JPH01112230A - 照射装置 - Google Patents
照射装置Info
- Publication number
- JPH01112230A JPH01112230A JP26910187A JP26910187A JPH01112230A JP H01112230 A JPH01112230 A JP H01112230A JP 26910187 A JP26910187 A JP 26910187A JP 26910187 A JP26910187 A JP 26910187A JP H01112230 A JPH01112230 A JP H01112230A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- irradiation
- irradiated
- irradiated surface
- irradiation source
- source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば写真焼付用及び同類平面用の均一照射
に用いられる紫外線照射装置に適用するのに最適な照射
装置に関する。
に用いられる紫外線照射装置に適用するのに最適な照射
装置に関する。
本発明は、照射線源によって固定平面の被照射面を均一
に照射するようにした照射装置において、管状の照射線
源を被照射面に沿って移動させながら照射するようにし
たことにより、従来の装置に比較して、より薄型化かつ
簡略化することができ、しかも被照射面において極めて
均一な照射強度分布を得ることができるようにしたもの
である。
に照射するようにした照射装置において、管状の照射線
源を被照射面に沿って移動させながら照射するようにし
たことにより、従来の装置に比較して、より薄型化かつ
簡略化することができ、しかも被照射面において極めて
均一な照射強度分布を得ることができるようにしたもの
である。
まず、本発明との比較のために、従来よりある平面均一
照射用の紫外線照射装置を第５図に示す。
照射用の紫外線照射装置を第５図に示す。
紫外線ランプ５０１は反射具５０２及び補助反射具５０
３と共に、固定平面の被照射面５０４に対面配置されて
いる。その被照射面５０４に均一な照射強度を与えるた
めに、紫外線ランプ５０１の照射光がより平行光線とな
るように、反射具５０２及び補助反射具５０３はいわゆ
るパラボラ形状に近似させている。また被照射面５０４
に対して一定の照射時間を与えるために、紫外線ランプ
５０１の前面でその照射光をオン・オフさせる回転式の
シャッタ５０５が設けられている。
３と共に、固定平面の被照射面５０４に対面配置されて
いる。その被照射面５０４に均一な照射強度を与えるた
めに、紫外線ランプ５０１の照射光がより平行光線とな
るように、反射具５０２及び補助反射具５０３はいわゆ
るパラボラ形状に近似させている。また被照射面５０４
に対して一定の照射時間を与えるために、紫外線ランプ
５０１の前面でその照射光をオン・オフさせる回転式の
シャッタ５０５が設けられている。
ところが、上述した従来の装置では、パラボラ形状に近
似させた反射具５０２及び補助反射具５０３によって、
紫外線ランプ５０１の照射光がより平行光線となるよう
にしている。このため、特に補助反射具５０３が極めて
大きな寸法及び形状となり、装置全体の厚さＨ５が極め
て大きくなる問題があった。なお被照射面５０４の面積
が大きくなればなる程、前記厚さＨ３は大きくなる。そ
して大きな補助反射具５０３の存在により被照射面５０
４に対して紫外線ランプ５０１をかなり離れた所に位置
させなければならず、またより離れないと均一な照射強
度分布が得られず、安定した照射を行い難い問題があっ
た。なお従来の装置での被照射面５０４の照射強度分布
は、中心部を１００％とすると端部で３５％程度が一般
的であった。そして例えば、−辺が６０ｃｍの正方形状
の被照射面５０４で７０〜１００％の照射強度分布を得
ようとすると、その被照射面５０４と紫外線ランプ５０
１との間の距離Ｈ２は８０Ｌ：ｍ程度必要であった。
似させた反射具５０２及び補助反射具５０３によって、
紫外線ランプ５０１の照射光がより平行光線となるよう
にしている。このため、特に補助反射具５０３が極めて
大きな寸法及び形状となり、装置全体の厚さＨ５が極め
て大きくなる問題があった。なお被照射面５０４の面積
が大きくなればなる程、前記厚さＨ３は大きくなる。そ
して大きな補助反射具５０３の存在により被照射面５０
４に対して紫外線ランプ５０１をかなり離れた所に位置
させなければならず、またより離れないと均一な照射強
度分布が得られず、安定した照射を行い難い問題があっ
た。なお従来の装置での被照射面５０４の照射強度分布
は、中心部を１００％とすると端部で３５％程度が一般
的であった。そして例えば、−辺が６０ｃｍの正方形状
の被照射面５０４で７０〜１００％の照射強度分布を得
ようとすると、その被照射面５０４と紫外線ランプ５０
１との間の距離Ｈ２は８０Ｌ：ｍ程度必要であった。
さらに、上述のように紫外線ランプ５０１が被照射面５
０４から遠く、かつ反射具５０２及び補助反射具５０３
による多くの反射面を用いるために、紫外線ランプ５０
１のエネルギー損失が極めて多くなり、その結果、被照
射面５０４での照射強度が著しく弱くなる。このために
従来の装置では、通常、極めて強力な出力の紫外線ラン
プ５０１を用いる必要が生じ、そのために特殊な水冷等
の冷却装置が必要となって、設備コストが大幅に増大す
る問題があった。
０４から遠く、かつ反射具５０２及び補助反射具５０３
による多くの反射面を用いるために、紫外線ランプ５０
１のエネルギー損失が極めて多くなり、その結果、被照
射面５０４での照射強度が著しく弱くなる。このために
従来の装置では、通常、極めて強力な出力の紫外線ラン
プ５０１を用いる必要が生じ、そのために特殊な水冷等
の冷却装置が必要となって、設備コストが大幅に増大す
る問題があった。
また従来の装置では、被照射面５０４に対して一定の照
射時間を与えるために、紫外線ランプ５０１の前面で照
射光をオン・オフさせる図示した回転式のシャッタ５０
５や開閉式のシャッタが必要となるので、照射時間を調
整するための構造が極めて複雑となる問題もあった。
射時間を与えるために、紫外線ランプ５０１の前面で照
射光をオン・オフさせる図示した回転式のシャッタ５０
５や開閉式のシャッタが必要となるので、照射時間を調
整するための構造が極めて複雑となる問題もあった。
そこで本発明は、上述したような従来の装置に比較して
、より薄型化かつ簡略化することができ、しかも被照射
面において極めて均一な照射強度分布を得ることができ
るようにするものである。
、より薄型化かつ簡略化することができ、しかも被照射
面において極めて均一な照射強度分布を得ることができ
るようにするものである。
本発明は、前述した照射装置において、長手方向の長さ
が被照射面の幅よりも長く構成された管状の照射線源を
被照射面に対してほぼ平行に配置し、被照射面に沿って
管状の照射線源をその長手方向に対してほぼ直角な方向
へ移動させながら照射するように構成したものである。
が被照射面の幅よりも長く構成された管状の照射線源を
被照射面に対してほぼ平行に配置し、被照射面に沿って
管状の照射線源をその長手方向に対してほぼ直角な方向
へ移動させながら照射するように構成したものである。
本発明によれば、管状の照射線源を被照射面に沿って移
動させることによって、照射線源を被照射面に対して極
めて接近させることができるものでありながら、被照射
面において極めて均一な照射強度分布を得ることができ
る。さらに照射線源を被照射面に対して接近させること
によって、出力の低い照射線源でも高い照射強度を得る
ことができる。また照射線源を移動させることによって
、その照射線源の移動速度または移動回数により被照射
面に対する照射時間を自在に調整することができる。
動させることによって、照射線源を被照射面に対して極
めて接近させることができるものでありながら、被照射
面において極めて均一な照射強度分布を得ることができ
る。さらに照射線源を被照射面に対して接近させること
によって、出力の低い照射線源でも高い照射強度を得る
ことができる。また照射線源を移動させることによって
、その照射線源の移動速度または移動回数により被照射
面に対する照射時間を自在に調整することができる。
以下、本発明を紫外線照射装置に適用した一実施例を第
１図〜第４図によって説明する。
１図〜第４図によって説明する。
まず、第１図〜第３図に示すように、本発明においては
照射線源として管状の紫外線ランプ１が用いられており
、この管状の紫外線ランプ１が固定平面の被照射面２に
対して平行に配置されている。第２図に示すように、管
状の紫外線ランプ１の長手方向の長さ、即ち発光長Ｌａ
は、被照射面２の幅Ｌｅよりも長く構成されている。そ
して管状の紫外線ランプ１は断面はぼ半円弧状の反射具
３と共に、上面が解放された直方体状の外箱４に収納さ
れている。その外箱４の両端部はそれぞれ車輪５を有す
る一対の保持具６によって保持され、両車輪５は被照射
面２に対して平行に配置された一対のレール７上で移動
される。従って第１図に示すように、被照射面２に沿っ
て管状の紫外線ランプ１はその長手方向に対して直角な
方向（矢印ａ、ａ′方向）へ移動自在に構成されている
。なお外箱４をレール７上にて移動させる、例えばチェ
ーンとモータ、エアシリンダまたはボールネジ等の駆動
系は図示省略した。
照射線源として管状の紫外線ランプ１が用いられており
、この管状の紫外線ランプ１が固定平面の被照射面２に
対して平行に配置されている。第２図に示すように、管
状の紫外線ランプ１の長手方向の長さ、即ち発光長Ｌａ
は、被照射面２の幅Ｌｅよりも長く構成されている。そ
して管状の紫外線ランプ１は断面はぼ半円弧状の反射具
３と共に、上面が解放された直方体状の外箱４に収納さ
れている。その外箱４の両端部はそれぞれ車輪５を有す
る一対の保持具６によって保持され、両車輪５は被照射
面２に対して平行に配置された一対のレール７上で移動
される。従って第１図に示すように、被照射面２に沿っ
て管状の紫外線ランプ１はその長手方向に対して直角な
方向（矢印ａ、ａ′方向）へ移動自在に構成されている
。なお外箱４をレール７上にて移動させる、例えばチェ
ーンとモータ、エアシリンダまたはボールネジ等の駆動
系は図示省略した。
次に、被照射面２の周囲はほぼ面一に配置された遮光板
１０によって囲まれている。そして特に紫外線ランプ１
の移動方向（矢印ａ、ａ’方向）の前後における遮光板
１０ａ、１０ｂは、外箱４に対応して充分な幅を有して
いる。そして被照射面２から外れた位置にある遮光板１
０ａ、１０ｂの下方が紫外線ランプ１の待機室１１ａ、
ｌｌｂにて構成されている。
１０によって囲まれている。そして特に紫外線ランプ１
の移動方向（矢印ａ、ａ’方向）の前後における遮光板
１０ａ、１０ｂは、外箱４に対応して充分な幅を有して
いる。そして被照射面２から外れた位置にある遮光板１
０ａ、１０ｂの下方が紫外線ランプ１の待機室１１ａ、
ｌｌｂにて構成されている。
上述のように構成された装置によれば、通常時に管状の
紫外線ランプ１は、第１図に一点鎖線または二点鎖線で
示すように何れか一方の待機室１１ａまたはｌｌｂにお
いて停止して待機しており、この時、紫外線ランプ１の
照射光は遮光板１０ａまたは１０ｂによって遮光されて
いる。そして被照射面２を照射する時には、外箱４がレ
ール７上にて片道または往復移動して再び待機室１１ａ
またはｌｌｂに戻り、その間で紫外線ランプ１によって
被照射面２への照射が行われる。
紫外線ランプ１は、第１図に一点鎖線または二点鎖線で
示すように何れか一方の待機室１１ａまたはｌｌｂにお
いて停止して待機しており、この時、紫外線ランプ１の
照射光は遮光板１０ａまたは１０ｂによって遮光されて
いる。そして被照射面２を照射する時には、外箱４がレ
ール７上にて片道または往復移動して再び待機室１１ａ
またはｌｌｂに戻り、その間で紫外線ランプ１によって
被照射面２への照射が行われる。
このように、管状の紫外線ランプ１を被照射面２に沿っ
て移動させながら照射することによって、大きな反射具
を用いることなく、紫外線ランプ１を被照射面２に対し
て極めて接近させることができ、装置全体の厚さＨ３は
極めて小さくなっている。例えば、従来と同様に一辺が
６０ｃｍの正方形状の被照射面２を照射する場合、その
被照射面２と紫外線ランプ１との間の距離Ｈ４を１０ｃ
ｍ程度に縮めることができ、その時の照射強度分布は８
５〜１００％となる。しかもそれでいて被照射面２にお
いて極めて均一な照射強度分布が得られる。
て移動させながら照射することによって、大きな反射具
を用いることなく、紫外線ランプ１を被照射面２に対し
て極めて接近させることができ、装置全体の厚さＨ３は
極めて小さくなっている。例えば、従来と同様に一辺が
６０ｃｍの正方形状の被照射面２を照射する場合、その
被照射面２と紫外線ランプ１との間の距離Ｈ４を１０ｃ
ｍ程度に縮めることができ、その時の照射強度分布は８
５〜１００％となる。しかもそれでいて被照射面２にお
いて極めて均一な照射強度分布が得られる。
即ち、本装置における被照射面での照射強度分布は、第
４図に示す反射具４０３を有する管状の紫外線ランプ４
０１の長手方向における照射強度分布４０８のようにな
り、管状の紫外線ランプ４０１の発光長Ｌａに対して被
照射面４０２の幅Ｌｅを例えば８５％程度とすれば、被
照射面４０２での照射強度分布は中心部を１００％とし
て端部で９５％程度となり、この強度分布が即ち被照射
面４０２全体の照射強度分布となる。
４図に示す反射具４０３を有する管状の紫外線ランプ４
０１の長手方向における照射強度分布４０８のようにな
り、管状の紫外線ランプ４０１の発光長Ｌａに対して被
照射面４０２の幅Ｌｅを例えば８５％程度とすれば、被
照射面４０２での照射強度分布は中心部を１００％とし
て端部で９５％程度となり、この強度分布が即ち被照射
面４０２全体の照射強度分布となる。
さらに本装置によれば、被照射面２に対して紫外線ラン
プ１を極めて近くに設置できるので、その紫外線ランプ
１の出力が低いものでも、高い照射強度を得ることがで
きる。
プ１を極めて近くに設置できるので、その紫外線ランプ
１の出力が低いものでも、高い照射強度を得ることがで
きる。
また本装置によれば、紫外線ランプ１を移動させること
によって、被照射面２に対する照射条件を外箱４、即ち
紫外線ランプ１の移動速度または移動回数により自在に
調整することができる。
によって、被照射面２に対する照射条件を外箱４、即ち
紫外線ランプ１の移動速度または移動回数により自在に
調整することができる。
以上、本発明の一実施例に付き述べたが、零発明は実施
例に限定されることなく、本発明の技術的思想に基づい
て各種の有効な変更が可能である。
例に限定されることなく、本発明の技術的思想に基づい
て各種の有効な変更が可能である。
例えば、実施例では照射線源として紫外線ランプを用い
た紫外線照射装置を示したが、紫外線以外にも赤外線や
Ｘ線等による各種の照射装置に適用することができる。
た紫外線照射装置を示したが、紫外線以外にも赤外線や
Ｘ線等による各種の照射装置に適用することができる。
本発明は、管状の照射線源を被照射面に沿って移動させ
るようにしたものであるから、従来のように照射光を平
行光線とするための大きな寸法及び形状の反射具は不要
で、照射線源を被照射面に対して極めて接近させること
ができる。従って、装置全体の薄型化を図ることができ
、被照射面の面積が大きくなっても装置全体の厚さが増
大することはない。そして照射線源を被照射面に沿って
移動させるので、上述のように照射線源を被照射面に対
して接近させることができるものでありながら、被照射
面において極めて均一な照射強度分布を得ることができ
、極めて安定した照射を行うことができる。
るようにしたものであるから、従来のように照射光を平
行光線とするための大きな寸法及び形状の反射具は不要
で、照射線源を被照射面に対して極めて接近させること
ができる。従って、装置全体の薄型化を図ることができ
、被照射面の面積が大きくなっても装置全体の厚さが増
大することはない。そして照射線源を被照射面に沿って
移動させるので、上述のように照射線源を被照射面に対
して接近させることができるものでありながら、被照射
面において極めて均一な照射強度分布を得ることができ
、極めて安定した照射を行うことができる。
さらに、照射線源を被照射面に接近させることによって
、出力の低い照射線源で高い照射強度を得ることができ
るので、従来のように強力な出力の照射線源を用い必要
がない。従って、冷却装置を含めた設備コストを大幅に
削減することができる。
、出力の低い照射線源で高い照射強度を得ることができ
るので、従来のように強力な出力の照射線源を用い必要
がない。従って、冷却装置を含めた設備コストを大幅に
削減することができる。
また、照射線源を移動させるものであるから、実施例の
ように待機室の間での照射線源の移動速度または移動回
数によって被照射面に対する照射時間を自在に設定する
ことができ、従来のように照射光をオン・オフさせるシ
ャッタは不要で、照射時間を調整するための構造を極め
て簡略化することができる。
ように待機室の間での照射線源の移動速度または移動回
数によって被照射面に対する照射時間を自在に設定する
ことができ、従来のように照射光をオン・オフさせるシ
ャッタは不要で、照射時間を調整するための構造を極め
て簡略化することができる。
第１図〜第４図は本発明を紫外線照射装置に適用した一
実施例を示すものであって、第１図は第３図Ｉ−１線矢
惚断面での正面図、第２図は第３図ｎ−ｎ線矢視断面で
の側面図、第３図は平面図、第４図は本発明に用いる照
射線源の長平方向における照射強度分布図である。 第５図は従来の紫外線照射装置の一例を示す縦断面図で
ある。 なお図面に用いた符号において、 １−・−−−−−−−・・・−−一−−−−紫外線ラン
プ（照射線源）２−−−−−一・・−−−−−−−一一
−−被照射面４・−−−−−・・−・・−−−−−−一
一外箱？−−−−−・−・・−一−−−−−−−・レー
ル１０ａ、 １０ｂ −−−−−−一遮光板１１ａ、
Ｉｌｂ −−−一待機室 である。
実施例を示すものであって、第１図は第３図Ｉ−１線矢
惚断面での正面図、第２図は第３図ｎ−ｎ線矢視断面で
の側面図、第３図は平面図、第４図は本発明に用いる照
射線源の長平方向における照射強度分布図である。 第５図は従来の紫外線照射装置の一例を示す縦断面図で
ある。 なお図面に用いた符号において、 １−・−−−−−−−・・・−−一−−−−紫外線ラン
プ（照射線源）２−−−−−一・・−−−−−−−一一
−−被照射面４・−−−−−・・−・・−−−−−−一
一外箱？−−−−−・−・・−一−−−−−−−・レー
ル１０ａ、 １０ｂ −−−−−−一遮光板１１ａ、
Ｉｌｂ −−−一待機室 である。
Claims (2)
- （１）、照射線源によって固定平面の被照射面を均一に
照射するようにした照射装置において、長手方向の長さ
が前記被照射面の幅よりも長く構成された管状の照射線
源を前記被照射面に対してほぼ平行に配置し、前記被照
射面に沿って前記管状の照射線源をその長手方向に対し
てほぼ直角な方向へ移動させながら照射するように構成
したことを特徴とする照射装置。 - （２）、前記管状の照射線源が移動する方向の前後で前
記被照射面から外れた位置にその照射線源の待機室を設
けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の照
射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26910187A JPH01112230A (ja) | 1987-10-24 | 1987-10-24 | 照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26910187A JPH01112230A (ja) | 1987-10-24 | 1987-10-24 | 照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01112230A true JPH01112230A (ja) | 1989-04-28 |
Family
ID=17467683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26910187A Pending JPH01112230A (ja) | 1987-10-24 | 1987-10-24 | 照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01112230A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007247068A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Applied Materials Inc | Ｕｖ硬化システム |
-
1987
- 1987-10-24 JP JP26910187A patent/JPH01112230A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007247068A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Applied Materials Inc | Ｕｖ硬化システム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6626561B2 (en) | Lamp structure, having elliptical reflectors, for uniformly irradiating surfaces of optical fiber and method of use thereof | |
| CN1768876A (zh) | 用于紫外线照射的装置和紫外线照射设备 | |
| JPH025294B2 (ja) | ||
| KR0139408B1 (ko) | 화상형성용 노광장치 | |
| US4707116A (en) | Exposure device | |
| US5386268A (en) | Exposure unit and method for exposing photosensitive materials | |
| KR950000485B1 (ko) | 화상형성용 노광장치 | |
| GB2127173A (en) | Thin fieldlight mirror for medical electron accelerators | |
| JPH01112230A (ja) | 照射装置 | |
| EP1718474A2 (en) | Combined ablation and exposure system and method | |
| JPH0618585Y2 (ja) | 光照射器 | |
| JP3578176B2 (ja) | 光造形装置 | |
| JP2004325543A (ja) | ディスプレイパネルの貼り合わせ装置 | |
| JP2732450B2 (ja) | 光照射器 | |
| JPH0545887A (ja) | 画像形成用露光装置 | |
| JPS58225636A (ja) | Ｘ線を対象物に照射する装置 | |
| JPS5645024A (en) | Lithography apparatus | |
| JPH0315309Y2 (ja) | ||
| SU543914A2 (ru) | Устройство дл контактной фотопечати | |
| JPS647619A (en) | X-ray aligner | |
| JP2578256Y2 (ja) | 光ファイバーに塗布されたコーティング剤の硬化装置 | |
| SU581109A1 (ru) | Способ фотоэкспонировани крупногабаритных пластин из светочувствительного стекла | |
| JPS6114958A (ja) | 紫外線照射装置 | |
| JPH01218631A (ja) | 多波長選択紫外線照射装置 | |
| JPH11342486A (ja) | アパーチャーマスク並びに光加工方法及びその装置 |