JPH0375846B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0375846B2 JPH0375846B2 JP1087787A JP8778789A JPH0375846B2 JP H0375846 B2 JPH0375846 B2 JP H0375846B2 JP 1087787 A JP1087787 A JP 1087787A JP 8778789 A JP8778789 A JP 8778789A JP H0375846 B2 JPH0375846 B2 JP H0375846B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- light
- optical axis
- reflective member
- laser light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Lenses (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ光のようなコヒーレント光によ
り所望のコヒーレンシイの照明を行い得る照明装
置に関する。
り所望のコヒーレンシイの照明を行い得る照明装
置に関する。
結像光学系においては、必要な解像力を得るた
め照明のコヒーレンシイを適当な値にすることが
必要であり、このためにσ値（対物レンズのN.
A.に対する照明系のN.A.の比）を制御すること
が知られている。
め照明のコヒーレンシイを適当な値にすることが
必要であり、このためにσ値（対物レンズのN.
A.に対する照明系のN.A.の比）を制御すること
が知られている。
レーザ光のようなコヒーレントな光源を照明光
源とする場合には、光源をスポツトに集光し、そ
れを結像光学系の瞳位置で適当な大きさだけ走査
することによつて、必要とするコヒーレンシイを
得ることができる。しかし走査する面積が大きい
場合には、走査するための光学系が大きくなり、
また走査に要する時間が長くなるという欠点があ
る。
源とする場合には、光源をスポツトに集光し、そ
れを結像光学系の瞳位置で適当な大きさだけ走査
することによつて、必要とするコヒーレンシイを
得ることができる。しかし走査する面積が大きい
場合には、走査するための光学系が大きくなり、
また走査に要する時間が長くなるという欠点があ
る。
そこで、本発明の目的は、コヒーレンシイの高
いレーザ光を用いた場合にも、コヒーレンシイを
低減した均一な照明を可能とし、簡単な構成によ
つて実質的にインコヒーレントな光源を形成する
こともでき、対物光学系を介して効率良い照明を
可能とする照明装置を提供することにある。
いレーザ光を用いた場合にも、コヒーレンシイを
低減した均一な照明を可能とし、簡単な構成によ
つて実質的にインコヒーレントな光源を形成する
こともでき、対物光学系を介して効率良い照明を
可能とする照明装置を提供することにある。
本発明による照明装置は、所定の光軸に沿つて
レーザ光を供給するレーザ光源と、光軸に垂直な
面内で該光軸の周囲に前記レーザ光の反射像を形
成するために光軸の周囲に配置された内面反射可
能な複数の側面を有する反射部材と、該反射部材
に光源との間に配置されて反射部材に入射するレ
ーザ光源からの入射光束を所定の点を中心として
所望の角度で２次元的に交差する光に変換する光
束変換手段とを有し、反射部材の内面反射によつ
て前記光軸の周囲に分布する複数の光源像からな
りコヒーレンシイが低減された拡大光源を形成す
るものであり、さらに、コヒーレンシイが低減さ
れた拡大光学を対物光源系の入射瞳上に形成する
と共に、前記反射部材の射出面近傍またはこれと
共役な位置に被照明物体を配置することによつ
て、被照明物体を均一に照明するものである。
レーザ光を供給するレーザ光源と、光軸に垂直な
面内で該光軸の周囲に前記レーザ光の反射像を形
成するために光軸の周囲に配置された内面反射可
能な複数の側面を有する反射部材と、該反射部材
に光源との間に配置されて反射部材に入射するレ
ーザ光源からの入射光束を所定の点を中心として
所望の角度で２次元的に交差する光に変換する光
束変換手段とを有し、反射部材の内面反射によつ
て前記光軸の周囲に分布する複数の光源像からな
りコヒーレンシイが低減された拡大光源を形成す
るものであり、さらに、コヒーレンシイが低減さ
れた拡大光学を対物光源系の入射瞳上に形成する
と共に、前記反射部材の射出面近傍またはこれと
共役な位置に被照明物体を配置することによつ
て、被照明物体を均一に照明するものである。
上記の如き本発明の構成によれば、光束変換手
段によつて内面反射可能な側面を有する反射部材
に入射する光束の角度が種々に異なることとなる
ため、反射部材の各反射面での反射により入射側
に多数の光源像が形成される。そして、これら多
数の光源像それぞれから物体面に達するまでの光
路長が、内面反射による反射光路の長さによつて
差を生ずるために、複数の光源像全体としてのコ
ヒーレンシイを低減させることができる。さら
に、光束変換手段の構成を、反射部材に入射する
光束の角度を時間と共に変化するような走査手段
として構成する場合には、時間平均されることに
よつてさらにコヒーレンシイを低下させることが
可能となり、実質的なインコヒーレント光源を形
成することも可能になる。
段によつて内面反射可能な側面を有する反射部材
に入射する光束の角度が種々に異なることとなる
ため、反射部材の各反射面での反射により入射側
に多数の光源像が形成される。そして、これら多
数の光源像それぞれから物体面に達するまでの光
路長が、内面反射による反射光路の長さによつて
差を生ずるために、複数の光源像全体としてのコ
ヒーレンシイを低減させることができる。さら
に、光束変換手段の構成を、反射部材に入射する
光束の角度を時間と共に変化するような走査手段
として構成する場合には、時間平均されることに
よつてさらにコヒーレンシイを低下させることが
可能となり、実質的なインコヒーレント光源を形
成することも可能になる。
以下、本発明を図示した構成に基づいて説明す
る。
る。
第１図は本発明による照明装置の原理的構成を
示す光路図であり、光源像形成手段として透明物
質で形成された柱状部材を用い物体面１０をイン
コヒーレントに照明するものである。レーザ光源
１からのコヒーレント光は走査光学装置２０によ
り所定の光束径に拡大されてＸ−Ｚ平面内で所定
の角度範囲にわたつて二次元的に走査され、第２
図の斜視図に示したごとき四角柱部材９の入射面
９ａより四角柱部材９内に入射する。四角柱部材
９の各側面には内面反射するよう反射膜が蒸着さ
れており、入射する光束は走査角度θに応じて四
角柱部材９の側面の内面で反射されて射出面９ｂ
より射出する。第１図は光軸方向にＺ軸をとつた
場合のＸ−Ｚ平面内での走査光束の様子を示す光
路図である。第１図に示したごとく走査光学装置
２０により平行光束が四角柱部材９の入射面９ａ
の中央A0点を回転中心として回転し、Ｘ−Ｚ平
面内で光軸となすθが＋θ0〜０〜−θ0の範囲で連
続的に変化する。
示す光路図であり、光源像形成手段として透明物
質で形成された柱状部材を用い物体面１０をイン
コヒーレントに照明するものである。レーザ光源
１からのコヒーレント光は走査光学装置２０によ
り所定の光束径に拡大されてＸ−Ｚ平面内で所定
の角度範囲にわたつて二次元的に走査され、第２
図の斜視図に示したごとき四角柱部材９の入射面
９ａより四角柱部材９内に入射する。四角柱部材
９の各側面には内面反射するよう反射膜が蒸着さ
れており、入射する光束は走査角度θに応じて四
角柱部材９の側面の内面で反射されて射出面９ｂ
より射出する。第１図は光軸方向にＺ軸をとつた
場合のＸ−Ｚ平面内での走査光束の様子を示す光
路図である。第１図に示したごとく走査光学装置
２０により平行光束が四角柱部材９の入射面９ａ
の中央A0点を回転中心として回転し、Ｘ−Ｚ平
面内で光軸となすθが＋θ0〜０〜−θ0の範囲で連
続的に変化する。
平行光束の傾角θがいま時計方向に０〜θ0まで
変化する場合を説明すれば、０〜θ1までは平行光
束は側面で反射されることなく直接射出面９ｂに
達するが、θ1〜θ2の時には第１図中下方の側面で
内面反射されて射出面９ｂに達するためこの範囲
では、光束があたかも下方側面に関してA0点と
対象なA1点を中心として供給されるように射出
面９ｂに達する。そしてさらに大きな角度のθ2〜
θ0の時には、下方側面で反射された後、上方側面
でも反射されるため、光束はあたかも上方側面に
関してA1点と対象なA2点を中心として供給され
るように射出面に達する。他方、平行光束の傾角
θが反時計方向に０〜θ0まで変化する場合には、
０〜θ1では光束は直接射出面９ｂに達し、θ1〜θ2
の範囲では光束はあたかも上方側面に関してA0
点と対象なA1′点より供給されるごとくして射出
面９ｂに達し、θ2〜θ0の範囲では光束はあたかも
下方側面に関してA1′点と対称なA2′点より供給
されるように射出面９ｂに達する。従つて、第１
図に示したＸ−Ｚ平面図で四角柱部材９に入射す
る光束の角度が０→＋θ0→０→−θ0→０と１周期
走査されると、射出面９ｂには、あたかも順に、
A0，A1，A2，A1，A0，A1′，A2′，A1，A0の各
点から順次光束が供給されることとなり、四角柱
部材９の側面での内面反射により実質的には極め
て大きな光源より光束が供給される状態となる。
この状態は第１図に示したＸ−Ｚ平面と直交する
Ｙ−Ｚ平面内でも同様に形成されるため、四角柱
部材９の射出面９ｂ近傍の物体面１０は四角柱部
材９ａの入射面９ａを含むＸ−Ｙ平面上の極めて
大きな領域から照明されることとなる。
変化する場合を説明すれば、０〜θ1までは平行光
束は側面で反射されることなく直接射出面９ｂに
達するが、θ1〜θ2の時には第１図中下方の側面で
内面反射されて射出面９ｂに達するためこの範囲
では、光束があたかも下方側面に関してA0点と
対象なA1点を中心として供給されるように射出
面９ｂに達する。そしてさらに大きな角度のθ2〜
θ0の時には、下方側面で反射された後、上方側面
でも反射されるため、光束はあたかも上方側面に
関してA1点と対象なA2点を中心として供給され
るように射出面に達する。他方、平行光束の傾角
θが反時計方向に０〜θ0まで変化する場合には、
０〜θ1では光束は直接射出面９ｂに達し、θ1〜θ2
の範囲では光束はあたかも上方側面に関してA0
点と対象なA1′点より供給されるごとくして射出
面９ｂに達し、θ2〜θ0の範囲では光束はあたかも
下方側面に関してA1′点と対称なA2′点より供給
されるように射出面９ｂに達する。従つて、第１
図に示したＸ−Ｚ平面図で四角柱部材９に入射す
る光束の角度が０→＋θ0→０→−θ0→０と１周期
走査されると、射出面９ｂには、あたかも順に、
A0，A1，A2，A1，A0，A1′，A2′，A1，A0の各
点から順次光束が供給されることとなり、四角柱
部材９の側面での内面反射により実質的には極め
て大きな光源より光束が供給される状態となる。
この状態は第１図に示したＸ−Ｚ平面と直交する
Ｙ−Ｚ平面内でも同様に形成されるため、四角柱
部材９の射出面９ｂ近傍の物体面１０は四角柱部
材９ａの入射面９ａを含むＸ−Ｙ平面上の極めて
大きな領域から照明されることとなる。
ここで、第１図の光路図から明らかな如く、
A0，A1A1′，A2′A2′の各点上に形成される各光
源の像から物体面Ｏまでの光路長はそれぞれ異な
るため、多数の光源像の全体としては空間的にコ
ヒーレンシイの低減した光源が形成されることに
なる。すなわち、第１図に示した如く、四角柱部
材９での反射により形成される複数の光源像から
なる拡大された光源において、１回反射による光
源像ともいうべき点A1，A1′からの照明光と、２
回反射による光源像ともいうべき点A2，A2′から
の照明光とは、光路長が異なり、また点A0から
の反射を受けない照明光ともそれぞれ異なる光路
長を有するため、レーザー光源からの光のコヒー
レンシイを低減できるのである。そして、所定の
時間内の走査についてみれば、その時間内に光源
像の位置が変わることにより、時間的にもコヒー
レンシイを低減させることができ、実質的なイン
コヒーレント照明を行うことが可能となる。この
ようなインコヒーレント照明において、物体面１
０へ達する照明光の開口数N.A.は走査光束の最
大傾斜角によつて決定される。
A0，A1A1′，A2′A2′の各点上に形成される各光
源の像から物体面Ｏまでの光路長はそれぞれ異な
るため、多数の光源像の全体としては空間的にコ
ヒーレンシイの低減した光源が形成されることに
なる。すなわち、第１図に示した如く、四角柱部
材９での反射により形成される複数の光源像から
なる拡大された光源において、１回反射による光
源像ともいうべき点A1，A1′からの照明光と、２
回反射による光源像ともいうべき点A2，A2′から
の照明光とは、光路長が異なり、また点A0から
の反射を受けない照明光ともそれぞれ異なる光路
長を有するため、レーザー光源からの光のコヒー
レンシイを低減できるのである。そして、所定の
時間内の走査についてみれば、その時間内に光源
像の位置が変わることにより、時間的にもコヒー
レンシイを低減させることができ、実質的なイン
コヒーレント照明を行うことが可能となる。この
ようなインコヒーレント照明において、物体面１
０へ達する照明光の開口数N.A.は走査光束の最
大傾斜角によつて決定される。
尚、上記の構成において、実質的な拡大された
インコヒーレント光源面の位置が、四角柱部材の
入射面９ａに合致しているが、これは走査される
光束の回転中心A0が四角柱部材９の入射面９ａ
上に位置するからであり、上記に配置に限られる
ものではない。また、Ｙ−Ｚ平面内とＹ−Ｚ平面
内とで各走査光束の回転中心の位置が一致する必
要がないことはいうまでもない。また四角柱部材
の光軸方向の長さが長いほど、内面反射の回数が
多くなり、それだけ光束の実質的供給源の数が増
し、より均一で面光源に近い光源を形成し得る
が、反射率や透過率の低下が避けられないため適
当な長さに選定することが望ましい。
インコヒーレント光源面の位置が、四角柱部材の
入射面９ａに合致しているが、これは走査される
光束の回転中心A0が四角柱部材９の入射面９ａ
上に位置するからであり、上記に配置に限られる
ものではない。また、Ｙ−Ｚ平面内とＹ−Ｚ平面
内とで各走査光束の回転中心の位置が一致する必
要がないことはいうまでもない。また四角柱部材
の光軸方向の長さが長いほど、内面反射の回数が
多くなり、それだけ光束の実質的供給源の数が増
し、より均一で面光源に近い光源を形成し得る
が、反射率や透過率の低下が避けられないため適
当な長さに選定することが望ましい。
第３図は本発明の実施例に用いられる走査光学
装置の例を示す概略斜視図である。レーザ光源１
からの光束はビームエキスパンダー２１により光
束径を拡大され、Ｙ軸方向に回転軸を有する第１
回転ミラー２２に入射し、ここでの反射後アフオ
ーカルレンズ系２３を通つて、Ｘ軸方向に回転軸
を有する第２回転ミラー２４に入射する。第２回
転ミラー２４で反射された光束は、２つの正レン
ズ群２６ａ，２６ｂからなる所謂ケプラー型のア
フオーカルレンズ系２６を通つて、走査面３上に
達する。
装置の例を示す概略斜視図である。レーザ光源１
からの光束はビームエキスパンダー２１により光
束径を拡大され、Ｙ軸方向に回転軸を有する第１
回転ミラー２２に入射し、ここでの反射後アフオ
ーカルレンズ系２３を通つて、Ｘ軸方向に回転軸
を有する第２回転ミラー２４に入射する。第２回
転ミラー２４で反射された光束は、２つの正レン
ズ群２６ａ，２６ｂからなる所謂ケプラー型のア
フオーカルレンズ系２６を通つて、走査面３上に
達する。
ここで第１及び第２回転ミラー２２，２４がそ
れぞれ回転することにより、アフオーカルレンズ
系２６に入射する光束は、所定の角度範囲で第１
図に示す如く走査する。第１及び第２回転ミラー
２２，２４はそれぞれ多面鏡として構成すること
もできるし、第１、第２回転ミラーの間に設けら
れるアフオーカルレンズ２３に関して、両ミラー
が共役位置に構成されることも有効であり、二次
元走査のための構成は図示したものに限られるも
のではない。
れぞれ回転することにより、アフオーカルレンズ
系２６に入射する光束は、所定の角度範囲で第１
図に示す如く走査する。第１及び第２回転ミラー
２２，２４はそれぞれ多面鏡として構成すること
もできるし、第１、第２回転ミラーの間に設けら
れるアフオーカルレンズ２３に関して、両ミラー
が共役位置に構成されることも有効であり、二次
元走査のための構成は図示したものに限られるも
のではない。
第４図は第１図に示したインコヒーレント照明
の原理的構成を投影露光装置に応用した実施例の
光学系配置図である。第４図の構成例では走査光
学装置２０′により走査される平行光束の回転中
心A0点が、四角柱部材９の入射面９ａから離れ
た位置にあり、A0を含むＸ−Ｙ平面上に実質的
に拡大されたインコヒーレント光源が形成され
る。そして、四角柱部材の射出面９ｂの近傍に配
置された被照明物体としてのレチクルＲがインコ
ヒーレント照明され、投影対物７′によりレチク
ルＲ上のパターンがウエハＷ上に投影される。こ
の時、被照明物体としてのウエハＷ上も均一に照
明され、ウエハＷが四角柱部材の射出面９ｂの近
傍と共役に配置されていることは言うまでもな
い。レチクルＲを照明する実質的な光源面がA0
点にあるため、投影対物レンズ７′はその入射瞳
がこのA0点の近傍に形成されるものであること
が望ましい。また、四角柱部材９とレチクルＲと
の間にコンデンサーレンズを挿入する場合は、こ
のコンデンサーレンズに関して、投影対物レンズ
７′の入射瞳とA0点とが共役になるよう構成する
ことが望ましい。この場合、被照明物体としての
レチクルＲが、コンデンサーレンズに関して、四
角柱部材の射出面９ｂの近傍と共役に配置される
べきことは言うまでもない。
の原理的構成を投影露光装置に応用した実施例の
光学系配置図である。第４図の構成例では走査光
学装置２０′により走査される平行光束の回転中
心A0点が、四角柱部材９の入射面９ａから離れ
た位置にあり、A0を含むＸ−Ｙ平面上に実質的
に拡大されたインコヒーレント光源が形成され
る。そして、四角柱部材の射出面９ｂの近傍に配
置された被照明物体としてのレチクルＲがインコ
ヒーレント照明され、投影対物７′によりレチク
ルＲ上のパターンがウエハＷ上に投影される。こ
の時、被照明物体としてのウエハＷ上も均一に照
明され、ウエハＷが四角柱部材の射出面９ｂの近
傍と共役に配置されていることは言うまでもな
い。レチクルＲを照明する実質的な光源面がA0
点にあるため、投影対物レンズ７′はその入射瞳
がこのA0点の近傍に形成されるものであること
が望ましい。また、四角柱部材９とレチクルＲと
の間にコンデンサーレンズを挿入する場合は、こ
のコンデンサーレンズに関して、投影対物レンズ
７′の入射瞳とA0点とが共役になるよう構成する
ことが望ましい。この場合、被照明物体としての
レチクルＲが、コンデンサーレンズに関して、四
角柱部材の射出面９ｂの近傍と共役に配置される
べきことは言うまでもない。
尚、上記実施例では四角柱部材により実質的な
拡大されたインコヒーレント光源を形成したが、
柱状部材であれば四角柱に限られるものではな
い。また、走査光学装置においてレーザー光源か
らの光束径をビームエキスパンダーによつて拡大
することは必ずしも必要ではなく、レーザー光源
からの光束を角度走査するだけで直ちに柱状部材
へ入射させることによつても十分にインコヒーレ
ント照明を行うことができる。
拡大されたインコヒーレント光源を形成したが、
柱状部材であれば四角柱に限られるものではな
い。また、走査光学装置においてレーザー光源か
らの光束径をビームエキスパンダーによつて拡大
することは必ずしも必要ではなく、レーザー光源
からの光束を角度走査するだけで直ちに柱状部材
へ入射させることによつても十分にインコヒーレ
ント照明を行うことができる。
以上のごとく、本発明によれば、コヒーレンシ
イの高い光源を用いた場合にも、光束変換手段と
内面反射面を有する反射部材とにより、拡大され
た大きなインコヒーレント光源が形成されるた
め、簡単な構成にてコヒーレンシイの低下した光
源を形成することができ、対物光学系を介して効
率良く照明を行うことが可能である。そして、レ
ーザ光を小さな領域で走査することとすれば、実
質的にインコヒーレントな光源を形成することが
でき、簡単な構成によつて高速での走査が可能な
インコヒーレント照明装置が達成される。
イの高い光源を用いた場合にも、光束変換手段と
内面反射面を有する反射部材とにより、拡大され
た大きなインコヒーレント光源が形成されるた
め、簡単な構成にてコヒーレンシイの低下した光
源を形成することができ、対物光学系を介して効
率良く照明を行うことが可能である。そして、レ
ーザ光を小さな領域で走査することとすれば、実
質的にインコヒーレントな光源を形成することが
でき、簡単な構成によつて高速での走査が可能な
インコヒーレント照明装置が達成される。
第１図は本発明による原理的構成を示す光路
図、第２図は柱状部材の斜視図、第３図は実施例
に用いられる走査光学装置の斜視図、第４図は本
発明による実施例の光学構成図である。 主要部分の符号の説明、１……レーザー光源、
２……光束変換手段、７……対物光学系、９……
内面反射可能な側面を有する反射部材。
図、第２図は柱状部材の斜視図、第３図は実施例
に用いられる走査光学装置の斜視図、第４図は本
発明による実施例の光学構成図である。 主要部分の符号の説明、１……レーザー光源、
２……光束変換手段、７……対物光学系、９……
内面反射可能な側面を有する反射部材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 所定の光軸に沿つてレーザ光を供給するレー
ザ光源と、前記光軸に垂直な面内で該光軸の周囲
に前記レーザ光の反射像を形成するために該光軸
の周囲に配置された内面反射可能な複数の側面を
有する反射部材と、該反射部材と前記光源との間
に配置されて前記反射部材に入射する前記レーザ
光源からの入射光束を所定の点を中心として所望
の角度で２次元的に交差する光に変換する光束変
換手段とを有し、前記反射部材の内面反射によつ
て前記光軸の周囲に分布する複数の光源像からな
りコヒーレンシイが低減された拡大光源を形成
し、前記コヒーレンシイが低減された拡大光源を
対物光学系の入射瞳上に形成すると共に、前記反
射部材の射出面近傍またはこれと共役な位置に被
照明物体を配置することによつて該被照明物体を
均一に照明することを特徴とする照明装置。 ２ 前記対物光学系は、所定のパターンを有する
レチクルをウエハ上に投影するための投影対物レ
ンズを有し、前記複数の光源像からなるコヒーレ
ンシイが低減された拡大光源を該投影対物レンズ
の入射瞳上に形成すると共に、前記レチクルを前
記被照明物体として均一照明することを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の照明装置。 ３ 前記光束変換手段は、射出光束の交差角を時
間的に変化させる走査手段を有することを特徴と
する特許請求の範囲第２項記載の照明装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1087787A JPH01295215A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 照明装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1087787A JPH01295215A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 照明装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58100689A Division JPS59226317A (ja) | 1983-06-06 | 1983-06-06 | 照明装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01295215A JPH01295215A (ja) | 1989-11-28 |
| JPH0375846B2 true JPH0375846B2 (ja) | 1991-12-03 |
Family
ID=13924697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1087787A Granted JPH01295215A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 照明装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01295215A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5638211A (en) | 1990-08-21 | 1997-06-10 | Nikon Corporation | Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system |
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-
1989
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Also Published As
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