JPH01112735A - ワークの乾燥方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 開示技術は塵埃等を遮断した室内で製造される超精密電
子部品等の洗浄に付随する乾燥の技術分野に属する。

〈要旨の概要〉 而して、この発明はガラス基板、光学レンズ、ウェハー
、或は、ディスク等の精密成形された固形ワークの洗浄
後のワーク表面に残存する水滴等を乾燥させる際、ブー
ス施設内で塵埃等の侵入を遮断して行われる気化等の拡
散現象を利用した乾燥方法に関する発明であり、特に、
加熱乾燥や冷却乾燥等の拡散乾燥処理方式で気化拡散さ
れる蒸気がブース内を相対移動されるワークの表面に所
定クリアランスを設けて非接触裡にノズルを臨ませる等
してワークの乾燥面が負圧に吸引されてブース内のエア
ーに拘束されてノズルが接続する導管に導出され、ブー
ス内に於いて塵埃や微細水滴等の混入、或は、再付着を
防止するようにしたワークの乾燥方法に係る発明である
。

〈従来技術〉 一般に、乾燥は大気中への水蒸気の気化拡散作用によっ
てなされるが、気化拡散は赤外線照射や熱風吹付乾燥に
よる加熱化、或は、これに加えて有機溶剤の揮発性を利
用してなる乾燥方式によって乾燥効率が高められ、又は
、遠心力を利用したスピン乾燥方式や高圧エアーに、よ
るブロー乾燥等によって実用化されている。

そして、かかる手段を用いて精密洗浄されたガラス基板
、光学レンズやディスク等のワークを乾燥に供する電子
搬器製造工場等の主要工程でブースを介して外気と切り
離し、清浄なブース内で乾燥処理するようにして光学レ
ンズ、ガラス基板やウェハー、或は、ディスク、ＩＣ基
盤等の部品が製造される。

そして、該ブース内では、例えば、第２図に示す様に、
コンベア１で搬入されるワーク２に対する乾燥処理装置
３の中途に所定の赤外線照射装置４が設置され、ワーク
２、及び、赤外線照射装置４がブース５内で外気を遮断
されてエアー６中に液滴（蒸気）７の蒸気拡散が行われ
るようにされている。

〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、ブース５内に於ける蒸気７の拡散は有限
的であり、ブース５内を常に一次的にクリーン状態に保
持させる必要もあって、換気装置８が設置される等の二
次的処理が必要とされる。

加えて、ブース５内が一種の処理環境とされることもあ
って上述乾燥方式においては、被乾燥物のワーク２に塵
埃等の再付着が避けられない場合もあり、構造上の不具
合があり、又、有機溶剤による乾燥は環境汚染の問題を
伴い、引火性溶剤の場合は使用等にあたって規則等を受
ける制約がある。

そして、スピン乾燥方式は原理上高速回転によってワー
クを破損する虞があるという難点がある。

更に、飛跳された水滴が隣のワークに付着してシミを生
ずるという不具合もあった。

〈発明の目的〉 この発明の目的は上述従来技術に基づく精密部品等の乾
燥の問題点を解決すべき技術的課題とし、ワークに損傷
を与えることなく、効率の良い乾燥が確実に出来、ブー
ス内での処理があらゆるワークに対して行えて塵埃等の
再付着を防止した乾燥が行われるようにして機械製造産
業における洗浄技術利用分野に益する優れた乾燥方法を
提供せんとするものである。

〈問題点を解決するための手段・作用〉上述目的に沿い
先述特許請求の範囲を要旨とするこの発明の構成は前述
問題点を解決するために、ブース内に吸引用ノズルを設
け、該ノズルに吸引ポンプ等の負圧発生装置を接続する
ことによって負圧を形成し、該ブース内にコンベア等で
搬入されるワークの表面にロケーション、或は、クリア
ランスの制御を所定に行ってノズルを近接させてブース
内に維持される清浄エアーを吸引すると共に表面の液滴
液膜を強制的に吸引除去するようにしてワークの乾燥が
行えるようにした技術的手段を講じたものでおる。

〈実施例−構成〉 次に、この発明の１実施例を第１図に基づいて説明すれ
ば以下の通りである。尚、第２図と同一態様部分は同一
符号を用いて説明するものとする。

３′はこの発明の要旨の一部を成す乾燥装置であって、
コンベア１に載置されて搬入されるワークとしてのウェ
ハー２に対して無塵エアー６が充満した雰囲気を保持す
るブース５に於いて乾燥処理に供されるものである。

而して、該乾燥装置３′はコンベア１に設置されるワー
ク保持具９に保持されたウェハー２の表面にスリット状
のインテークを形成したノズル１０を臨ませて設置され
、該ノズル１０には導管１１が接続されている。

そして、該導管１１は周知の水分分離器１２を介してエ
アー吸引ポンプ１３に接続され、エアー６は所定にブー
ス５外へ排出されるようにされている。

更に、ブース５には換気口１４が設けられて純粋エアー
６を外部から導入するようにされている。

尚、ブース５内より排出されたエアー６はフィルタ１５
を介して換気口１４へ導通させるようにされている。

又、コンベア１上のワーク保持具９の通路途上に適宜の
光電センサー１６が設けられ、該光電センサー１６はエ
アー吸引ポンプ１３の稼動制御回路装置１７に電気的に
接続されている。

〈実施例−作用〉 上述構成において、コンペー７１の駆動に従ってコンベ
ア１上のワーク保持具９をセンサー１６が検知するごと
にエアー吸引ポンプ１３が作動してワーク保持具９上の
ウェハー２とノズル１０との間に設けられたクリアラン
ス近辺に負圧を発生させる。

この負圧によってウェハー２の表面の液滴７や液膜はブ
ース５内のエアー６と共にノズル１０に吸引される。

そして、吸引されだ液滴６は水分分離器１２で濾されて
所定に乾燥装置３′系外へ排出される。

このプロセスにおいて、ワーク２上の液滴７、及び、エ
アー６はノズル１０へ吸引されるために、ブース５内雰
囲気を撹乱することはなく、又、ブース５内のエアー６
がワーク表面で衝打することはない。

く他の実施例〉 尚、この発明の実施態様は上述実施例に限るものでない
ことは勿論であり、吸引ノズルの吸入口はワーク形状に
応じてスリット状、点状としたり、ブース内に於けるエ
アー吸入効率を高める等して多孔ノズルや旋状ノズルを
用いることが自在である。

更に、ワーク表面に対してノズルを走査的に移動させる
ようにすることも自在である。

〈発明の効果〉 以上、この発明によれば、基本的に電子工学部品等精密
洗浄処理における乾燥工程がブース内でなされる際、ブ
ース内でエアーの乱流を発生させずにワーク表面の液滴
より拡散離反する液滴をノズル近辺で吸引することが出
来、乾燥処理が迅速に行えるという優れた効果が秦され
る。

而して、ワーク表面の液滴に対して負圧の発生自在にノ
ズルが臨まされることでブース内のエアーと共にワーク
表面より液滴は離反し、付着を阻止され、即ち、乾燥さ
れ、エアー、及び、液滴はノズルよりブース系外へ排出
されるために、ブース内雰囲気を撹乱することはなく、
ワーク表面への塵埃や水滴等の再付着を防止出来るとい
う優れた効果が秦される。

又、ブース内エアー吸引中にワークに対して赤外線を照
射したり、その他熱源を補助的に併用することは気化効
率を高めて有効であり、又、ワーク自体を予め加温する
ことは乾燥処理上有効であって、この発明の応用例とさ
れる等広範囲の乾燥装置の態様が自在にされるという優
れた効果が奏される。

更に、スピン乾燥等によるワークに対する回転等の機械
的作動がないために、ワークを損傷させることもなく、
乾燥装置自体の構造も簡易にして効果が高まるという優
れた効果が奏される。

又、吸引のため吹き付は等の水滴飛散がなく、したがっ
て、隣位のワークに再付着しないという優れた効果が秦
される。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例を示す乾燥装置の模式対応図
であり、第２図は従来態様を示す乾燥装置の模式対応図
である。 ２・・・ワーク、　　５・・・ブース、４・・・強制拡
散装置、 ３．３′・・・ワークの乾燥処理装置、１０・・・吸引
ノズル、　１３・・・エアー負圧発生装置第１図 ２−一−ワーフ ５−７”−ス 第２図　　　　　４−蹟りｊ＄失梃ｌ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　ワークに付着した液滴をブース内で拡散させて乾燥処
   理を行うワークの乾燥処理方法において、ワーク全面又
   は局部的な表面に対し所定のクリアランスを介して負圧
   を付与するようにしたことを特徴としたワークの乾燥方
   法。