JPH01112090A - 流量制御弁 - Google Patents
流量制御弁Info
- Publication number
- JPH01112090A JPH01112090A JP27120687A JP27120687A JPH01112090A JP H01112090 A JPH01112090 A JP H01112090A JP 27120687 A JP27120687 A JP 27120687A JP 27120687 A JP27120687 A JP 27120687A JP H01112090 A JPH01112090 A JP H01112090A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- piezoelectric
- control valve
- piezoelectric element
- displacement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体製造装置、真空蒸着装置等に用いるプ
ロセスガスの流量を制御する制御弁に関するものである
。
ロセスガスの流量を制御する制御弁に関するものである
。
従来、特開昭61−236974号に開示された如くユ
ニモルフ等の複合圧電素子を用いて弁を構成する場合は
、第4図に示す如く、圧電素子lの周辺を何らかの手段
で固定し、圧電素子の中心部の最大たわみを利用して流
量制御を行なっていた。
ニモルフ等の複合圧電素子を用いて弁を構成する場合は
、第4図に示す如く、圧電素子lの周辺を何らかの手段
で固定し、圧電素子の中心部の最大たわみを利用して流
量制御を行なっていた。
しかしながら上記の手段では、周辺の固定方法あるいは
固定強度等によって、大幅に圧電素子の変位特性が変わ
り、再現性に影響を与え、流量制御の際に大きな偏差を
生じるという問題点があった。
固定強度等によって、大幅に圧電素子の変位特性が変わ
り、再現性に影響を与え、流量制御の際に大きな偏差を
生じるという問題点があった。
本発明は、流体の流量を制御する流量制御弁において、
アクチュエータに圧電バイモルフあるいは圧電ユニモル
フ等の圧電による歪を屈曲変位に変換する圧電素子を用
いて、前記圧電素子の中心部を固定し、周辺部の屈曲変
位を発生させ、その力の均一化を図り、上記手段により
得られた変位で流体の流量を制御することを特徴とする
特許御弁である。
アクチュエータに圧電バイモルフあるいは圧電ユニモル
フ等の圧電による歪を屈曲変位に変換する圧電素子を用
いて、前記圧電素子の中心部を固定し、周辺部の屈曲変
位を発生させ、その力の均一化を図り、上記手段により
得られた変位で流体の流量を制御することを特徴とする
特許御弁である。
本発明の一実施例を第1図に示す。厚さ0.3 n直径
15mmのチタン酸ジルコン酸鉛から成る圧電素子の薄
板に、電極を形成し、同寸法のステンレ′ ス板を貼
りあわせた圧電素子1の中心部にφ2.5鶴の穴をあけ
、図の如く、M2のねじで固定した。
15mmのチタン酸ジルコン酸鉛から成る圧電素子の薄
板に、電極を形成し、同寸法のステンレ′ ス板を貼
りあわせた圧電素子1の中心部にφ2.5鶴の穴をあけ
、図の如く、M2のねじで固定した。
一方、弁室内には直径0.4鶴の穴を2つあけ、それぞ
れを流入口3、流出口4とする。今、圧電素子への印加
電圧ゼロの時には、圧電素子はフラットな状態になって
いるため、ガス流入口及びガス流出口は閉じ、ガスは流
れない。逆に電圧を印加した際には、圧電素子は屈曲変
位し、それにより流入口及び流出口は開き、ガスは流れ
る。第5図に本発明バルブの流量と電圧の関係を示す。
れを流入口3、流出口4とする。今、圧電素子への印加
電圧ゼロの時には、圧電素子はフラットな状態になって
いるため、ガス流入口及びガス流出口は閉じ、ガスは流
れない。逆に電圧を印加した際には、圧電素子は屈曲変
位し、それにより流入口及び流出口は開き、ガスは流れ
る。第5図に本発明バルブの流量と電圧の関係を示す。
ガス流路の断面積が小さいため、大流量には向いていな
いが、本実施例の如く微少流量制御は充分に可能である
。
いが、本実施例の如く微少流量制御は充分に可能である
。
第2図に本発明の別の実施例を示す。基本構成は上記実
施例と同様であるが、ガス流入口3及びガス流出口4の
穴径をそれぞれφ1.5Rにする為、ユニモルフの背面
よりバックアップばね7により、圧力を加えた。この際
の流量と電圧の関係を第3図に示す。実施例1に比べる
と、比較的流量の大きなものでも制御することが可能に
なった。
施例と同様であるが、ガス流入口3及びガス流出口4の
穴径をそれぞれφ1.5Rにする為、ユニモルフの背面
よりバックアップばね7により、圧力を加えた。この際
の流量と電圧の関係を第3図に示す。実施例1に比べる
と、比較的流量の大きなものでも制御することが可能に
なった。
本発明によれば、従来不充分であった複合圧電素子の固
定法に起因する再現性不良及び、流量制御性の不良は大
幅に改善され、再現性に優れた流量制御弁の供給が実現
できる。
定法に起因する再現性不良及び、流量制御性の不良は大
幅に改善され、再現性に優れた流量制御弁の供給が実現
できる。
第1図は本発明に係る流量制御弁の一実施例を示す断面
図、第2図は本発明に係る流量制御弁の別の実施例を示
す断面図、第3図は本発明に係る実施例に関する特性図
、第4図は従来技術に係る流量制御弁の断面図、第5図
は本発明に係る実施例に関する特性図。 1:圧電素子、2:固定ねし、3:ガス流入口、4:ガ
ス流出口、5:Oリング、6:弁座、7:バックアップ
ばね。 第1図 第2図 印加電圧り、C、(V) 第3図 第4図
図、第2図は本発明に係る流量制御弁の別の実施例を示
す断面図、第3図は本発明に係る実施例に関する特性図
、第4図は従来技術に係る流量制御弁の断面図、第5図
は本発明に係る実施例に関する特性図。 1:圧電素子、2:固定ねし、3:ガス流入口、4:ガ
ス流出口、5:Oリング、6:弁座、7:バックアップ
ばね。 第1図 第2図 印加電圧り、C、(V) 第3図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 気体、液体等の流体の流量を制御する流量制御弁におい
て (1)アクチュエータに圧電バイモルフあるいは圧電ユ
ニモルフ等の圧電による歪を屈曲変位に変換する圧電素
子を用いる手段 (2)前記圧電素子の中心部を固定し、屈曲変位を発生
させる手段 (3)前記(2)の手段により得られた変位により流体
の流量を制御する手段 とを有することを特徴とする流量制御弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27120687A JPH01112090A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 流量制御弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27120687A JPH01112090A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 流量制御弁 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01112090A true JPH01112090A (ja) | 1989-04-28 |
Family
ID=17496826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27120687A Pending JPH01112090A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 流量制御弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01112090A (ja) |
-
1987
- 1987-10-27 JP JP27120687A patent/JPH01112090A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5400824A (en) | Microvalve | |
| EP0544405B1 (en) | Piezoelectric fluid flow control valve | |
| CN1247605A (zh) | 微质量流量控制装置和方法 | |
| JPH02173483A (ja) | 高速流量制御弁 | |
| CN112228628B (zh) | 一种压电微阀门的流量控制方法及压电微阀门装置 | |
| JPS61127983A (ja) | 流体制御用バルブ | |
| JPS6228585A (ja) | 圧電駆動式弁 | |
| JP3368741B2 (ja) | マイクロバルブ及びその製造方法 | |
| JPWO2022070549A5 (ja) | ||
| JPH11265217A (ja) | 圧力式流量制御装置 | |
| JPS62224780A (ja) | 圧電駆動式弁 | |
| JPH04231781A (ja) | ピエゾアクチュエータ | |
| JPS62177384A (ja) | 圧電駆動式弁 | |
| JP3388991B2 (ja) | 圧電駆動型小形弁 | |
| JPS6231784A (ja) | 圧電駆動式弁 | |
| JPS62283273A (ja) | 圧電式ガス流量制御弁 | |
| JPS61171907A (ja) | 電気液圧サ−ボ弁 | |
| JPH0313658Y2 (ja) | ||
| JPWO2011007645A1 (ja) | 薄膜アクチュエータ、及びインクジェットヘッド | |
| JP2841472B2 (ja) | 歪み回避機能を有する圧電素子 | |
| JPS62283272A (ja) | 圧電式ガス流量制御弁 | |
| JPS63111382A (ja) | 電歪駆動型ノ−マリ−クロ−ズ弁 | |
| JPH01105080A (ja) | 圧電式流量制御弁 | |
| JPH11265215A (ja) | 圧力式流量制御装置 | |
| JP2570615Y2 (ja) | ドライエッチング装置のエッチャントガス微量供給装置 |