JPH01106834A - シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル - Google Patents
シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテルInfo
- Publication number
- JPH01106834A JPH01106834A JP26477087A JP26477087A JPH01106834A JP H01106834 A JPH01106834 A JP H01106834A JP 26477087 A JP26477087 A JP 26477087A JP 26477087 A JP26477087 A JP 26477087A JP H01106834 A JPH01106834 A JP H01106834A
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- ether
- cyclohexylcyclohexyl
- cyclohexyl
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F16/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
- C08F16/12—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by an ether radical
- C08F16/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F16/16—Monomers containing no hetero atoms other than the ether oxygen
- C08F16/22—Carbocyclic compounds
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は成形品として用いるに十分な耐熱性盤ひに極め
て優れた耐水性を有し、また複屈折が非常に低く光透過
性の高い新規ポリビニルエーテル樹脂原料に関する。
て優れた耐水性を有し、また複屈折が非常に低く光透過
性の高い新規ポリビニルエーテル樹脂原料に関する。
ポリビニルエーテルは従来低級脂肪族ビニルエーテルの
ポリマーが可塑剤や繊維助剤・接着剤・塗料あるいは感
熱凝固剤として用いられているが、成形物としては実用
化されていない。
ポリマーが可塑剤や繊維助剤・接着剤・塗料あるいは感
熱凝固剤として用いられているが、成形物としては実用
化されていない。
脂肪族および脂環式ビニルエーテルのポリマーは透明性
が高く、またポリメチルビニルエーテル等の一部のもの
を除いて耐水性が高い。すなわち分子構造からは透明成
形物用樹脂として有望な素材と考えられ、特に芳香環を
含まないために低複屈折性であることから、光学用透明
材料として大きな期待が持てる。しかるに例えばポリエ
チルビニルエーテルではガラス転移点（Ｔｇ）が−４３
℃（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ 、 ２ｎｄ
Ｅｄ、、 Ｐ、 ［１−１４９。
が高く、またポリメチルビニルエーテル等の一部のもの
を除いて耐水性が高い。すなわち分子構造からは透明成
形物用樹脂として有望な素材と考えられ、特に芳香環を
含まないために低複屈折性であることから、光学用透明
材料として大きな期待が持てる。しかるに例えばポリエ
チルビニルエーテルではガラス転移点（Ｔｇ）が−４３
℃（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ 、 ２ｎｄ
Ｅｄ、、 Ｐ、 ［１−１４９。
Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆’ ５ｏｎｓ 、 １９７
５ ）、ポリイソブチルビニルエーテルでも一１９℃と
低く、室温ではゴム状であシ、このことがポリビニルエ
ーテルの成形物としての実用化に対する最大の障壁であ
った。
５ ）、ポリイソブチルビニルエーテルでも一１９℃と
低く、室温ではゴム状であシ、このことがポリビニルエ
ーテルの成形物としての実用化に対する最大の障壁であ
った。
本発明の目的は特に光学特性及び耐水性に優れ、かつ成
形品として用いるに十分な耐熱性を有するポリビニルエ
ーテル樹脂を与える新規ビニルエーテル化合物を提供す
ることにある。
形品として用いるに十分な耐熱性を有するポリビニルエ
ーテル樹脂を与える新規ビニルエーテル化合物を提供す
ることにある。
本発明者らは、上記の目的に鑑み鋭意検討した結果、特
定のビニルエーテル化合物においてはその重合体が良好
な光学特性および耐水性を示し、かつ成形品として用い
るに十分なＴｇを有していることを見出し本発明に至っ
た。すなわち本発明は下式の一般式で表わされるビニル
エーテル化合物に関するものである。
定のビニルエーテル化合物においてはその重合体が良好
な光学特性および耐水性を示し、かつ成形品として用い
るに十分なＴｇを有していることを見出し本発明に至っ
た。すなわち本発明は下式の一般式で表わされるビニル
エーテル化合物に関するものである。
ＣＨ２＝ＣＨ
■
具体的な名称を挙げれば、２−シクロヘキシルフクロヘ
キシルビニルエーテル、３−シクロヘキシルフクロヘキ
シルビニルエーテルおよび４−シクロヘキシル７クロヘ
キシルビニルエーテルテアリ、シス体であってもトラン
ス体であってもよい。
キシルビニルエーテル、３−シクロヘキシルフクロヘキ
シルビニルエーテルおよび４−シクロヘキシル７クロヘ
キシルビニルエーテルテアリ、シス体であってもトラン
ス体であってもよい。
また、それらの混合物であってもよい。
本発明のシクロヘキシル７クロヘキシルビニルエーテル
は、公知の任意の方法によって合成することができる。
は、公知の任意の方法によって合成することができる。
すなわち例えば酢酸水銀（１１）を触媒トシてシクロヘ
キシルシクロヘキサノールとインブチルビニルエーテル
等のアルキルビニルエーテルとのエーテル文換反応に工
９得ることができる。また、シクロヘキシルシクロヘキ
サノール・べＬ のアルカリ存在下でのアセチレンの付加反応による方法
は収率が高く工業的に有利であろう。
キシルシクロヘキサノールとインブチルビニルエーテル
等のアルキルビニルエーテルとのエーテル文換反応に工
９得ることができる。また、シクロヘキシルシクロヘキ
サノール・べＬ のアルカリ存在下でのアセチレンの付加反応による方法
は収率が高く工業的に有利であろう。
得らレタシクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル
は、公知のビニルエーテル重合体の製法に準じて重合す
ることができる。例えば不活性葬囲気中で硫酸等のブレ
ンステッド酸や三フッ化ホウ素、四塩化チタン等のルイ
ス酸を開始剤とする通常のカチオン重合によシ高分子量
化させることができる。重合の反応溶媒としては通常の
カチオン重合に用いられる溶媒例えばトルエンや塩化メ
チレン、あるいは塩化メチレン／ヘキサン混合溶媒等が
用いられる。反応温度は通常−１００°Ｃから３０℃程
展の範囲であるが、高分子量のものを得るためには開始
剤濃度を下げ、−３０°Ｃ以下の低温で重合させるのが
よい。ただし、最近報告されたヨウ化水素／ヨウ化亜鉛
等のヨウ素を含む開始剤系（Ｃ，０ｋａｔｎｏｔｏ ｅ
ｔ ａｌ 、、 Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒ、。
は、公知のビニルエーテル重合体の製法に準じて重合す
ることができる。例えば不活性葬囲気中で硫酸等のブレ
ンステッド酸や三フッ化ホウ素、四塩化チタン等のルイ
ス酸を開始剤とする通常のカチオン重合によシ高分子量
化させることができる。重合の反応溶媒としては通常の
カチオン重合に用いられる溶媒例えばトルエンや塩化メ
チレン、あるいは塩化メチレン／ヘキサン混合溶媒等が
用いられる。反応温度は通常−１００°Ｃから３０℃程
展の範囲であるが、高分子量のものを得るためには開始
剤濃度を下げ、−３０°Ｃ以下の低温で重合させるのが
よい。ただし、最近報告されたヨウ化水素／ヨウ化亜鉛
等のヨウ素を含む開始剤系（Ｃ，０ｋａｔｎｏｔｏ ｅ
ｔ ａｌ 、、 Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒ、。
Ｊｐｎ、３６＜２） 、２３７（１９８７））を用いる
と室温付近の高温でも十分に高分子量化させることがで
き、工業的に有利である。
と室温付近の高温でも十分に高分子量化させることがで
き、工業的に有利である。
本発明のビニルエーテルはまた、種々のラジカルもしく
はカチオン重合性モノマーとラジカルもしくはカチオン
重合することにより共重合体とすることもできる。従っ
て公知のビニル糸上ツマ−と共重合させることにより、
複屈折が小さく、且つ耐水性の優れた成形品を与える共
重合モノマーとして有用である。ここでその際のガラス
転移点は好丑しい方向に設定されるだろう。
はカチオン重合性モノマーとラジカルもしくはカチオン
重合することにより共重合体とすることもできる。従っ
て公知のビニル糸上ツマ−と共重合させることにより、
複屈折が小さく、且つ耐水性の優れた成形品を与える共
重合モノマーとして有用である。ここでその際のガラス
転移点は好丑しい方向に設定されるだろう。
以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例１
ルの合成
５００ｍナスフラスコに２−シクロヘキシルシクロヘキ
サノール７６．５Ｆ（０，４２モル入イソフ。
サノール７６．５Ｆ（０，４２モル入イソフ。
チルビニルエーテル１２３．３ｒ（１，２３モル）、酢
酸水銀（ｎ） ３．２７９ （１０，３ミリモル）を入
れ、環流冷却器を付して８０°Ｃで４０時間反応させた
。
酸水銀（ｎ） ３．２７９ （１０，３ミリモル）を入
れ、環流冷却器を付して８０°Ｃで４０時間反応させた
。
次いで減圧蒸留によシ沸点８０．９〜９１．１℃１０．
１８−ＨＰの留分を分離したところ、無色透明な特異臭
を有する液体が６５？得られた。この液体は１ＨＮＭＲ
スペクトルにおいて以下のような吸収を示した０ ＣＨ２− ｃＨ） ０．５〜２．３ ２１ま
た、元素分析値は理論値がＣ：８０．７７％、Ｈ：１１
．５４％であるのに対し、分析値はＣ： ８０．７２チ
、Ｈ：１１．５６％でよく一致しており、２−シクロヘ
キシルシクロヘキシルビニルエーテルテアルことが確認
された（収率７４％）。
１８−ＨＰの留分を分離したところ、無色透明な特異臭
を有する液体が６５？得られた。この液体は１ＨＮＭＲ
スペクトルにおいて以下のような吸収を示した０ ＣＨ２− ｃＨ） ０．５〜２．３ ２１ま
た、元素分析値は理論値がＣ：８０．７７％、Ｈ：１１
．５４％であるのに対し、分析値はＣ： ８０．７２チ
、Ｈ：１１．５６％でよく一致しており、２−シクロヘ
キシルシクロヘキシルビニルエーテルテアルことが確認
された（収率７４％）。
重 合
２−シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル２ｏ
、８ｆ（ｏ、ｔモル）、ト／ｌ／ ｘ ：／ ２００
ｍｌを窒素下で５００ｒＩＬｌナスフラスコに入れ、−
７８℃に冷却し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体
７１■（０，５ミリモル）を添加して２４時間重合させ
た。停止は少量のメタノールによって行ない、反応混合
物を大量のメタノールに注いで再沈精製することにより
、白色ポリマー２０．Ｏｆを得た。
、８ｆ（ｏ、ｔモル）、ト／ｌ／ ｘ ：／ ２００
ｍｌを窒素下で５００ｒＩＬｌナスフラスコに入れ、−
７８℃に冷却し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体
７１■（０，５ミリモル）を添加して２４時間重合させ
た。停止は少量のメタノールによって行ない、反応混合
物を大量のメタノールに注いで再沈精製することにより
、白色ポリマー２０．Ｏｆを得た。
ゲルパーミエイションクロマトグ°ラフイーＫＪ１．ル
数平均分子量（ポリスチレン換算）は１８０，０００、
分子量分布は３．６であった。示差熱分析法（窒素中、
昇温速度１０℃／分）によるガラス転移点は９２℃と十
分に高く射出成形等各種溶融成形可能であｆ）、２ｒｎ
厚に熱プレス成形した板の光透過率は５５０ ｎｍで８
６％と十分透明であった。また、このポリマーの吸水率
（ＡＳＴＭＤ５７０準拠）は０．０４％、飽和吸水率は
０．１２％であシ極めて耐水性に優れていた。
数平均分子量（ポリスチレン換算）は１８０，０００、
分子量分布は３．６であった。示差熱分析法（窒素中、
昇温速度１０℃／分）によるガラス転移点は９２℃と十
分に高く射出成形等各種溶融成形可能であｆ）、２ｒｎ
厚に熱プレス成形した板の光透過率は５５０ ｎｍで８
６％と十分透明であった。また、このポリマーの吸水率
（ＡＳＴＭＤ５７０準拠）は０．０４％、飽和吸水率は
０．１２％であシ極めて耐水性に優れていた。
次に直径４０ｗ１厚さ６ｍに成形した試料を熱プレスに
よシ１日厚に圧延し、中心から３０日の点について光源
にヘリウム−ネオンレーザ（波長６３３ ｎｍ ）を用
い偏光顕微鏡の原理を応用して複屈折（リターデーショ
ン）を測定したところ６ ｎｍであった。
よシ１日厚に圧延し、中心から３０日の点について光源
にヘリウム−ネオンレーザ（波長６３３ ｎｍ ）を用
い偏光顕微鏡の原理を応用して複屈折（リターデーショ
ン）を測定したところ６ ｎｍであった。
実施例２
実施例１において２−シクロヘキシルシクロヘキサノー
ルに換えて、４−シクロヘキシルヘキサノールを用いた
以外は全く同様にして合成を行ない減圧蒸留によ、ｐ
９５．８〜９６．０℃／ ０．４２ ｍｍＨｙの留分を
分離したところ無色透明な特異臭を有する液体が５８Ｆ
得られた。１ＨＮＭＲスペクトルにおいて、実施例１に
示したと全く同じ位置にビニル基のプロトンによるケミ
カルシフトが認められたこと、及び元素分析値の結果よ
シ、４−シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル
でアルコとが確認された（収率６７％）。
ルに換えて、４−シクロヘキシルヘキサノールを用いた
以外は全く同様にして合成を行ない減圧蒸留によ、ｐ
９５．８〜９６．０℃／ ０．４２ ｍｍＨｙの留分を
分離したところ無色透明な特異臭を有する液体が５８Ｆ
得られた。１ＨＮＭＲスペクトルにおいて、実施例１に
示したと全く同じ位置にビニル基のプロトンによるケミ
カルシフトが認められたこと、及び元素分析値の結果よ
シ、４−シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル
でアルコとが確認された（収率６７％）。
実施例３
実ｊｕｌ＋２に準じて３−シクロ−＼キシルシクロヘキ
シルビニルエーテルヲ合成した。収率７０％にて沸点８
４．０〜８４．３℃／ ０．２６ ｍＨｆの無色透明の
特異臭を有する液体が得られた。同定は実施例２と同様
に’）ｌ Ｎ Ｍ Ｒスペクトル及び元素分析にて行な
われた。
シルビニルエーテルヲ合成した。収率７０％にて沸点８
４．０〜８４．３℃／ ０．２６ ｍＨｆの無色透明の
特異臭を有する液体が得られた。同定は実施例２と同様
に’）ｌ Ｎ Ｍ Ｒスペクトル及び元素分析にて行な
われた。
に準じて重合し、実施例１と同様な方法で各種物性値を
測定し、た結果を第１表に示した。
測定し、た結果を第１表に示した。
参考例
実施例１０重合においてモノマーとして２−シクロヘキ
シルシクロヘキシルビニルエーテルニ換、ｔ−’ｒ、２
−シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル及びア
ダマンチルビニルエーテルヲ用いて重合を行った。得ら
れた重合体は数平均分子量が１００，０００であり、ガ
ラス転移点は１６２℃であった。また元素分析値より計
算した共重合組成比は２−シクロヘギシルシクロヘキシ
ルビニルエーテル／アダヤンチルビニルエーテル＝３０
／７０（モル比）であった。
シルシクロヘキシルビニルエーテルニ換、ｔ−’ｒ、２
−シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル及びア
ダマンチルビニルエーテルヲ用いて重合を行った。得ら
れた重合体は数平均分子量が１００，０００であり、ガ
ラス転移点は１６２℃であった。また元素分析値より計
算した共重合組成比は２−シクロヘギシルシクロヘキシ
ルビニルエーテル／アダヤンチルビニルエーテル＝３０
／７０（モル比）であった。
ポリ（アダマンチルビニルエーテル）のガラス転移点が
２００℃以上であり、溶融成形が国難であることに比較
し、この共重合体のガラス転移点は適度に調節されてい
ることがわかる。
２００℃以上であり、溶融成形が国難であることに比較
し、この共重合体のガラス転移点は適度に調節されてい
ることがわかる。
第 １ 表
（発明の効果）
以上の結果よジシクロへキシルシクロヘキシルビニルエ
ーテルは単独重合することによりガラス転移点が７５〜
９５℃の範囲にあシ、またそれよシ得られ＊Ｆｉ５ｉ、
形品は耐水性に優れ、また複屈折も少ないので、光学用
成形材料を与える原料とじて有用であることが認められ
る。
ーテルは単独重合することによりガラス転移点が７５〜
９５℃の範囲にあシ、またそれよシ得られ＊Ｆｉ５ｉ、
形品は耐水性に優れ、また複屈折も少ないので、光学用
成形材料を与える原料とじて有用であることが認められ
る。
特許巳顕人 株式会社 り ラ し
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 次の一般式で表わされるシクロヘキシルシクロヘキシル
ビニルエーテル。 ▲数式、化学式、表等があります▼
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26477087A JPH01106834A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26477087A JPH01106834A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01106834A true JPH01106834A (ja) | 1989-04-24 |
Family
ID=17407945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26477087A Pending JPH01106834A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | シクロヘキシルシクロヘキシルビニルエーテル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01106834A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5763560A (en) * | 1994-12-05 | 1998-06-09 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Method of producing styrene derivatives |
| JP2007161784A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Fujifilm Corp | 絶縁膜、化合物、膜形成用組成物及び電子デバイス |
| JP2008137974A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Nippon Carbide Ind Co Inc | １−インダニルビニルエーテル |
-
1987
- 1987-10-19 JP JP26477087A patent/JPH01106834A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5763560A (en) * | 1994-12-05 | 1998-06-09 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Method of producing styrene derivatives |
| JP2007161784A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Fujifilm Corp | 絶縁膜、化合物、膜形成用組成物及び電子デバイス |
| JP2008137974A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Nippon Carbide Ind Co Inc | １−インダニルビニルエーテル |
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