JPH01109720A - 照明装置 - Google Patents
照明装置Info
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- JPH01109720A JPH01109720A JP62267890A JP26789087A JPH01109720A JP H01109720 A JPH01109720 A JP H01109720A JP 62267890 A JP62267890 A JP 62267890A JP 26789087 A JP26789087 A JP 26789087A JP H01109720 A JPH01109720 A JP H01109720A
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- scanning
- aperture
- lens
- beams
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70583—Speckle reduction, e.g. coherence control or amplitude/wavefront splitting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はレチクル等の物体を照明する照明装置に関し、
特にコヒーレントな光を供給する光源を照明用光源とす
る時に有用な照明装置に関する。この種の照明装置は、
例えばエキシマレーザからの光を用いてレチクルのパタ
ーンをウェハ上へ投影露光する露光システムの照明装置
に使用される。
特にコヒーレントな光を供給する光源を照明用光源とす
る時に有用な照明装置に関する。この種の照明装置は、
例えばエキシマレーザからの光を用いてレチクルのパタ
ーンをウェハ上へ投影露光する露光システムの照明装置
に使用される。
従来から、投影露光システムのパターン転写用の結像光
学系では、必要な解像力を得る為にパターンを照明する
照明系のコヒーレンシイを適当な値にする必要がある。
学系では、必要な解像力を得る為にパターンを照明する
照明系のコヒーレンシイを適当な値にする必要がある。
このコヒーレンシイの制御を行う時のパラメータとして
、結像光学系のNA(開口数)に対する照明系のNAの
比を表わすσ値が良く知られている。
、結像光学系のNA(開口数)に対する照明系のNAの
比を表わすσ値が良く知られている。
従って、従来の水銀ランプ等の光源を使用する照明装置
では、上記のσ値が所望の値になる様に適宜照明光学系
の設計を行っている。
では、上記のσ値が所望の値になる様に適宜照明光学系
の設計を行っている。
一方、レーザ等の指向性の良い光を供給する光源を使用
する照明装置では、光源からの光を集光して所定の光ス
ポットを形成し、この光スポットを走査装置により結像
光学系の瞳の位置で走査する方式を用いる場合がある。
する照明装置では、光源からの光を集光して所定の光ス
ポットを形成し、この光スポットを走査装置により結像
光学系の瞳の位置で走査する方式を用いる場合がある。
この光スポットの走査により上記のσ値を所望の値に設
定し、必要とするコヒーレンシイを得ている。
定し、必要とするコヒーレンシイを得ている。
第8図は上述のレーザを光源として使用する照明装置の
従来例を示す模式図である。この種の装置はUSP4.
373.744、公表公報WO36100427号等に
開示されている。
従来例を示す模式図である。この種の装置はUSP4.
373.744、公表公報WO36100427号等に
開示されている。
第8図に示す装置は近年注目を浴びているレーザステッ
パー用の照明装置で、図中、lはエキシマレーザ等のレ
ーザ光源、L、及びL2は夫々レンズで正のパワーを有
する。2はピンホール、Mrは回動もしくは回転可能な
反射鏡、L3及びL4も夫々レンズで正のパワーを有す
る。又、AはレンズL4の瞳面であり、レンズL4の前
側焦点位置に存する。
パー用の照明装置で、図中、lはエキシマレーザ等のレ
ーザ光源、L、及びL2は夫々レンズで正のパワーを有
する。2はピンホール、Mrは回動もしくは回転可能な
反射鏡、L3及びL4も夫々レンズで正のパワーを有す
る。又、AはレンズL4の瞳面であり、レンズL4の前
側焦点位置に存する。
Bは被照射面であり、レンズL4の後側焦点位置に存す
る。具体的にはレンズL4の焦点距離をf4とすると、
瞳面Aと被照射面BはレンズL4の前側及び後側主平面
からf4だけ離れた位置に存在していることになる。
る。具体的にはレンズL4の焦点距離をf4とすると、
瞳面Aと被照射面BはレンズL4の前側及び後側主平面
からf4だけ離れた位置に存在していることになる。
第8図に於いて、レーザ光源1から出射した平行光束は
レンズL1によりピンホール2に一旦集光し、。
レンズL1によりピンホール2に一旦集光し、。
その後発散光束となってレンズL2に入射する。レンズ
L2は所謂コリメータレンズとしての機能を有しており
、発散光を平行光束に変換し反射鏡Mrに指向する。反
射鏡Mrで反射された光束はレンズL3によって瞳面A
に集光され、反射鏡Mrを矢印方向に回動もしくは回転
させることによって集光された光束のスポットは瞳面A
上をX方向に走査される。更に、瞳面Aに集光された走
査光束はレンズL4へ発散光束として入射し、レンズL
4により順次平行光束に変換されて被照射面Bの同一照
明域を照明する。この装置によれば、レーザ光源1から
出射した光束を瞳面Aに集光し反射鏡Mrで偏向、走査
することにより、必要とするコヒーレンシイを得ること
が出来る。
L2は所謂コリメータレンズとしての機能を有しており
、発散光を平行光束に変換し反射鏡Mrに指向する。反
射鏡Mrで反射された光束はレンズL3によって瞳面A
に集光され、反射鏡Mrを矢印方向に回動もしくは回転
させることによって集光された光束のスポットは瞳面A
上をX方向に走査される。更に、瞳面Aに集光された走
査光束はレンズL4へ発散光束として入射し、レンズL
4により順次平行光束に変換されて被照射面Bの同一照
明域を照明する。この装置によれば、レーザ光源1から
出射した光束を瞳面Aに集光し反射鏡Mrで偏向、走査
することにより、必要とするコヒーレンシイを得ること
が出来る。
しかしながら、第8図に示す照明装置では、所望のコヒ
ーレンシイを得る場合に走査面積が大きくなり、走査す
る為の走査光学系が大型化したり、走査時間が長(なる
等の欠点を有している。
ーレンシイを得る場合に走査面積が大きくなり、走査す
る為の走査光学系が大型化したり、走査時間が長(なる
等の欠点を有している。
従って、この種の照明装置を、上述のエキシマレーザを
使用するステッパー等の半導体製造装置に用いる場合、
走査時間が長くなり、製造装置のスルーブツトを劣化さ
せる要因となる為に好ましくない。
使用するステッパー等の半導体製造装置に用いる場合、
走査時間が長くなり、製造装置のスルーブツトを劣化さ
せる要因となる為に好ましくない。
一方、USP4,619,508には、FIG、1に示
す照明装置を更に改良した照明装置が開示しである。
す照明装置を更に改良した照明装置が開示しである。
このUSPの照明装置は、所定の光束径を有する走査レ
ーザ光束をフライアイレンズと呼称するレンズアレイに
対して走査し、このレンズアレイの個々のレンズニレメ
ン斗からの光を被照射面上で重ね合わせるものである。
ーザ光束をフライアイレンズと呼称するレンズアレイに
対して走査し、このレンズアレイの個々のレンズニレメ
ン斗からの光を被照射面上で重ね合わせるものである。
しかしながら、上記USPの照明装置も走査面積の小型
化には不向きであり、走査時間が長くなって、半導体製
造装置に適用した場合にスループットが劣化する。
化には不向きであり、走査時間が長くなって、半導体製
造装置に適用した場合にスループットが劣化する。
又、レーザからの光は通常コヒーレントな光であり、レ
ーザを照明用光源とした投影露光システムでは、コヒー
レント光が形成する干渉パターンが転写性能を劣化させ
る。
ーザを照明用光源とした投影露光システムでは、コヒー
レント光が形成する干渉パターンが転写性能を劣化させ
る。
上述のFIG、1或いはUSP4.373. 744、
USP4゜619、508ではレーザからの光を走査す
ることにより時間的コヒーレント光を減少させているが
、この方式では干渉パターンの影響を小さく抑えること
ができなかった。
USP4゜619、508ではレーザからの光を走査す
ることにより時間的コヒーレント光を減少させているが
、この方式では干渉パターンの影響を小さく抑えること
ができなかった。
本発明は上記従来の照明装置の欠点に鑑みてなされたも
のである。そして、本発明の目的は、照明用光源からの
光を高速走査して、短時間でレチクル等の物体を照明す
ることが可能な照明装置を提供することにある。
のである。そして、本発明の目的は、照明用光源からの
光を高速走査して、短時間でレチクル等の物体を照明す
ることが可能な照明装置を提供することにある。
又、本発明の他の目的は、コヒーレント光により生じる
干渉パターンの影響を小さ(抑えて、露光システムの転
写性能を向上させることが可能な、露光システム用の照
明装置を提供することにある。
干渉パターンの影響を小さ(抑えて、露光システムの転
写性能を向上させることが可能な、露光システム用の照
明装置を提供することにある。
上記目的を達成する為に、本発明に係る照明装置は、コ
ヒーレント光を供給する光源と前記コヒーレント光を互
いにインコヒーレントな複数の光束に分割する手段と、
該分割手段からの複数の光束の光路中に配設され、該複
数の光束をほぼ同時に走査する走査手段と、該走査手段
が形成する複数の走査光束を被照明面上で重ね合わせる
為の光学手段を有することを特徴とする。
ヒーレント光を供給する光源と前記コヒーレント光を互
いにインコヒーレントな複数の光束に分割する手段と、
該分割手段からの複数の光束の光路中に配設され、該複
数の光束をほぼ同時に走査する走査手段と、該走査手段
が形成する複数の走査光束を被照明面上で重ね合わせる
為の光学手段を有することを特徴とする。
本発明の更なる特徴、作用効果は以下に示す実施例に記
載されている。
載されている。
第1図は本発明に係る照明光学装置の更なる実施例を示
す概略構成図であり、従来の照明装置を更に改良したシ
ステムを構成している。
す概略構成図であり、従来の照明装置を更に改良したシ
ステムを構成している。
同図において、11はエキシマレーザから成るコヒーレ
ント光束を供給する光源、12は光束分割装置、13は
複数のレンズエレメントから成るフライアイレンズで、
複数のレンズエレメントは光軸Oに垂直な面に規則正し
く分布している。14はコンデンサレンズで、フライア
イレンズ13による光束の集光点とコンデンサレンズ1
4の前側焦点位置が一致している(図中矢印Pで示す位
置)。71及び72は光軸0を回転軸として回転可能な
楔形の透明光学部材であり、コンデンサレンズ14の後
側焦点位置と2つの透明光学部材71.72の中点(図
中矢印Qで示す位置)とが一致している。16は集光光
学系で、楔形の透明光学部材により偏向した光束を不図
示の結像光学系の入射瞳と共役な位置に配した絞りA2
の位置に集光し、光スポット(光源像)を形成する。1
7は′!J2の集光光学系であり、絞りA2に集光され
た光束をレチクルやマスクの回路パターン面等の被照射
面18に指向する。又、本実施例によれば、絞りA2の
位置と被照射面18の位置は、夫々第2の集光光学系の
前側焦点位置と後側焦点位置に対応する位置であり、こ
の関係で配列することにより、絞りA2の光軸と直交す
る面内に分布した複数の光スポットからの光を被照射面
18上で効率良く重ね合わせている。
ント光束を供給する光源、12は光束分割装置、13は
複数のレンズエレメントから成るフライアイレンズで、
複数のレンズエレメントは光軸Oに垂直な面に規則正し
く分布している。14はコンデンサレンズで、フライア
イレンズ13による光束の集光点とコンデンサレンズ1
4の前側焦点位置が一致している(図中矢印Pで示す位
置)。71及び72は光軸0を回転軸として回転可能な
楔形の透明光学部材であり、コンデンサレンズ14の後
側焦点位置と2つの透明光学部材71.72の中点(図
中矢印Qで示す位置)とが一致している。16は集光光
学系で、楔形の透明光学部材により偏向した光束を不図
示の結像光学系の入射瞳と共役な位置に配した絞りA2
の位置に集光し、光スポット(光源像)を形成する。1
7は′!J2の集光光学系であり、絞りA2に集光され
た光束をレチクルやマスクの回路パターン面等の被照射
面18に指向する。又、本実施例によれば、絞りA2の
位置と被照射面18の位置は、夫々第2の集光光学系の
前側焦点位置と後側焦点位置に対応する位置であり、こ
の関係で配列することにより、絞りA2の光軸と直交す
る面内に分布した複数の光スポットからの光を被照射面
18上で効率良く重ね合わせている。
尚、図中の矢印Pで示す位置と絞りA2、及び不図示の
結像光学系の入射瞳とが光学的に共役であり、図中の矢
印Qで示す位置と被照射面18とが光学的に共役である
。
結像光学系の入射瞳とが光学的に共役であり、図中の矢
印Qで示す位置と被照射面18とが光学的に共役である
。
又、楔形の透明光学部材71.72は夫々不図示の保持
部材で別個に保持されており、不図示の回転駆動手段に
より保持部材と共に回転せしめられ、該手段より回転方
向や回転速度を制御される。
部材で別個に保持されており、不図示の回転駆動手段に
より保持部材と共に回転せしめられ、該手段より回転方
向や回転速度を制御される。
本実施例の照明装置を構成する要素の中で、透光性の各
種光学要素、例えばレンズやプリズムの材料は全て5i
02を使用している。これによって、エキシマレーザか
ら成る光源11が供給するコヒーレント光を有効に利用
して、照明光強度を上げている。
種光学要素、例えばレンズやプリズムの材料は全て5i
02を使用している。これによって、エキシマレーザか
ら成る光源11が供給するコヒーレント光を有効に利用
して、照明光強度を上げている。
光源11から出射したコヒーレント光は光束分割装置1
2に入射し、このコヒーレント光は光束分割装置12に
よって複数の光束に分割され、且つ又、光束分割装置1
2により互いに所定の光路長差を与えられて、複数の光
束の夫々が互いにインコヒーレントな光となって、光束
分割装置12から平行光束として出射される。尚、この
光束分割装置12の具体的な構成は後で図面を用いて詳
述する。
2に入射し、このコヒーレント光は光束分割装置12に
よって複数の光束に分割され、且つ又、光束分割装置1
2により互いに所定の光路長差を与えられて、複数の光
束の夫々が互いにインコヒーレントな光となって、光束
分割装置12から平行光束として出射される。尚、この
光束分割装置12の具体的な構成は後で図面を用いて詳
述する。
光束分割装置12から出射した互いにインコヒーレント
な複数の平行光束はフライアイレンズ13に入射する。
な複数の平行光束はフライアイレンズ13に入射する。
フライアイレンズ13を構成する複数のレンズエレント
と複数の平行光束は1:1に対応しており、対応する各
レンズエレメントに入射した各々の光束はフライアイレ
ンズ13によつてフライアイレンズ13の後側焦点に集
光される。尚、ここでは光束分割装置12から出射した
複数の光束が平行光束であった為にフライアイレンズ1
3の後側焦点に集光されているが、この集光位置Pは任
意の位置で構わない。例えば光束分割装置12から収れ
ん、或いは発散の状態で出射した光束であればフライア
イレンズ13の焦点に集光することはない。
と複数の平行光束は1:1に対応しており、対応する各
レンズエレメントに入射した各々の光束はフライアイレ
ンズ13によつてフライアイレンズ13の後側焦点に集
光される。尚、ここでは光束分割装置12から出射した
複数の光束が平行光束であった為にフライアイレンズ1
3の後側焦点に集光されているが、この集光位置Pは任
意の位置で構わない。例えば光束分割装置12から収れ
ん、或いは発散の状態で出射した光束であればフライア
イレンズ13の焦点に集光することはない。
又、図示するフライアイレンズ13は正の屈折力を有す
るレンズエレメントから成るものであるが、負の屈折力
を有する凹レンズ等のレンズエレメントから成るものを
用いても構わない。
るレンズエレメントから成るものであるが、負の屈折力
を有する凹レンズ等のレンズエレメントから成るものを
用いても構わない。
さて、フライアイレンズ13の後側焦点、即ち上述の複
数の光束の集光位置Pはコンデンサレンズ14の前側焦
点と一致している為、−旦フライアイレンズ13の焦点
に集光した複数の光束は発散光束としてコンデンサレン
ズ14に入射し、コンデンサレンズ14を介して夫々平
行光束となる。但し、このコンデンサレンズ14で得ら
れる複数の平行光束は光軸Oに対して互いに異なる角度
で傾いており、複数の平行光束は楔形の光学部材71.
72に異なる角度で入射する。
数の光束の集光位置Pはコンデンサレンズ14の前側焦
点と一致している為、−旦フライアイレンズ13の焦点
に集光した複数の光束は発散光束としてコンデンサレン
ズ14に入射し、コンデンサレンズ14を介して夫々平
行光束となる。但し、このコンデンサレンズ14で得ら
れる複数の平行光束は光軸Oに対して互いに異なる角度
で傾いており、複数の平行光束は楔形の光学部材71.
72に異なる角度で入射する。
楔形の光学部材71.72の各々により屈折され偏向さ
れた複数の平行光束は、その後、集光光学系16に指向
されて、集光光学系16の後例焦点位置、即ち絞りA2
の位置に集光される。そして、絞りA2の光軸0に垂直
な面内(絞り面と称す)に複数の光スポットが分布して
形成される。この光スポットの各々の絞り面上の位置は
、各スポットを形成した平行光束の集光光学系16に対
する入射角度に応じて決まる。
れた複数の平行光束は、その後、集光光学系16に指向
されて、集光光学系16の後例焦点位置、即ち絞りA2
の位置に集光される。そして、絞りA2の光軸0に垂直
な面内(絞り面と称す)に複数の光スポットが分布して
形成される。この光スポットの各々の絞り面上の位置は
、各スポットを形成した平行光束の集光光学系16に対
する入射角度に応じて決まる。
以上述べた過程を経て、光束分割装置13により供給さ
れた互いにインコヒーレントな複数の光束を使用して、
絞りA2の絞り面上に複数の互いにインコヒーレントな
光スポット(光源像)が形成される。
れた互いにインコヒーレントな複数の光束を使用して、
絞りA2の絞り面上に複数の互いにインコヒーレントな
光スポット(光源像)が形成される。
ここで、不図示の回転駆動手段により楔形の光学部材7
1.72を各々異なる回転数で回転させて、楔形の光学
部材に入射する複数の平行光束を同時に偏向して走査す
る。この走査に伴って、絞りA2の絞り面上に形成され
た複数の光スポットは絞り面上を2次元的に同時に走査
される。
1.72を各々異なる回転数で回転させて、楔形の光学
部材に入射する複数の平行光束を同時に偏向して走査す
る。この走査に伴って、絞りA2の絞り面上に形成され
た複数の光スポットは絞り面上を2次元的に同時に走査
される。
この時の光スポットの走査の様子は第2図で示す通りで
あり、各記号は異なる時刻T。41 +T2 fT3.
T4における光スポットの位置を示す。異なる時刻にお
ける光スポツト同志は互いにインコヒーレントであり、
且つ上述した様に同時刻における光スポツト同志もイン
コヒーレントである。従って、所定時間内に絞りA2の
絞り面上に形成される全ての光スポットは互いにインコ
ヒーレントな光束で形成されることになる。
あり、各記号は異なる時刻T。41 +T2 fT3.
T4における光スポットの位置を示す。異なる時刻にお
ける光スポツト同志は互いにインコヒーレントであり、
且つ上述した様に同時刻における光スポツト同志もイン
コヒーレントである。従って、所定時間内に絞りA2の
絞り面上に形成される全ての光スポットは互いにインコ
ヒーレントな光束で形成されることになる。
この様に、絞りA2の絞り面上に、所定時間内、例えば
ウェハ上の1シヨツトを露光する時間又はエキシマレー
ザから所定の複数のパルス光が供給される時間に、互い
にインコヒーレントな多数個の光スポットが形成出来、
しかも多数個の光スポットが高速にて走査可能な為、拡
がりのあるインコヒーレント光源を容易に形成すること
が可能である。
ウェハ上の1シヨツトを露光する時間又はエキシマレー
ザから所定の複数のパルス光が供給される時間に、互い
にインコヒーレントな多数個の光スポットが形成出来、
しかも多数個の光スポットが高速にて走査可能な為、拡
がりのあるインコヒーレント光源を容易に形成すること
が可能である。
従って、所望のコヒーレント光を備えた照明系を提供で
き、且つ不図示の結像光学系の結像性能を向上できる。
き、且つ不図示の結像光学系の結像性能を向上できる。
又、第2図から理解出来る様に、絞りA2の絞り一面上
の複数の光スポットを狭い範囲で走査すれば良い為、大
面積のインコヒー、レント光源を形成する必要がある場
合でも極めて短時間にて走査を完了できる。
の複数の光スポットを狭い範囲で走査すれば良い為、大
面積のインコヒー、レント光源を形成する必要がある場
合でも極めて短時間にて走査を完了できる。
又、第1図に示す通り、楔形の光学部材又はプリズム等
の透光性部材を回転させるだけで走査が可能であり、揺
動ミラー等に比べて走査を行う為の駆動、制御が簡単で
ある。
の透光性部材を回転させるだけで走査が可能であり、揺
動ミラー等に比べて走査を行う為の駆動、制御が簡単で
ある。
第1図に戻り、絞りA2の絞り面上に形成した互いにイ
ンコヒーレントな複数の光スポットからの光は、発散光
束として各々第2の集光光学系17に入射する。第2の
集光光学系17は各インコヒーレント光束を収斂し、夫
々の光束を平行光束に変換して被照射面18上で重ね合
わせることにより、被照射面18を照明する。
ンコヒーレントな複数の光スポットからの光は、発散光
束として各々第2の集光光学系17に入射する。第2の
集光光学系17は各インコヒーレント光束を収斂し、夫
々の光束を平行光束に変換して被照射面18上で重ね合
わせることにより、被照射面18を照明する。
絞りA2は第1図に示す光学系の入射瞳に相当しており
、本実施例において、被照射面18はケーラ照明される
。従って、絞りA2の絞り面の光スポットの輝度分布に
より生ずる、被照射面18上での照度分布の不均一性を
回避できる。又、先に述べた様に、本照明装置が投影露
光システムのレチクル照明用として使用される時、絞り
A2は投影露光用のレクチルの回路パターンをウェハ上
に投影する結像光学系の入射瞳と共役関係になる様に設
定される。従って、ウェハに関しても、上記のレクチル
等の被照射面18と同様の効果を付与できる。
、本実施例において、被照射面18はケーラ照明される
。従って、絞りA2の絞り面の光スポットの輝度分布に
より生ずる、被照射面18上での照度分布の不均一性を
回避できる。又、先に述べた様に、本照明装置が投影露
光システムのレチクル照明用として使用される時、絞り
A2は投影露光用のレクチルの回路パターンをウェハ上
に投影する結像光学系の入射瞳と共役関係になる様に設
定される。従って、ウェハに関しても、上記のレクチル
等の被照射面18と同様の効果を付与できる。
第3図(A)、(B)は第1図に示す光束分割装置12
の具体的な構成例を示す図であり、第3図(B)は第3
図(A)の光束分割装置を第3図(A)中の矢印入方向
から視た図である。
の具体的な構成例を示す図であり、第3図(B)は第3
図(A)の光束分割装置を第3図(A)中の矢印入方向
から視た図である。
又、第4図(A)、(B)は光束分割装置12に入射し
て、分割・インコヒーレント化された複数個の光束の分
布状態を示す説明図である。
て、分割・インコヒーレント化された複数個の光束の分
布状態を示す説明図である。
第3図(A)、(B)において、101〜112は光源
11からのコヒーレント光束を複数の光束に分割する為
のミラーであり、コヒーレント光束の進行方向に沿って
夫々分布している。そして、ミラー101〜106から
成るY部とミラー107〜112から成るX部とに本光
束分割装置は分けることが出来、X部及びY部は互いに
直交する面内で光束の光路を折り曲げ、且つ互いに直交
する面内で光束の分割を行う。又、Y部はミラーlO1
と104の組、ミラー102と105ノ組、ミラー10
4と106(7)組に分かれており、各組により光路を
規定される各光束は互いに所定の光路長差を有する。X
部はミラー107と110の組、ミラー108と111
の組、ミラー109と112の組に分かれており、各組
はY部の場合同様の作用を各光束に与える。
11からのコヒーレント光束を複数の光束に分割する為
のミラーであり、コヒーレント光束の進行方向に沿って
夫々分布している。そして、ミラー101〜106から
成るY部とミラー107〜112から成るX部とに本光
束分割装置は分けることが出来、X部及びY部は互いに
直交する面内で光束の光路を折り曲げ、且つ互いに直交
する面内で光束の分割を行う。又、Y部はミラーlO1
と104の組、ミラー102と105ノ組、ミラー10
4と106(7)組に分かれており、各組により光路を
規定される各光束は互いに所定の光路長差を有する。X
部はミラー107と110の組、ミラー108と111
の組、ミラー109と112の組に分かれており、各組
はY部の場合同様の作用を各光束に与える。
第4図(A)、(B)において、240は光束分割装置
12に入射するコヒーレント光束、250は光束分割装
置12のY部から射出しX部へ入射する互いにインコヒ
ーレントな3本の平行光束、260はX部を経て光束分
割装置12から射出した互いにインコヒーレントな9本
の平行光束を示している。そして、h、に、 1は上記
3本の光束250を構成する各コヒーレント光束、h1
〜h3、k、〜に3、!1〜I!3は上記9本の光束2
60を構成する各コヒーレント光束を示す。
12に入射するコヒーレント光束、250は光束分割装
置12のY部から射出しX部へ入射する互いにインコヒ
ーレントな3本の平行光束、260はX部を経て光束分
割装置12から射出した互いにインコヒーレントな9本
の平行光束を示している。そして、h、に、 1は上記
3本の光束250を構成する各コヒーレント光束、h1
〜h3、k、〜に3、!1〜I!3は上記9本の光束2
60を構成する各コヒーレント光束を示す。
以下に、第3図(A)乃至第4図(B)を用いて、光束
分割装置12の機能を説明する。
分割装置12の機能を説明する。
光源11(第1図参照)が供給するコヒーレント光束の
コヒーレンス長にもとづいて、分割した光束間の光路長
差を△jとする。即ち、△j〉コヒーレンス長なる△j
を設定し、各ミラー101〜112の構成配置を△jを
考慮して定める。
コヒーレンス長にもとづいて、分割した光束間の光路長
差を△jとする。即ち、△j〉コヒーレンス長なる△j
を設定し、各ミラー101〜112の構成配置を△jを
考慮して定める。
光源11からの平行なコヒーレント光束は光分割装置1
2のY部に入射し、ミラー101と104、ミラー10
2と105、ミラー103と106の、各ミラーの組に
より光路を3分割されて、h 、に、 I!の3光束
に分割される。この時、h、 k、 fの各光束間には
各々L、 (L、 >△j)の光路長差が付与される。
2のY部に入射し、ミラー101と104、ミラー10
2と105、ミラー103と106の、各ミラーの組に
より光路を3分割されて、h 、に、 I!の3光束
に分割される。この時、h、 k、 fの各光束間には
各々L、 (L、 >△j)の光路長差が付与される。
Y部を経た3光束り、 k、 lはX部に入射し、各光
束り、 k、 lは各光束毎に、X部のミラー107
と110、ミラー108と111、ミラー109と11
2の各ミラーの組により光路を3分割されて、夫々h1
〜h3、k、〜に3.!!1〜13の3光束に更に分割
される。そして、光束h1〜h3、光束に、〜に3、光
束11〜I!3の各々は3光束同志の光路長差がL2
(L2≧△j)になる様に分割されている。
束り、 k、 lは各光束毎に、X部のミラー107
と110、ミラー108と111、ミラー109と11
2の各ミラーの組により光路を3分割されて、夫々h1
〜h3、k、〜に3.!!1〜13の3光束に更に分割
される。そして、光束h1〜h3、光束に、〜に3、光
束11〜I!3の各々は3光束同志の光路長差がL2
(L2≧△j)になる様に分割されている。
ここで、L2≧△j、Ll>3L2なる関係を満たす様
に、各ミラー101〜112が配設することにより、X
部を経て光束分割装置12から射出した光束260を構
成する、各光束h1〜h3+kl〜に3゜l、〜I!3
を互いにインコヒーレントな光束にしている。
に、各ミラー101〜112が配設することにより、X
部を経て光束分割装置12から射出した光束260を構
成する、各光束h1〜h3+kl〜に3゜l、〜I!3
を互いにインコヒーレントな光束にしている。
又、本光束分割装置12では、第4図(B)に示す様に
、分割インコヒーレント化した各光束り、〜fi3、k
l〜に3.I11〜13を互いに間隔りだけ離して、光
束分割装置12から射出させている。この理由は、第1
図に示す照明装置において、光束分割装置12からの光
束を受ける。後段に配設されたフライアイレンズ13の
個々のレンズエレメントに各分割光束が重畳して入射し
ない様にする為である。
、分割インコヒーレント化した各光束り、〜fi3、k
l〜に3.I11〜13を互いに間隔りだけ離して、光
束分割装置12から射出させている。この理由は、第1
図に示す照明装置において、光束分割装置12からの光
束を受ける。後段に配設されたフライアイレンズ13の
個々のレンズエレメントに各分割光束が重畳して入射し
ない様にする為である。
尚、間隔りの大きさは、各ミラー101〜112の配置
により適宜設定できるし、又、フライアイレンズのレン
ズエレメントが互いに密着してフライアイレンズが単一
の部材として構成されている時は、間隔D=0として各
ミラー101〜112の配置を設定する。
により適宜設定できるし、又、フライアイレンズのレン
ズエレメントが互いに密着してフライアイレンズが単一
の部材として構成されている時は、間隔D=0として各
ミラー101〜112の配置を設定する。
本実施例及び既に説明した実施例では、コヒーレント光
束を9分割する例を示しているが、この光束分割数はミ
ラーの数と配置により適宜設定できる。
束を9分割する例を示しているが、この光束分割数はミ
ラーの数と配置により適宜設定できる。
光束分割数が増えれば、第1図に示す照明装置において
絞りA2の位置に形成される互いにインコヒーレントな
光スポットを密に分布できる為、走査時間の更なる短縮
化が図れる。逆に多数のミラーが必要になる為に光束分
割装置12自体が複雑になり、好ましい結果を生じない
かもしれない。従って、光束分割装置12により分割す
る光束の数は、上述の作用、構成上の問題点や他の要因
を考慮して適宜設定すべきである。
絞りA2の位置に形成される互いにインコヒーレントな
光スポットを密に分布できる為、走査時間の更なる短縮
化が図れる。逆に多数のミラーが必要になる為に光束分
割装置12自体が複雑になり、好ましい結果を生じない
かもしれない。従って、光束分割装置12により分割す
る光束の数は、上述の作用、構成上の問題点や他の要因
を考慮して適宜設定すべきである。
又、本実施例では、光束分割装置12により各9本の光
束h1〜h3、k、〜に3+j!I〜I!3の間に夫々
へj以上の光路長差を付与しているが、光源11の空間
的コヒーレンス長が悪(、例えば第4図(A)。
束h1〜h3、k、〜に3+j!I〜I!3の間に夫々
へj以上の光路長差を付与しているが、光源11の空間
的コヒーレンス長が悪(、例えば第4図(A)。
(B)に示す光束りとkが最初から互いにインコヒーレ
ントとみなせる場合には、光束りと11光束にと1に対
しては夫々所定の光路長差を付与する必要があるが、光
束りとkに関しては特にインコヒーレント化の為に光路
長差を付与する必要はない。
ントとみなせる場合には、光束りと11光束にと1に対
しては夫々所定の光路長差を付与する必要があるが、光
束りとkに関しては特にインコヒーレント化の為に光路
長差を付与する必要はない。
第5図は第1図に示す照明装置の、一対の楔形光学部材
71.72から成る走査光学系の拡大構成図である。
71.72から成る走査光学系の拡大構成図である。
フライアイレンズ13の1個のレンズエレメントにより
矢印Pの位置に集光された光束は、ここで光スポットを
形成する。光スポットからの発散光27はコンデンサレ
ンズ14により平行光束に変換されて、楔形光学部材7
1.72に指向される。楔形光学部材71.72は夫々
光軸0を回転軸として互いに異なる回転速度で回転し、
入射平行光束を所定の範囲、走査軌跡で走査する。従っ
て楔形光学部材71.72からの平行光束を受ける集光
光学系16により、絞りA2の絞り面上に形成されてい
る光スポットは絞り面上で所定の軌跡で走査される。
矢印Pの位置に集光された光束は、ここで光スポットを
形成する。光スポットからの発散光27はコンデンサレ
ンズ14により平行光束に変換されて、楔形光学部材7
1.72に指向される。楔形光学部材71.72は夫々
光軸0を回転軸として互いに異なる回転速度で回転し、
入射平行光束を所定の範囲、走査軌跡で走査する。従っ
て楔形光学部材71.72からの平行光束を受ける集光
光学系16により、絞りA2の絞り面上に形成されてい
る光スポットは絞り面上で所定の軌跡で走査される。
ここで、フライアイレンズ13の残りレンズエレメント
によって多数個の光スポットが形成されている為、これ
らの光スポットからの光もコンデンサレンズ14、楔形
光学部材71.72、集光光学系16を介して絞りA2
の絞り面上に夫々光スポットを形成している。従って、
楔形光学部材71. 72の回転により、絞り面上にお
いて多数個の光スポットが走査されている。
によって多数個の光スポットが形成されている為、これ
らの光スポットからの光もコンデンサレンズ14、楔形
光学部材71.72、集光光学系16を介して絞りA2
の絞り面上に夫々光スポットを形成している。従って、
楔形光学部材71. 72の回転により、絞り面上にお
いて多数個の光スポットが走査されている。
第7図は絞りA2の絞り面上における多数個の光スポッ
トの走査により生ずる走査軌跡を示している。ここでは
、楔形光学部材71.72の回転速度の比を3ニアに設
定し、楔形光学部材71.72を回転させた時の走査軌
跡を示す。
トの走査により生ずる走査軌跡を示している。ここでは
、楔形光学部材71.72の回転速度の比を3ニアに設
定し、楔形光学部材71.72を回転させた時の走査軌
跡を示す。
絞り面上での個々の光スポットの走査軌跡或いは走査形
状は、楔形光学部材71.72の回転速度比を種々設定
することにより容易に制御できる。例えば、第6図(A
)、(B)、(C)に示す如き走査が可能である。
状は、楔形光学部材71.72の回転速度比を種々設定
することにより容易に制御できる。例えば、第6図(A
)、(B)、(C)に示す如き走査が可能である。
第6図(A)は、一対の楔形光学部材71.72の回転
速度(回転数)の比を3=7とした場合の1つの光束の
絞り面上での走査軌跡を示しており、第6図(B)、(
C)は夫々回転速度の比を3=8及び5:11とした場
合を示している。
速度(回転数)の比を3=7とした場合の1つの光束の
絞り面上での走査軌跡を示しており、第6図(B)、(
C)は夫々回転速度の比を3=8及び5:11とした場
合を示している。
又、楔形光学部材71.72の各楔角と屈折率を適宜設
定することにより、個々の光スポットの走査範囲を所望
の大きさにしたり、或いは走査形状を変えることができ
る。
定することにより、個々の光スポットの走査範囲を所望
の大きさにしたり、或いは走査形状を変えることができ
る。
従って、上述の如き制御方法を用いて、絞りA2の絞り
面における所定時間内での光スポットの分布状態を適切
な状態に設定し、所望のコヒーレンシイの照明を行うこ
とができる。又、これにより、本照明装置を投影露光シ
ステムに用いた時には、結像光学系の結像性能を向上で
きる。
面における所定時間内での光スポットの分布状態を適切
な状態に設定し、所望のコヒーレンシイの照明を行うこ
とができる。又、これにより、本照明装置を投影露光シ
ステムに用いた時には、結像光学系の結像性能を向上で
きる。
又、絞りA2の絞り面上に分布した多数個の光スポット
は、前述した通り互いにインコヒーレントな光束により
形成されたものであり、光スポットの走査により更に時
間的なインコヒーレント化を達成できる為、これらの光
スポットからの光による被照射面上での有害な干渉パタ
ーンの悪影響を小さく抑えることができる。
は、前述した通り互いにインコヒーレントな光束により
形成されたものであり、光スポットの走査により更に時
間的なインコヒーレント化を達成できる為、これらの光
スポットからの光による被照射面上での有害な干渉パタ
ーンの悪影響を小さく抑えることができる。
従って、被照射面を均一な照度分布で照明することがで
きる。
きる。
本実施例では2つの透過性の楔状の光学部材71゜72
を互いに接近させて双方を回転させて走査している為に
、従来のように少な(とも1つの回転ミラーを用いて走
査する場合に比べて、装置全体の小型化が容易となる。
を互いに接近させて双方を回転させて走査している為に
、従来のように少な(とも1つの回転ミラーを用いて走
査する場合に比べて、装置全体の小型化が容易となる。
尚、本実施例において楔状の光学部材を3つ以上用いて
、それらを互いに異なった回転数で回転させても所定の
走査形状の第2次光源面を形成することができる。
、それらを互いに異なった回転数で回転させても所定の
走査形状の第2次光源面を形成することができる。
又、2つの楔形の光学部材を異なった材質より構成し、
色収差等の影響を考慮して構成しても良い。
色収差等の影響を考慮して構成しても良い。
上記実施例では空間的に形成された2次光源面からの光
を集光レンズを介してレチクル等の被照射面に指向して
いた。
を集光レンズを介してレチクル等の被照射面に指向して
いた。
一方、2次光源面からの光を一旦フライアイレンズ、フ
ァイバー束等の多光束発生系に入射させ、この多光束発
生系を介して被照射面にコヒーレント光束を指向しても
良い。この様な多光束発生系を有する照明系によれば、
極めて均一に被照射面の照明を行える。尚、フライアイ
レンズ等の複眼光学系を光束方向に複数個並べて配置す
ることにより更に均一な照明が行える。
ァイバー束等の多光束発生系に入射させ、この多光束発
生系を介して被照射面にコヒーレント光束を指向しても
良い。この様な多光束発生系を有する照明系によれば、
極めて均一に被照射面の照明を行える。尚、フライアイ
レンズ等の複眼光学系を光束方向に複数個並べて配置す
ることにより更に均一な照明が行える。
以上、本発明によれば、光源からの光を複数の光束に分
割し、所定の走査手段で個々の光束を同時に走査するこ
とにより、これらの光束が絞り面(瞳面)に形成した複
数個の光スポットで、高速に絞り面を走査できる為、レ
チクル等の被照射面を所望のコヒーレント光で短時間に
照明できる。
割し、所定の走査手段で個々の光束を同時に走査するこ
とにより、これらの光束が絞り面(瞳面)に形成した複
数個の光スポットで、高速に絞り面を走査できる為、レ
チクル等の被照射面を所望のコヒーレント光で短時間に
照明できる。
又、コヒーレント光を互いにインコヒーレントな複数の
光束に分割した後、更にこれらの複数光束を走査して時
間的にインコヒーレントな状態を生じせしめる為、コヒ
ーレント光により生ずる干渉パターンの影響を、従来よ
りはるかに小さ(抑えることができる。
光束に分割した後、更にこれらの複数光束を走査して時
間的にインコヒーレントな状態を生じせしめる為、コヒ
ーレント光により生ずる干渉パターンの影響を、従来よ
りはるかに小さ(抑えることができる。
従って、投影露光システムのレチクル照明用の照明装置
として好適である。
として好適である。
第1図は本発明の係る照明装置の一実施例を示す概略構
成図。 第2図は絞り面上での光スポットの様子を示す説明図。 第3図(A)、(B)及び第4図(A)、(B)は光束
分割装置12の概略構成図と機能説明図。 第5図は走査光学系の拡大構成図。 第6図(A)、(B)、(C)及び第7図は絞り面上で
の光スポットの軌跡を示す模式図。 第8図は従来の照明装置の概略構成図。
成図。 第2図は絞り面上での光スポットの様子を示す説明図。 第3図(A)、(B)及び第4図(A)、(B)は光束
分割装置12の概略構成図と機能説明図。 第5図は走査光学系の拡大構成図。 第6図(A)、(B)、(C)及び第7図は絞り面上で
の光スポットの軌跡を示す模式図。 第8図は従来の照明装置の概略構成図。
Claims (1)
- コヒーレント光を供給する光源と、前記コヒーレント
光を互いにインコヒーレントな複数の光束に分割する手
段と、該分割手段からの複数の光束の光路中に配設され
、該複数の光束をほぼ同時に走査する走査手段と、該走
査手段が形成する複数の走査光束を被照明面上で重ね合
わせる為の光学手段を有することを特徴とする照明装置
。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267890A JPH01109720A (ja) | 1987-10-22 | 1987-10-22 | 照明装置 |
| EP87309574A EP0266203B1 (en) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | An illumination device |
| DE3750174T DE3750174T2 (de) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | Belichtungseinrichtung. |
| US07/384,908 US4974919A (en) | 1986-10-30 | 1989-07-25 | Illuminating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267890A JPH01109720A (ja) | 1987-10-22 | 1987-10-22 | 照明装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01109720A true JPH01109720A (ja) | 1989-04-26 |
Family
ID=17451044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62267890A Pending JPH01109720A (ja) | 1986-10-30 | 1987-10-22 | 照明装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01109720A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002280325A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-27 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 照明光学系及びこれを備えるレーザー処理装置 |
| JP2020122929A (ja) * | 2019-01-31 | 2020-08-13 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置および物品製造方法 |
-
1987
- 1987-10-22 JP JP62267890A patent/JPH01109720A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002280325A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-27 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 照明光学系及びこれを備えるレーザー処理装置 |
| JP2020122929A (ja) * | 2019-01-31 | 2020-08-13 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置および物品製造方法 |
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