JPH0545887A - 画像形成用露光装置 - Google Patents
画像形成用露光装置Info
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- JPH0545887A JPH0545887A JP3206872A JP20687291A JPH0545887A JP H0545887 A JPH0545887 A JP H0545887A JP 3206872 A JP3206872 A JP 3206872A JP 20687291 A JP20687291 A JP 20687291A JP H0545887 A JPH0545887 A JP H0545887A
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- hole
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- ultraviolet irradiation
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Abstract
(57)【要約】
【目的】基板の表面およびスルーホールの内壁面に施し
た電着性フォトレジストに適正な光化学反応を起こさせ
て、画像形成作業の能率向上を図る。 【構成】スルーホール４１を有する画像形成用基板３１
の上方および下方に且つ基板３１に対して平行に離間配
置した上下の平面反射鏡３２ａ，３２ｂと、前記基板３
１と上下の平面反射鏡３２ａ，３２ｂとの間に配置した
上下の紫外線照射装置３３、３４とを備え、前記紫外線
照射装置３３、３４は、前記基板３１の一辺に対して平
行に延びる放電灯３３ａ，３４ａと、この放電灯３３
ａ，３４ａの背面に設けた反射鏡３３ｂ，３４ｂとを有
しており、前記各平面反射鏡に３２ａ，３２ｂ対して各
紫外線照射装置３３，３４を一定角度で傾斜させ、前記
放電灯３３ａ，３４ａの横方向に往復移動可能に構成す
ると共に、各移動端において前記紫外線照射装置３３、
３４の照射方向を反転可能に構成した。
た電着性フォトレジストに適正な光化学反応を起こさせ
て、画像形成作業の能率向上を図る。 【構成】スルーホール４１を有する画像形成用基板３１
の上方および下方に且つ基板３１に対して平行に離間配
置した上下の平面反射鏡３２ａ，３２ｂと、前記基板３
１と上下の平面反射鏡３２ａ，３２ｂとの間に配置した
上下の紫外線照射装置３３、３４とを備え、前記紫外線
照射装置３３、３４は、前記基板３１の一辺に対して平
行に延びる放電灯３３ａ，３４ａと、この放電灯３３
ａ，３４ａの背面に設けた反射鏡３３ｂ，３４ｂとを有
しており、前記各平面反射鏡に３２ａ，３２ｂ対して各
紫外線照射装置３３，３４を一定角度で傾斜させ、前記
放電灯３３ａ，３４ａの横方向に往復移動可能に構成す
ると共に、各移動端において前記紫外線照射装置３３、
３４の照射方向を反転可能に構成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、フォトリソグラフィ
ー（写真蝕刻法）を利用してスルーホール（through ho
le) を有する基板の表面に画像を形成するのに有用な露
光装置、特に基板表面及びスルーホール内壁面に施した
電着性フォトレジストに適正な光化学反応を起こさせて
露光作業の能率向上を図り得る画像形成用露光装置に関
するものである。
ー（写真蝕刻法）を利用してスルーホール（through ho
le) を有する基板の表面に画像を形成するのに有用な露
光装置、特に基板表面及びスルーホール内壁面に施した
電着性フォトレジストに適正な光化学反応を起こさせて
露光作業の能率向上を図り得る画像形成用露光装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】フォトリソグラフィーを利用してスルー
ホールを有するプリント配線用基板の両面にパターンを
形成し、形成されたパターンをスルーホール内壁面に施
した銅メッキ層を介して電気的に接続する従来の画像形
成工程では、エッチングによる前記銅メッキ層の損傷を
防止するため、基板の表面をドライフィルムで覆い、
図６に示すように露光によって硬化したレジストの薄層
１を用いてスルーホール２の開口を閉鎖したり（テンテ
ィング法）、 露光及び現象後、図７に示すように露
出した銅メッキ３の表面にハンダメッキ４を施すように
しており、（ハンダスルーホール法）、エッチングのた
めの前処理作業が煩雑であった。なお、図中５は基板
（銅張積層板）、６は絶縁機材、７は銅箔、９（破線で
仕切られた部分）はエッチングによって除去される部分
を示す。
ホールを有するプリント配線用基板の両面にパターンを
形成し、形成されたパターンをスルーホール内壁面に施
した銅メッキ層を介して電気的に接続する従来の画像形
成工程では、エッチングによる前記銅メッキ層の損傷を
防止するため、基板の表面をドライフィルムで覆い、
図６に示すように露光によって硬化したレジストの薄層
１を用いてスルーホール２の開口を閉鎖したり（テンテ
ィング法）、 露光及び現象後、図７に示すように露
出した銅メッキ３の表面にハンダメッキ４を施すように
しており、（ハンダスルーホール法）、エッチングのた
めの前処理作業が煩雑であった。なお、図中５は基板
（銅張積層板）、６は絶縁機材、７は銅箔、９（破線で
仕切られた部分）はエッチングによって除去される部分
を示す。
【０００３】前記の問題点を解決するため、図８に示す
ように基板５の表面およびスルーホール２の内壁面に電
着性のフォトレジスト１０（電気メッキが可能な感光性
樹脂）を施し、画像形成用の紫外線を利用してスルーホ
ール２内のフォトレジスト１０を硬化させ、銅メッキ層
３を保護するうようにした露光装置が本願と同一出願人
によって提案されている（詳細は特開平２−２５４４５
５号参照）。
ように基板５の表面およびスルーホール２の内壁面に電
着性のフォトレジスト１０（電気メッキが可能な感光性
樹脂）を施し、画像形成用の紫外線を利用してスルーホ
ール２内のフォトレジスト１０を硬化させ、銅メッキ層
３を保護するうようにした露光装置が本願と同一出願人
によって提案されている（詳細は特開平２−２５４４５
５号参照）。
【０００４】この装置は図９に示すように、複数個の紫
外線ランプ１３からなる光源装置１４、１４と折り畳み
可能な平面反射鏡１５、１５を基板５に平行な軸線１
６、１７の周わりに回動自在に取り付け、前記光源装置
１４、１４が実線で示すように基板５に近接して水平に
位置したときに紫外線を照射してスルーホール内のフォ
トレジストを硬化させ、次に光源装置１４、１４が仮想
線で示すように基板５に直交する起立位置にきたとき
に、平面反射鏡１５、１５（仮想線参照）を介して紫外
線を照射し、基板表面のフォトレジストを硬化させるよ
うにしている。
外線ランプ１３からなる光源装置１４、１４と折り畳み
可能な平面反射鏡１５、１５を基板５に平行な軸線１
６、１７の周わりに回動自在に取り付け、前記光源装置
１４、１４が実線で示すように基板５に近接して水平に
位置したときに紫外線を照射してスルーホール内のフォ
トレジストを硬化させ、次に光源装置１４、１４が仮想
線で示すように基板５に直交する起立位置にきたとき
に、平面反射鏡１５、１５（仮想線参照）を介して紫外
線を照射し、基板表面のフォトレジストを硬化させるよ
うにしている。
【０００５】そして、この装置によると硬化したフォト
レジストを用いてスルーホール内の銅メッキ層３を保護
するので、前記のような手間のかかる前処理を必要とせ
ず、また各光源装置１４、１４をパターン形成およびス
ルーホール保護の二つの目的に兼用できるので、１台の
装置を用いて露光を行い得る利点がある。
レジストを用いてスルーホール内の銅メッキ層３を保護
するので、前記のような手間のかかる前処理を必要とせ
ず、また各光源装置１４、１４をパターン形成およびス
ルーホール保護の二つの目的に兼用できるので、１台の
装置を用いて露光を行い得る利点がある。
【０００６】しかし、前記の露光装置には、次に述べる
ように更に改良すべき余地が残されている。スルーホー
ル内の露光を行う際、紫外線１８は基板５に対して鉛直
または鉛直に近い傾斜角度でスルーホール内に入射する
ので、後述するようにスルーホール内の露光を行う際の
紫外線強度が、基板表面の露光を行う際のそれに比べて
遙かに大きい。
ように更に改良すべき余地が残されている。スルーホー
ル内の露光を行う際、紫外線１８は基板５に対して鉛直
または鉛直に近い傾斜角度でスルーホール内に入射する
ので、後述するようにスルーホール内の露光を行う際の
紫外線強度が、基板表面の露光を行う際のそれに比べて
遙かに大きい。
【０００７】したがって、スルーホール内の露光を行う
際は、基板表面のフォトレジスト１０にマスク（図示せ
ず）をかけておき、次に基板表面の露光を行う際は、前
記マスクを除去した後画像形成用フィルムを介して露光
を行わなければならず、露光作業の円滑な進行が妨げら
れる。
際は、基板表面のフォトレジスト１０にマスク（図示せ
ず）をかけておき、次に基板表面の露光を行う際は、前
記マスクを除去した後画像形成用フィルムを介して露光
を行わなければならず、露光作業の円滑な進行が妨げら
れる。
【０００８】ここで、紫外線の入射角度とフォトレジス
トを硬化させる紫外線強度との関係について説明する
と、図８に示すように紫外線１８が厚みｄのフォトレジ
スト１０を有する基板５に傾斜角度αで入射した際、ス
ルーホール内では式（１）で規定される厚みｄ1 のフォ
トレジスト１０を硬化させるだけの露光量を必要とし、
また基板表面では式（２）で規定される厚みｄ2 のフォ
トレジスト１０を硬化させる露光量を必要とするので、
露光量の比ｄ1 ／ｄ2 はtan αとなる。 ｄ1 ＝ｄ／cos α 式（１） ｄ2 ＝ｄ／sin α 式（２）
トを硬化させる紫外線強度との関係について説明する
と、図８に示すように紫外線１８が厚みｄのフォトレジ
スト１０を有する基板５に傾斜角度αで入射した際、ス
ルーホール内では式（１）で規定される厚みｄ1 のフォ
トレジスト１０を硬化させるだけの露光量を必要とし、
また基板表面では式（２）で規定される厚みｄ2 のフォ
トレジスト１０を硬化させる露光量を必要とするので、
露光量の比ｄ1 ／ｄ2 はtan αとなる。 ｄ1 ＝ｄ／cos α 式（１） ｄ2 ＝ｄ／sin α 式（２）
【０００９】前記露光量の比tan αの値はα＝８５のと
きｄ1 ／ｄ2 ≒１１となり、スルーホール内の露光に強
い紫外線を必要とすることが分かる。一方、α＝７０度
のときｄ1 ／ｄ2 ≒2,74となり、傾斜角度の相違によっ
てｄ1 ／ｄ2 の値が著しく変化することも理解できる。
きｄ1 ／ｄ2 ≒１１となり、スルーホール内の露光に強
い紫外線を必要とすることが分かる。一方、α＝７０度
のときｄ1 ／ｄ2 ≒2,74となり、傾斜角度の相違によっ
てｄ1 ／ｄ2 の値が著しく変化することも理解できる。
【００１０】また、図９に示す装置によると、基板周辺
のスルーホールに紫外線１８を入射させるには複数の紫
外線ランプを必要とし、そのため、光源装置の電力消費
量が増大するという問題点もある。
のスルーホールに紫外線１８を入射させるには複数の紫
外線ランプを必要とし、そのため、光源装置の電力消費
量が増大するという問題点もある。
【００１１】前記の問題点を解決するため、図１０に示
すように単一の放電灯１３と反射鏡２０を用いて上下の
紫外線照射装置を構成し、この装置と基板５の中間にス
リガラス等の透光体２２、２２を上下対称に配置し、こ
の透光体２２、２２を透過して散乱した、指向性のない
ほぼ均一な光２３を基板５の全面に照射して基板表面お
よびスルーホール内の電着性のフォトレジストを同時に
硬化させる露光装置が積極的に研究されている。
すように単一の放電灯１３と反射鏡２０を用いて上下の
紫外線照射装置を構成し、この装置と基板５の中間にス
リガラス等の透光体２２、２２を上下対称に配置し、こ
の透光体２２、２２を透過して散乱した、指向性のない
ほぼ均一な光２３を基板５の全面に照射して基板表面お
よびスルーホール内の電着性のフォトレジストを同時に
硬化させる露光装置が積極的に研究されている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかし、種々の研究を
おこなった結果、この種の装置は次の理由により断念せ
ざるを得ない状態になった。 （１）透光体２２、２２を透過した光２３の強度が予想
外に弱く、スルーホール内のレジストを硬化させるのに
時間がかかり、そのため、照射光中に含まれる赤外線の
熱作用によってフォトレジストが剥離したり、あるいは
フォトレジストの硬化不足によって現象時、フォトレジ
ストが流失する。 （２）スルーホール内のフォトレジストに対する露光を
適正に行うため放電灯１３の出力を増大させると、基板
表面のフォトレジストが過度に硬化し、現象時およびエ
ッチング終了後のレジスト除去が困難になる。
おこなった結果、この種の装置は次の理由により断念せ
ざるを得ない状態になった。 （１）透光体２２、２２を透過した光２３の強度が予想
外に弱く、スルーホール内のレジストを硬化させるのに
時間がかかり、そのため、照射光中に含まれる赤外線の
熱作用によってフォトレジストが剥離したり、あるいは
フォトレジストの硬化不足によって現象時、フォトレジ
ストが流失する。 （２）スルーホール内のフォトレジストに対する露光を
適正に行うため放電灯１３の出力を増大させると、基板
表面のフォトレジストが過度に硬化し、現象時およびエ
ッチング終了後のレジスト除去が困難になる。
【００１３】本発明は、前述の問題点に鑑み、基板表面
およびスルーホール内壁面の電着性フォトレジストに適
正な光化学反応を起こさせて露光の過不足にもとづく製
造品質の低下を防止すると共に、露光作用を円滑に進行
させて画像形成作業の能率向上を図る画像形成用露光装
置を提供することを課題とする。
およびスルーホール内壁面の電着性フォトレジストに適
正な光化学反応を起こさせて露光の過不足にもとづく製
造品質の低下を防止すると共に、露光作用を円滑に進行
させて画像形成作業の能率向上を図る画像形成用露光装
置を提供することを課題とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、「画像形成用フィルムを介して基板に紫
外線を照射し、前記基板の表面およびスルーホールの内
壁に施した電着用フォトレジストに光化学反応を起こさ
せて基板の表面に画像を形成させる露光装置において、
方形をした基板の上方および下方に且つこの基板に対し
て平行に離隔配置した上下の平面反射鏡と、前記基板と
上下の平面反射鏡との間に配置した上下の紫外線照射装
置とを備え、前記紫外線照射装置は前記基板の一辺に対
して平行に延びる放電灯と、この放電灯の背面側に設け
た反射鏡とを有しており、前記各平面反射鏡に対して各
紫外線照射装置を一定角度で傾斜させ、前記放電灯の横
方向に往復移動可能に構成すると共に、各移動端におい
て前記紫外線照射装置の照射方向を反転可能に構成した
画像形成用露光装置とした。
め、本発明は、「画像形成用フィルムを介して基板に紫
外線を照射し、前記基板の表面およびスルーホールの内
壁に施した電着用フォトレジストに光化学反応を起こさ
せて基板の表面に画像を形成させる露光装置において、
方形をした基板の上方および下方に且つこの基板に対し
て平行に離隔配置した上下の平面反射鏡と、前記基板と
上下の平面反射鏡との間に配置した上下の紫外線照射装
置とを備え、前記紫外線照射装置は前記基板の一辺に対
して平行に延びる放電灯と、この放電灯の背面側に設け
た反射鏡とを有しており、前記各平面反射鏡に対して各
紫外線照射装置を一定角度で傾斜させ、前記放電灯の横
方向に往復移動可能に構成すると共に、各移動端におい
て前記紫外線照射装置の照射方向を反転可能に構成した
画像形成用露光装置とした。
【００１５】
【作用】本発明は、上記のように構成しているので以下
のような作用を有する。 紫外線を所定の傾斜角度、またはそれに近い角度で
基板に入射するので、基板表面およびスルーホール内の
電着性フォトレジストに適正な光化学反応を起こさせる
ことができる。 紫外線照射装置の照射方向を反転させながら往復移
動させると、基板の全面および全てのスルーホール内の
電着性フォトレジストを余す所なく硬化させることがで
きる。
のような作用を有する。 紫外線を所定の傾斜角度、またはそれに近い角度で
基板に入射するので、基板表面およびスルーホール内の
電着性フォトレジストに適正な光化学反応を起こさせる
ことができる。 紫外線照射装置の照射方向を反転させながら往復移
動させると、基板の全面および全てのスルーホール内の
電着性フォトレジストを余す所なく硬化させることがで
きる。
【００１６】 前記の作用から基板表面とスルー
ホール内の電着フォトレジストの露光を連続的に実施す
ることが可能になり、また、従来のようにエッチングの
ための前処理を行ったり、あるいはマスクを着脱する必
要もないので露光作業の能率向上を図ることができる。
ホール内の電着フォトレジストの露光を連続的に実施す
ることが可能になり、また、従来のようにエッチングの
ための前処理を行ったり、あるいはマスクを着脱する必
要もないので露光作業の能率向上を図ることができる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１ないし図５は本発明の実施例を示すもので、
画像形成用露光装置３０の主要部は、基板３１に対して
上下対称に配置した平面反射鏡３２ａ、３２ｂと、前記
基板３１と平面反射鏡３２ａとの間に配置した紫外線照
射装置３３と、前記基板３１と平面反射鏡３２ｂとの間
に配置された紫外線照射装置３４と、前記紫外線照射装
置３３、３４を基板に沿って水平方向に往復移動させる
ように基板３１の両側に設けた駆動装置３５、３６等に
よって構成されおり、紫外線照射装置３３、３４が平面
反射鏡３２ａ、３２ｂを介して所定角度で基板３１を照
射しながら、基板３１に沿って往復移動するように構成
されている。
する。図１ないし図５は本発明の実施例を示すもので、
画像形成用露光装置３０の主要部は、基板３１に対して
上下対称に配置した平面反射鏡３２ａ、３２ｂと、前記
基板３１と平面反射鏡３２ａとの間に配置した紫外線照
射装置３３と、前記基板３１と平面反射鏡３２ｂとの間
に配置された紫外線照射装置３４と、前記紫外線照射装
置３３、３４を基板に沿って水平方向に往復移動させる
ように基板３１の両側に設けた駆動装置３５、３６等に
よって構成されおり、紫外線照射装置３３、３４が平面
反射鏡３２ａ、３２ｂを介して所定角度で基板３１を照
射しながら、基板３１に沿って往復移動するように構成
されている。
【００１８】紫外線照射装置３３、３４は、ロングアー
ク型の放電灯３３ａ、３４ａと、断面の形状が末広がり
に拡大した反射鏡３３ｂ，３４ｂと、前記放電灯３３
ａ，３４ａの長手方向に沿って等間隔に配置したルーバ
ー３３ｃ、３４ｃ等から構成され、前記反射鏡３３ｂ，
３４ｂの両側部に設けた反転装置３３ｄ，３４ｄおよび
支持脚３３ｅ，３４ｅを介して前記駆動装置３５、３６
に支持されている。
ク型の放電灯３３ａ、３４ａと、断面の形状が末広がり
に拡大した反射鏡３３ｂ，３４ｂと、前記放電灯３３
ａ，３４ａの長手方向に沿って等間隔に配置したルーバ
ー３３ｃ、３４ｃ等から構成され、前記反射鏡３３ｂ，
３４ｂの両側部に設けた反転装置３３ｄ，３４ｄおよび
支持脚３３ｅ，３４ｅを介して前記駆動装置３５、３６
に支持されている。
【００１９】前記反射鏡３３ｂ，３４ｂの断面形状は、
楕円（反射光が一点に集光する特性をもつ）の反射特性
を有するように設定されており、さらに、反射鏡３３
ｂ，３４ｂの断面が末広がりに拡大する度合い（楕円に
おける楕円率に相当するもの）は、反射光の集光点５２
が図４に示すように基板３１表面に近い位置に来るよう
に設定されており、また反射鏡の設定角度は、平面反射
鏡３２ａ，３２ｂを介して基板３１に入射する反射光５
１ａ，５１ｂの光軸５１の傾斜角度αが図４に示すよう
に高さＴ、内法Ｄを有するスルーホール４１の内壁面を
全面的に照射できる最小の角度α0 、すなわちarcTanＴ
／Ｄ（以下、所定の傾斜角度と呼ぶ）より僅かに大きく
なるように設定されている。
楕円（反射光が一点に集光する特性をもつ）の反射特性
を有するように設定されており、さらに、反射鏡３３
ｂ，３４ｂの断面が末広がりに拡大する度合い（楕円に
おける楕円率に相当するもの）は、反射光の集光点５２
が図４に示すように基板３１表面に近い位置に来るよう
に設定されており、また反射鏡の設定角度は、平面反射
鏡３２ａ，３２ｂを介して基板３１に入射する反射光５
１ａ，５１ｂの光軸５１の傾斜角度αが図４に示すよう
に高さＴ、内法Ｄを有するスルーホール４１の内壁面を
全面的に照射できる最小の角度α0 、すなわちarcTanＴ
／Ｄ（以下、所定の傾斜角度と呼ぶ）より僅かに大きく
なるように設定されている。
【００２０】前記紫外線照射装置３３，３４の反転装置
３３ｄ，３４ｄは、後述する駆動装置３５，３６によっ
て紫外線照射装置３３，３４が移動端に到達した際、図
１の矢印ｃ，ｄ，ｅ，ｆで示すように、その紫外線の照
射方向を今まで照射してきた方向と対称となるように反
転させるためのもので、図示しない駆動モータ，プー
リ、駆動ベルト、ストッパ、制御装置等の公知の手段か
ら構成されている。
３３ｄ，３４ｄは、後述する駆動装置３５，３６によっ
て紫外線照射装置３３，３４が移動端に到達した際、図
１の矢印ｃ，ｄ，ｅ，ｆで示すように、その紫外線の照
射方向を今まで照射してきた方向と対称となるように反
転させるためのもので、図示しない駆動モータ，プー
リ、駆動ベルト、ストッパ、制御装置等の公知の手段か
ら構成されている。
【００２１】前記紫外線照射装置３３，３４を往復移動
させる駆動装置３５，３６は、紫外線照射装置３３，３
４の一方の支持脚３３ｅ，３４ｅに接続した駆動シリン
ダ３５ａ，３６ａと、他方の支持脚に接続した従動シリ
ンダ３５ｂ，３６ｂと、図示しない油圧あるいは空圧機
構と、制御機構等から構成されている。したがって、駆
動シリンダ３５ａ，３６ａを駆動させると図１および図
２の矢印ａおよび矢印ｂで示すように、紫外線照射装置
３３，３４を一定の速度で基板３１に紫外線を照射させ
ながら移動させることができる。なお、駆動シリンダ３
５ａ，３６ａは、公知のロッドレスシリンダ等を使用す
ると都合がよい。そして、従動シリンダ３５ｂ，３６ｂ
は、リップ溝型鋼の開口を上方に向けたガイドレール内
に敷設されているレールの上をローラが回動するように
構成されている。
させる駆動装置３５，３６は、紫外線照射装置３３，３
４の一方の支持脚３３ｅ，３４ｅに接続した駆動シリン
ダ３５ａ，３６ａと、他方の支持脚に接続した従動シリ
ンダ３５ｂ，３６ｂと、図示しない油圧あるいは空圧機
構と、制御機構等から構成されている。したがって、駆
動シリンダ３５ａ，３６ａを駆動させると図１および図
２の矢印ａおよび矢印ｂで示すように、紫外線照射装置
３３，３４を一定の速度で基板３１に紫外線を照射させ
ながら移動させることができる。なお、駆動シリンダ３
５ａ，３６ａは、公知のロッドレスシリンダ等を使用す
ると都合がよい。そして、従動シリンダ３５ｂ，３６ｂ
は、リップ溝型鋼の開口を上方に向けたガイドレール内
に敷設されているレールの上をローラが回動するように
構成されている。
【００２２】なお、紫外線照射装置３４は、紫外線照射
装置３３と紫外線の照射方向が上下対称に配置されてい
ることと、基板３１までの紫外線の照射距離を等しくさ
せるため、支持脚３４ｅの長さを異ならせている外は同
じ構成である。
装置３３と紫外線の照射方向が上下対称に配置されてい
ることと、基板３１までの紫外線の照射距離を等しくさ
せるため、支持脚３４ｅの長さを異ならせている外は同
じ構成である。
【００２３】前記基板３１は、正方形または長方形をし
ており、図２に示すようにその全面に渡って多数（数千
ないし一万個）のスルーホール４１が設けてある。ま
た、基板３１は図３で示すように上下の焼枠４２、４３
に取り付けた透明板４４、４５の間に画像形成用フィル
ム（図示せず）を介して挾着されており、上下の焼枠４
２、４３の一側に設けられたヒンジ部４６によって上焼
枠４２が図３の仮想線で示すように上方に開口するよう
に構成されている。また、下部透明板４５には図示して
ないがシール用の土手ゴム等、公知の手段を有してい
る。なお、基板３１の出し入れは、ハウジング３７の側
部に設けた開閉扉３７ａ、３７ｂを開閉して行う。
ており、図２に示すようにその全面に渡って多数（数千
ないし一万個）のスルーホール４１が設けてある。ま
た、基板３１は図３で示すように上下の焼枠４２、４３
に取り付けた透明板４４、４５の間に画像形成用フィル
ム（図示せず）を介して挾着されており、上下の焼枠４
２、４３の一側に設けられたヒンジ部４６によって上焼
枠４２が図３の仮想線で示すように上方に開口するよう
に構成されている。また、下部透明板４５には図示して
ないがシール用の土手ゴム等、公知の手段を有してい
る。なお、基板３１の出し入れは、ハウジング３７の側
部に設けた開閉扉３７ａ、３７ｂを開閉して行う。
【００２４】ハウジング３７内は、紫外線照射装置３３
等が照射する熱線により加熱されるため、ハウジング３
７の所定位置に設けた送風口３７ｃから冷却風をハウジ
ング３７内に供給すると共に循環させ、ハウジング３７
の上部側に設けた換気口３７ｄから暖められた冷却風を
排出している。
等が照射する熱線により加熱されるため、ハウジング３
７の所定位置に設けた送風口３７ｃから冷却風をハウジ
ング３７内に供給すると共に循環させ、ハウジング３７
の上部側に設けた換気口３７ｄから暖められた冷却風を
排出している。
【００２５】次に、この実施例の装置の取扱要領および
作動について説明する。はじめに、ハウジング３７の開
閉扉３７ａ，３７ｂを図３の仮想線で示すように開口
し、上焼枠４２を押し上げて基板３１を所定位置に載置
して露光準備を完了し、次に露光を行う。
作動について説明する。はじめに、ハウジング３７の開
閉扉３７ａ，３７ｂを図３の仮想線で示すように開口
し、上焼枠４２を押し上げて基板３１を所定位置に載置
して露光準備を完了し、次に露光を行う。
【００２６】露光中、上下の紫外線照射装置３３、３４
から照射された紫外線は図１および図４で示すように、
放出されたのち上下の平面反射鏡３２ａ，３２ｂに当た
って反射し傾斜角度αで基板３１に入射し、入射位置に
あるスルーホールの内部または基板３１表面の電着性フ
ォトレジストを硬化させる。
から照射された紫外線は図１および図４で示すように、
放出されたのち上下の平面反射鏡３２ａ，３２ｂに当た
って反射し傾斜角度αで基板３１に入射し、入射位置に
あるスルーホールの内部または基板３１表面の電着性フ
ォトレジストを硬化させる。
【００２７】紫外線照射装置３３、３４は、駆動装置３
５、３６によって駆動され、紫外線を照射しながら図１
の矢印ａで示す方向に一定の速度で移動する。そして、
紫外線照射装置３３、３４が、一方の移動端に到達する
と矢印ｃおよび矢印ｅで示すように、今まで照射してい
た紫外線の照射方向と対称になるようにその紫外線の照
射方向を反転させ、つづけて紫外線を照射しながら矢印
ｂで示す方向に移動する。そして、他方の移動端に到達
すると、矢印ｄおよび矢印ｆで示すように、今まで照射
していた紫外線の照射方向と対称になるように紫外線の
照射方向を反転させる。
５、３６によって駆動され、紫外線を照射しながら図１
の矢印ａで示す方向に一定の速度で移動する。そして、
紫外線照射装置３３、３４が、一方の移動端に到達する
と矢印ｃおよび矢印ｅで示すように、今まで照射してい
た紫外線の照射方向と対称になるようにその紫外線の照
射方向を反転させ、つづけて紫外線を照射しながら矢印
ｂで示す方向に移動する。そして、他方の移動端に到達
すると、矢印ｄおよび矢印ｆで示すように、今まで照射
していた紫外線の照射方向と対称になるように紫外線の
照射方向を反転させる。
【００２８】紫外線がスルーホール４１内に入射した状
態を図４に拡大して示す。この図は理解を容易にするた
めモデル化して示したもので、光軸５１は、スルーホー
ル４１内壁面の中間位置を指向している。また、集光点
５２を通って発散した光束の最外側のものは、スルホー
ル４１の上下端を指向して、スルーホールの内壁面を無
駄のない状態で照射している。紫外線照射装置３３、３
４が矢印ａで示す方向に移動して来ると上下の放電灯３
３ａ、３４ａから照射された紫外線５１ａ，５１ａがほ
ぼ均等にかつ同時にスルーホール４１内の壁面の一側を
照射する。また、矢印ｂで示す方向で紫外線照射装置３
３、３４が移動してくると、上下の放電灯３３ａ、３４
ａから照射された紫外線５１ｂ，５１ｂがスルーホール
４１内の壁面の他側をほぼ均等にかつ同時に照射する。
したがって、紫外線照射装置３３、３４が一往復するご
とに基板３１の表面と裏面およびスルーホール４１内壁
面を上下の紫外線照射装置３３、３４によってそれぞれ
二回づつ照射されることになる。
態を図４に拡大して示す。この図は理解を容易にするた
めモデル化して示したもので、光軸５１は、スルーホー
ル４１内壁面の中間位置を指向している。また、集光点
５２を通って発散した光束の最外側のものは、スルホー
ル４１の上下端を指向して、スルーホールの内壁面を無
駄のない状態で照射している。紫外線照射装置３３、３
４が矢印ａで示す方向に移動して来ると上下の放電灯３
３ａ、３４ａから照射された紫外線５１ａ，５１ａがほ
ぼ均等にかつ同時にスルーホール４１内の壁面の一側を
照射する。また、矢印ｂで示す方向で紫外線照射装置３
３、３４が移動してくると、上下の放電灯３３ａ、３４
ａから照射された紫外線５１ｂ，５１ｂがスルーホール
４１内の壁面の他側をほぼ均等にかつ同時に照射する。
したがって、紫外線照射装置３３、３４が一往復するご
とに基板３１の表面と裏面およびスルーホール４１内壁
面を上下の紫外線照射装置３３、３４によってそれぞれ
二回づつ照射されることになる。
【００２９】基板３１表面のフォトレジストは、すでに
図９を参照して説明したようにスルーホール内のそれに
比べてTan α倍の紫外線を受光するが電着性フォトレジ
ストの標準的な光量は１５０〜２００ミリジュールであ
り、また現象等の後工程に支障を生じない過剰露光限度
は６００〜７００ミリジュールであるので、例えば、ス
ルーホール４１内の露光量を１５０ミリジュールとし、
基板３１表面の露光量を６００ミリジュールに設定すれ
ば、Tan α＝４となる。したがって、本実施例の装置は
傾斜角度α0 が約７４度、すなわち、基板３１の厚みが
１,6ミリメートルの場合、直径の内法が０,4ミリメート
ル以上のスルーホールに対して良好な成果を収めること
ができる。
図９を参照して説明したようにスルーホール内のそれに
比べてTan α倍の紫外線を受光するが電着性フォトレジ
ストの標準的な光量は１５０〜２００ミリジュールであ
り、また現象等の後工程に支障を生じない過剰露光限度
は６００〜７００ミリジュールであるので、例えば、ス
ルーホール４１内の露光量を１５０ミリジュールとし、
基板３１表面の露光量を６００ミリジュールに設定すれ
ば、Tan α＝４となる。したがって、本実施例の装置は
傾斜角度α0 が約７４度、すなわち、基板３１の厚みが
１,6ミリメートルの場合、直径の内法が０,4ミリメート
ル以上のスルーホールに対して良好な成果を収めること
ができる。
【００３０】この発明の第２の実施例を図６に示す。こ
の例の紫外線装置に用いられる反射鏡は、平行光が照射
できるように断面形状が放物線状に形成されており（図
示せず）、照射光の傾斜角度α1 を約７４度に設定して
いるため、紫外線装置を矢印ａおよび矢印ｂで示す方向
に移動して行くと、実線で示した照射光５３のようにス
ルーホール４１の内壁面を良好に露光することが可能で
あり、その他の構成は、第１の実施例と変わるところが
ない。しかし、この実施例によると集光光を照射する第
１の実施例に比べて、集光位置を設定する必要がないた
め、操作が容易となる。
の例の紫外線装置に用いられる反射鏡は、平行光が照射
できるように断面形状が放物線状に形成されており（図
示せず）、照射光の傾斜角度α1 を約７４度に設定して
いるため、紫外線装置を矢印ａおよび矢印ｂで示す方向
に移動して行くと、実線で示した照射光５３のようにス
ルーホール４１の内壁面を良好に露光することが可能で
あり、その他の構成は、第１の実施例と変わるところが
ない。しかし、この実施例によると集光光を照射する第
１の実施例に比べて、集光位置を設定する必要がないた
め、操作が容易となる。
【００３１】なお、この発明は、上記の実施例に限定さ
れるものではなく、例えば、平面反射鏡の所定位置にサ
ーボモータや油圧駆動装置等の公知の手段を設け平面反
射鏡の高さ調整が自在にできるようにすることや、基板
を照射する上下の紫外線照射装置の紫外線照射位置をず
らして移動させることや、焼枠を２個以上併設するこ
と、また、集光光を使用する紫外線照射装置の場合、そ
れぞれの照射光の集光位置が基板の上下にあるていど前
後した位置に集光しても構わないことや、紫外線照射装
置の傾斜角度が任意に設定できるように、サーボモータ
等公知の手段を使用すること、紫外線照射装置の放電灯
をショートアーク型のものを併設して使用すること等、
その他この発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々
の変更を加え得ることは勿論である。
れるものではなく、例えば、平面反射鏡の所定位置にサ
ーボモータや油圧駆動装置等の公知の手段を設け平面反
射鏡の高さ調整が自在にできるようにすることや、基板
を照射する上下の紫外線照射装置の紫外線照射位置をず
らして移動させることや、焼枠を２個以上併設するこ
と、また、集光光を使用する紫外線照射装置の場合、そ
れぞれの照射光の集光位置が基板の上下にあるていど前
後した位置に集光しても構わないことや、紫外線照射装
置の傾斜角度が任意に設定できるように、サーボモータ
等公知の手段を使用すること、紫外線照射装置の放電灯
をショートアーク型のものを併設して使用すること等、
その他この発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々
の変更を加え得ることは勿論である。
【００３２】
【発明の効果】以上に述べたごとく本発明は次の優れた
効果を発揮する。 紫外線を所定の傾斜角度、またはそれに近い角度で
基板に入射するので、基板表面およびスルーホール内の
電着性フォトレジストに適正な光化学反応を起こさせる
ことができる。 紫外線照射装置を反転させながら往復移動させる
と、基板の全面および全てのスルーホール内の電着性フ
ォトレジストを余す所なう硬化させることができる。
効果を発揮する。 紫外線を所定の傾斜角度、またはそれに近い角度で
基板に入射するので、基板表面およびスルーホール内の
電着性フォトレジストに適正な光化学反応を起こさせる
ことができる。 紫外線照射装置を反転させながら往復移動させる
と、基板の全面および全てのスルーホール内の電着性フ
ォトレジストを余す所なう硬化させることができる。
【００３３】 前記の作用から基板表面とスルー
ホール内の電着フォトレジストの露光を連続的に実施す
ることが可能になり、また、従来のようにエッチングの
ための前処理を行ったり、あるいはマスクを着脱する必
要もないので露光作業の能率向上を図ることができる。
ホール内の電着フォトレジストの露光を連続的に実施す
ることが可能になり、また、従来のようにエッチングの
ための前処理を行ったり、あるいはマスクを着脱する必
要もないので露光作業の能率向上を図ることができる。
【図１】この発明の露光装置の切断側面図である。
【図２】図１におけるII−II方向における切断平面図で
ある。
ある。
【図３】図１におけるIII III方向における切断正面図
である。
である。
【図４】基板のスルーホールに紫外線が照射している状
態の拡大端面図である。
態の拡大端面図である。
【図５】露光装置の要部を示す斜視図である。
【図６】基板のスルーホールに平行光による紫外線が照
射している状態の拡大端面図である。
射している状態の拡大端面図である。
【図７】従来のスルーホール内壁面の銅メッキ層の保護
方法を説明するための切断側面図である。
方法を説明するための切断側面図である。
【図８】従来のスルーホール内壁面の銅メッキ層の保護
方法を説明するための切断側面図である。
方法を説明するための切断側面図である。
【図９】従来のスルーホール内壁面の銅メッキ層の保護
方法を説明するための切断側面図である。
方法を説明するための切断側面図である。
【図１０】従来の露光装置の作動を説明する切断側面図
である。
である。
【図１１】従来の露光装置の作動を説明する切断側面図
である。
である。
３０ 画像形成用露光装置 ３５ 駆動
装置 ３１ 基板 ３５ａ 駆動
シリンダー ３２ａ 平面反射鏡 ３５ｂ 従動
シリンダー ３２ｂ 平面反射鏡 ３６ 駆動
装置 ３３ 紫外線照射装置 ３６ａ 駆動
シリンダー ３３ａ 放電灯 ３６ｂ 従動
シリンダー ３３ｂ 反射鏡 ３７ ハウ
ジング ３３ｃ 仕切板 ３３ｄ 反転装置 ３４ 紫外線照射装置 ３４ａ 放電灯 ３４ｂ 反射鏡 ３４ｃ 仕切板 ３４ｄ 反転装置
装置 ３１ 基板 ３５ａ 駆動
シリンダー ３２ａ 平面反射鏡 ３５ｂ 従動
シリンダー ３２ｂ 平面反射鏡 ３６ 駆動
装置 ３３ 紫外線照射装置 ３６ａ 駆動
シリンダー ３３ａ 放電灯 ３６ｂ 従動
シリンダー ３３ｂ 反射鏡 ３７ ハウ
ジング ３３ｃ 仕切板 ３３ｄ 反転装置 ３４ 紫外線照射装置 ３４ａ 放電灯 ３４ｂ 反射鏡 ３４ｃ 仕切板 ３４ｄ 反転装置
Claims (1)
- 【請求項１】画像形成用フィルムを介して基板に紫外線
を照射し、前記基板の表面およびスルーホールの内壁に
施した電着用フォトレジストに光化学反応を起こさせて
基板の表面に画像を形成させる露光装置において、 方形をした基板の上方および下方に且つこの基板に対し
て平行に離隔配置した上下の平面反射鏡と、前記基板と
上下の平面反射鏡との間に配置した上下の紫外線照射装
置とを備え、 前記紫外線照射装置は前記基板の一辺に対して平行に延
びる放電灯と、この放電灯の背面側に設けた反射鏡とを
有しており、前記各平面反射鏡に対して各紫外線照射装
置を一定角度で傾斜させ、前記放電灯の横方向に往復移
動可能に構成すると共に、各移動端において前記紫外線
照射装置の照射方向を反転可能に構成したことを特徴と
する画像形成用露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3206872A JP2769751B2 (ja) | 1991-08-19 | 1991-08-19 | 画像形成用露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3206872A JP2769751B2 (ja) | 1991-08-19 | 1991-08-19 | 画像形成用露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0545887A true JPH0545887A (ja) | 1993-02-26 |
| JP2769751B2 JP2769751B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=16530440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3206872A Expired - Fee Related JP2769751B2 (ja) | 1991-08-19 | 1991-08-19 | 画像形成用露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2769751B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6922065B2 (en) | 2001-05-08 | 2005-07-26 | Nohken Inc. | Coil impendance detection method and object detection method and apparatus using the same |
| JP2006186302A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-07-13 | Sanee Giken Kk | 走査型露光用光源ユニット |
| JP2014017339A (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Sharp Corp | 構造体および構造体の製造方法 |
| WO2018192976A1 (de) * | 2017-04-20 | 2018-10-25 | Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover | Elektrische schaltungsstruktur und verfahren zu deren herstellung |
| CN115555228A (zh) * | 2021-12-31 | 2023-01-03 | 上海清津光电子科技有限公司 | 一种用于电子器件粘粘的新型固化装置 |
-
1991
- 1991-08-19 JP JP3206872A patent/JP2769751B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6922065B2 (en) | 2001-05-08 | 2005-07-26 | Nohken Inc. | Coil impendance detection method and object detection method and apparatus using the same |
| JP2006186302A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-07-13 | Sanee Giken Kk | 走査型露光用光源ユニット |
| JP2014017339A (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Sharp Corp | 構造体および構造体の製造方法 |
| WO2018192976A1 (de) * | 2017-04-20 | 2018-10-25 | Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover | Elektrische schaltungsstruktur und verfahren zu deren herstellung |
| CN115555228A (zh) * | 2021-12-31 | 2023-01-03 | 上海清津光电子科技有限公司 | 一种用于电子器件粘粘的新型固化装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2769751B2 (ja) | 1998-06-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |