JPH01106064A - 印刷方法 - Google Patents

印刷方法

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Publication number
JPH01106064A
JPH01106064A JP62264417A JP26441787A JPH01106064A JP H01106064 A JPH01106064 A JP H01106064A JP 62264417 A JP62264417 A JP 62264417A JP 26441787 A JP26441787 A JP 26441787A JP H01106064 A JPH01106064 A JP H01106064A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
ink
printing
light
pattern
Prior art date
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Pending
Application number
JP62264417A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsue Kenmochi
剣持 加津衛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH01106064A publication Critical patent/JPH01106064A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は印刷方法に関するものであシ、とくに印刷され
るインクの厚さが比較的厚いものに対して有効となるよ
う工夫したものである。
従来の技術 印刷方法としては、凸版印刷、凹版印刷、スクリーン印
刷などが古くから知られている。
例えば第4図は凸版印刷の例で、中間ロール16とドク
ターロール16とでインク17を一定の厚さにならし、
中間ロール16に付着したインクを印刷ロール18上の
凸部19に移し取り、印刷ロール18と送シロール2o
によりはさんだ被印刷物22を送シながら凸部19に付
着したインク21を被印刷物22に印刷する方法である
第6図はスクリーン印刷の例でありヌクリーン23上に
インク24を載せ、スキージ26でスクリーン23を被
印刷物26に押し当てながら矢印の方向に押し進めるこ
とによシ、スクリーン23の所望位置に設けられたスキ
間よりインク27が被印刷物26に付着する。
発明が解決しようとする問題点 しかしながらこれ等の方法において、被印刷物に付着し
たインクの厚さを厚くできない。スクリーン印刷のよう
にロールを用いない印刷により1100zz程度まで印
刷することができてもそれ以上は困難である。
また厚く印刷した時に、印刷したインクの形状精度を保
つことが難しく、横への崩れ、上面の凹凸などを伴なう
問題点を解決するための手段 本発明は、立体的な形状精度も含めて精度の良い印刷を
行うために、光を選択的に通すようにパターンを形成し
たフォトマスクのパターン形成面に感光性硬化樹脂を基
材としたインクを接触させ、パターン形成面の反対側か
ら光線を照射してインクのパターン形状の硬化部を形成
した後、パターン形成面に付着した未硬化インクを取り
除いて前記硬化部を被印刷物に当接し、この硬化部を光
もしくは熱によって完全硬化させた後フォトマスクを剥
がすことを特徴とする。
作  用 上記構成によれば、フォトマスクに接触した感光性硬化
樹脂はフォトマスクを通過した光線により硬化する。こ
の硬化パターンはフォトマスクのパターンに従がい、そ
の厚さは光量に比例する。
適光な時間を選んで光をさえ切り、フォトマスクに付着
している未硬化樹脂を取り除くと、硬化した樹脂がフォ
トマスクのパターンに従って残ル。
厳密にはフォトマスクに近い部分の樹脂は硬化が進み、
表面部の樹脂は硬化途上の樹脂である。その状態で被印
刷物に当接して、熱もしくは光を作用させることによシ
、完全に全体の樹脂を硬化することができる。次にフォ
トマスクを剥がす時、樹脂の付着強度がフォトマスクよ
り、被印刷物に対して強い条件で、インクは被印刷物側
に残シ所期の目的にかなう。
実施例 第1図は本発明の第1実施例における一工程での断面図
であシ、フォトマスク1の片面には、クロム膜をパター
ンに基いて蒸着したマスク部2があり、そこに接して紫
外線硬化樹脂を主成分としたインク3がある。フォトマ
スク1の上面からは紫外線ランプ4と反射鏡5からなる
光源の光線が照射され、クロム膜のない部分6を通して
、インク3に光が当たる。その結果、インク3の硬化部
7が下方に徐々に成長する。
適度に成長したところで光源を止め、フォトマスク1を
インク3から離すと、硬化部7はフォトマスク1に接合
し未硬化のインク3と分離される。
厳密には硬化部7の表面も未硬化樹脂成分濃度が高い。
第2図は、次いで被印刷物に印刷する工程の断面図であ
り、硬化部7が被印刷物8と接した状態で、全体を加熱
するか、第1図と同様に光を照射すると硬化部7全体が
完全に硬化し、被印刷物8との接合強度を生ずる。被印
刷物8が多孔質(紙類、木材等)であればフォトマスク
1を上回る接合強度が生じ、同程度であればフォトマス
ク1のマスク表面9にフッ素系のコーテング処理を施す
ことによシ、被印刷物8への接合性へ高めること 。
ができ、フォトマスク1と被印刷物8を引き剥すと、硬
化部7は被印刷物8側に残される。その時、硬化部7の
表面はフォトマスク1の面粗度と同等であシ、平面形状
はフォトマスク1のパターンにならっておシ、厚さも均
一に揃っている。
第3図は、更に高さ寸法を任意の値に制御するための方
法であシ、フォトマスク10とトレイ11との間にスペ
ーサ12を設け、そのスキ間をインク13″″C充填し
た後、第1図と同様に光を照射すると、スペーサ12と
同等の厚さの硬化部14が成長する。この時、トレイ1
1と硬化部14が接合しないように、トレイ11の表面
をテフロンや、シリコンなどによシ被覆しておくと有利
である。
発明の効果 本発明によれば、予め印刷パターンの形状をコントロー
ルした後印刷するので形状精度の高い印刷が可能であシ
、特に印刷表面はフォトマスク面粗度にならうので従来
困難であった厚膜で面粗度の高い印刷が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例を表わす断面図、第2図は
第1図に示す工程の次の工程での断面図、第3図は本発
明の第2実施例の断面図、第4図及び第6図は従来の印
刷方法を示す断面図である。 1.10・・・・・・フォトマヌク、3.13・・・・
・・インク、4・・・・・・ランプ、7,14・・・・
・・硬化部、8・・・・・・被印刷物。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名1−
−−フォL7又り 第 1 図                    
3−1+シク第 2 図             8
−梃呻呻第3図       ′°ゴ″ゝ″″ +3−4.り f4−1仁砕

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光を選択的に通すようにパターンを形成したフォ
    トマスクのパターン形成面に感光性硬化樹脂を基材とし
    たインクを接触させ、パターン形成面の反対側から光線
    を照射してインクのパターン形状の硬化部を形成した後
    、パターン形成面に付着した未硬化インクを取り除いて
    前記硬化部を被印刷物に当接し、この硬化部を光もしく
    は熱によって完全硬化させた後、フォトマスクを剥がし
    てなる印刷方法。
  2. (2)パターン形成面に感光性樹脂と剥離しやすい層を
    設けた特許請求の範囲第1項記載の印刷方法。
  3. (3)フォトマスクに接触させるインクの厚さを予め制
    御できるようインクをフォトマスクと底板にはさんでな
    る特許請求の範囲第1項記載の印刷方法。
JP62264417A 1987-10-20 1987-10-20 印刷方法 Pending JPH01106064A (ja)

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