JPH01110687A - 2-oxa-isocephem derivative - Google Patents

2-oxa-isocephem derivative

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JPH01110687A
JPH01110687A JP62267659A JP26765987A JPH01110687A JP H01110687 A JPH01110687 A JP H01110687A JP 62267659 A JP62267659 A JP 62267659A JP 26765987 A JP26765987 A JP 26765987A JP H01110687 A JPH01110687 A JP H01110687A
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JP
Japan
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group
reaction
compound represented
compound
formula
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Application number
JP62267659A
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Japanese (ja)
Inventor
Setsuo Fujii
藤井 節郎
Hiroshi Ishikawa
廣 石川
Koichi Yasumura
貢一 安村
Koichiro Jitsukawa
浩一郎 実川
Yukio Toyama
外山 幸雄
Hidetsugu Tsubouchi
壺内 英継
Kimio Sudo
須藤 公夫
Koichi Tsuji
辻 浩一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

NEW MATERIAL:A compound expressed by formula I [R<1> represents amino group having protecting group; R<2> represents cycloalkyl, etc.; R<3> represents group expressed by formula II (n is 1 or 2); R<4> represents carboxyl, carboxylate, etc.]. EXAMPLE:Diphenylmethyl (6S,7S)-7-[2-(2-tritylaminothiazol-4-yl)-2- methoxyiminoacetamido]-3-(1-pyrrolidinyl)methyl-DELTA<3>-0-2-isocephem -4-carboxylate. USE:The compound exhibits superior antibacterial activity against Gram-positive and Gram-negative bacteria, and dextrose-non-fermenting bacteria such as Pseudomonas aeruginosa, etc. PREPARATION:A compound expressed by formula III is reacted with a thioacetamide compound expressed by formula IV at -10-50 deg.C for 1-10hr to afford the aimed derivative.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、抗菌作用を有する2−オキサ−イソセフェム
誘導体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field of the Invention The present invention relates to 2-oxa-isocephem derivatives having antibacterial activity.

発明の開示 抗菌作用を有する2−オキサ−イソセフェム誘導体とし
ては、例えば、特開昭57−192387号公報に記載
の化合物が知られているが、本発明のイソセフェム誘導
体は、文献未記載の新規化合物であり、下記一般式(1
)で表される。
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a 2-oxa-isocephem derivative having an antibacterial effect, for example, the compound described in JP-A-57-192387 is known, but the isosephem derivative of the present invention is a novel compound not described in the literature. , and the following general formula (1
).

(式中、R1は保護基を有することのあるアミノ基; R2は低級アルキル基、カルボキシ基で置換されていで
もよいシクロアルキル基、シクロアルキル(低級)アル
キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基または基
: A−R5 (式中、Aは低級アルキレン基、R5はシアノ基、カル
ボキシ基またはカルバモイル基を示す。);R3は基: (式中、nは1または2を示す。) [式中、nは前記に同じ、R6は低級アルキル基、低級
アルケニル基または基: B−R7 (式中、Bは低級アルキレン基、R7は水酸基、カルバ
モイル基、シクロアルキル基または低級アルカノイル基
を示す。)] 該基: および基: は、ベンゼン環上の置換基として水酸基、低級アルコキ
シ基および低級アルカノイルオキシ基からなる群より選
ばれた基を1〜2個有することのあるベンゼン環と縮合
環を形成していてもよい;R4はカルボキシ基、カルボ
キシレート基またはエステル化されたカルボキシ基を示
す。)上記一般式(1)で表される本発明の化合物は、
広い範囲のダラム陽性菌およびダラム陰性菌に対して優
れた抗菌活性を示し、特にダラム陽性菌としてはスタフ
ィロコッカス・アウレウス(Staphylo−eoc
cus aureus PDA−209−P)、ストレ
プトコッカスeニューモニア(Streptococc
us pneumoniae)およびコリネバクテリウ
ム・ジフテリア(Corynebac−terium 
dfphtherfae)に対して優れた抗菌活性を示
す。さらに、緑膿菌などのブドウ糖非醗酵閑に対しても
優れた抗菌活性を示す。また、本発明化合物は、生体内
への吸収性が良く、薬効の持続時間が長く、毒性が低い
という特性を有し、耐性菌、臨床分離菌に対しても優れ
た効果を示す。さらに、本発明化合物は、安定性が高く
、吸収、排出性にも優れる。すなわち、腎排出が高く、
胆汁移行も良好である。また肺を含めた各臓器への分布
が高い。最小阻止濃度と最小殺菌濃度との差が少なく、
免疫抑制作用、アレルギー作用などの副作用が少ない。
(In the formula, R1 is an amino group that may have a protecting group; R2 is a lower alkyl group, a cycloalkyl group optionally substituted with a carboxy group, a cycloalkyl (lower) alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, or Group: A-R5 (in the formula, A is a lower alkylene group, R5 is a cyano group, carboxy group or carbamoyl group); R3 is a group: (in the formula, n represents 1 or 2) [in the formula , n is the same as above, R6 is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, or a group: B-R7 (wherein, B is a lower alkylene group, and R7 is a hydroxyl group, a carbamoyl group, a cycloalkyl group, or a lower alkanoyl group). ] The group: and the group: form a fused ring with a benzene ring that may have 1 to 2 groups selected from the group consisting of hydroxyl group, lower alkoxy group, and lower alkanoyloxy group as substituents on the benzene ring. (R4 represents a carboxy group, a carboxylate group, or an esterified carboxy group.) The compound of the present invention represented by the above general formula (1) is
It exhibits excellent antibacterial activity against a wide range of Durham-positive bacteria and Durham-negative bacteria.
cus aureus PDA-209-P), Streptococcus e pneumonia
us pneumoniae) and Corynebacterium diphtheriae (Corynebacterium diphtheriae).
dfphtherfae). Furthermore, it exhibits excellent antibacterial activity against non-glucose fermenters such as Pseudomonas aeruginosa. Furthermore, the compound of the present invention has the characteristics of good absorption into the body, long duration of medicinal efficacy, and low toxicity, and exhibits excellent effects against resistant bacteria and clinically isolated bacteria. Furthermore, the compound of the present invention has high stability and excellent absorption and excretion properties. i.e., renal excretion is high;
Bile transit is also good. It is also highly distributed in various organs including the lungs. There is little difference between the minimum inhibitory concentration and the minimum bactericidal concentration,
It has few side effects such as immunosuppressive effects and allergic effects.

従って、本発明の化合物は、各種病原細菌に起因する人
、動物、魚類の疾病の治療薬として有用であり、また医
療用器具等の外用殺菌剤や消毒剤としても有用である。
Therefore, the compounds of the present invention are useful as therapeutic agents for diseases of humans, animals, and fish caused by various pathogenic bacteria, and are also useful as external disinfectants and disinfectants for medical instruments and the like.

本明細書において示される各基は、より具体的にはそれ
ぞれ次の通りである。
More specifically, each group shown in this specification is as follows.

保護基を有することのあるアミノ基における保護基とし
ては、通常の保護基、例えば、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、
ヘキサノイル等の炭素数1〜6の低級アルカノイル基;
モノクロロアセチル、モノフルオロアセチル、モノブロ
モアセチル、モノヨードアセチル、ジクロロアセチル、
トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、3−ゲロ
ロプローピオニル、2,3−ジクロロプロピオニル、3
.3.3−トリクロロプロピオニル、4−クロロブチリ
ル、5−クロロペンタノイル、6−クロロヘキサノイル
、3−フルオロプロピオニル、4−フルオロブチリル等
のハロゲン原子が1〜3個置換した炭素数2〜6の低級
アルカノイル基;ベンジル、α−フェネチル、β−フェ
ネチル、3−フェニルプロピル、ベンズヒドリル、トリ
チル等のフェニル基を1〜3個有しかつアルキル部分の
炭素数が1〜6のフェニル(低級)アルキル基;フェニ
ルメトキシカルボニル、1−フェニルエトキシカルボニ
ル、2−フェニルエトキシカルボニル、3−フェニルプ
ロポキシカルボニル、4−フェニルブトキシカルボニル
、5−フェニルペンチルオキシカルボニル、6−フェニ
ルへキシルオキシカルボニル等のアルコキシ部分の炭素
数が1〜6のフェニル(低級)アルコキシカルボニル基
;メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキ
シカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカ
ルボニル、第3級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシ
カルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等のアルコキシ
部分の炭素数が1〜6の低級アルコキシカルボニル基な
どを例示できる。
As protecting groups for amino groups that may have protecting groups, common protecting groups such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl,
A lower alkanoyl group having 1 to 6 carbon atoms such as hexanoyl;
Monochloroacetyl, monofluoroacetyl, monobromoacetyl, monoiodoacetyl, dichloroacetyl,
Trichloroacetyl, trifluoroacetyl, 3-gelolopropionyl, 2,3-dichloropropionyl, 3
.. 3. A compound having 2 to 6 carbon atoms substituted with 1 to 3 halogen atoms, such as 3-trichloropropionyl, 4-chlorobutyryl, 5-chloropentanoyl, 6-chlorohexanoyl, 3-fluoropropionyl, 4-fluorobutyryl, etc. Lower alkanoyl group; phenyl (lower) alkyl group having 1 to 3 phenyl groups and having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl moiety, such as benzyl, α-phenethyl, β-phenethyl, 3-phenylpropyl, benzhydryl, trityl, etc. ; Carbon number of alkoxy moiety such as phenylmethoxycarbonyl, 1-phenylethoxycarbonyl, 2-phenylethoxycarbonyl, 3-phenylpropoxycarbonyl, 4-phenylbutoxycarbonyl, 5-phenylpentyloxycarbonyl, 6-phenylhexyloxycarbonyl, etc. is 1 to 6 phenyl (lower) alkoxycarbonyl group; carbon number of alkoxy moiety such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl Examples include 1 to 6 lower alkoxycarbonyl groups.

低級アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブ
チル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1〜6のアルキル
基を例示できる。
Examples of the lower alkyl group include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl, and hexyl.

カルボキシ基で置換されていてもよいシクロアルキル基
としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、シクロへブチル、シク
ロオクチル、1−カルボキシシクロプロピル、1−カル
ボキシシクロブチル、1−カルボキシシクロペンチル、
2−カルボキシシクロペンチル、3−カルボキシシクロ
ペンチル、1−カルボキシシクロヘキシル、1−カルボ
キシシクロへブチル、1−カルボキシシクロオクチル等
のカルボキシ基で置換されていてもよい炭素数1〜3の
シクロアルキル基を例示できる。
Examples of the cycloalkyl group which may be substituted with a carboxy group include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclohebutyl, cyclooctyl, 1-carboxycyclopropyl, 1-carboxycyclobutyl, 1-carboxycyclopentyl,
Examples include cycloalkyl groups having 1 to 3 carbon atoms that may be substituted with a carboxy group such as 2-carboxycyclopentyl, 3-carboxycyclopentyl, 1-carboxycyclohexyl, 1-carboxycyclohebutyl, and 1-carboxycyclooctyl. .

シクロアルキル(低級)アルキル基としては、例えば、
シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル、3
−シクロへキシルプロピル、4−シクロへキシルブチル
、5−シクロヘキシルペンチル、6−シクロへキシルヘ
キシル、シクロプロピルメチル、2−シクロブチルエチ
ル、シクロペンチルメチル、2−シクロへブチルエチル
、シクロオクチルメチル等のシクロアルキル部分の炭素
数が3〜8であり、アルキル部分の炭素数が1〜6であ
るシクロアルキル−アルキル基を例示できる。
Examples of the cycloalkyl (lower) alkyl group include:
Cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl, 3
- Cycloalkyl such as cyclohexylpropyl, 4-cyclohexylbutyl, 5-cyclohexylpentyl, 6-cyclohexylhexyl, cyclopropylmethyl, 2-cyclobutylethyl, cyclopentylmethyl, 2-cyclohebutylethyl, cyclooctylmethyl, etc. Examples include cycloalkyl-alkyl groups in which the moiety has 3 to 8 carbon atoms and the alkyl portion has 1 to 6 carbon atoms.

低級アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、
2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチルアリル、2−
ペンテニル、2−へキセニル等の炭素数2〜6のアルケ
ニル基を例示できる。
Examples of lower alkenyl groups include vinyl, allyl,
2-butenyl, 3-butenyl, 1-methylallyl, 2-
Examples include alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as pentenyl and 2-hexenyl.

低級アルキニル基としては、例えば、エチニル、1−プ
ロピニル、2−プロピニル、2−ブチニル、1−メチル
−2−プロピニル、2−ペンチニル、2−へキシニル等
の炭素数2〜6のアルキニル基を例示できる。
Examples of lower alkynyl groups include alkynyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 2-butynyl, 1-methyl-2-propynyl, 2-pentynyl, and 2-hexynyl. can.

低級アルキレン基としては、例えば、メチレン、メチル
メチレン、エチレン、ジメチルメチレン、トリメチレン
、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、
2,2−ジメチルトリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン等の炭素数1〜6のアルキ
レン基を例示できる。
Examples of the lower alkylene group include methylene, methylmethylene, ethylene, dimethylmethylene, trimethylene, 1-methyltrimethylene, 2-methyltrimethylene,
Examples include alkylene groups having 1 to 6 carbon atoms such as 2,2-dimethyltrimethylene, tetramethylene, pentamethylene, and hexamethylene.

R3で示される複素環式基における複素環部分としては
、例えば、1−ピロリジニル、ピペリジノ、1−インド
リニル、2−イソインドリニル、1.2.3.4−テト
ラヒドロキノリン−1−イル、1,2,3.4−テトラ
ヒドロイソキノリン−2−イル、4−ヒドロキシインド
リン−1−イル、5−ヒドロキシインドリン−1−イル
、6−ヒトロキシインドリンー1−イル、7−ヒトロキ
シインドリンー1−イル、5.6−シヒドロキシインド
リンー1−イル、4,5−ジヒドロキシインドリン−1
−イル、4−メトキシインドリン−1−イル、5−エト
キシインドリン−1−イル、6−ブロポキシインドリン
ー1−イル、7−ヘキジルオキシインドリンー1−イル
、6,7−シメトキシインドリンー1−イル、5,6−
シメトキシインドリンー1−イル、4−アセトキシイン
ドリン−1−イル、5−プロピオニルオキシインドリン
−1−イル、6−ヘキサツイルオキシインドリンー1−
イル、4,5−ジアセトキシインドリン−1−イル、5
.6−ジアセドキシインドリンー1−イル、5−ヒドロ
キシ−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−1−イ
ル、6−ヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ノリン−1−イル、7−ヒドロキシ−1,2,3,4−
テトラヒドロキノリン−1−イル、8−ヒドロキシ−1
,2,3,4−テトラヒドロキノリン−1−イル、5.
6−シヒドロキシー1.2,3.4−テトラヒドロキノ
リン−1−イル、6,7−シヒドロキシー1.2,3.
4−テトラヒドロキノリン−1−イル、5.8−ジヒド
ロキシ−1,2,3゜4−テトラヒドロキノリン−1−
イル、5−メトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ノリン−1−イル、6−ブロポキシー1.2,3.4−
テトラヒドロキノリン−1−イル、7−へキシルオキシ
−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−1−イル、
8−エトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン
−1−イル、5.8−ジメトキシ−1,2,3,4−テ
トラヒドロキノリン−1−イル、6.7−シメトキシー
1.2,3.4−テトラヒドロキノリン−1−イル、7
,8−ジメトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロキノ
リン−1−イル、5−アセトキシ−1,2,3,4−テ
トラヒドロキノリン−1−イル、6−ヘキサツイルオキ
シー1.2,3.4−テトラヒドロキノリン−1−イル
、7−プチリルオキシー1.2゜3.4−テトラヒドロ
キノリン−1−イル、8〜アセトキシ−1,2,3,4
−テトラヒドロキノリン−1−イル、5,6−ジアセド
キシー1.2゜3.4−テトラヒドロキノリン−1−イ
ル、6゜7−ジアセドキシー1.2.3.4−テトラヒ
ドロキノリン−1−イル、6,8−ジアセトキシ−1,
2,3,4−テトラヒドロキノリン−1−イル、4−ヒ
ドロキシイソインドリン−2−イル、5−ヒドロキシイ
ソインドリン−2〜イル、4゜5−ジヒドロキシイソイ
ンドリン−2−イル、5゜6−シヒドロキシイソインド
リンー2−イル、4゜6−シヒドロキシイソインドリン
ー2−′イル、4−メトキシイソインドリン−2−イル
、5−ブトキシイソインドリン−2−イル、4,7−シ
メトキシイソインドリンー2−イル、5’、  6−ジ
ェトキシイソインドリン−2−イル、4−ヘキサノイル
オキシイソインドリン−2−イル、・5−アセトキシイ
ソインドリン−2−イル、5.6−ジアセドキシイソイ
ンドリンー2−イル、4,6−ジアセドキシイソインド
リンー2−イル、5−ヒドロキシ−1,2,3,4−テ
トラヒドロイソキノリン−2−イル、6−ヒドロキシ−
1,2,3,4=テトラヒドロイソキノリン−2−イル
、7−ヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロイソ
キノリン−2−イル、8−ヒドロキシ−1,2,3゜4
−テトラヒドロイソキノリン−2−イル、5゜8−ジヒ
ドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン
−2−イル、5.6−シヒドロキシー1.2,3.4−
テトラヒドロイソキノリン−2−イル、5−メトキシ−
1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル
、6−ペンチルオキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ
イソキノリン−2−イル、7−ニトキシー1.2,3゜
4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル、7゜8−ジ
メトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン
−2−イル、5.6−シメトキシー1.2,3.4−テ
トラヒドロイソキノリン−2−イル、5−アセトキシ−
1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル
、6−プチリルオキシー1.2.3.4−テトラヒドロ
イソキノリン−2−イル、7−ヘキサツイルオキシー1
゜2.3.4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル、
8−アセトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロイソキ
ノリン−2−イル、5,6−ジアセドキシー1.2,3
.4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル、6.7−
ジアセドキシー1.2゜3.4−テトラヒドロイソキノ
リン−2−イル、7.8−ジアセトキシ−1,2,3,
4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル等の、ベンゼ
ン環上の置換基として水酸基、炭素数1〜6のアルコキ
シ基および炭素数1〜6のアルカノイルオキシ基からな
る群より選ばれた基を1〜2個有することのあるベンゼ
ン環と縮合環を形成していてもよい1−ピロリジニル、
ピペリジノ、1−インドリニル、2−イソインドリニル
、1,2.3.4−テトラヒドロキノリン−1−イル、
1,2,3゜4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル
等を例示できる。
Examples of the heterocyclic moiety in the heterocyclic group represented by R3 include 1-pyrrolidinyl, piperidino, 1-indolinyl, 2-isoindolinyl, 1.2.3.4-tetrahydroquinolin-1-yl, 1,2, 3.4-Tetrahydroisoquinolin-2-yl, 4-hydroxyindolin-1-yl, 5-hydroxyindolin-1-yl, 6-hydroxyindolin-1-yl, 7-hydroxyindolin-1-yl, 5 .6-dihydroxyindolin-1-yl, 4,5-dihydroxyindoline-1
-yl, 4-methoxyindolin-1-yl, 5-ethoxyindolin-1-yl, 6-bropoxyindolin-1-yl, 7-hexyloxyindolin-1-yl, 6,7-cymethoxyindolin-1-yl 1-yl, 5,6-
Cymethoxyindolin-1-yl, 4-acetoxyindolin-1-yl, 5-propionyloxyindolin-1-yl, 6-hexatsuyloxyindolin-1-yl
yl, 4,5-diacetoxyindolin-1-yl, 5
.. 6-diacedoxyindolin-1-yl, 5-hydroxy-1,2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl, 6-hydroxy-1,2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl, 7 -Hydroxy-1,2,3,4-
Tetrahydroquinolin-1-yl, 8-hydroxy-1
, 2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl, 5.
6-cyhydroxyl, 1.2,3.4-tetrahydroquinolin-1-yl, 6,7-cyhydroxyl, 1.2,3.
4-tetrahydroquinolin-1-yl, 5,8-dihydroxy-1,2,3°4-tetrahydroquinolin-1-
yl, 5-methoxy-1,2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl, 6-bropoxy 1.2,3.4-yl
Tetrahydroquinolin-1-yl, 7-hexyloxy-1,2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl,
8-ethoxy-1,2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl, 5.8-dimethoxy-1,2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl, 6.7-simethoxy1.2,3 .4-tetrahydroquinolin-1-yl, 7
, 8-dimethoxy-1,2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl, 5-acetoxy-1,2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl, 6-hexatsuyloxy-1.2,3. 4-tetrahydroquinolin-1-yl, 7-butyryloxy-1.2゜3.4-tetrahydroquinolin-1-yl, 8-acetoxy-1,2,3,4
-tetrahydroquinolin-1-yl, 5,6-diacedoxy1.2゜3.4-tetrahydroquinolin-1-yl, 6゜7-diacedoxy1.2.3.4-tetrahydroquinolin-1-yl, 6, 8-diacetoxy-1,
2,3,4-tetrahydroquinolin-1-yl, 4-hydroxyisoindolin-2-yl, 5-hydroxyisoindolin-2-yl, 4゜5-dihydroxyisoindolin-2-yl, 5゜6-yl Hydroxyisoindolin-2-yl, 4゜6-hydroxyisoindolin-2-'yl, 4-methoxyisoindolin-2-yl, 5-butoxyisoindolin-2-yl, 4,7-simethoxyisoindolin-2-yl -2-yl, 5', 6-jethoxyisoindolin-2-yl, 4-hexanoyloxyisoindolin-2-yl, 5-acetoxyisoindolin-2-yl, 5,6-diacedoxyiso Indolin-2-yl, 4,6-diacedoxyisoindolin-2-yl, 5-hydroxy-1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 6-hydroxy-
1,2,3,4=tetrahydroisoquinolin-2-yl, 7-hydroxy-1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 8-hydroxy-1,2,3゜4
-Tetrahydroisoquinolin-2-yl, 5°8-dihydroxy-1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 5.6-dihydroxy-1.2,3.4-
Tetrahydroisoquinolin-2-yl, 5-methoxy-
1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 6-pentyloxy-1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 7-nitoxy1.2,3°4-tetrahydroisoquinolin-2 -yl, 7゜8-dimethoxy-1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 5,6-simethoxy1.2,3.4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 5-acetoxy-
1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 6-butyryloxy-1.2.3.4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 7-hexatsuyloxy-1
゜2.3.4-tetrahydroisoquinolin-2-yl,
8-acetoxy-1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 5,6-diacedoxy1.2,3
.. 4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 6.7-
Diacetoxy 1.2゜3.4-tetrahydroisoquinolin-2-yl, 7.8-diacetoxy-1,2,3,
1 to 2 groups selected from the group consisting of hydroxyl group, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and alkanoyloxy group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent on the benzene ring, such as 4-tetrahydroisoquinolin-2-yl. 1-pyrrolidinyl, which may form a fused ring with a benzene ring,
piperidino, 1-indolinyl, 2-isoindolinyl, 1,2.3.4-tetrahydroquinolin-1-yl,
Examples include 1,2,3°4-tetrahydroisoquinolin-2-yl.

低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第三級ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の炭素数1
〜6のアルコキシ基を例示できる。
Examples of lower alkoxy groups include those having 1 carbon number, such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, tertiary butoxy, pentyloxy, and hexyloxy.
-6 alkoxy groups can be exemplified.

低級アルカノイルオキシ基としては、例えば、ホルミル
オキシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ、イソブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキ
サノイルオキシ等の炭素数1〜6のアルカノイルオキシ
基を例示できる。
Examples of the lower alkanoyloxy group include alkanoyloxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as formyloxy, acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, isobutyryloxy, pentanoyloxy, and hexanoyloxy.

エステル化されたカルボキシ基におけるエステル残基と
しては、通常のエステル残基、例えば、メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三
級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1〜6のアル
キル基:ベンジル、ベンズヒドリル、α−フェネチル、
β−フェネチル、α、β−ジフェニルエチル、3−フェ
ニルプロピル、4−フェニルブチル、5−フェニルペン
チル、6−フェニルヘキシル等のアルキル部分の炭素数
が1〜6の(モノまたはジ)フェニル低級アルキル基;
ビニル、アリル、クロチル、2−ペンテニル、2−へキ
セニル等の炭素数2〜6のアルケニル基;シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数3〜8のシ
クロアルキル基;シクロヘキシルメチル、2−シクロヘ
キシルエチル、3−シクロへキシルプロピル、4−シク
ロへキシルブチル、5−シクロヘキシルペンチル、6−
シクロへキシルヘキシル、シクロプロピルメチル、2−
シクロブチルエチル、シクロペンチルメチル、2−シク
ロへブチルエチル、シクロオクチルメチル等のシクロア
ルキル部分の炭素数が3〜8でありアルキル部分の炭素
数が1〜6であるシクロアルキル(低級)アルキル基を
例示することができる。
The ester residue in the esterified carboxy group is a common ester residue, for example, an alkyl having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl, hexyl, etc. Group: benzyl, benzhydryl, α-phenethyl,
(Mono or di) phenyl lower alkyl having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl moiety such as β-phenethyl, α, β-diphenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl, 5-phenylpentyl, 6-phenylhexyl, etc. Base;
Alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as vinyl, allyl, crotyl, 2-pentenyl, 2-hexenyl; cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl,
Cycloalkyl groups having 3 to 8 carbon atoms such as cycloheptyl and cyclooctyl; cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl, 3-cyclohexylpropyl, 4-cyclohexylbutyl, 5-cyclohexylpentyl, 6-
cyclohexylhexyl, cyclopropylmethyl, 2-
Examples of cycloalkyl (lower) alkyl groups in which the cycloalkyl part has 3 to 8 carbon atoms and the alkyl part has 1 to 6 carbon atoms, such as cyclobutylethyl, cyclopentylmethyl, 2-cyclohebutylethyl, and cyclooctylmethyl can do.

前記のエステル残基の(モノまたはジ)フェニル低級ア
ルキル基におけるフェニル部分には、置換基として、例
えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子等
のハロゲン原子;メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、
ヘキシル等の炭素数1〜6の低級アルキル基;メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、
第三級ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシ、ルオキシ等
の炭素数1〜6の低級アルコキシ基;ニトロ基;シアノ
基;メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等のアルコキ
シ部分の炭素数が1〜6の低級アルコキシカルボニル基
;およびアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリ
ルオキシ、インブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、
ヘキサノイルオキシ等のアルカノイル部分の炭素数が1
〜6の低級アルカノイルオキシ基からなる群より選ばれ
た置換基を1〜3個、またはメチレンジオキシ、エチレ
ンジオキシ、トリメチレンジオキシ、テトラメチレンジ
オキシ等の炭素数1〜4の低級アルキレンジオキシ基を
有していてもよい。
The phenyl moiety in the (mono- or di)phenyl lower alkyl group of the ester residue has, as a substituent, a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, an iodine atom; methyl, ethyl, propyl, isopropyl. , butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl,
Lower alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as hexyl; methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy,
Lower alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as tertiary butoxy, pentyloxy, hexy, and ruoxy; nitro group; cyano group; methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl , pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl and other lower alkoxycarbonyl groups having 1 to 6 carbon atoms in the alkoxy moiety; and acetyloxy, propionyloxy, butyryloxy, imbutyryloxy, pentanoyloxy,
The number of carbon atoms in the alkanoyl moiety such as hexanoyloxy is 1
1 to 3 substituents selected from the group consisting of 6 lower alkanoyloxy groups, or lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as methylenedioxy, ethylenedioxy, trimethylenedioxy, and tetramethylenedioxy. It may have a dioxy group.

また、前記のエステル残基の低級アルキル基には、置換
基として、例えば、上記のハロゲン原子′を1〜3個、
上記の低級アルコキシ基、上記の低級アルカノイルオキ
シ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、上記の低級アル
カノイルアミノ基またはメチルチオ、エチルチオ、プロ
ピルチオ、ブチルチオ等の低級アルキルチオ基が置換し
ていてもよい。
Furthermore, the lower alkyl group of the ester residue has, for example, 1 to 3 of the above halogen atoms' as a substituent,
The above-mentioned lower alkoxy group, the above-mentioned lower alkanoyloxy group, cyano group, nitro group, amino group, the above-mentioned lower alkanoylamino group, or lower alkylthio group such as methylthio, ethylthio, propylthio, and butylthio may be substituted.

次に、下記一般式で表される本発明化合物の代表的な例
を次表に示す。
Next, typical examples of the compounds of the present invention represented by the following general formula are shown in the following table.

(以下余白) 本発明の化合物および原料化合物は種々の方法で製造す
ることができるが、例えば、下記反応工程式−1から反
応工程式−8に示される方法により製造することができ
る。
(Left below) The compound and raw material compound of the present invention can be produced by various methods, and for example, can be produced by the methods shown in Reaction Scheme-1 to Reaction Scheme-8 below.

反応工程式−1 (1−al (式中、R’、R2、nおよび基: は前記に同じ、R8はハロゲン原子、ハロゲン原子で置
換されていてもよいcl−6フルカンスルホニルオキシ
基、またはC1−6アルキル基、ハロゲン原子およびニ
トロ基からなる群より選ばれた基を1〜3個有していて
もよいアリールスルホニルオキシ基を示し、1l(4a
 はカルボキシ基またはエステル化されたカルボキシ基
を示す。
Reaction scheme-1 (1-al (wherein R', R2, n and the group: are the same as above, R8 is a halogen atom, a cl-6 flucanesulfonyloxy group optionally substituted with a halogen atom, or An arylsulfonyloxy group optionally having 1 to 3 groups selected from the group consisting of a C1-6 alkyl group, a halogen atom, and a nitro group, and 1l (4a
represents a carboxy group or an esterified carboxy group.

また、化合物 はベンゼン環上の置換基として水酸基、低級アルコキシ
基および低級アルカノイルオキシ基からなる群より選ば
れた基を1〜3個有することのあるベンゼン環と縮合環
を形成していてもよい。)本発明の化合物である一般式
(1−a)で表される化合物は、適当な不活性溶媒中、
一般式(2)で表される化合物と一般式(3−a)で表
される化合物とを反応させることにより得られる。
Further, the compound may form a fused ring with a benzene ring that may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of hydroxyl group, lower alkoxy group, and lower alkanoyloxy group as substituents on the benzene ring. . ) The compound represented by the general formula (1-a), which is a compound of the present invention, is prepared in a suitable inert solvent,
It is obtained by reacting a compound represented by general formula (2) with a compound represented by general formula (3-a).

一般式■で表される化合物において、R8で表されるハ
ロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等が
挙げられ、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−
6フルカンスルホニルオキシ基としては、メタンスルホ
ニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、プロパンスルホ
ニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等が
挙げられ、またC   アルキル基、ハロゲン原子もし
1・−6 くはニトロ基で置換されていてもよいアリールスルホニ
ルオキシ基としては、ベンゼンスルホニルオキシ、トル
エンスルホニルオキシ、p−クロロベンゼンスルホニル
オキシ、p−ニトロベンゼンスルホニルオキシ等が挙げ
られる。
In the compound represented by the general formula (■), examples of the halogen atom represented by R8 include chlorine, bromine, iodine, fluorine, etc., and C1- which may be substituted with a halogen atom.
Examples of the 6-flukanesulfonyloxy group include methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, propanesulfonyloxy, trifluoromethanesulfonyloxy, and C alkyl group, halogen atom, if substituted with 1.-6 or nitro group. Examples of suitable arylsulfonyloxy groups include benzenesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy, p-chlorobenzenesulfonyloxy, p-nitrobenzenesulfonyloxy, and the like.

溶媒としては、この反応に悪影響を与えない溶媒であれ
ば、いずれの溶媒も使用でき、例えば、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン
等の脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロ
パツール等のアルコール類、ジメチルホルムアミド(D
MF) 、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)
 、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン
性極性溶媒、二硫化炭素等が例示できる。
As the solvent, any solvent can be used as long as it does not adversely affect this reaction; for example, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc.
Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, and alcohols such as methanol, ethanol, and propatool. , dimethylformamide (D
MF), hexamethylphosphate triamide (HMPA)
, aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), and carbon disulfide.

一般式(2)で表される化合物に対する一般式(3−a
)で表される化合物の使用割合は、少なくとも等モル量
、好ましくは1〜2倍モル量とするのがよい。反応温度
は一10℃〜100℃、好ましくは0〜50℃で行なう
のがよい。
General formula (3-a) for the compound represented by general formula (2)
The proportion of the compound represented by ) is preferably at least an equimolar amount, preferably 1 to 2 times the molar amount. The reaction temperature is preferably -10°C to 100°C, preferably 0 to 50°C.

かくして−殺伐(1−a)で表される化合物が得られる
In this way, a compound represented by the formula (1-a) is obtained.

得られた一般式(1−a)で表される化合物において、
R1が保護されたアミノ基を示す場合、該化合物をアミ
ノ保護基を除去する反応(以下、アミノ保護基の脱離反
応と称する)に付すことにより対応するR1がアミノ基
を示す化合物に誘導することができる。また−殺伐(1
−a)で表される化合物において、R4aがエステル化
されたカルボキシ基を示す場合、該化合物をエステル残
基を除去する反応(以下、脱エステル化反応と称する)
に付すことにより、対応する Raaがカルボキシ基を
示す化合物に誘導することができる。さらに、−殺伐(
1−a)で表される化合物において、R1が保護された
アミノ基およびR4aがエステル化されたカルボキシ基
を示す場合、アミノ保護基の脱離反応および脱エステル
化反応に付すことにより対応するR1がアミノ基および
R4aがカルボキシ基を示す化合物に誘導することがで
きる。
In the obtained compound represented by general formula (1-a),
When R1 represents a protected amino group, the compound is subjected to a reaction for removing the amino protecting group (hereinafter referred to as amino protecting group elimination reaction) to derive a corresponding compound in which R1 represents an amino group. be able to. Also - murderous (1
- In the compound represented by a), when R4a represents an esterified carboxy group, a reaction of removing the ester residue from the compound (hereinafter referred to as deesterification reaction)
A compound in which the corresponding Raa represents a carboxyl group can be derived. Furthermore, - slaying (
In the compound represented by 1-a), when R1 represents a protected amino group and R4a represents an esterified carboxy group, the corresponding R1 can be derived into a compound in which R4a is an amino group and R4a is a carboxy group.

上記のアミノ保護基の脱離反応は、無溶媒または不活性
溶媒中において、−殺伐(1−a)で表される化合物に
酸性化合物または塩基性化合物を反応させる方法、−殺
伐(1−a)で表される化合物を接触還元反応に付す方
法などにより行なわれる。
The above amino-protecting group elimination reaction can be carried out by reacting a compound represented by -Salt (1-a) with an acidic compound or a basic compound in a solvent-free or inert solvent; ) is subjected to a catalytic reduction reaction.

上記反応に用いられる不活性溶媒としては、例えば、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ア
ニソール等のエーテル類、ニトロメタン、ニトロベンゼ
ン等のニトロ化合物、メタノール、エタノール等のアル
コール類、酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エステル類
、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類
、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、ピリジン、ピペリジン等のアミン類、ジメチルホルム
アミド(DMF) 、ヘキサメチルリン酸トリアミド(
HMPA) 、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の
非プロトン性極性溶媒、二硫化炭素、水または水と上記
の有機溶媒との混合溶媒などを例示できる。反応系に水
を添加する場合には、水の添加量は酸性化合物または塩
基性化合物に対して10〜80 v / v%程度が好
ましく、さらに反応終了後10〜20倍量添加するのが
よい。
Examples of the inert solvent used in the above reaction include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and anisole, and nitromethane and nitrobenzene. Nitro compounds, alcohols such as methanol and ethanol, acetate esters such as ethyl acetate and methyl acetate, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, pyridine, Amines such as piperidine, dimethylformamide (DMF), hexamethylphosphoric triamide (
HMPA), aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), carbon disulfide, water or a mixed solvent of water and the above-mentioned organic solvents. When water is added to the reaction system, the amount of water added is preferably about 10 to 80 v/v% relative to the acidic compound or basic compound, and it is further preferable to add 10 to 20 times the amount after the reaction is completed. .

使用される酸性化合物としては、無水塩化アルミニウム
、塩化第2スズ、四塩化チタン、三塩化ホウ素、三フッ
化ホウ素−ジエチルエーテル錯体、塩化亜鉛等のルイス
酸、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸等の無機酸、トリク
ロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、酢酸
、ギ酸等の有機酸、酸型イオン交換樹脂などの酸類が挙
げられ、また塩基性化合物としてはトリエチルアミン、
トリブチルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、
ピコリン、1.5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノネ
ン−5,1,4−ジアザビシクロ[2,2゜2]オクタ
ン、1.8−ジアザビシクロ[5,4゜0コウンデセン
−7などの有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等の無機
塩基などの塩基類が例示できる。
Acidic compounds used include anhydrous aluminum chloride, stannic chloride, titanium tetrachloride, boron trichloride, boron trifluoride-diethyl ether complex, Lewis acids such as zinc chloride, hydrochloric acid, hydrobromic acid, nitric acid, Examples include inorganic acids such as sulfuric acid, organic acids such as trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, acetic acid, and formic acid, and acids such as acid type ion exchange resins. Basic compounds include triethylamine,
Trialkylamines such as tributylamine, pyridine,
Organic bases such as picoline, 1,5-diazabicyclo[4,3,0]nonene-5,1,4-diazabicyclo[2,2゜2]octane, 1,8-diazabicyclo[5,4゜0oundecene-7 , alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate,
Examples include bases such as inorganic bases such as alkali metal hydrogen carbonates such as potassium hydrogen carbonate.

上記の反応を接触還元法で行なう場合、用いられる接触
還元触媒としては、例えば、プラチナ触媒(例えば、酸
化白金、白金黒、白金線、白金板、スポンジ状白金、コ
ロイド状白金等)、パラジウム触媒(例えば、パラジウ
ム黒、塩化パラジウム、酸化パラジウム、パラジウム−
炭素、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バ
リウム、スポンジ状パラジウム等)、ニッケル触媒(例
えば、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル等
)、コバルト触媒(例えば、還元コバルト、ラネーコバ
ルト等)、鉄触媒(例えば、還元鉄、ラネー鉄等)、銅
触媒(例えば、還元銅、ラネー銅等)などを例示できる
When the above reaction is carried out by a catalytic reduction method, the catalytic reduction catalyst used is, for example, a platinum catalyst (e.g., platinum oxide, platinum black, platinum wire, platinum plate, sponge platinum, colloidal platinum, etc.), palladium catalyst (For example, palladium black, palladium chloride, palladium oxide, palladium-
carbon, palladium-barium sulfate, palladium-barium carbonate, spongy palladium, etc.), nickel catalysts (e.g., reduced nickel, nickel oxide, Raney nickel, etc.), cobalt catalysts (e.g., reduced cobalt, Raney cobalt, etc.), iron catalysts (e.g. , reduced iron, Raney iron, etc.), copper catalysts (for example, reduced copper, Raney copper, etc.), and the like.

上記の反応において、酸性化合物または塩基性化合物を
使用する場合には、−殺伐(1−a)で表される化合物
に対する酸性化合物または塩基性化合物の使用割合は、
1〜100倍モル量、好ましくは1〜20倍モル量とす
るのがよい。また、該反応は、−20℃〜80℃、好ま
しくは一10℃〜50℃の温度条件下で行なわれ、30
分〜48時間、好ましくは1〜24時間程時間路了する
In the above reaction, when using an acidic compound or a basic compound, the ratio of the acidic compound or basic compound to the compound represented by -killing (1-a) is:
The amount is preferably 1 to 100 times the molar amount, preferably 1 to 20 times the molar amount. Further, the reaction is carried out at a temperature of -20°C to 80°C, preferably -10°C to 50°C, and 30°C to 80°C.
It takes about 1 minute to 48 hours, preferably 1 to 24 hours.

また、接触還元法を適用する場合には、−殺伐(1−a
)で表される化合物に対する接触還元触媒の使用割合は
、0.1〜10倍モル量、好ましくは0.1〜1倍モル
量とするのがよい。また該反応は0〜200℃、好まし
くは0〜100℃の温度条件下で行なわれ、30分〜4
8時間、好ましくは30分〜6時間程度で終了する。
In addition, when applying the contact reduction method, -killing (1-a
) The ratio of the catalytic reduction catalyst to be used is 0.1 to 10 times the molar amount, preferably 0.1 to 1 times the molar amount. The reaction is carried out at a temperature of 0 to 200°C, preferably 0 to 100°C, for 30 minutes to 40 minutes.
The process is completed in about 8 hours, preferably about 30 minutes to 6 hours.

−殺伐(1−a)で表される化合物の脱エステル化反応
は、無溶媒または適当な不活性溶媒中、加水分解触媒の
存在下に行なわれる。使用される不活性溶媒および加水
分解触媒としては、各々上記アミノ保護基の脱離反応で
例示された不活性溶媒並びに酸性化合物および塩基性化
合物が例示できる。
The deesterification reaction of the compound represented by (1-a) is carried out without a solvent or in a suitable inert solvent in the presence of a hydrolysis catalyst. Examples of the inert solvent and hydrolysis catalyst used include the inert solvents, acidic compounds, and basic compounds exemplified in the above amino-protecting group elimination reaction.

該脱エステル化反応は、R4aのエステル残基が、例え
ば、ベンジル等の接触還元法により容易に脱離するエス
テル残基の場合には、接触還元法によっても行なうこと
ができる。接触還元法に用いられる触媒としては、上記
アミノ保護基の脱離反応で例示された触媒が挙げられる
The deesterification reaction can also be carried out by a catalytic reduction method when the ester residue of R4a is an ester residue such as benzyl that is easily eliminated by a catalytic reduction method. Examples of the catalyst used in the catalytic reduction method include the catalysts exemplified in the above-mentioned amino-protecting group elimination reaction.

上記の反応で、酸または塩基を使用する場合には、−殺
伐(1−a)で表される化合物に対する酸または塩基の
使用割合は、1〜100倍モル量、好ましくは1〜20
倍モル量とするのがよい。また、該反応は一20℃〜8
0℃、好ましくは一10℃〜50℃の温度条件下で、3
0分〜48時間、好ましくは1〜24時間程度行なえば
よい。
When an acid or base is used in the above reaction, the molar ratio of the acid or base to the compound represented by (1-a) is 1 to 100 times, preferably 1 to 20 times the molar amount.
It is better to double the molar amount. Moreover, the reaction is carried out at -20°C to 8°C.
3 at a temperature of 0°C, preferably -10°C to 50°C.
It may be carried out for about 0 minutes to 48 hours, preferably about 1 to 24 hours.

また、接触還元法を適用する場合には、−殺伐(1−a
)で表される化合物に対する接触還元触媒の使用割合は
、0.1〜10倍モル量、好ましくは0.1〜1倍モル
量とするのがよい。該反応は、0〜200℃、好ましく
は0〜100℃の温度条件下で、30分〜48時間、好
ましくは30分〜6時間程度行なえばよい。
In addition, when applying the contact reduction method, -killing (1-a
) The ratio of the catalytic reduction catalyst to be used is 0.1 to 10 times the molar amount, preferably 0.1 to 1 times the molar amount. The reaction may be carried out at a temperature of 0 to 200°C, preferably 0 to 100°C, for about 30 minutes to 48 hours, preferably about 30 minutes to 6 hours.

(1−bl (1−cl (式中、R1、R2、R4a 、R6、R8、nおよび
基: は前記に同じ、R4bはカルボキシ基またはカルボキシ
レート基を示し、gは0または1を示す。
(1-bl (1-cl (wherein R1, R2, R4a, R6, R8, n and the group: are the same as above, R4b represents a carboxy group or a carboxylate group, and g represents 0 or 1.

また化合物 は、ベンゼン環上の置換基として水酸基、低級アルコキ
シ基および低級アルカノイルオキシ基からなる群より選
ばれた基を1〜3個有することのあるベンゼン環と縮合
環を形成していてもよい。
Further, the compound may form a fused ring with a benzene ring that may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of hydroxyl group, lower alkoxy group, and lower alkanoyloxy group as substituents on the benzene ring. .

但し、R4bがカルボキシ基を示すとき、gは1を示し
、またR4bがカルボキシレート基を示すときは、gは
0を示す。) 上記反応工程式にいて、−殺伐■で表される化合物と一
般式(3−b)で表される化合物との反応は、前記反応
工程式−1における一般式(2)で表される化合物と一
般式(3−a)で表される化合物との反応と同様な条件
下に行うことができる。
However, when R4b represents a carboxy group, g represents 1, and when R4b represents a carboxylate group, g represents 0. ) In the above reaction scheme, the reaction between the compound represented by -Sakura ■ and the compound represented by general formula (3-b) is represented by general formula (2) in the above reaction scheme-1. The reaction can be carried out under the same conditions as the reaction between the compound and the compound represented by general formula (3-a).

また得られた一般式(1−b)で表される化合物におい
て、R4aがエステル化されたカルボキシ基を示す場合
、該化合物を脱エステル化反応に付すことにより、−殺
伐(1−c)で表される化合物を得ることができる。該
脱エステル化反応は、前記反応工程−殺伐−1に示され
た脱エステル化反応の条件と同様な条件下に行うことが
できる。
In addition, in the obtained compound represented by the general formula (1-b), when R4a represents an esterified carboxy group, by subjecting the compound to a deesterification reaction, -killing (1-c) can be performed. The represented compounds can be obtained. The deesterification reaction can be carried out under the same conditions as the deesterification reaction conditions shown in the reaction step-1.

なお、脱エステル化反応終了後、ダイヤイオンHP−2
0(三菱化成工業■製)、アンバーライトXAD−2(
ローム アンド ハス社製)等ヲ用いたカラムクロマト
グラフィーにより精製することにより、陰イオンを除去
し、分子内塩を形成することができる。脱エステル後、
陰イオン基を除去しない時には、−殺伐(1−c)で表
される化合物のR4bがカルボキシ基を示す化合物が製
造される。
In addition, after the completion of the deesterification reaction, Diaion HP-2
0 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Amberlight XAD-2 (
By purifying the product by column chromatography using a column chromatography (manufactured by Rohm & Hass Co., Ltd.), anions can be removed and an inner salt can be formed. After deesterification,
When the anionic group is not removed, a compound represented by -saccharide (1-c) in which R4b represents a carboxy group is produced.

また−殺伐(1−b)または−殺伐(1−c)で表され
る化合物において、R1が保護されたアミノ基を示す場
合には、反応工程式−1で示されたアミノ保護基の脱離
反応と同様な条件下に、アミノ保護基の脱離反応に付す
ことにより、対応するR1がアミノ基を示す化合物に誘
導される。
In addition, in the compound represented by -Kakeru (1-b) or -Kakeru (1-c), when R1 represents a protected amino group, the removal of the amino protecting group shown in Reaction Scheme-1 By subjecting the amino protecting group to an elimination reaction under the same conditions as the elimination reaction, a compound in which the corresponding R1 represents an amino group is derived.

さらに、−殺伐(1−b)または−殺伐(1−c)で表
される化合物において、(R8)−で示される陰イオン
基は、陰イオンの交換反応に付すことにより、他の陰イ
オン基へ変換することができる。
Furthermore, in the compound represented by -Sakobatsu (1-b) or -Kabatsu (1-c), the anionic group represented by (R8)- can be exchanged with other anions by subjecting it to an anion exchange reaction. It can be converted into a group.

上記の交換反応は、−殺伐(t−b)または−殺伐(1
−c)で表される化合物と陰イオン供与試薬とを、適当
な溶媒、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類等の不活性溶媒中、−10℃〜50℃にて0
.5〜5時間程度反応させることにより行われる。
The above exchange reaction is -killing (t-b) or -killing (1
The compound represented by -c) and the anion donating reagent are combined in a suitable solvent, such as ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, 0 in inert solvents such as aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, etc. at -10℃ to 50℃
.. This is carried out by reacting for about 5 to 5 hours.

この反応に使用される陰イオン供与試薬としては、例え
ば、硫酸、塩酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸
、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、フッ化水素酸等を例示で
きる。
Examples of the anion donating reagent used in this reaction include sulfuric acid, hydrochloric acid, methanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, and hydrofluoric acid.

反応工程式−3 (1−al (1−d)  ’ (式中、R1、R2、R4a 、R4、R6、R8、f
l s n s基; および基; は前記に同じ。
Reaction scheme-3 (1-al (1-d) ' (wherein, R1, R2, R4a, R4, R6, R8, f
l s n s group; and group; are the same as above.

但し、R4がカルボキシレート基を示すとき、gは0を
示し、またR4がカルボキシ基またはエステル化された
カルボキシ基を示すとき、Ωは1を示す。) 一般式(1−d)で表される化合物は、不活性溶媒中、
−殺伐(1−a)で表される化合物と一般式(4)で表
されるハライド化合物とを反応させることにより製造さ
れる。
However, when R4 represents a carboxylate group, g represents 0, and when R4 represents a carboxy group or an esterified carboxy group, Ω represents 1. ) The compound represented by general formula (1-d) is prepared in an inert solvent,
- Manufactured by reacting a compound represented by saccharide (1-a) and a halide compound represented by general formula (4).

この反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類等を例示
することができる。該反応は、室温〜100℃、好まし
くは50〜80℃程度にて、2〜8時間程度反応させる
ことにより終了する。上記−殺伐(4)で表されるハラ
イド化合物の使用量は、−殺伐(1−a)で表される化
合物に対して、1〜1.5倍モル量程度使用するのがよ
い。
Examples of inert solvents used in this reaction include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, benzene, toluene,
Examples include aromatic hydrocarbons such as xylene, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane. The reaction is completed by reacting at room temperature to 100°C, preferably about 50 to 80°C, for about 2 to 8 hours. The amount of the halide compound represented by the above-mentioned -salting (4) is preferably about 1 to 1.5 times the molar amount of the compound represented by -salting (1-a).

かくして得られた一般式(1−d)で表される化合物に
おいて、R1が保護されたアミノ基を示す場合には、該
化合物を前記のアミノ保護基の脱離反応に付すことによ
り、対応するR1がアミノ基を示す化合物に誘導される
。また(R8)″で示される陰イオン基は、前記の陰イ
オン交換反応により、他の陰イオンに変換することがで
きる。
In the compound represented by the general formula (1-d) thus obtained, when R1 represents a protected amino group, the corresponding It is derived from a compound in which R1 represents an amino group. Further, the anion group represented by (R8)'' can be converted into another anion by the above-mentioned anion exchange reaction.

さらに、−殺伐(1−d)で示される化合物において、
R4がカルボキシ基を示す化合物は、上記の反応終了後
、ダイヤイオンHP−20(三菱化成工業■製)、アン
バーライトXAD−2(ロームアンド ハス社製)等を
用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することに
より、陰イオンを除去し、分子内塩を形成したR4がカ
ルボキシレート基およびgが0を示す化合物を得ること
ができる。陰イオン基を除去しない時には、−殺伐(1
−d)で表される化合物のR4がカルボキシ基を示す化
合物が製造される。
Furthermore, in the compound represented by -killing (1-d),
Compounds in which R4 represents a carboxyl group are purified by column chromatography using Diaion HP-20 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Amberlite XAD-2 (manufactured by Rohm and Hass), etc. after the above reaction is completed. By doing so, it is possible to remove the anion and obtain a compound in which R4 represents a carboxylate group and g represents 0, forming an inner salt. When anionic groups are not removed, -killing (1
A compound represented by -d) in which R4 represents a carboxy group is produced.

また−殺伐(1−d)で表される化合物のR4がエステ
ル化されたカルボキシ基を示す場合、該化合物を前記の
脱エステル化反応に付すことにより、R4がカルボキシ
基の化合物が得られ、また脱エステル化反応後、前記樹
脂を用いたカラム法等により陰イオンを除去するするこ
とによりR4がカルボキシレート基を示す分子内塩を形
成させることができる。
In addition, when R4 of the compound represented by -Sakuhatsu (1-d) represents an esterified carboxy group, a compound in which R4 is a carboxy group can be obtained by subjecting the compound to the above-mentioned deesterification reaction, Further, after the deesterification reaction, by removing anions by a column method using the above-mentioned resin, an inner salt in which R4 represents a carboxylate group can be formed.

反応工程式−4 (式中、R’ 8% R8% n s基ユおよび化合物 は前記に同じ、R9はアジド基、フェニル環上に置換基
としてニトロ基を有することのあるフタルイミド基、フ
ェニル酢酸アミド基または保護基を有することのあるア
ミノ基を示す。) −殺伐(5)で表される化合物と一般式(3−a)で表
される化合物との反応は、前記反応工程式−1の一般式
(2)で表される化合物と一般式(3−a)で表される
化合物との反応と同様な条件下に行うことができる。
Reaction Scheme-4 (In the formula, R' 8% R8% ns group and compound are the same as above, R9 is an azide group, a phthalimide group that may have a nitro group as a substituent on the phenyl ring, phenylacetic acid (Indicates an amide group or an amino group that may have a protective group.) - The reaction between the compound represented by saccharide (5) and the compound represented by general formula (3-a) is carried out according to the reaction scheme-1 described above. The reaction can be carried out under the same conditions as the reaction between the compound represented by the general formula (2) and the compound represented by the general formula (3-a).

(以下余白) 反応工程式−5 (式中、R4、R4a 、  R4b 、 R6、R8
、R9、Ω、ns基: および化合物 は前記に同じ。但し、R4がカルボキシ基もしくはエス
テル化されたカルボキシ基、または R4bがカルボキ
シ基を示すとき、Ωは1を示し、R4またはR4bがカ
ルボキシレート基を示すとき、gは0を示す。) 一般式(5)で表される化合物と一般式(3−b)で表
される化合物との反応は、前記反応工程式−1の一般式
(2)で表される化合物と一般式(3−a)で表される
化合物との反応と同様な条件下に行うことができる。
(Left space below) Reaction process formula-5 (In the formula, R4, R4a, R4b, R6, R8
, R9, Ω, ns group: and the compounds are the same as above. However, when R4 represents a carboxy group or an esterified carboxy group, or R4b represents a carboxy group, Ω represents 1, and when R4 or R4b represents a carboxylate group, g represents 0. ) The reaction between the compound represented by the general formula (5) and the compound represented by the general formula (3-b) is performed by reacting the compound represented by the general formula (2) in the reaction process scheme-1 with the general formula ( The reaction can be carried out under the same conditions as the reaction with the compound represented by 3-a).

また生成した一般式(7)で表される化合物において、
R4がエステル化されたカルボキシ基を示す場合、該化
合物を脱エステル化反応に付すことにより一般式(8)
で表される化合物を得ることができる。該脱エステル化
反応は、前記反応工程式−1に示された脱エステル化反
応と同様な条件下に行うことができる。
In addition, in the generated compound represented by general formula (7),
When R4 represents an esterified carboxy group, general formula (8) can be obtained by subjecting the compound to a deesterification reaction.
A compound represented by can be obtained. The deesterification reaction can be carried out under the same conditions as the deesterification reaction shown in Reaction Scheme-1 above.

反応工程式−6 (式中、R3、R4およびR9は前記に同じ。)上記の
反応工程式−6は、−殺伐(9)で表される化合物を、
その置換基であるR9の種類に応じて、還元反応、加水
分解反応またはヒドラジン分解反応に付すこと、により
、一部新規化合物を包含する一般式00)で表される化
合物を製造する方法である。
Reaction Scheme-6 (In the formula, R3, R4, and R9 are the same as above.) The above Reaction Scheme-6 shows that the compound represented by -Sakatsu (9),
A method for producing a compound represented by the general formula 00), which includes some new compounds, by subjecting it to a reduction reaction, a hydrolysis reaction, or a hydrazine decomposition reaction depending on the type of R9, which is a substituent thereof. .

上記の反応工程式において、基R9がアジド基の場合、
−殺伐(9)で表される化合物を無溶媒または適当な不
活性溶媒の存在下に還元剤を作用させて、−殺伐00)
で表されるアミン化合物を得る。
In the above reaction scheme, when group R9 is an azido group,
- The compound represented by (9) is treated with a reducing agent in the absence of a solvent or in the presence of an appropriate inert solvent;
An amine compound represented by is obtained.

この反応において用いられる溶媒としては、例えば、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トリエ
チルアミン、ピリジン等のアミン類を例示できる。
Examples of the solvent used in this reaction include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, benzene, toluene,
Examples include aromatic hydrocarbons such as xylene, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, and amines such as triethylamine and pyridine.

還元剤としては、硫化水素等が例示できる。硫化水素等
を使用する場合には、トリエチルアミン、ピリジン等の
アミン類を添加するとよい。
Examples of the reducing agent include hydrogen sulfide. When hydrogen sulfide or the like is used, amines such as triethylamine and pyridine may be added.

−殺伐(9)で表される化合物に対する還元剤の使用割
合は等モル−100倍モル量、好ましくは3〜50倍モ
ル量とするのがよい。該反応は、通常−30℃〜50℃
、好ましくは一10℃〜10℃にて行なわれ、30分〜
10時間程度で終了する。
- The ratio of the reducing agent used to the compound represented by (9) is preferably equal to 100 times the molar amount, preferably 3 to 50 times the molar amount. The reaction is usually carried out at -30°C to 50°C.
, preferably at -10°C to 10°C for 30 minutes to
It will be completed in about 10 hours.

また、基R9がフェニル酢酸アミド基の場合には、無溶
媒または不活性溶媒中、−殺伐(9)で表される化合物
を加水分解反応に付すことにより一般式(10)で表さ
れるアミン化合物が得られる。
In addition, when the group R9 is a phenylacetic acid amide group, the amine represented by the general formula (10) can be prepared by subjecting the compound represented by -salt (9) to a hydrolysis reaction without a solvent or in an inert solvent. A compound is obtained.

この反応は、前記反応工程式−1に示される脱エステル
化反応と実質的に同様に行なうことができ、反応方法お
よび反応条件(例えば、加水分解触媒、溶媒、反応温度
、反応時間等)は、前記反応工程式−1の脱エステル化
反応の説明を参照することができる。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as the deesterification reaction shown in reaction scheme-1 above, and the reaction method and reaction conditions (e.g., hydrolysis catalyst, solvent, reaction temperature, reaction time, etc.) are , the explanation of the deesterification reaction in the reaction scheme-1 above can be referred to.

基R9がフェニル環上に置換基としてニトロ基を有する
ことのあるフタルイミド基の場合には、無溶媒または不
活性溶媒中、−殺伐(9)で表される化合物をヒドラジ
ンまたはヒドラジン誘導体と反応させるヒドラジン分解
反応に付すことにより一般式(10)で表されるアミン
化合物が得られる。
When the group R9 is a phthalimide group which may have a nitro group as a substituent on the phenyl ring, a compound represented by -salt (9) is reacted with hydrazine or a hydrazine derivative without a solvent or in an inert solvent. The amine compound represented by the general formula (10) is obtained by subjecting it to a hydrazine decomposition reaction.

この反応に用いられる不活性溶媒としては、例えば、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノー
ル等のアルコール類などが挙げられる。また、ヒドラジ
ン誘導体としては、メチルヒドラジン、エチルヒドラジ
ン等の低級アルキル置換ヒドラジン、フェニルヒドラジ
ン等のアリール置換ヒドラジンなどを例示できる。
Examples of the inert solvent used in this reaction include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and alcohols such as methanol and ethanol. Examples of hydrazine derivatives include lower alkyl-substituted hydrazines such as methylhydrazine and ethylhydrazine, and aryl-substituted hydrazines such as phenylhydrazine.

−殺伐(9)で表される化合物に対するヒドラジンまた
はヒドラジン誘導体の使用割合は、少なくとも等モル量
、好ましくは1〜2倍モル量用いられ、また該反応は通
常0〜100℃、好ましくは0〜80℃にて行なわれ、
1〜40時間程度で反応は終了する。
- The ratio of hydrazine or hydrazine derivative used to the compound represented by (9) is at least an equimolar amount, preferably 1 to 2 times the molar amount, and the reaction is usually carried out at 0 to 100°C, preferably 0 to 100°C. carried out at 80°C,
The reaction is completed in about 1 to 40 hours.

基R9が保護基を有するアミノ基の場合、この反応は、
前記のアミノ保護基の脱離反応と同様な反応条件下に行
うことができる。
When the group R9 is an amino group with a protecting group, this reaction is
The reaction can be carried out under the same reaction conditions as the above-mentioned amino-protecting group elimination reaction.

反応工程式−7 (式中、R’ 、R2、R3およびR4は前記に同じ。Reaction scheme-7 (In the formula, R', R2, R3 and R4 are the same as above.

) 上記反応工程式−7において、−殺伐(1)で表される
化合物は、−殺伐00)で表されるアミン化合物と、−
殺伐(11)で表されるカルボン酸化合物またはそのカ
ルボキシ基が活性化された化合物とを通常のアミド結合
生成反応にて反応させることにより製造することができ
る。
) In the above reaction scheme-7, the compound represented by -Sakuburu (1) is an amine compound represented by -Kaburu00), and -
It can be produced by reacting a carboxylic acid compound represented by Sakuhatsu (11) or a compound whose carboxy group has been activated in a normal amide bond forming reaction.

アミド結合生成反応としては、公知のアミド結合生成反
応の条件がいずれも適用できる。例えば、a)縮合剤を
用いる方法:すなわち、−殺伐(11)で表されるカル
ボン酸化合物と一般式(10)で表されるアミン化合物
とを縮合剤の存在下に反応させる方法; b)混合酸無水物法:すなわち、−殺伐(11)で表さ
れるカルボン酸化合物にアルキルハロカルボン酸を反応
させて混合酸無水物とし、これに−殺伐00)で表され
るアミン化合物を反応させる方法;C)活性エステル化
法:すなわち、−殺伐(11)でiされるカルボン酸化
合物をp−ニトロフェニルエステル、N−ヒドロキシコ
ハク酸イミドエステル、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールエステル等の活性エステルとし、これに−殺伐(1
0)で表されるアミン化合物を反応させる方法; d)−殺伐(11)で表されるカルボン酸化合物を無水
酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし、これに−
殺伐00)で表されるアミン化合物を反応させる方法; e)−殺伐(11)で表されるカルボン酸化合物の低級
アルコールエステルと一般式00)で表されるアミン化
合物とを高温、高圧下に反応させる方法;f)−殺伐(
11)で表されるカルボン酸化合物を酸ハロゲン化物、
すなわちカルボン酸ハライドとし、これに−殺伐00)
で表されるアミン化合物を反応させる方法などが例示で
きる。
As the amide bond forming reaction, any known amide bond forming reaction conditions can be applied. For example, a) a method using a condensing agent: that is, a method of reacting a carboxylic acid compound represented by -killing (11) with an amine compound represented by general formula (10) in the presence of a condensing agent; b) Mixed acid anhydride method: In other words, a carboxylic acid compound represented by -Sakuburu (11) is reacted with an alkylhalocarboxylic acid to form a mixed acid anhydride, and an amine compound represented by -Kaburu00) is reacted with this. Method; C) Active esterification method: That is, the carboxylic acid compound treated in -killing (11) is converted into an active ester such as p-nitrophenyl ester, N-hydroxysuccinimide ester, 1-hydroxybenzotriazole ester, etc. To this - murderous (1
A method of reacting an amine compound represented by 0); d) A carboxylic acid compound represented by (11) is converted into a carboxylic acid anhydride using a dehydrating agent such as acetic anhydride, and then -
A method of reacting an amine compound represented by the formula 00); e) - A lower alcohol ester of a carboxylic acid compound represented by the formula 00) is reacted with an amine compound represented by the general formula 00) at high temperature and under high pressure. How to make it react; f) - Killing (
The carboxylic acid compound represented by 11) is an acid halide,
That is, carboxylic acid halide, and this - 00)
Examples include a method of reacting an amine compound represented by:

次に、アミド結合生成反応の一例をより具体的に説明す
る。
Next, an example of the amide bond forming reaction will be explained in more detail.

一般式(1)で表される本発明化合物は、縮合剤の存在
下、−殺伐00)で表されるアミン化合物に一般式(1
1)で表されるカルボン酸化合物を、無溶媒または不活
性溶媒の存在下に反応させることにより得られる。
The compound of the present invention represented by the general formula (1) is added to the amine compound represented by the general formula (1) in the presence of a condensing agent.
It can be obtained by reacting the carboxylic acid compound represented by 1) in the absence of a solvent or in the presence of an inert solvent.

該反応において用いられる縮合剤としては、チオニルク
ロリド、オキシ塩化リン、五塩化リン、例えば、ジメチ
ルホルムアミドと塩化チオニル、オキシ塩化リン、ホス
ゲン等との反応により合成される(クロロメチレン)ジ
メチルアンモニウムクロライド等のビルスマイヤー(V
ilsmeier)試薬、ジシクロへキシルカルボジイ
ミド(DCC) 、2゜2−一ピリジニルジスルフィド
ートリフェニルホスフィン等の縮合剤が例示される。
Examples of the condensing agent used in the reaction include thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, and (chloromethylene)dimethylammonium chloride synthesized by the reaction of dimethylformamide with thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosgene, etc. Vilsmeier (V
Illsmeier's reagent, dicyclohexylcarbodiimide (DCC), and 2°2-1pyridinyl disulfide triphenylphosphine.

溶媒としては、この反応に悪影響を与えない溶媒であれ
ば、いずれの溶媒も使用・でき、例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類
、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四
塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピペリ
ジン、トリエチルアミン等のアミン類、ヘキサン、ヘプ
タン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、
プロパツール等のアルコール類、ジメチルホルムアミド
(DMF) 、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMP
A) 、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非プロ
トン性極性溶媒、二硫化炭素等が例示できる。
As the solvent, any solvent can be used as long as it does not adversely affect this reaction. For example, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, halogenated solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. Hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, amines such as pyridine, piperidine, triethylamine, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, methanol, ethanol,
Alcohols such as propatool, dimethylformamide (DMF), hexamethylphosphate triamide (HMP)
A), aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), carbon disulfide, etc. can be exemplified.

上記の反応は、塩基性化合物の存在下に行なうのがより
好ましい。該塩基性化合物としては、例えば、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン、
ピリジン、ピコリン、1゜5−ジアザビシクロ[4,3
,0] ノネン−5,1,4−ジアザビシクロ[2,2
,21オクタン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0
]ウンデセン−7などの有機塩基、モノトリーメチルシ
リルアセトアミド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩などの無機
塩基が例示できる。
The above reaction is more preferably carried out in the presence of a basic compound. Examples of the basic compound include trialkylamines such as triethylamine and tributylamine;
Pyridine, picoline, 1゜5-diazabicyclo[4,3
,0] nonene-5,1,4-diazabicyclo[2,2
, 21 octane, 1,8-diazabicyclo[5,4,0
] Organic bases such as undecene-7, monotrimethylsilylacetamide, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. Examples include inorganic bases such as alkali metal hydrogen carbonates.

また、上記の反応において、−殺伐00)で表されるア
ミン化合物に対する一般式(11)で表されるカルボン
酸化合物の使用割合は、1〜10倍モル量、好ましくは
1〜3倍モル量とするのがよい。−殺伐(10)で表さ
れるアミン化合物に対する塩基性化合物の使用割合は、
等モル−40倍モル量、好ましくは5〜20倍モル量と
するのがよい。
In addition, in the above reaction, the ratio of the carboxylic acid compound represented by the general formula (11) to the amine compound represented by -Sakuburu00) is 1 to 10 times the molar amount, preferably 1 to 3 times the molar amount. It is better to - The ratio of basic compound to amine compound expressed as (10) is:
The amount is preferably equal to 40 times the molar amount, preferably 5 to 20 times the molar amount.

上記の反応は、−20℃〜100℃、好ましくは一20
℃〜50℃の温度条件下に30分〜24時間、好ましく
は30分〜10時間程度で行なわれる。
The above reaction is performed at -20°C to 100°C, preferably -20°C.
This is carried out at a temperature of .degree. C. to 50.degree. C. for 30 minutes to 24 hours, preferably for about 30 minutes to 10 hours.

かくして、−殺伐(1)で表される本発明化合物を得る
In this way, the compound of the present invention represented by -Kakuburu (1) is obtained.

なお、上記の一般式(10)で表されるアミン化合物と
一般式(11)で表されるカルボン酸化合物との反応に
おいて、基、  R4がカルボキシレート基の場合、−
殺伐(1)で表される本発明化合物のカルボキシレート
基と一般式(10)で表されるアミン化合物のカルボキ
シレート基とが縮合した化合物が得られる場合がある。
In addition, in the reaction between the amine compound represented by the above general formula (10) and the carboxylic acid compound represented by the general formula (11), when the group R4 is a carboxylate group, -
A compound may be obtained in which the carboxylate group of the compound of the present invention represented by the formula (1) is condensed with the carboxylate group of the amine compound represented by the general formula (10).

この場合には、酸触媒、例えば、塩酸、臭化水素酸、ト
リフルオロ酢酸などの無機酸または有機酸存在下に、該
縮合化合物を加水分解することにより一般式(1)で表
される本発明化合物を得ることができる。
In this case, the condensation compound is hydrolyzed in the presence of an acid catalyst, for example, an inorganic or organic acid such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, trifluoroacetic acid, etc. Inventive compounds can be obtained.

(式中、R1、R2、R3およびR4は前記に同じ、X
はハロゲン原子を示す。) 上記反応工程式において、−殺伐(13)で表される化
合物は、−殺伐00)で表されるアミン化合物に一般式
(12)で表されるカルボン酸化合物を反応させること
により得られる。一般式(12)で表わされる化合物に
おいて、Xで表わされるハロゲン原子としては、塩素、
臭素、ヨウ素、フッ素などが挙げられる。この反応は、
前記の反応工程式−7における一般式(10)で表され
るアミン化合物と一般式(11)で表されるカルボン酸
化合物とのアミド結合生成反応と同様な方法で行なうこ
とができる。
(In the formula, R1, R2, R3 and R4 are the same as above, X
indicates a halogen atom. ) In the above reaction process formula, the compound represented by -Sakuburu (13) is obtained by reacting the amine compound represented by -Kaburu00) with the carboxylic acid compound represented by General Formula (12). In the compound represented by general formula (12), the halogen atom represented by X is chlorine,
Examples include bromine, iodine, and fluorine. This reaction is
The reaction can be carried out in the same manner as the amide bond forming reaction between the amine compound represented by the general formula (10) and the carboxylic acid compound represented by the general formula (11) in Reaction Scheme-7 above.

このようにして得られた一般式(13)で表される化合
物に、一般式(14)で表されるチオアセトアミド化合
物を、適当な溶媒の存在下または非存在下に反応させ、
一般式(1)で表される本発明化合物を得ることができ
る。
The compound represented by the general formula (13) thus obtained is reacted with a thioacetamide compound represented by the general formula (14) in the presence or absence of an appropriate solvent,
The compound of the present invention represented by general formula (1) can be obtained.

この反応において、使用される不活性溶媒としては、特
に制限はなく、前記の反応工程式−7で用いられた溶媒
が使用できる。
In this reaction, the inert solvent used is not particularly limited, and the solvent used in the above reaction scheme-7 can be used.

該反応において、一般式(13)で表される化合物に対
する一般式(14)で表されるチオアセトアミド化合物
の使用割合は、1〜10倍モル量、好ましくは1〜5倍
モル量とするのがよい。該反応は、通常−10℃〜10
0℃、好ましくは一10℃〜50℃で行なわれ、一般的
には1〜50時間、好ましくは1〜10時間で完結する
In this reaction, the ratio of the thioacetamide compound represented by the general formula (14) to the compound represented by the general formula (13) is 1 to 10 times the molar amount, preferably 1 to 5 times the molar amount. Good. The reaction is usually carried out at -10°C to 10°C.
It is carried out at 0°C, preferably -10°C to 50°C, and is generally completed in 1 to 50 hours, preferably 1 to 10 hours.

一般式(2)で表される原料化合物は、一部新規化合物
を包含し、例えば、下記反応工程式−9に示される方法
により公知化合物から製造することができる。
The raw material compounds represented by the general formula (2) include some new compounds, and can be produced from known compounds by, for example, the method shown in the following reaction scheme-9.

反応工程式−9 −0−R2 (式中、R2、R4aおよびXは前記に同じ、R8aは
ハロゲン原子以外のR8を示す。R1aは保護されたア
ミノ基を示す。R10は水素原子または低級アルカノイ
ル基を示す。) 上記反応において、一般式(15)で表される化合物と
一般式(1B)で表される化合物との反応は、前記反応
工程式−7の一般式00)で表される化合物と一般式(
11)で表される化合物との反応と同様な反応条件下に
行うことができる。
Reaction Scheme-9 -0-R2 (In the formula, R2, R4a and In the above reaction, the reaction between the compound represented by the general formula (15) and the compound represented by the general formula (1B) is represented by the general formula 00) of the reaction scheme-7 above. Compounds and general formulas (
The reaction can be carried out under the same reaction conditions as the reaction with the compound represented by 11).

一般式(17)で表される化合物から一般式(18)で
表される化合物を得るハロゲン化反応は、一般式(17
)で表される化合物のアルコール性水酸基または低級ア
ルカノイルオキシ基をハロゲン原子で置換するハロゲン
化反応であり、広く通常のハロゲン化反応の条件を適用
できる。
The halogenation reaction to obtain the compound represented by the general formula (18) from the compound represented by the general formula (17) is carried out using the general formula (17).
) This is a halogenation reaction in which the alcoholic hydroxyl group or lower alkanoyloxy group of the compound represented by formula (2) is replaced with a halogen atom, and a wide range of ordinary halogenation reaction conditions can be applied.

例えば、R10が水素原子の場合、溶媒の存在下または
非存在下、一般式(17)で表される化合物に塩化チオ
ニル、臭化チオニル、ヨウ化チオニル等のハロゲン化チ
オニルを反応させることにより一般式(18)で表され
る化合物を得ることができる。
For example, when R10 is a hydrogen atom, the compound represented by the general formula (17) is reacted with a thionyl halide such as thionyl chloride, thionyl bromide, and thionyl iodide in the presence or absence of a solvent. A compound represented by formula (18) can be obtained.

溶媒としては、反応に影響を与えないものであれば、い
ずれも使用でき、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ニトロメタン
、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、酢酸エチル、酢酸
メチル等の酢酸エステル化合物類、ヘキサン、ヘプタン
、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド(DMF) 、ジメチルスルホキシド(DMSO)、
ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)等の非プロ
トン性極性溶媒、二硫化炭素等を例示できる。一般式(
17)に対するハロゲン化チオニルの使用割合は、少な
くとも等モル量、好ましくは1〜2倍モル量とするのが
よく、該反応は一り0℃〜室温下、好ましくは水冷下に
行われ、5分〜1時間程度で終了する。
Any solvent can be used as long as it does not affect the reaction, such as halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane. Nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene, acetate ester compounds such as ethyl acetate and methyl acetate, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO),
Examples include aprotic polar solvents such as hexamethylphosphoric acid triamide (HMPA), carbon disulfide, and the like. General formula (
The proportion of thionyl halide to be used in 17) is preferably at least an equimolar amount, preferably 1 to 2 times the molar amount, and the reaction is carried out at 0°C to room temperature, preferably under water cooling. It will finish in about 1 minute to 1 hour.

該反応は、好ましくは脱酸剤としてピリジン、ジメチル
アニリン、トリエチルアミン等の塩基性化合物を反応系
に添加するのがよい。
In this reaction, it is preferable to add a basic compound such as pyridine, dimethylaniline, or triethylamine to the reaction system as a deoxidizing agent.

また、R10が低級アルカノイル基の場合、無溶媒また
は不活性溶媒の存在下、−殺伐(17)で表される化合
物に、トリ(低級アルキル)シリルノーライドを反応さ
せることにより一般式(18)で表される化合物が得ら
れる。
In addition, when R10 is a lower alkanoyl group, the compound represented by the formula (17) can be reacted with a tri(lower alkyl)silylnolide in the absence of a solvent or in the presence of an inert solvent to form a compound of the general formula (18). A compound represented by is obtained.

この反応で使用される不活性溶媒としては、上記と同様
な溶媒が例示できる。トリ(低級アルキル)シリルハラ
イドとしては、トリメチルシリルクロライド、トリエチ
ルシリルクロライド等が挙げられる。
Examples of the inert solvent used in this reaction include the same solvents as mentioned above. Examples of tri(lower alkyl)silyl halides include trimethylsilyl chloride and triethylsilyl chloride.

一般式(17)で表される化合物に対するトリ(低級ア
ルキル)シリルハライドの使用割合は、少なくとも等モ
ル量、好ましくは1〜2倍モル量用いられる。該反応は
、−20℃〜50℃、好ましくは室温で行なわれ、30
分〜5時間程度で終了する。
The ratio of tri(lower alkyl)silyl halide to the compound represented by general formula (17) is at least an equimolar amount, preferably 1 to 2 times the molar amount. The reaction is carried out at -20°C to 50°C, preferably at room temperature, and
It will finish in about 5 minutes to 5 hours.

一般式(17)で表される化合物から一般式(19)で
表される化合物を得るスルホン化反応は、不活性溶媒の
存在下または非存在下に、−殺伐(17)で表される化
合物に、R9aに対応するスルホン酸化合物またはその
スルホ基における反応性誘導体を反応させることにより
行なわれる。
The sulfonation reaction to obtain the compound represented by general formula (19) from the compound represented by general formula (17) is carried out in the presence or absence of an inert solvent. This is carried out by reacting a sulfonic acid compound corresponding to R9a or a reactive derivative thereof at the sulfo group.

不活性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエ
ーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭
化水素類等を例示できる。
Examples of the inert solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, ethers such as dimethyl ether and diethyl ether, and aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane. .

スルホン酸化合物としては、例えば、メタンスルホン酸
、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸等の低級アル
カンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸、p−クロロベンゼンスルホン酸、p−ニトロベン
ゼンスルホン酸等の01−6アルキル基、ハロゲン原子
およびニトロ基からなる群より選ばれた基を1〜3個有
していてもよいアリールスルホン酸などが挙げられる。
Examples of the sulfonic acid compound include lower alkanesulfonic acids such as methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, and propanesulfonic acid; 01-6 such as benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, p-chlorobenzenesulfonic acid, and p-nitrobenzenesulfonic acid; Examples include arylsulfonic acids which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of alkyl groups, halogen atoms, and nitro groups.

また、スルホン酸の反応性誘導体としては、スルホン酸
クロリド、スルホン酸プロミド等のスルホン酸ハロゲン
化物、スルホン酸無水物などを例示できる。
Examples of reactive derivatives of sulfonic acid include sulfonic acid halides such as sulfonic acid chloride and sulfonic acid bromide, and sulfonic acid anhydrides.

一般式(17)で表される化合物に対する上記スルホン
酸化合物またはそのスルホ基における反応性誘導体の使
用割合は、少なくとも等モル量、好ましくは1〜1.5
倍モル量とするのがよく、該反応は一り0℃〜水冷下に
て行われ、1〜50分程度で終了する。該反応は、ピリ
ジン、トリエチルアミン等の脱酸剤の存在下にても行う
ことができるが、好ましくは上記反応の終了後に脱酸剤
を加え、30分〜3時間程度、好ましくは1時間程度反
応させるのがよい。脱酸剤の使用割合は、上記スルホン
酸の反応性誘導体に対して少なくとも等モル量、好まし
くは1〜1.5倍モル量程度とするのがよい。
The ratio of the sulfonic acid compound or its reactive derivative at the sulfo group used to the compound represented by general formula (17) is at least an equimolar amount, preferably 1 to 1.5
It is preferable to double the molar amount, and the reaction is carried out at 0° C. or under water cooling, and is completed in about 1 to 50 minutes. The reaction can be carried out in the presence of a deoxidizing agent such as pyridine or triethylamine, but preferably the deoxidizing agent is added after the above reaction is completed, and the reaction is continued for about 30 minutes to 3 hours, preferably about 1 hour. It is better to let The proportion of the deoxidizing agent to be used is preferably at least an equimolar amount, preferably about 1 to 1.5 times the molar amount of the reactive derivative of the sulfonic acid.

なお、得られた一般式(18)または(19)で表され
る化合物において R1aのアミノ保護基は前記のアミ
ノ保護基の脱離反応と同様な条件下に、アミノ保護基の
脱離反応に付すことによりアミノ保護基が除去された対
応するアミノ化合物に誘導することができる。また−殺
伐(18)または(19)で表される化合物において、
R4aがエステル化されたカルボキシ基である場合、前
記の脱エステル化反応と同様な条件下に、脱エステル化
反応に付すことにより、エステル残基が除去された対応
するカルボキシ化合物に誘導することができる。さらに
、−殺伐(18)または(19)で表される化合物に、
該R4aの脱エステル化反応およびR1aのアミノ保護
基の脱離反応の両反応を行うことにより、それぞれ対応
するカルボキシ基とアミノ基を有する化合物に導くこと
ができる。
In addition, in the obtained compound represented by general formula (18) or (19), the amino-protecting group of R1a is subjected to an amino-protecting group elimination reaction under the same conditions as the above-mentioned amino-protecting group elimination reaction. By adding the amino protecting group, a corresponding amino compound can be derived from which the amino protecting group has been removed. - In the compound represented by (18) or (19),
When R4a is an esterified carboxy group, it can be induced into a corresponding carboxy compound from which the ester residue has been removed by subjecting it to a deesterification reaction under the same conditions as the deesterification reaction described above. can. Furthermore, in the compound represented by -Kakubatsu (18) or (19),
By performing both the deesterification reaction of R4a and the elimination reaction of the amino protecting group of R1a, compounds having the corresponding carboxyl group and amino group can be obtained.

本発明の一般式(1)で表わされる化合物の内、塩基性
基を有する化合物は医薬的に許容される酸を作用させる
ことにより、また酸性基を有する化合物は医薬的に許容
される塩基性化合物を作用させることにより容品に塩を
形成し得る。該酸としては、例えば、塩酸、硫酸、リン
酸、臭化水素酸等の無機酸、シュウ酸、マレイン酸、フ
マール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、酢
酸、p−)ルエンスルホン酸、エタンスルホン酸等の有
機酸を例示でき、該塩基性化合物としては、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の
金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩または重炭酸
塩等を例示できる。
Among the compounds represented by the general formula (1) of the present invention, compounds having a basic group can be treated with a pharmaceutically acceptable acid, and compounds having an acidic group can be treated with a pharmaceutically acceptable basic group. A salt may be formed on the container by acting on the compound. Examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and hydrobromic acid, oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, benzoic acid, acetic acid, and p-)luenesulfone. Examples of the basic compounds include metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate,
Examples include alkali metal carbonates or bicarbonates such as potassium hydrogen carbonate.

また、本発明化合物の塩には、当然に分子内塩および第
4級アンモニウム塩も包含される。
Furthermore, the salts of the compounds of the present invention naturally include inner salts and quaternary ammonium salts.

斯くして得られる本発明化合物は、通常の分離手段によ
り容易に単離精製できる。該分離手段としては、例えば
溶媒抽出法、希釈法、再結晶法、カラムクロマトグラフ
ィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー等を採用
できる。
The compound of the present invention thus obtained can be easily isolated and purified by conventional separation means. As the separation means, for example, solvent extraction method, dilution method, recrystallization method, column chromatography, preparative thin layer chromatography, etc. can be employed.

本発明の一般式(1)で表される化合物は、当然に光学
異性体ならびにシン異性体およびアンチ異性体を含むも
のである。これらの異性体は、慣用の分割法、例えば、
光学分割剤を使用する方法、酵素を使用する方法などで
分離することができる。
The compound represented by the general formula (1) of the present invention naturally includes optical isomers, syn isomers, and anti isomers. These isomers can be determined using conventional resolution methods, e.g.
Separation can be performed by methods using optical resolution agents, enzymes, etc.

本発明化合物は、通常、−膜内な医薬製剤の形態で用い
られる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合剤
、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤などの稀釈剤あ
るいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤として
は各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的
なものとして錠剤、乳剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、
顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤等)
などが挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては、
担体として、この分野で従来公知のものを広く使用でき
、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素
、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロー
ス、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパツール
、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液
、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセル
ロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドンなどの
結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテ
ン未、リミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシ
ウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類
、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリ
ド、デンプン、乳糖などの崩壊剤、白糖、ステアリン、
カカオバター、水素添加油などの崩壊抑制剤、第四級ア
ンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウムなどの吸収促
進剤、グリセリン、デンプンなどの保湿剤、デンプン、
乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸など
の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポ
リエチレングリコールなどの滑沢剤などが例示できる。
The compounds of the present invention are usually used in the form of intramembrane pharmaceutical preparations. The formulation is prepared using commonly used diluents or excipients such as fillers, fillers, binders, wetting agents, disintegrants, surfactants, and lubricants. Various forms of this pharmaceutical preparation can be selected depending on the therapeutic purpose, and typical examples include tablets, emulsions, powders, solutions, suspensions, emulsions,
Granules, capsules, suppositories, injections (solutions, suspensions, etc.)
Examples include. When forming into tablet form,
As carriers, a wide variety of carriers conventionally known in this field can be used, including excipients such as lactose, sucrose, sodium chloride, glucose, urea, starch, calcium carbonate, kaolin, crystalline cellulose, and silicic acid, water, ethanol, and propylene chloride. Tools, simple syrup, glucose solution, starch solution, gelatin solution, carboxymethylcellulose, shellac, methylcellulose, potassium phosphate, binders such as polyvinylpyrrolidone, dry starch, sodium alginate, agar, liminalan powder, sodium bicarbonate, calcium carbonate , polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, sodium lauryl sulfate, stearic acid monoglyceride, starch, disintegrants such as lactose, sucrose, stearin,
Disintegration inhibitors such as cocoa butter and hydrogenated oils, absorption enhancers such as quaternary ammonium bases and sodium lauryl sulfate, humectants such as glycerin and starch, starch,
Examples include adsorbents such as lactose, kaolin, bentonite, and colloidal silicic acid, and lubricants such as purified talc, stearate, boric acid powder, and polyethylene glycol.

さらに錠剤は必要に応じて通常の剤皮を施した錠剤、例
えば糖衣剤、ゼラチン披包錠、腸溶被錠、フィルムコー
ティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができる
。乳剤の形態に成形するに際しては、担体として、この
分野で従来公知のものを広く使用でき、例えば、ブドウ
糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン
、タルクなどの賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末
、ゼラチン、エタノールなどの結合剤、ラミナラン、カ
ンテンなどの崩壊剤などが例示できる。坐剤の形態に成
形するに際しては、担体として、従来公知のものを広く
使用でき、例えば、ポリエチレングリコール、カカオ脂
、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラ
チン、半合成グリセライドなどを挙げることができる。
Furthermore, the tablets can be made into tablets with conventional coatings, such as sugar-coated tablets, gelatin-packaged tablets, enteric-coated tablets, film-coated tablets, double tablets, or multilayer tablets, if necessary. When forming an emulsion, a wide variety of carriers conventionally known in this field can be used, such as excipients such as glucose, lactose, starch, cocoa butter, hydrogenated vegetable oil, kaolin, and talc, gum arabic powder, etc. , tragacanth powder, gelatin, binders such as ethanol, and disintegrants such as laminaran and agar. When forming into a suppository, a wide range of conventionally known carriers can be used, such as polyethylene glycol, cacao butter, higher alcohols, esters of higher alcohols, gelatin, semi-synthetic glycerides, etc. .

注射剤として調製される場合には、液剤、乳剤および懸
濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好ましく、
これら液剤、乳剤および懸濁剤の形態に成形するのに際
しては、稀釈剤としてこの分野において慣用されている
ものをすべて使用でき、例えば水、エチルアルコール、
プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアル
コール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類などを挙げ
ることができる。なお、この場合等損性の溶液を調製す
るに充分な量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを医
薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助剤
、緩衝剤、無痛化剤などを、更に必要に応じて着色材、
保存剤、香料、風味剤、甘味剤などや他の医薬品を該治
療剤に含有せしめてもよい。ペースト、クリームおよび
ゲルの形態に成形するに際しては、希釈剤として例えば
、白色ワセリン、パラフィン、グリセリン、セルロース
誘導体、ポリエチレングリコール、シリコン、ベントナ
イト等を使用できる。
When prepared as injectables, solutions, emulsions and suspensions are preferably sterile and isotonic with blood;
In forming these solutions, emulsions and suspensions, all diluents commonly used in this field can be used, such as water, ethyl alcohol,
Examples include propylene glycol, ethoxylated isostearyl alcohol, polyoxylated isostearyl alcohol, and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters. In this case, a sufficient amount of salt, glucose or glycerin to prepare an isotoxic solution may be included in the pharmaceutical preparation, and usual solubilizing agents, buffers, soothing agents, etc. may also be added. Coloring material if necessary,
Preservatives, fragrances, flavors, sweeteners, and other pharmaceutical agents may also be included in the therapeutic agent. When forming into a paste, cream or gel form, for example, white vaseline, paraffin, glycerin, cellulose derivatives, polyethylene glycol, silicone, bentonite and the like can be used as diluents.

本発明の医薬製剤中に含有されるべき一般式(1)で表
される化合物またはその塩の量は、特に限定されず広範
囲に選択されるが、通常全組成物中1〜70重量%とす
るのがよい。
The amount of the compound represented by general formula (1) or a salt thereof to be contained in the pharmaceutical preparation of the present invention is not particularly limited and can be selected from a wide range, but is usually 1 to 70% by weight of the total composition. It is better to do so.

本発明の医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度な
どに応じた方法で投与される。例えば錠剤、乳剤、液剤
、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、およびカプセル剤の場合には
経口投与される。また注射剤の場合には単独であるいは
ブドウ糖、アミノ酸などの通常の補液と混合して静脈内
投与され、さらには必要に応じて単独で筋肉内、陵内、
皮下もしくは腹腔内投与される。串刺の場合には直腸内
投与される。
There are no particular restrictions on the method of administering the pharmaceutical preparation of the present invention, and the method of administering the pharmaceutical preparation of the present invention is determined depending on various preparation forms, age, sex and other conditions of the patient, degree of disease, and the like. For example, tablets, emulsions, solutions, suspensions, emulsions, granules, and capsules are administered orally. In the case of injections, they are administered intravenously alone or mixed with normal replacement fluids such as glucose and amino acids.
Administered subcutaneously or intraperitoneally. In case of skewering, it is administered rectally.

本発明の医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性別そ
の他の条件、疾患の程度などにより適宜選択されるが、
通常本発明化合物の量は一日当り体重1kg当り1〜1
00mg、好ましくは5〜20II1gとするのがよく
、該製剤は、1日に2〜4回に分けて投与することがで
きる。
The dosage of the pharmaceutical preparation of the present invention is appropriately selected depending on the usage, age, sex and other conditions of the patient, degree of disease, etc.
Usually, the amount of the compound of the present invention is 1 to 1 per kg of body weight per day.
00mg, preferably 5-20II1g, and the formulation can be administered in 2-4 divided doses per day.

〈実施例〉 以下、参考例、実施例、製剤例および薬理試験に基づい
て、本発明の詳細な説明する。
<Examples> The present invention will be described in detail below based on reference examples, examples, formulation examples, and pharmacological tests.

参考例1 ジフェニルメチル (6S、7S)−7−アジド−3−
ヨードメチル−Δ3−0−2−イソセフェム−4−カル
ボキシレート2gを塩化メチレン20m1に溶解し、ピ
ロリジン0.39m1を加え室温で3日間反応する。反
応液を0.5Mクエン酸、飽和炭酸水素ナトリウム水お
よび飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。濾過後、濾液を減圧濃縮する。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液;クロロホルム)を
用いて分離精製し、標記化合物0,7gを得る。
Reference example 1 diphenylmethyl (6S,7S)-7-azido-3-
2 g of iodomethyl-Δ3-0-2-isocephem-4-carboxylate was dissolved in 20 ml of methylene chloride, 0.39 ml of pyrrolidine was added, and the mixture was reacted at room temperature for 3 days. The reaction solution was washed with 0.5M citric acid, saturated aqueous sodium bicarbonate and saturated brine, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the filtrate is concentrated under reduced pressure. This is separated and purified using silica gel column chromatography (eluent: chloroform) to obtain 0.7 g of the title compound.

NMR(CDCII3)δ: 1.6〜1.9 (4H,m) 、2.3〜2.7(4
H,m) 、3.6〜4.2 (4H,m)、4、 6
3  (IH,dd)  、5. 20  (IH,d
)  、6、 84  (IH,s)  、7. 0〜
7. 6  (10H。
NMR (CDCII3) δ: 1.6-1.9 (4H, m), 2.3-2.7 (4
H, m), 3.6-4.2 (4H, m), 4, 6
3 (IH, dd), 5. 20 (IH, d
), 6, 84 (IH,s), 7. 0~
7. 6 (10H.

m) 参考例2 ジフェニルメチル (6S、7S)−7−アジド−3−
ヨードメチル−Δ3−0−2−イソセフェム−4−カル
ボキシレート1.90gを塩化メチレン60 mlに溶
解し、これに1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリ
ン1.20gを加えて室温で6時間反応する。次いで反
応液を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥する。溶媒を濃縮後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出液;n−ヘキサン:酢酸エチル−3
:2)で分離精製し、白色粉末状の標記化合物1.53
gを得る。
m) Reference example 2 diphenylmethyl (6S,7S)-7-azido-3-
Dissolve 1.90 g of iodomethyl-Δ3-0-2-isocephem-4-carboxylate in 60 ml of methylene chloride, add 1.20 g of 1,2,3,4-tetrahydroisoquinoline, and react at room temperature for 6 hours. . The reaction solution is then washed with water and saturated brine in that order, and dried over anhydrous sodium sulfate. After concentrating the solvent, silica gel column chromatography (eluent; n-hexane:ethyl acetate-3
:2) to obtain 1.53 of the title compound as a white powder.
get g.

NMR(CDCN 3)δ: 6、 90〜7. 59  (15H,m)  、 5
. 22(IH,d、  J=5Hz)  、4. 6
3  (IH。
NMR (CDCN3) δ: 6, 90-7. 59 (15H, m), 5
.. 22 (IH, d, J=5Hz), 4. 6
3 (IH.

dd、  J=12Hz、  4Hz)  、 3. 
61〜4、 07  (6H,m)  、 2. 78
  (4H,bs)実施例1 参考例1の化合物0.7gを塩化メチレン50m1に溶
解し、トリエチルアミン0.3mlを加え、水冷下硫化
水素ガスを10分間通したのち室温で2時間反応する。
dd, J=12Hz, 4Hz), 3.
61-4, 07 (6H, m), 2. 78
(4H, bs) Example 1 0.7 g of the compound of Reference Example 1 was dissolved in 50 ml of methylene chloride, 0.3 ml of triethylamine was added, hydrogen sulfide gas was passed through the solution for 10 minutes under water cooling, and the mixture was reacted for 2 hours at room temperature.

炭酸水素ナトリウム水および食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。
Wash with aqueous sodium bicarbonate and brine, and dry with anhydrous magnesium sulfate.

濾過後、濾液を濃縮する。これを、予め2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミ
ノ酢酸(シン異性体’)0.74.。
After filtration, concentrate the filtrate. This was added in advance to 0.74. .

ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC)0゜35、
および1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)
0.23gを塩化メチレン中氷冷下1時間反応したもの
のに加え、室温で17時間反応する。濾過後、濾液を濃
縮する。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出液:クロロホルム:メタノール−50:1)を用い
分離精製し、標記化合物0.75gを得る。
Dicyclohexylcarbodiimide (DCC) 0°35,
and 1-hydroxybenzotriazole (HOBT)
0.23 g was added to the mixture reacted in methylene chloride for 1 hour under ice cooling, and the mixture was reacted at room temperature for 17 hours. After filtration, concentrate the filtrate. This was carried out using silica gel column chromatography (
Separation and purification is performed using an eluent (chloroform:methanol (50:1)) to obtain 0.75 g of the title compound.

mp :108〜110℃ NMR(CDCIIs )δ: 1.8〜2.2 (4H,m) 、3.0〜4.6(1
2H,m [3,75,3H,sを含む])、5.76
 (IH,dd) 、6.59 (IH,s)、6.7
0 (IH,s) 、6.9〜7.7 (25H。
mp: 108-110°C NMR (CDCIIs) δ: 1.8-2.2 (4H, m), 3.0-4.6 (1
2H,m [including 3,75,3H,s]), 5.76
(IH, dd), 6.59 (IH, s), 6.7
0 (IH,s), 6.9-7.7 (25H.

m) 、8.59 (LH,d) 実施例2 実施例1の化合物0.4gに60%酢酸4 mlを加え
40℃で1時間反応したのち濃縮する。充分に減圧乾燥
し、これにアニソール0.4mlおよびトリフルオロ酢
酸4 mlを加え水冷下10分間反応させ、ジエチルエ
ーテルを加え、析出する粉末を濾取し乾燥して標記化合
物0.14gを得る。
m), 8.59 (LH, d) Example 2 4 ml of 60% acetic acid was added to 0.4 g of the compound of Example 1, reacted at 40°C for 1 hour, and then concentrated. Thoroughly dry under reduced pressure, add 0.4 ml of anisole and 4 ml of trifluoroacetic acid, and react for 10 minutes under water cooling. Diethyl ether is added, and the precipitated powder is filtered and dried to obtain 0.14 g of the title compound.

mp:120℃(変色) NMR(DMSO−dB )δ: 1.7〜2.2 (4H,m)、 3.0〜3.6 (4H,m) 、3.8〜5.0(8
H,m [3,86,3H,s、を含む])、5.76
 (IHldd) 、6.80 (LH,s)、9.1
9 (LH,d) 実施例3 ジフェニルメチル (6S、7S)−7−[2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシ
イミノアセトアミド]−3−メタンスルホニルオキシメ
チル−4−カルボキシレート(シン異性体)Igを塩化
メチレン5 mlに溶解し、N−メチルピロリジン0.
35m1を加え室温で2日間反応する。塩化メチレンお
よびジエチルエーテルで再沈澱(上澄はデカンテーショ
ンで除く)を3回くり返したのち乾゛燥する。
mp: 120°C (discoloration) NMR (DMSO-dB) δ: 1.7-2.2 (4H, m), 3.0-3.6 (4H, m), 3.8-5.0 (8
H,m [3,86,3H,s, included]), 5.76
(IHldd), 6.80 (LH,s), 9.1
9 (LH,d) Example 3 Diphenylmethyl (6S,7S)-7-[2-(2-
Tritylaminothiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetamide]-3-methanesulfonyloxymethyl-4-carboxylate (syn isomer) Ig was dissolved in 5 ml of methylene chloride, and 0.5 ml of N-methylpyrrolidine was dissolved.
Add 35ml and react at room temperature for 2 days. After repeating reprecipitation three times with methylene chloride and diethyl ether (the supernatant was removed by decantation), it was dried.

これに60%酢酸20m1を加え40℃で1時間反応し
たのち濃縮する。乾燥した後、アニソール1 mlの存
在下、トリフルオロ酢酸10m1と水冷下10分間反応
させ、ジエチルエーテルを加えて析出する粉末を濾取す
る。これを再び水に溶かし、非イオン性吸着樹脂(HP
−20)25gを加え炭酸水素ナトリウムでpHを4と
し吸着させる。
Add 20 ml of 60% acetic acid to this, react at 40°C for 1 hour, and then concentrate. After drying, the mixture is reacted with 10 ml of trifluoroacetic acid in the presence of 1 ml of anisole for 10 minutes under water cooling, diethyl ether is added, and the precipitated powder is collected by filtration. Dissolve this in water again and use nonionic adsorption resin (HP).
-20) Add 25g and adjust the pH to 4 with sodium hydrogen carbonate for adsorption.

カラムに充填し、水洗したのち5%イソプロパツール水
溶液で溶出させる。流出液を濃縮し、メタノール−ジエ
チルエーテルで析出させ、析出物を濾取して標記化合物
0.22gを得る。
The column is filled, washed with water, and then eluted with a 5% aqueous isopropanol solution. The effluent was concentrated, precipitated with methanol-diethyl ether, and the precipitate was collected by filtration to obtain 0.22 g of the title compound.

mp :160℃(変色) NMR(DMSO−dB)δ: 1、 8〜2. 3  (4H,m)  、3. 03
  (3H。
mp: 160°C (discoloration) NMR (DMSO-dB) δ: 1, 8-2. 3 (4H, m), 3. 03
(3H.

s)  、3. 2〜4. 8  (12H,m  [
3,85゜3H,sを含むコ) 、5.59 (IH,
dd)、6、 78  (IH,s)  、 7゜ 1
8  (2H,bs)  、9、 23  (IH,d
) 実施例4 参考例2で得られた化合物1.08gを塩化メチレン1
00 mlに溶解し、トリエチルアミン0.35m1を
加えて水冷下に硫化水素ガスを通じる。TCL上で原料
の消失およびアミン体の生成を確めた後、1%炭酸水素
ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥したのち濾過する。濾液に、2−(2
−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)−2−メトキ
シイミノ酢酸(シン異性体)1.95gを加え、水浴で
冷却した後、ジシクロへ午ジルカルボジイミド0.93
g、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール0.20gを加
えて、−夜室温で攪拌する。析出物を濾去後、濃縮し、
残渣を酢酸エチルに溶解させて不溶物を濾去する。濾液
を水、飽和炭酸水・素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の
順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過
し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出液:クロロホルム)で分離精製し、微黄色粉
末の標記化合物1.85gを得る。
s), 3. 2-4. 8 (12H, m [
3,85° (including 3H, s), 5.59 (IH,
dd), 6, 78 (IH, s), 7° 1
8 (2H, bs), 9, 23 (IH, d
) Example 4 1.08 g of the compound obtained in Reference Example 2 was added to 1 part of methylene chloride.
00 ml, add 0.35 ml of triethylamine, and pass hydrogen sulfide gas under water cooling. After confirming the disappearance of the raw material and the formation of the amine compound on TCL, the mixture is washed with a 1% aqueous sodium bicarbonate solution and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then filtered. Add 2-(2
-) dithylaminothiazol-4-yl) -2-methoxyiminoacetic acid (synisomer) 1.95 g was added, and after cooling in a water bath, 0.93 g of dicyclodicarbodiimide was added.
Add 0.20 g of 1-hydroxybenzotriazole and stir overnight at room temperature. After removing the precipitate by filtration, concentrate
The residue was dissolved in ethyl acetate and the insoluble matter was filtered off. The filtrate is washed successively with water, saturated aqueous carbonate/sodium solution, and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and concentrated. The residue is separated and purified by silica gel column chromatography (eluent: chloroform) to obtain 1.85 g of the title compound as a pale yellow powder.

mp;152℃付近より徐々に変色 NMR(CDCN3)δ: 6.72〜7.56 (32H,m) 、6.58(I
H,s) 、5.49 (IH,dd、J−5Hz、4
Hz) 、4.66 (2H,dd、J−13Hz、8
Hz) 、3.76〜4.07および4.01 (mお
よびS1合計6H) 、3.64(2H,bs) 、2
.78 (4H,bs)実施例5 (6S、7S)−7−C2−(2−アミノチア実施例4
で得た化合物0.70gを酢酸20m1に溶解し、水1
0m1を・加えて40℃で2時間攪拌する。次いで溶媒
を減圧留去し、残渣にメタノール20m1を加え溶媒を
減圧留去する。残渣に再度メタノール20m1を加え溶
媒を減圧留去した後、残渣をアニソール1 mlの存在
下、トリフルオロ酢酸7 ml中氷冷下で7分間反応さ
せる。ジエチルエーテル50m1加え、固化物を単離し
、ジエチルエーテルで洗浄して乾燥させると、目的物の
トリフルオロ酢酸塩が0.32.得られる。
mp: Gradual discoloration from around 152°C NMR (CDCN3) δ: 6.72 to 7.56 (32H, m), 6.58 (I
H, s), 5.49 (IH, dd, J-5Hz, 4
Hz), 4.66 (2H, dd, J-13Hz, 8
Hz), 3.76-4.07 and 4.01 (m and S1 total 6H), 3.64 (2H, bs), 2
.. 78 (4H, bs) Example 5 (6S, 7S)-7-C2-(2-aminothia Example 4
Dissolve 0.70 g of the compound obtained in 20 ml of acetic acid, and add 1 ml of water.
Add 0ml of the mixture and stir at 40°C for 2 hours. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure, 20 ml of methanol was added to the residue, and the solvent was distilled off under reduced pressure. After adding 20 ml of methanol to the residue again and distilling off the solvent under reduced pressure, the residue is reacted in the presence of 1 ml of anisole in 7 ml of trifluoroacetic acid under ice cooling for 7 minutes. Add 50 ml of diethyl ether, isolate the solidified product, wash with diethyl ether and dry, and the trifluoroacetate of the target product is 0.32. can get.

このものを5%炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解し、非
イオン性吸着樹脂(HP−20)を加えてIN塩酸でp
H3,5に調整する。樹脂をカラムに充填し、水−イツ
ブロバノール混合溶媒で展開すると目的物は10%イソ
プロパツール水溶液で溶出される。溶出液を減圧留去し
、凍結乾燥し、淡褐色粉末の標記化合物0.09gを得
る。
Dissolve this in a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, add nonionic adsorption resin (HP-20), and ply with IN hydrochloric acid.
Adjust to H3.5. When the resin is packed in a column and developed with a mixed solvent of water and ituburobanol, the target product is eluted with a 10% aqueous solution of isopropanol. The eluate was distilled off under reduced pressure and lyophilized to obtain 0.09 g of the title compound as a light brown powder.

mp:173〜178℃で変色 NMR(DMSO−dB ’)δ: 9.07 (IH,d、J=9Hz、) 、7.11(
6H,bs) 、6.79 (IH,s)、5.66 
(IH,dd、J=9Hz、4Hz)、4.53 (2
H,dd、J=14Hz、8Hz)、3.83および3
.25〜3.96(sおよびm。
mp: Discoloration at 173-178°C NMR (DMSO-dB') δ: 9.07 (IH, d, J = 9 Hz, ), 7.11 (
6H, bs), 6.79 (IH, s), 5.66
(IH, dd, J=9Hz, 4Hz), 4.53 (2
H, dd, J=14Hz, 8Hz), 3.83 and 3
.. 25-3.96 (s and m.

合計8H) 、2.85 (4H,bs)実施例6 実施例4で得た化合物0.85gをヨウ化メチル10m
1およびメタノール10m1の混合溶媒中で1夜攪拌す
る。溶媒を留去後、ジエチルエーテルを加えて固化させ
4級塩の黄色固体を得る。これを実施例5と同様に酢酸
−水、アニソール−トリフルオロ酢酸の順に処理し、目
的物のトリフルオロ酢酸塩を得る。さらにpH2,5で
非イオン性吸着樹脂(HP−20)に吸着させ、樹脂を
カラムに充填し、10%イソプロパツール水溶液で溶出
する。溶出液を濃縮後、凍結乾燥することにより淡褐色
粉末の標記化合物0.14gを得る。
Total 8H), 2.85 (4H, bs) Example 6 0.85g of the compound obtained in Example 4 was added to 10m of methyl iodide.
1 and methanol (10 ml) overnight. After distilling off the solvent, diethyl ether is added to solidify to obtain a yellow solid quaternary salt. This is treated in the same manner as in Example 5 with acetic acid-water and then anisole-trifluoroacetic acid to obtain the desired trifluoroacetate. Further, the mixture is adsorbed on a nonionic adsorption resin (HP-20) at pH 2.5, the resin is packed into a column, and eluted with a 10% aqueous isopropanol solution. The eluate is concentrated and then freeze-dried to obtain 0.14 g of the title compound as a light brown powder.

mp:177℃付近で変色 NMR(、DMSO−dB)δ: 9.12 (IH,d、J−9Hz) 、7.02〜7
.26 (6H,m) 、6.76 (IH,s)、5
.56 (LH,dd、J=9Hz、4Hz)、4.6
0〜4.94 (2H,m) 、3.83および3.6
5〜3.94 (sおよびm1合計8H)、3.09 
(4H,bs) 、2.37 (3H,s)以下に製剤
例を示す。
mp: Discoloration near 177°C NMR (DMSO-dB) δ: 9.12 (IH, d, J-9Hz), 7.02-7
.. 26 (6H, m), 6.76 (IH, s), 5
.. 56 (LH, dd, J=9Hz, 4Hz), 4.6
0-4.94 (2H, m), 3.83 and 3.6
5-3.94 (s and m1 total 8H), 3.09
(4H, bs), 2.37 (3H, s) Examples of formulations are shown below.

製剤例1 (6S、7S)−7−[2− (2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイ
ミノアセトアミド]− 3−(1−ピロリジニル)メチル− Δ3−0−2−イソセフェム− 4−カルボン酸(シン異性体)      2001g
ブドウ糖                250 a
+g注射注射用水溜水           適量全 
  量                      
  511i注射用蒸溜水に、(6S、7S)−7−[
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキ
シイミノアセトアミド] −3−(1−ピロリジニル)
メチル−Δ3−0−2−イソセフェム−4−カルボン酸
(シン異性体)およびブドウ糖を溶解させた後、51!
アンプルに注入し、窒素置換後、121℃で15分間加
圧滅菌を行なって上記組成の注射剤を得る。
Formulation Example 1 (6S, 7S)-7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetamide]-3-(1-pyrrolidinyl)methyl-Δ3-0-2-isocephem-4 -Carboxylic acid (syn isomer) 2001g
Glucose 250 a
+G Injection Water Reservoir (appropriate amount)
amount
511i distilled water for injection, (6S, 7S)-7-[
2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetamide] -3-(1-pyrrolidinyl)
After dissolving methyl-Δ3-0-2-isocephem-4-carboxylic acid (syn isomer) and glucose, 51!
The mixture is injected into an ampoule, replaced with nitrogen, and then autoclaved at 121° C. for 15 minutes to obtain an injection having the above composition.

製剤例2 (6S、7S) −7−[2− (2−アミノアナゾール−4−イル)−2−メトキシイ
ミノアセトアミド゛]−3−(1−メチル−1−ピロリ
ジニオ)メチル−Δ3−0−2−イソセフェム− 4−カルボキシレート(シン異性体)   100gア
ビセル(商標名、旭化成■製)40gコーンスターチ 
           30gステアリン酸マグネシウ
ム        2gTC−5(商標名、信越化学工
業■製、ヒドロキシプロピルメチルセルロース)  1
0gポリエチレングリコール−80003gヒマシ油 
                40gエタノール 
              40g(6S、7S)−
7−[2−(2−アミノアナゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノアセトアミド] −3−(1−メチル−
1−ピロリジニオ)メチル−Δ3−0−2−イソセフェ
ム−4−カルボキシレート(シン異性体)、アビセル、
コーンスターチおよびステアリン酸マグネシウムを、混
合研磨後、糖衣R10mmのキネで打錠する。得られた
錠剤をTC−5、ポリエチレングリコール−Booo、
ヒマシ油およびエタノールからなるフィルムコーティン
グ剤被膜を行い、上記組成のフィルムコーティング錠を
製造する。
Formulation Example 2 (6S, 7S) -7-[2- (2-Aminoanazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetamido]-3-(1-methyl-1-pyrrolidinio)methyl-Δ3-0 -2-Isosephem-4-carboxylate (syn isomer) 100g Avicel (trade name, manufactured by Asahi Kasei ■) 40g corn starch
30g magnesium stearate 2gTC-5 (trade name, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., hydroxypropyl methylcellulose) 1
0g polyethylene glycol - 800003g castor oil
40g ethanol
40g (6S, 7S)-
7-[2-(2-aminoanazol-4-yl)-2-
methoxyiminoacetamide] -3-(1-methyl-
1-pyrrolidinio)methyl-Δ3-0-2-isocephem-4-carboxylate (syn isomer), Avicel,
After mixing and polishing the cornstarch and magnesium stearate, the mixture is tableted using a kinematic machine with a sugar coating radius of 10 mm. The obtained tablets were treated with TC-5, polyethylene glycol-Boooo,
A film-coated tablet consisting of castor oil and ethanol is applied to produce a film-coated tablet having the above composition.

製剤例3 (6S、7S)−7−[2− (2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイ
ミノアセトアミド]− 3−(1,2,3,4−テトラヒドロ イソキノリン−2−イル)メチル− 八3−0−2−イソセフェム− 4−カルボン酸(シン異性体)       2g精製
ラノリン              5gサラシミツ
ロウ             5g白色ワセリン  
            88゜全量        
       too gサラシミツロウを加温して液
状となし、次いで、(63,7S)−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノア
セトアミドコ −3−(1,2,3,4−テトラヒドロ
イソキノリン−2−イル)メチル−Δ3−0−2−イソ
セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)、精製ラノリ
ンおよび白色ワセリンを加え、液状となるまで加温後、
固化しはじめるまで攪拌して、上記組成の軟膏剤を得る
Formulation Example 3 (6S, 7S)-7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetamide]-3-(1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl) Methyl-83-0-2-isocephem-4-carboxylic acid (syn isomer) 2g purified lanolin 5g white beeswax 5g white petrolatum
88゜full amount
Too much beeswax is heated to make it liquid, and then (63,7S)-7-[2-(2-
aminothiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetamidoco-3-(1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl)methyl-Δ3-0-2-isocephem-4-carboxylic acid (synisomer After adding purified lanolin and white petrolatum, and heating until it becomes liquid,
Stir until it begins to solidify to obtain an ointment having the above composition.

[抗菌試験] 下記の供試化合物について、種々の菌に対する抗菌作用
を調べるため、寒天希釈平板法により最小増殖阻止濃度
(MIC)を求めた。
[Antibacterial Test] In order to investigate the antibacterial effects of the following test compounds against various bacteria, the minimum inhibitory concentration (MIC) was determined by the agar dilution plate method.

[CHEMOTHERAPY、22.1126〜112
8 (1974)参照] 得られた結果を第1表に示す。
[CHEMOTHERAPY, 22.1126-112
8 (1974)] The results obtained are shown in Table 1.

なお、各種菌はI X 106菌数、/vf(0,D。In addition, the number of various bacteria is IX 106 bacteria, /vf(0,D.

600mμ、0.07〜0.16)に調整した。600 mμ, 0.07 to 0.16).

供試化合物 No、1   (6S、  7S) −7−[2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノ
アセトアミド] −3−(1−ピロリジニル)メチル−
Δ3−0−2−イソセフェム−4−カルボン酸(シン異
性体) Nへ2   (6S、7S)−7−[2−(2−アミノ
アナゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミド] −3−(1−メチル−1−ピロリジニオ)メチ
ル−Δ3−’0−2−イソセフェムー4−カルボキシレ
ート(シン異性体)No、3   (6S、  7S)
  −7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド] −3−(1,2
,3,4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル)メチ
ル−Δ3−0−2−イソセフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体) No、4   (6S、  7S) −7−[2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノ
アセトアミド]−3−(2−メチル−2−1゜2.3.
4−テトラヒドロイソキノリニオ)メチル−Δ3−0−
2−イソセフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
) (以下余白)
Test compound No. 1 (6S, 7S) -7-[2-(2
-aminothiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetamide] -3-(1-pyrrolidinyl)methyl-
Δ3-0-2-Isosephem-4-carboxylic acid (syn isomer) N to 2 (6S, 7S)-7-[2-(2-aminoanazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetamide] - 3-(1-Methyl-1-pyrrolidinio)methyl-Δ3-'0-2-isocephemu 4-carboxylate (syn isomer) No. 3 (6S, 7S)
-7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-methoxyiminoacetamide] -3-(1,2
,3,4-tetrahydroisoquinolin-2-yl)methyl-Δ3-0-2-isocephem-4-carboxylic acid (syn isomer) No. 4 (6S, 7S) -7-[2-(2
-aminothiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetamide]-3-(2-methyl-2-1°2.3.
4-tetrahydroisoquinolinio)methyl-Δ3-0-
2-isocephem-4-carboxylate (syn isomer) (blank below)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、R^1は保護基を有することのあるアミノ基; R^2は低級アルキル基、カルボキシ基で置換されてい
てもよいシクロアルキル基、シクロアルキル(低級)ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基または
基; −A−R^5 (式中、Aは低級アルキレン基、R^5はシアノ基、カ
ルボキシ基またはカルバモイル基を示す。);R^3は
基; ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは1または2を示す。) または基; ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、nは前記に同じ、R^6は低級アルキル基、低
級アルケニル基または基; −B−R^7 (式中、Bは低級アルキレン基、R^7は水酸基、カル
バモイル基、シクロアルキル基または低級アルカノイル
基を示す。)] 該基: ▲数式、化学式、表等があります▼ および基; ▲数式、化学式、表等があります▼ は、ベンゼン環上の置換基として水酸基、低級アルコキ
シ基および低級アルカノイルオキシ基からなる群より選
ばれた基を1〜2個有することのあるベンゼン環と縮合
環を形成していてもよい;R^4はカルボキシ基、カル
ボキシレート基またはエステル化されたカルボキシ基を
示す。} で表される2−オキサ−イソセフェム誘導体またはそれ
らの医薬的に許容される塩。
[Claims] 1. General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ {In the formula, R^1 is an amino group that may have a protecting group; R^2 is substituted with a lower alkyl group or a carboxy group -A-R^5 (wherein, A is a lower alkylene group, R^5 is a cyano group, (represents a carboxy group or carbamoyl group); R^3 is a group; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, n represents 1 or 2); ▼ [In the formula, n is the same as above, R^6 is a lower alkyl group, lower alkenyl group, or group; -B-R^7 (In the formula, B is a lower alkylene group, R^7 is a hydroxyl group, a carbamoyl group , indicates a cycloalkyl group or a lower alkanoyl group.)] The group: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ and groups; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ is a hydroxyl group, as a substituent on the benzene ring, It may form a condensed ring with a benzene ring that may have one or two groups selected from the group consisting of lower alkoxy groups and lower alkanoyloxy groups; R^4 is a carboxy group, a carboxylate group, or an ester represents a converted carboxy group. } A 2-oxa-isocephem derivative or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
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