JPH01111819A

JPH01111819A - シャドウマスクの製造方法

Info

Publication number: JPH01111819A
Application number: JP26626687A
Authority: JP
Inventors: Morinori Kamio; 守則神尾; Norio Yuki; 典夫結城
Original assignee: Nippon Mining Co Ltd
Current assignee: Eneos Corp
Priority date: 1987-10-23
Filing date: 1987-10-23
Publication date: 1989-04-28

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の分野〕本発明は、特にカラー受像管に張力をかけた状態で組み
込まれるシャドウマスクの製造方法に関する。

〔発明の背景〕

カラー受像管の色選別電極としてシャドウマスクが用い
られているが、その中には張力をかけない状態のシャド
ウマスクを用いる形式のものと。

張力をかけた状態で用いる形式のものがある。−方、カ
ラー受像管を作動させると電子ビームの約６０％は色選
別電極であるシャドウマスクに射突するために時として
シャドウマスクは６０℃以上にまで加熱される。この場
合、張力をかけていない状態のシャドウマスクではシャ
ドウマスクが熱膨張し、いわゆるドーミング現象を生じ
るために電子ビームが適正な蛍光体にあたらず、その結
果、問題として色純度の低下が生じる。

張力をかけた状態のシャドウマスクでは、張力がある故
に熱膨張がおさえられるため、ドーミングによる色純度
の低下を防ぐためには有利である。

この張力をかけた状態のシャドウマスクは一般にテンシ
ョンマスクと呼ばれ、円柱の側面の様に曲率をもった状
態で固定されているものが多いが。

カラー受像管前面パネルの平面化に伴い平面状態のテン
ションマスクも使用されている。

〔従来の技術〕

このテンションマスクの材料としては従来、リムド鋼や
Ａ１キルド鋼といった軟鋼材料が用いられてきた。これ
らの材料は安価に入手でき、冷延状態では６０ｋｇ／Ｉ
Ｉｎ”以上の耐力も期待できるため。

張力にも耐えることができ、長年使用されてきている。

しかし、冷延状態で使用する場合、軟鋼材では保磁力Ｈ
ｃが５〜７０ｅと高いという問題がある。

保磁力が高い場合、地磁気やスピーカー内部の磁石とい
った外部磁場の影響でシャドウマスク自体が磁気を帯び
てしまい、その結果、電子ビームの軌道が適正に制御さ
れず１色純度の低下やムラの発生を引き起こしてしまう
のである。

軟鋼材の保磁力は７００℃以上の熱処理を施し、再結晶
をさせてやればＨａで１．０〜２．０程度まで低下し、
帯磁の問題は生じなくなるが、この場合、耐力が２０ｋ
ｇ／ｍ”以下にまで低下するため、実際上張力をかける
ことができなくなってしまうのである。

〔発明の概要〕

上記の状況に鑑み、本発明者らはこの問題の根本的解決
には、新たな材料の開発が不可欠との結論に至り、特１
［６２−１９６２４１等に示すシャドウマスク用Ｎｉ−
Ｆｅ基合金を開発し、さらにこの材料を用いたテンショ
ンマスクの製造方法の開発に取り組んだものである。そ
の要旨とするところは、重量パーセントでＮｉ６０〜９
０％、ＭＯ１〜８％、Ｃ００１％以下、Ｍ　ｎ　０　、
１〜３　、０％、Ｓｉ０．０１〜１．０％、残部Ｆｅ及
び不可避的不純物からなるＮｉ−Ｆｅ基合金を冷間圧延
後３５０〜６５０℃で５分以上２時間以内の熱処理を施
すことを特徴とするシャドウマスクの製造方法並びに上
記熱処理を非酸化性雰囲気中で行うことを特徴とする前
述のシャドウマスクの製造方法にある。

〔発明の詳細な説明〕

はＮｉの成分制御が重要であり、６０％未満では全てを
満足することができない、９０％を超えて含有すると強
度の上昇が著しく、５０μｍ以下の冷延板を製造するこ
とが難しくなる。よってその成分範囲を６０〜９０％と
する。

Ｍｏ；Ｍｏも強度改善及び磁性向上の目的で添加する。

１％より少ないとその効果なく、８％を超えて含有して
も効果は飽和し、加工性を害するうえにエツチング性も
害する。よってその成分範囲を１〜８％とする。

Ｃ；Ｃｔｃｏ、１％を超えて含有すると炭化物の生成が
著しく、シャドウマスクを製造する際のエツチング穿孔
時の不良原因となるうえに磁性上も有害である。よって
その成分範囲を０．１％以下とする。

Ｍ　ｎ　；　Ｍ　ｎは脱酸目的及び加工性を付与する目
的で添加する。又、磁性改善にも効果がある。特にエツ
チング穿孔時の不良防止のためには脱酸は重要であり、
０．１％より少ないと効果がなく、３．０％を超えて含
有すると硬さの上昇のため加工性を害する。よってその
成分範囲をＯ６１〜３．０％とする。

Ｓｉ　；Ｓｉも脱酸目的で添加するが０．０１％より少
ないと効果がなく、１．０％を超えて含有すると磁性に
有害であり、又加工性も劣化する。

よってその成分範囲を０．０１〜１．０％とする。

上記成分からなる材料をテンションマスク用として板厚
０．１〜０．２５ｏｎ程度の板厚に、または平面パネル
用として板厚０．０５０℃ｍ以下の板厚にまで冷間圧延
を行う。次にこのような冷間圧延上りでは保磁力が高い
ために３５０〜６５０℃の熱処理を施すのであるが、こ
の際温度が３５０℃より低い場合には、保磁力の低下が
あまり期待できず、また６５０℃を超えた場合、強度の
低下が著しくなるため、張力に耐えることができない。

時間は２時間を超えて熱処理を行ってもいたずらに強度
の低下をまねくのみで効率も悪くなり有効でなく、５分
未満の場合は、温度が低い場合と同様に保磁力の低下が
あまり期待できない。一方、熱処理を非酸化性雰囲気で
行うことにより特に極薄材の場合１粒界酸化による高保
磁力化を防止するのに効果がある。また、この熱処理は
冷間圧延材に電子ビーム透過用の所定の孔をエツチング
穿孔した後に行っても、エツチング穿孔前の冷間圧延材
に行ってもどちらでも良いが、エツチング時の取扱い等
による傷、折れの発生を考えた場合、前者の方が有利で
ある。

その後、これらのテンションマスクは張力をかけた状態
でフレーム等に固定され、黒化処理等を経てカラーテレ
ビ受像管やデイスプレィに組み込まれる。

次に実施例について説明する。

〔実施例〕

真空溶解炉にて溶解・鋳造後、鍛造→熱間圧延→酸洗→
冷間圧延→焼鈍→冷間圧延なる工程で板厚２５μｍの冷
延板を製造した。この冷延板の成分を第１表に示す。比
較例として従来材であるＡ１キルド鋼を第１表に掲げた
。

これら冷延板に第２表に示す各種の熱処理を施し、０．
２％耐力、保磁力、透磁率を測定し第２表に併記した。

第２表より明らかな様に本発明例１〜７は０゜２％耐力
が高く十分張力に酎えうる上に、保磁力が低く透磁率が
高いので、帯磁の問題の生じない良好なテンションマス
クを得ることができる。その中でも本発明例１，２，４
，５，７及び８は本発明例３，６にくらべ熱処理時の雰
囲気を非酸化性としたために保磁力が更に低くなってお
り、よりすぐれた製造方法であることが分かる。

一方、比較例９は温度が低いために保磁力が高く、比較
例１０は温度が高いために０．２％耐力が低下してしま
い張力をかけることができない。比較例１１は時間が短
いため保磁力が高い。また比較例１２，１３はＡｔキル
ド鋼の例であるが、比較例１２は保磁力が高く、比較例
１３は０．２％耐力が低く。

どの様な熱処理によっても良好なテンションマス−王り
を得ることはできない。

Ｊ〔発明の効果〕以上の様に本発明の製造方法により帯磁の心配のない、
ひいては色純度のより高精細度カラー受像管に好適なシ
ャドウマスクが得られる。

以下余白第　　１　　表第２表２００ｅ反転で測定

Claims

【特許請求の範囲】

（１）重量パーセントでＮｉ６０〜９０％、Ｍｏ１〜８
％、Ｃ０．１％以下、Ｍｎ０．１〜３．０％、Ｓｉ０．
０１〜１．０％、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる
Ｎｉ−Ｆｅ基合金を冷間圧延後３５０〜６５０℃で５分
以上２時間以内の熱処理を施すことを特徴とするシャド
ウマスクの製造方法。
（２）上記、熱処理を非酸化性雰囲気中で行うことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のシャドウマスクの
製造方法。