JPH01105444A - Ｘ線分析電子顕微鏡 - Google Patents
Ｘ線分析電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH01105444A JPH01105444A JP62261035A JP26103587A JPH01105444A JP H01105444 A JPH01105444 A JP H01105444A JP 62261035 A JP62261035 A JP 62261035A JP 26103587 A JP26103587 A JP 26103587A JP H01105444 A JPH01105444 A JP H01105444A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- sample
- rays
- incident angle
- ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電子線照射により発生するＸ線に基づいて分
析を行なうＸ線分析電子顕微鏡に関する。
析を行なうＸ線分析電子顕微鏡に関する。
［従来の技術］
従来、電子顕微鏡等により観測する試料上の所望の点に
電子線を集束して、該試料上の点から放出される特性Ｘ
線を試料近傍に配置される検出器によって検出し、該検
出信号に基づいてＸ線スペクトルを表示する装置が知ら
れている。・［発明が解決しようとする問題点］ このような装置によって試料から放出されるＸ線をスペ
クトル分析する際に、試料に照射される電子線の入射角
は様々な値に選ばれるが、測定中は選ばれた値に保持さ
れる。
電子線を集束して、該試料上の点から放出される特性Ｘ
線を試料近傍に配置される検出器によって検出し、該検
出信号に基づいてＸ線スペクトルを表示する装置が知ら
れている。・［発明が解決しようとする問題点］ このような装置によって試料から放出されるＸ線をスペ
クトル分析する際に、試料に照射される電子線の入射角
は様々な値に選ばれるが、測定中は選ばれた値に保持さ
れる。
しかし、試料の結晶状態と電子線の該結晶性試料（結晶
面）への入射、角度によっては、可干渉制動輻射やチャ
ンネリング放射を起こし、該試料から特定のエネルギー
を有するＸ線が発生する場合がある。第３図は結晶性を
有する試料に電子線ＥＢが入射した場合に可干渉制動輻
射が発生する状況を示している。同図において、ある入
射角度で結晶に入射した電子線（電子）は、結晶中の原
子と次々に一定の周期で衝突するため、該衝突により放
出される電磁波（制動輻射）は位相に相関性を有する可
干渉な電磁波となる。そのため、試料の組成とは無関係
の特定なエネルギーを有するＸ線（不正Ｘ線）が発生し
、例えばアルミニウム（ＡＱ）と銀（Ａｃｔ）の合金試
料について分析した場合等に、第４図に示すようにＡＱ
の特性Ｘ線ピークＡとＡＱの特性Ｘ線ピークＢとの間に
試料の組成とは無関係の不正なＸ線ピークＣが発生して
、定量分析の精度や再現性等を著しく悪化させることが
問題となっている。
面）への入射、角度によっては、可干渉制動輻射やチャ
ンネリング放射を起こし、該試料から特定のエネルギー
を有するＸ線が発生する場合がある。第３図は結晶性を
有する試料に電子線ＥＢが入射した場合に可干渉制動輻
射が発生する状況を示している。同図において、ある入
射角度で結晶に入射した電子線（電子）は、結晶中の原
子と次々に一定の周期で衝突するため、該衝突により放
出される電磁波（制動輻射）は位相に相関性を有する可
干渉な電磁波となる。そのため、試料の組成とは無関係
の特定なエネルギーを有するＸ線（不正Ｘ線）が発生し
、例えばアルミニウム（ＡＱ）と銀（Ａｃｔ）の合金試
料について分析した場合等に、第４図に示すようにＡＱ
の特性Ｘ線ピークＡとＡＱの特性Ｘ線ピークＢとの間に
試料の組成とは無関係の不正なＸ線ピークＣが発生して
、定量分析の精度や再現性等を著しく悪化させることが
問題となっている。
本発明は上記問題点を考慮し、簡単な構成の追加により
不正なピークを除去することのできるＸ線分析電子顕微
鏡を提供することを目的としている。
不正なピークを除去することのできるＸ線分析電子顕微
鏡を提供することを目的としている。
Ｕ問題点を解決するための手段コ
本発明のＸ線分析電子顕微鏡は、電子銃と、該電子銃よ
りの電子線を試料面上に集束するための集束レンズと、
試料への電子線の照射に基づいて得られる特性Ｘ線を検
出するための検出器とを備えた装置において、試料上の
電子線照射点を固定しつつ、該点における電子線入射角
度を周期的に変化させる手段を設け、該手段により電子
線入射角度を周期的に変化させつつＸ線分析を行なうよ
うにしたことを特徴とする。
りの電子線を試料面上に集束するための集束レンズと、
試料への電子線の照射に基づいて得られる特性Ｘ線を検
出するための検出器とを備えた装置において、試料上の
電子線照射点を固定しつつ、該点における電子線入射角
度を周期的に変化させる手段を設け、該手段により電子
線入射角度を周期的に変化させつつＸ線分析を行なうよ
うにしたことを特徴とする。
、［作用］
本発明においては、試料上の所望の点に電子線を照射す
ると共に、該電子線照射点を固定しつつ、該点における
電子線入射角度を周期的に変化させながら、試料から放
出される特性Ｘ線を検出し、不正なピークを除去するよ
うにしている。
ると共に、該電子線照射点を固定しつつ、該点における
電子線入射角度を周期的に変化させながら、試料から放
出される特性Ｘ線を検出し、不正なピークを除去するよ
うにしている。
［実施例］
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第１
図は本発明の第１の実施例を説明するための装置構成図
、第２図は本発明の第２の実施例を説明するための装置
構成図である。
図は本発明の第１の実施例を説明するための装置構成図
、第２図は本発明の第２の実施例を説明するための装置
構成図である。
まず、第１図に示す第１の実施例は透過電子顕微鏡にお
いてエネルギ分散型Ｘ線検出器を用いてＸ線分析を行な
う場合の装置であって、第１図において１は電子銃、２
．３は集束レンズ、４ａ。
いてエネルギ分散型Ｘ線検出器を用いてＸ線分析を行な
う場合の装置であって、第１図において１は電子銃、２
．３は集束レンズ、４ａ。
４ｂは偏向コイル、５は試料、６は対物レンズ、７は中
間レンズ、８は投影レンズ、９は蛍光板、１０．１１．
１２．１３．１４は各レンズの制御部、１５は偏向コイ
ル４の走査部、１６は照射角度制御回路、１７はエネル
ギ分散型Ｘ線検出器、１８は波高分析器を含むＸ線分析
装置である。
間レンズ、８は投影レンズ、９は蛍光板、１０．１１．
１２．１３．１４は各レンズの制御部、１５は偏向コイ
ル４の走査部、１６は照射角度制御回路、１７はエネル
ギ分散型Ｘ線検出器、１８は波高分析器を含むＸ線分析
装置である。
第１図に示すような構成の透過電子顕微鏡では、電子銃
１を出た電子線は制御部７．８によって制御される第１
段及び第２段の集束レンズ２，３により集束された後、
試料５上に投射される。該試料を透過した電子はレンズ
７．８．９によって拡大され、蛍光板９上に終像を結ぶ
。この様な透過電子顕微鏡を用いて試料表面のＸ線分析
を行なう場合、電子銃１よりの電子線ＥＢは制御部１０
゜１１によって制御される第１段の集束レンズ２及び第
２段の集束レンズ３により集束される。集束された電子
線は偏向コイル４ａ、４ｂにより偏向された後、結晶性
試料５の所望の点に入射する。
１を出た電子線は制御部７．８によって制御される第１
段及び第２段の集束レンズ２，３により集束された後、
試料５上に投射される。該試料を透過した電子はレンズ
７．８．９によって拡大され、蛍光板９上に終像を結ぶ
。この様な透過電子顕微鏡を用いて試料表面のＸ線分析
を行なう場合、電子銃１よりの電子線ＥＢは制御部１０
゜１１によって制御される第１段の集束レンズ２及び第
２段の集束レンズ３により集束される。集束された電子
線は偏向コイル４ａ、４ｂにより偏向された後、結晶性
試料５の所望の点に入射する。
そして、このとき該電子線によって励起され、試料から
放出されたＸ線を該試料近傍に配置されたＸ線検出器で
検出する。ここで、偏向コイル４ａ。
放出されたＸ線を該試料近傍に配置されたＸ線検出器で
検出する。ここで、偏向コイル４ａ。
４ｂの偏向角には、偏向コイル４ａによる偏向角をθと
したとき、偏向コイル４ｂによる偏向角が一２θになる
ような関係が走査部１５によって与えられている。この
ような関係を偏向コイル４ａ。
したとき、偏向コイル４ｂによる偏向角が一２θになる
ような関係が走査部１５によって与えられている。この
ような関係を偏向コイル４ａ。
４ｂに与えると、どのようなθに対しても光軸上の同一
位置を電子線が通ることになり、その位置に試料５が配
置されている。更に、走査部１５は、そのθの値を例え
ば−３°≦θ≦３°の範囲で繰り返し掃引する。そのた
め、試料に入射する電子線は試料上の電子線照射点を中
心として入射角度が±３°の範囲で首を振るように繰り
返し掃引されることになる。掃引の繰り返し周期はＸ線
分析を行なう計測期間よりも十分短く設定されるため、
計測期間内に多数回の掃引が行なわれる。
位置を電子線が通ることになり、その位置に試料５が配
置されている。更に、走査部１５は、そのθの値を例え
ば−３°≦θ≦３°の範囲で繰り返し掃引する。そのた
め、試料に入射する電子線は試料上の電子線照射点を中
心として入射角度が±３°の範囲で首を振るように繰り
返し掃引されることになる。掃引の繰り返し周期はＸ線
分析を行なう計測期間よりも十分短く設定されるため、
計測期間内に多数回の掃引が行なわれる。
このように、結晶性試料に入射する電子線の入射角度を
連続的に繰り返し変化させると、ある計測期間かけて得
られるＸ線スペクトル中で、電子線入射角度に依存しな
い特性Ｘ線は計測期間の間積算されてスペクトル強度が
□増すが、電子線入射角度に依存する不正なＸ線は入射
角度が特定値になった瞬間にしか発生しないため、積算
効果が上がらず、スペクトルは第４図における不正なＸ
線によるピークＣがほとんど抑圧され、特性Ｘ線による
ピークのみから構成されるものとなる。
連続的に繰り返し変化させると、ある計測期間かけて得
られるＸ線スペクトル中で、電子線入射角度に依存しな
い特性Ｘ線は計測期間の間積算されてスペクトル強度が
□増すが、電子線入射角度に依存する不正なＸ線は入射
角度が特定値になった瞬間にしか発生しないため、積算
効果が上がらず、スペクトルは第４図における不正なＸ
線によるピークＣがほとんど抑圧され、特性Ｘ線による
ピークのみから構成されるものとなる。
次に、第２図に示す第２の実施例は走査型電子顕微鏡に
おいて波長分散型Ｘ線分光器を用いてＸ線分析を行なう
場合の装置である。第２図において２１は電子銃、２２
．２３は集束レンズ、２４は偏向コイル、２５は試料、
２６は対物レンズ、２７．２８は集束レンズの制御部、
２９は偏向コイル２４の走査部、３０は照射角度制御回
路、３１は分光結晶３２、Ｘ線検出器３３から構成され
る波長分散型Ｘ線分光器、３４はスペクトル表示装置で
ある。
おいて波長分散型Ｘ線分光器を用いてＸ線分析を行なう
場合の装置である。第２図において２１は電子銃、２２
．２３は集束レンズ、２４は偏向コイル、２５は試料、
２６は対物レンズ、２７．２８は集束レンズの制御部、
２９は偏向コイル２４の走査部、３０は照射角度制御回
路、３１は分光結晶３２、Ｘ線検出器３３から構成され
る波長分散型Ｘ線分光器、３４はスペクトル表示装置で
ある。
電子銃１よりの電子線ＥＢは制御部２７．２８によって
制御される第１段の集束レンズ２２及び第２段の集束レ
ンズ２３により集束される。集束された電子線は偏向コ
イル２４により偏向された後、対物レンズ２６を経て該
対物レンズの焦点位置に配置される結晶性試料２５に入
射する。そして、このとき該電子線によって励起され、
試料から放出されたＸ線を分光結晶３２を介してＸ線検
出器３３で検出する。ここで、前記偏向コイル２４は走
査部２９によって制御されるが、該走査部２９は照射角
度制御回路３０に設定される電子線偏向角θと掃引の繰
り返し周期で電子線を対物レンズ２６の前焦点面近傍で
走査するようにしている。そのため、対物レンズ２６を
経て試料に入射する電子線は試料上の電子線照射点を中
心として首を振るように繰り返し入射角度を変えること
になる。このとき、電子線の掃引の繰り返し周期は波長
分散型Ｘ線分光器の波長掃引速度に対して十分短い周期
となるように設定する。
制御される第１段の集束レンズ２２及び第２段の集束レ
ンズ２３により集束される。集束された電子線は偏向コ
イル２４により偏向された後、対物レンズ２６を経て該
対物レンズの焦点位置に配置される結晶性試料２５に入
射する。そして、このとき該電子線によって励起され、
試料から放出されたＸ線を分光結晶３２を介してＸ線検
出器３３で検出する。ここで、前記偏向コイル２４は走
査部２９によって制御されるが、該走査部２９は照射角
度制御回路３０に設定される電子線偏向角θと掃引の繰
り返し周期で電子線を対物レンズ２６の前焦点面近傍で
走査するようにしている。そのため、対物レンズ２６を
経て試料に入射する電子線は試料上の電子線照射点を中
心として首を振るように繰り返し入射角度を変えること
になる。このとき、電子線の掃引の繰り返し周期は波長
分散型Ｘ線分光器の波長掃引速度に対して十分短い周期
となるように設定する。
このように、結晶性試料に入射する電子線の入射角度を
連続的に繰り返し変化させることにより、ある計測期間
かけて波長掃引して得られるＸ線スペクトルの中で、特
定な電子線の入射角度においてのみ起こる可干渉制動輻
射及びチャンネリング放射に起因する不正なＸ線の発生
を確率的に低減することができる。そこで、このとき試
料から放出されたＸ線を分光結晶３２を介してＸ線検出
器３３で検出し、該検出した情報をスペクトル表示装置
２０に供給しＸ線スペクトルを表示すれば、第１の実施
例の場合と同様に、そのＸ線スペクトルは不正なＸ線に
よるピークが抑圧されたものとなる。
連続的に繰り返し変化させることにより、ある計測期間
かけて波長掃引して得られるＸ線スペクトルの中で、特
定な電子線の入射角度においてのみ起こる可干渉制動輻
射及びチャンネリング放射に起因する不正なＸ線の発生
を確率的に低減することができる。そこで、このとき試
料から放出されたＸ線を分光結晶３２を介してＸ線検出
器３３で検出し、該検出した情報をスペクトル表示装置
２０に供給しＸ線スペクトルを表示すれば、第１の実施
例の場合と同様に、そのＸ線スペクトルは不正なＸ線に
よるピークが抑圧されたものとなる。
［発明の効果］
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、試料
上の所望の点に電子線を照射すると共に、該電子線照射
点を固定しつつ、該点における電子線入射角度を周期的
に変化させながら、試料から放出される特性Ｘ線を検出
することにより、結晶性を有する試料に電子線を照射し
た場合でも、結晶性試料の格子間で発生する可干渉制動
輻射やチャンネリング放射による影響を抑圧することが
可能となり、従来のように試料の組成とは無関係の不正
なピークが発生して定量分析の精度や再現性等を悪化さ
せることが無い。
上の所望の点に電子線を照射すると共に、該電子線照射
点を固定しつつ、該点における電子線入射角度を周期的
に変化させながら、試料から放出される特性Ｘ線を検出
することにより、結晶性を有する試料に電子線を照射し
た場合でも、結晶性試料の格子間で発生する可干渉制動
輻射やチャンネリング放射による影響を抑圧することが
可能となり、従来のように試料の組成とは無関係の不正
なピークが発生して定量分析の精度や再現性等を悪化さ
せることが無い。
第１図は本発明の第１の実施例を説明するための装置構
成図、第２図は本発明の第２の実施例を説明するための
装置構成図、第３図及び第４図は従来例を説明するため
の図である。 １：電子銃 ２，３：集束レンズ ４：偏向コイル ５：試料 ６：対物レンズ １０．１１：集束レンズ制御部 １５：走査部 １６：照射角度制御回路１７：エ
ネルギ分散型Ｘ線検出器 １８：Ｘ線分析装置 特許出願人 日本電子株式会社
成図、第２図は本発明の第２の実施例を説明するための
装置構成図、第３図及び第４図は従来例を説明するため
の図である。 １：電子銃 ２，３：集束レンズ ４：偏向コイル ５：試料 ６：対物レンズ １０．１１：集束レンズ制御部 １５：走査部 １６：照射角度制御回路１７：エ
ネルギ分散型Ｘ線検出器 １８：Ｘ線分析装置 特許出願人 日本電子株式会社
Claims (1)
- 電子銃と、該電子銃よりの電子線を試料面上に集束する
ための集束レンズと、試料への電子線の照射に基づいて
得られる特性Ｘ線を検出するための検出器とを備えた装
置において、試料上の電子線照射点を固定しつつ、該点
における電子線入射角度を周期的に変化させる手段を設
け、該手段により電子線入射角度を周期的に変化させつ
つＸ線分析を行なうようにしたことを特徴とするＸ線分
析電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62261035A JPH0754677B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | Ｘ線分析電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62261035A JPH0754677B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | Ｘ線分析電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01105444A true JPH01105444A (ja) | 1989-04-21 |
| JPH0754677B2 JPH0754677B2 (ja) | 1995-06-07 |
Family
ID=17356148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62261035A Expired - Fee Related JPH0754677B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | Ｘ線分析電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0754677B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51132885A (en) * | 1975-01-17 | 1976-11-18 | Hitachi Ltd | Pasticle ray analyzing unit |
| JPS5966853U (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-04 | 株式会社島津製作所 | 面積走査角度走査両用電子線走査型分析装置 |
-
1987
- 1987-10-16 JP JP62261035A patent/JPH0754677B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51132885A (en) * | 1975-01-17 | 1976-11-18 | Hitachi Ltd | Pasticle ray analyzing unit |
| JPS5966853U (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-04 | 株式会社島津製作所 | 面積走査角度走査両用電子線走査型分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0754677B2 (ja) | 1995-06-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |