合層は溶融し、面配列はもや認められない。し
かし室温に冷却した際にポリマーは再び配列する。今度
化じた配列は始めの試料の場合よりも蟲かに大きい。実
質的に強められている最初の配列の層反射に加えて、二
番目の配列の反射も測定できた。しかしながら最初の層
反射は僅かに移動しており、今度は２θ＝３；ＸＳｏ（
２，８Ｈｍの層間隔に相当する）で生じる。
北較炎」
ポリオクタデシルメタクリレートのＬＢ−フィルムの製
造およびＸ−線回折特徴： ポリエステル−シートの長方形の切片を実施例５におけ
る如く浄化しそして実施例５における如くラングミュア
およびプロトゲットの方法によって、ポリオクタデシル
メタクリレートの層を移す（サブフェース：３０°Ｃの
水、剪断：１８ｍＮ／ｍ、浸漬および引上げ速度： ０
．３ｍｍ／秒、上限反転点での時間：９分間）。この化
合物の場合には支持体を引き上げる際に単一層が移る。
造およびＸ−線回折特徴： ポリエステル−シートの長方形の切片を実施例５におけ
る如く浄化しそして実施例５における如くラングミュア
およびプロトゲットの方法によって、ポリオクタデシル
メタクリレートの層を移す（サブフェース：３０°Ｃの
水、剪断：１８ｍＮ／ｍ、浸漬および引上げ速度： ０
．３ｍｍ／秒、上限反転点での時間：９分間）。この化
合物の場合には支持体を引き上げる際に単一層が移る。
合計でシートの上に２３層が重ねられる。
層間隔は実施例５における如くｘ−線回折によって測定
する。層反射は２θ・２．８°（３，１ｎｍの層間隔に
相当する）である。支持体を５０°Ｃに加温した際に複
合層は溶融しそして回折ピークがずれる。フルオロ化ポ
リマーの場合に確認できた如き、冷却した際の層再配列
が生じない。
する。層反射は２θ・２．８°（３，１ｎｍの層間隔に
相当する）である。支持体を５０°Ｃに加温した際に複
合層は溶融しそして回折ピークがずれる。フルオロ化ポ
リマーの場合に確認できた如き、冷却した際の層再配列
が生じない。
実施■」
ＩＩｌ、 ＩＨ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロデシル−メ
タクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートとの
コポリマーより成るＬＢ−フィルムの製造およびＸ−線
回折時＠、： ポリエステル−シートの長方形の切片を実施例５におけ
る如く浄化しそして実施例５における如くラングミュア
およびプロトゲットの方法によって、実施例４で製造さ
れたコポリマーの層を移す（サブフェース：３０℃の水
、剪断：５０ｍＮ／ｍ、浸漬および引上げ速度： ０．
３ｍ＋＊／秒、上限反転点での時間：９分）。支持体を
引き上げる際に単一層が移る。合計でシートの上に１５
層が重ねられる。
タクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートとの
コポリマーより成るＬＢ−フィルムの製造およびＸ−線
回折時＠、： ポリエステル−シートの長方形の切片を実施例５におけ
る如く浄化しそして実施例５における如くラングミュア
およびプロトゲットの方法によって、実施例４で製造さ
れたコポリマーの層を移す（サブフェース：３０℃の水
、剪断：５０ｍＮ／ｍ、浸漬および引上げ速度： ０．
３ｍ＋＊／秒、上限反転点での時間：９分）。支持体を
引き上げる際に単一層が移る。合計でシートの上に１５
層が重ねられる。
層間隔は実施例５における如くＸ−線回折によって測定
する。実施例５におけるポモポリマーに比較して非常に
鮮明な層反射が２θ・２．０５゜（４，３ｎｍの層間隔
に相当する）の所にある。この反射に加えて、第二およ
び第三の配列も認められる。４０℃に支持体を加温した
際に、反射の強度は未だ増加する。一方、連続的に加温
した場合にはこの強度は低下する。即ち、複合層中の配
向が低下する。更に１２０℃に加熱すると、最終的には
回折ピークが全くずれてしまう。試料を冷却した場合に
は、回折ピークは同じ場所に再び生ずる。この挙動は実
施例５におけるホモポリマーのそれに相当する。
する。実施例５におけるポモポリマーに比較して非常に
鮮明な層反射が２θ・２．０５゜（４，３ｎｍの層間隔
に相当する）の所にある。この反射に加えて、第二およ
び第三の配列も認められる。４０℃に支持体を加温した
際に、反射の強度は未だ増加する。一方、連続的に加温
した場合にはこの強度は低下する。即ち、複合層中の配
向が低下する。更に１２０℃に加熱すると、最終的には
回折ピークが全くずれてしまう。試料を冷却した場合に
は、回折ピークは同じ場所に再び生ずる。この挙動は実
施例５におけるホモポリマーのそれに相当する。
止較皿」
オクタデシルメタクリレートと２−ヒドロキシエチルメ
タクリレートとのコポリマーより成るＬＢ−フィルムの
製造およびＸ−線回折時１ｖｈ：ポリエステル〜シート
の長方形の切片を実施例５における如く浄化しそして実
施例５における如くラングミュアおよびプロトゲットの
方法によって、オクタデシルメタクリレートと２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート（モノマー比；１：５）と
のコポリマーの層を移す（サブフェース：２０″Ｃの水
、剪断： ３０ａＮ／ｍ、浸漬速度：０．８ＩＩＩＩＩ
Ｉ／秒、引上げ速度： ０．３ｍｍ／秒、上限反転点で
の時間：９分間）。支持体を浸漬する際並びに引き上げ
る際に単一層が移る。合計でシートの上に２３層が重ね
られる。
タクリレートとのコポリマーより成るＬＢ−フィルムの
製造およびＸ−線回折時１ｖｈ：ポリエステル〜シート
の長方形の切片を実施例５における如く浄化しそして実
施例５における如くラングミュアおよびプロトゲットの
方法によって、オクタデシルメタクリレートと２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート（モノマー比；１：５）と
のコポリマーの層を移す（サブフェース：２０″Ｃの水
、剪断： ３０ａＮ／ｍ、浸漬速度：０．８ＩＩＩＩＩ
Ｉ／秒、引上げ速度： ０．３ｍｍ／秒、上限反転点で
の時間：９分間）。支持体を浸漬する際並びに引き上げ
る際に単一層が移る。合計でシートの上に２３層が重ね
られる。
層間隔は実施例６における如くｘ−線回折によって測定
する。この場合も実施例６のホモポリマーに比較して非
常に鮮明な層反射は２θ＝１゜５５°（５，７ｒ＋ｍの
層間隔に相当する）の所にある。
する。この場合も実施例６のホモポリマーに比較して非
常に鮮明な層反射は２θ＝１゜５５°（５，７ｒ＋ｍの
層間隔に相当する）の所にある。
加熱した際に複合層がｉｏｏ’ｃまであまり温度に敏感
でないことが判る。しかし約１５０℃で複合層が一度に
溶融するよいなや、冷却した際に再生現象がもはや生じ
ない。
でないことが判る。しかし約１５０℃で複合層が一度に
溶融するよいなや、冷却した際に再生現象がもはや生じ
ない。
災旌■ユ
ポリ−（ＩＩＩ、 ＩＪＩ、 ２１１．２１１〜ペルフ
ルオロデシル）−メタクリレートより成るＬＢ−フィル
ムの臨界表面張カニ 珪素板（４ｃｍ ｘ １ｃｎ＋）を珪素ウェーファーか
ら切取り、次のように浄化する： １、 超音波浴中において３０χ濃度１ｈＯ□１部と濃
硫酸４部との混合物中で１時間処理する。次いできれい
な水で洗浄する。
ルオロデシル）−メタクリレートより成るＬＢ−フィル
ムの臨界表面張カニ 珪素板（４ｃｍ ｘ １ｃｎ＋）を珪素ウェーファーか
ら切取り、次のように浄化する： １、 超音波浴中において３０χ濃度１ｈＯ□１部と濃
硫酸４部との混合物中で１時間処理する。次いできれい
な水で洗浄する。
２、 弗化アンモニウム緩衝化ＨＦ−溶液に２０秒間浸
漬し、次いできれいな水で洗浄する。
漬し、次いできれいな水で洗浄する。
この処理の後に珪素板片は疎水性である（水との接触角
： ７５＠）。
： ７５＠）。
ポリ−（ＬＨ，１８，２Ｈ，２＋１−ペルフルオロデシ
ル）−メタクリレートの層を実施例５における如く珪素
板片の上にラングミュアおよびプロトゲットの方法によ
って移す（サブフェース；３０°Ｃの水、剪断： ２０
ｍＮ／ｍ、浸漬速度： １．８ ｃｍ／秒、引上げ速度
： １．２ｃｍ／秒、上限反転点での時間：９分間）。
ル）−メタクリレートの層を実施例５における如く珪素
板片の上にラングミュアおよびプロトゲットの方法によ
って移す（サブフェース；３０°Ｃの水、剪断： ２０
ｍＮ／ｍ、浸漬速度： １．８ ｃｍ／秒、引上げ速度
： １．２ｃｍ／秒、上限反転点での時間：９分間）。
浸漬する際にも引き上げる際にも単一層が移る。合計で
４つ重ねられる。
４つ重ねられる。
移された層の表面に一連のｎ−アルカン（ＣＪ＋６〜Ｃ
ｉ、ＩＩ’４）の液滴を載せ、表面と液滴との接触角を
測定する。この接触角からライスマン（Ｚｉｓｍａｎ）
の方法に従って臨界表面張力を測定する。測定結果は１
０．５ ｍＮ／ｍの臨界表面張力である。
ｉ、ＩＩ’４）の液滴を載せ、表面と液滴との接触角を
測定する。この接触角からライスマン（Ｚｉｓｍａｎ）
の方法に従って臨界表面張力を測定する。測定結果は１
０．５ ｍＮ／ｍの臨界表面張力である。
１施■」
ｉｌｌ、 ＩＨ，２１１，２１１−ペルフルオロデシル
−メタクリ 、レートと２−ヒドロキシエチルアクリ
レートとのコポリマーより成るＬＢ−フィルムの楕円偏
光測定： 珪素板片を実施例７における如く浄化しそして実施例６
と同様にラングミュア−プロトゲット一方法によって、
実施例４で製造されたポリマーの１８．２４．３０．３
６．４４．５０および６０の単一層で被覆する。
−メタクリ 、レートと２−ヒドロキシエチルアクリ
レートとのコポリマーより成るＬＢ−フィルムの楕円偏
光測定： 珪素板片を実施例７における如く浄化しそして実施例６
と同様にラングミュア−プロトゲット一方法によって、
実施例４で製造されたポリマーの１８．２４．３０．３
６．４４．５０および６０の単一層で被覆する。
次に楕円偏光測定によって、ＬＢ−フィルムの層厚さお
よび屈折率を測定する。（結果：６３３ｎｍでの屈折率
： １．４３±０．０５）。
よび屈折率を測定する。（結果：６３３ｎｍでの屈折率
： １．４３±０．０５）。
実施炭」
ｉｌｌ、 ＩＩＩ、 ２１１．２１１−ペルフルオロデ
シル−メタクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレ
ートとのコポリマーより成るＬＢ−フィルムの熱安定性
の、熱吸収測定法による測定 珪素板片（４ｃｍ ｘ １ ｃｍ）を熱酸化珪素ウェー
ファー（酸化層の厚さ： １６０ｎｍ）から切り取り、
超音波浴中において３０χ濃度１１□０□１部と濃硫酸
４部との混合物中で１時間処理する。その後に該板片を
再度アルカリ性洗浄浴中で１５分間５０℃の温度で超音
波によって処理し、次いできれいな水で徹底的に洗浄し
そして温かい空気流中で乾燥する。その後にヘキサメチ
ルジシラザン蒸気で処理（７０″Ｃで１０分）して疎水
性化する。
シル−メタクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレ
ートとのコポリマーより成るＬＢ−フィルムの熱安定性
の、熱吸収測定法による測定 珪素板片（４ｃｍ ｘ １ ｃｍ）を熱酸化珪素ウェー
ファー（酸化層の厚さ： １６０ｎｍ）から切り取り、
超音波浴中において３０χ濃度１１□０□１部と濃硫酸
４部との混合物中で１時間処理する。その後に該板片を
再度アルカリ性洗浄浴中で１５分間５０℃の温度で超音
波によって処理し、次いできれいな水で徹底的に洗浄し
そして温かい空気流中で乾燥する。その後にヘキサメチ
ルジシラザン蒸気で処理（７０″Ｃで１０分）して疎水
性化する。
ＬＢ−法による８層での被覆を、実施例４において製造
されたコポリマーを用いて実施例８に記載されているよ
うに行う。
されたコポリマーを用いて実施例８に記載されているよ
うに行う。
被覆された支持体を特別な装置中で直線的温度勾配（０
，５°Ｃ／秒）にて加熱する。加熱工程の間に、ＬＢ−
層の厚さは試料によって反射される垂直に偏光したレー
ザー光線（６３３ｎｎ＋）の強度によって測定する。
，５°Ｃ／秒）にて加熱する。加熱工程の間に、ＬＢ−
層の厚さは試料によって反射される垂直に偏光したレー
ザー光線（６３３ｎｎ＋）の強度によって測定する。
これから測定される吸収温度は３００″Ｃであった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）両親媒性化合物より成る少なくとも一つの単分子層
で構成されたフィルムにおいて、該層が長鎖のフルオロ
アルキル側鎖基を持つ有機ポリマーを含有するかまたは
かゝるポリマーより成り、その際側鎖が同じように互い
に平行に且つ層の面に対して実質的に垂直に配向してい
ることを特徴とする、上記フィルム。 ２）両親媒性化合物より成る少なくとも一つの単分子層
より成るフィルムにおいて、該層が ＣＦ＿３−（ＣＦ＿２）＿ｎ−（ＣＦ＿２）＿ｍ−（式
中、ｎは０〜２３の数でありそしてｍは０〜２４の数を
意味する。）で表される側鎖を持つ有機ポリマーを含有
することを特徴とする、上記フィルム。 ３）有機ポリマーがコポリマーである請求項１に記載の
フィルム。 ４）有機ポリマーがアクリル酸またはアクリル酸誘導体
のモノマー単位を含有する請求項１に記載のフィルム。 ５）層が長鎖のフルオロアルキル側鎖基を持つ有機ポリ
マーを他の両親媒性物質との混合状態で含有しているか
またはこの混合物より成る請求項１に記載のフィルム。 ６）色々な組成の少なくとも二つの単分子層より成り、
その際長鎖のフルオロアルキル側鎖基を持つ有機ポリマ
ーを含有しているかまたはこれより成る一つの層が、他
の両親媒性化合物を含有するかまたはそれらより成る一
つの層と交換されている請求項１に記載のフィルム。 ７）長鎖のフルオロアルキル側鎖基を持つ両親媒性有機
ポリマーから液体表面でフィルムを製造しそして該フィ
ルムを支持体の上に移すことを特徴とする、請求項１に
記載のフィルムの製造方法。 ８）支持体の上に移したフィルムの分子配列を、層転移
温度の近辺の温度に加熱し、次いで再び冷却することに
よって改善する請求項７に記載の方法。 ９）Ｘ−線回折によって観察できる液晶系にまたは液晶
系から等方性の系への相転移温度の直ぐ下の温度にフィ
ルムを加熱し、Ｘ−線回折線の鮮明化によって見ること
のできる配列の向上が生じるまでこの温度を維持し、次
いで再び冷却する、請求項８に記載の方法。 １０）フィルムを、Ｘ−線回折線が消失する温度に加熱
し、次いで再び冷却する請求項８に記載の方法。 １１）面の処理の為におよび面間の摩擦を減少させる為
に請求項１に記載のフィルムを用いる方法。 １２）請求項１に記載のフィルムを光学的目的の為に用
いる方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873731606 DE3731606A1 (de) | 1987-09-19 | 1987-09-19 | Film aus mindestens einer monomolekularen schicht |
| DE3731606.0 | 1987-09-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01104623A true JPH01104623A (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=6336421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63231512A Pending JPH01104623A (ja) | 1987-09-19 | 1988-09-17 | 少なくとも一つの単分子層より成るフイルム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4960635A (ja) |
| EP (1) | EP0308801B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01104623A (ja) |
| DE (2) | DE3731606A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04297453A (ja) * | 1990-06-26 | 1992-10-21 | Digital Equip Corp <Dec> | 潤滑された磁気媒体 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3830862A1 (de) * | 1988-09-10 | 1990-03-22 | Bayer Ag | Beschichtete traeger mit ultraduenner, mehrlagiger beschichtung, verfahren zu ihrer herstellung und polyester als zwischenprodukte fuer die beschichteten traeger |
| DE3843194A1 (de) * | 1988-12-22 | 1990-07-12 | Hoechst Ag | Amphiphile monomere mit gemischtkettiger struktur und polymere und film aus mindestens einer monomolekularen schicht daraus |
| DE3901003A1 (de) * | 1989-01-14 | 1990-07-19 | Hoechst Ag | Strahlenempfindlicher film aus mindestens einer monomolekularen schicht von fluorhaltigen amphiphilen |
| US5209847A (en) * | 1989-10-03 | 1993-05-11 | Nippon Oil And Fats Co., Ltd. | Ultrathin membrane of polymethacrylate or polycrotonate and device provided with ultrathin membrane |
| DE4006097A1 (de) * | 1990-02-27 | 1991-08-29 | Hoechst Ag | Ethylenisch ungesaettigte, fluorhaltige urethanderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| US5260004A (en) * | 1991-12-02 | 1993-11-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Process of making Langmuir-Blodgett films having photo-electronic properties |
| US5143828A (en) * | 1991-12-31 | 1992-09-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Method for synthesizing an enzyme-catalyzed polymerized monolayer |
| DE4225962A1 (de) * | 1992-08-06 | 1994-02-10 | Hoechst Ag | Schichtelement und Verfahren seiner Herstellung |
| US6652669B1 (en) | 1998-12-24 | 2003-11-25 | Sunyx Surface Nanotechnologies Gmbh | Method for producing an ultraphobic surface on an aluminum base |
| DE102004021567A1 (de) * | 2004-05-03 | 2005-12-08 | Covion Organic Semiconductors Gmbh | Elektronische Vorrichtungen enthaltend organische Halbleiter |
| US20080146734A1 (en) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Youngblood Jeffrey P | Stimuli-responsive polymeric surface materials |
| US20090317621A1 (en) * | 2006-11-30 | 2009-12-24 | Youngblood Jeffrey P | Stimuli-Responsive Polymeric Surface Materials |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3892665A (en) * | 1973-10-15 | 1975-07-01 | Standard Oil Co | Membrane method and product |
| US4169904A (en) * | 1978-01-05 | 1979-10-02 | International Business Machines Corporation | Preparation of polymer monomolecular films |
| JPS62572A (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-06 | Seizo Miyata | フッ素系有機薄膜の製造法 |
-
1987
- 1987-09-19 DE DE19873731606 patent/DE3731606A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-09-15 US US07/244,930 patent/US4960635A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-15 EP EP88115057A patent/EP0308801B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-15 DE DE3852453T patent/DE3852453D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-17 JP JP63231512A patent/JPH01104623A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04297453A (ja) * | 1990-06-26 | 1992-10-21 | Digital Equip Corp <Dec> | 潤滑された磁気媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3731606A1 (de) | 1989-03-30 |
| DE3852453D1 (de) | 1995-01-26 |
| EP0308801B1 (de) | 1994-12-14 |
| EP0308801A2 (de) | 1989-03-29 |
| EP0308801A3 (de) | 1991-02-06 |
| US4960635A (en) | 1990-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH01104623A (ja) | 少なくとも一つの単分子層より成るフイルム | |
| Katano et al. | Surface property of polymer films with fluoroalkyl side chains | |
| Schneider et al. | Structural studies of polymers with hydrophilic spacer groups. 2. Infrared spectroscopy of Langmuir-Blodgett multilayers of polymers with fluorocarbon side chains at ambient and elevated temperatures | |
| DE1645145B2 (de) | Ueberzugsmittel auf basis von polykieselsaeure und einem fluorhaltigen polymerisat | |
| KR0138661B1 (ko) | 서리 방지 피복 조성물, 이 조성물로 피복된 제품 및 이 제품의 제조방법 | |
| JPH0242392B2 (ja) | ||
| Ebata et al. | Molecular-weight dependence of the formation of highly ordered lamellar structures of poly (N-dodecyl acrylamide) by humid annealing | |
| CN100584863C (zh) | I型结晶结构的偏二氟乙烯均聚物的制造方法 | |
| JP7772945B2 (ja) | 薄膜高分子積層コンデンサ及びその製造方法 | |
| EP0374866B1 (de) | Amphiphile Monomere mit gemischtkettiger Struktur und Polymere und Film aus mindestens einer monomolekularen Schicht daraus | |
| EP0392464B1 (de) | Amphiphile Monomere und Polymere und Film aus mindestens einer monomolekularen Schicht daraus | |
| Mumtaz et al. | Reversible protein adsorption on PMOXA/PAA based coatings: role of PAA | |
| US5256749A (en) | Amphiphilic polymers containing silane units and film comprising at least one monomolecular layer produced therefrom | |
| EP0362689B1 (de) | Polyharnstoff und Film aus mindestens einer monomolekularen Schicht eines Polyharnstoffs | |
| JPH0426337B2 (ja) | ||
| US5258262A (en) | Radiation-sensitive film composed of at least one mono-molecular layer of fluorine-containing amphiphiles | |
| JPH01259072A (ja) | 防湿コーティング剤 | |
| JPH03200815A (ja) | 光重合性組成物、親水性重合体膜および親水性重合体膜で被覆された板状体 | |
| JPS59104911A (ja) | 誘電体フイルム | |
| JP2000327809A (ja) | イオン交換膜の製造方法 | |
| JP2611425B2 (ja) | 低収縮ポリエステルフィルムの製造方法 | |
| JP4248689B2 (ja) | フィルムの製造法 | |
| JP3511305B2 (ja) | ポリオレフィン延伸フィルム | |
| JP2541271B2 (ja) | 二軸配向ポリエステルフィルム | |
| JPS6270421A (ja) | 芳香族ポリアミドフイルム |