JPH065672B2 - ワークの乾燥方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 開示技術は、塵埃等を遮断した状態の室内で製造される
超精密電子部品等の洗浄に付随する乾燥の技術分野に属
する。

〈要旨の概要〉 而して、この発明はガラス基板、光学レンズ、ウエハ
ー、或いは、ディスク等の所定の精密形状に成形された
固形ワークの洗浄後の該ワーク表面に残存する水滴を乾
燥させる際、ブース内で吸引を利用した乾燥方法に関す
る発明であり、特に、加熱乾燥や冷却乾燥等の乾燥処理
方式で付着水滴がブース内を相対移動するワークの表面
に所定クリアランスを介して非接触裡に臨ませる等した
ノズルによりワークの乾燥面部から負圧に吸引されてブ
ース内のエアーに伴ってノズルが接続する導管に導出さ
れ、ブース内に於いて微細水滴の吸引、或いは、ワーク
に対する再付着を防止するようにしたワークの乾燥方法
に係る発明である。

〈従来の技術〉 一般に、乾燥は大気中への水蒸気の気化拡散作用によっ
てなされるが、該気化拡散は赤外線照射や熱風吹付乾燥
による加熱化、或いは、これに加えて有機溶剤の揮発性
を利用してなる乾燥方式によって乾燥効率が高められ、
又は、遠心力を利用したスピン乾燥方式や高圧エアーに
よるブロー乾燥等も実用化されている。

そして、かかる手段を用いて前段で精密洗浄されたガラ
ス基板、光学レンズやディスク等のワークを乾燥に供す
る電子機器製造工場等の主要工程でブースを介して外気
と隔離し、清浄な該ブース内で乾燥処理するようにして
当該光学レンズ、ガラス基板やウエハー、或いは、ディ
スク、ＩＣ基盤等の部品が製造される。

そして、該ブース内では、例えば、第２図に示す様に、
コンベア１で搬入されるワーク２に対する乾燥処理装置
３の中途に所定の赤外線照射装置４がブース５内で外気
を遮断されてエアー６中に液滴７の蒸気化拡散が行われ
るようにされている。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、該ブース５内に於ける蒸気７の拡散は有
限的であり、ブース５内を常に一次的にクリーンな状態
に保持させる必要もあって、換気装置８が設置される等
により二次的処理が必要とされる。

加えて、該ブース５内が一種の処理環境とされることも
あって上述乾燥方式においては、被乾燥物のワーク２に
塵埃等の再付着が避けられない場合がある構造上の欠点
があり、又、有機溶剤による乾燥は環境汚染の問題を伴
い、就中引火性溶剤の場合は使用等にあたって各種の規
則制等を受ける制約上の不都合さがある。

そして、例えば、特開昭６２−２１２２７号公報発明の
ようなスピン乾燥方式は原理上ロータの高速回転によっ
てワークを破損する虞があるという難点がある。

更に、飛跳された水滴が隣位するワークに付着してシミ
を生ずるという不都合もあった。

〈発明の目的〉 この発明の目的は上述従来技術に基づく精密部品等のワ
ークの乾燥の問題点を解決すべき技術的課題とし、ワー
クに損傷を与えることなく、効率の良い乾燥が確実に出
来、ブース内での処理が各種のワークに対し行え、水
滴、塵埃等の再付着を防止した乾燥が行われるようにし
て機械製造産業における洗浄技術利用分野に益する優れ
た乾燥方法を提供せんとするものである。

〈課題を解決するための手段・作用〉 上述目的に沿い先述特許請求の範囲を要旨とするこの発
明の構成は前述課題を解決するために、ブース内にエア
ー吸引用のノズルを設け、該ノズルに吸引ポンプ等の負
圧発生装置を接続することによってノズル先端近傍に負
圧を形成し、該ブース内にコンベア等で搬入されるワー
クの表面にロケーション、或いは、クリアランスの制御
を所定に行い、ノズルを該ワークに近傍させてブース内
に保持される清浄エアーを吸引すると共にワークの表面
の液滴液膜を強制的に吸引除去するようにして該ワーク
の乾燥が行えるようにした技術的手段を講じたものであ
る。

〈実施例〉 次に、この発明の１実施例を第１図に基づいて説明すれ
ば以下の通りである。尚、第２図と同一態様部分の同一
符号を用いて説明するものとする。

３′はこの発明の要旨の成す乾燥方法に使用する装置で
あって、コンベア１に載置されて搬入されるワークとし
てのウエハー２に対して無塵エアー６が充満した雰囲気
を保持するブース５にて乾燥処理がなされるに供される
ものである。

而して、該乾燥装置３′にあってはコンベア１に所定間
隔で設置されるワーク保持具９、９…に保持された各ウ
エハー２の表面に対してスリット状のインテークを形成
したノズル10を臨ませて設置され、該ノズル10には導管
11が接続され、該導管11は周知の水分分離器12を介して
エアー吸引ポンプ13に接続されてエアー６が所定ブース
５外へ排出されるようにされている。

更に、該ブース５には換気口14が設けられて純粋エアー
６を外部から導入するようにされている。

尚、ブース５内より排出されたエアー６はフイルタ15を
介して換気口14へ導通させるようにされている。

又、コンベア１上のワーク保持具９の通路途上に適宜の
光電センサー16が設けられ、該光電センサー16のエアー
吸引ポンプ13の稼働制御回路装置17に電気的に接続され
ている。

上述構成において、コンベア１の駆動に従って該コンベ
ア１上のワーク保持具９をセンサー16が検知するごとに
エアー吸引ポンプ13が作動してワーク保持具９上のワー
クとしてのウエハー２とノズル10との間に形成されたク
リアランス近辺に負圧を発生させる。

該負圧によってウエハー２の表面の液滴７や液膜はブー
ス５内のエアー６と共にノズル10に吸引される。

そして、吸引された液滴６は水分分離器12で濾過されて
所定に乾燥装置３′の系外へ排出される。

当該プロセスにおいて、ワーク２上の液滴７、及び、エ
アー６はノズル10へ吸引されるために、ブース５内雰囲
気を攪乱することはなく、又、該ブース５内のエアー６
がワーク表面に対し衝打することはない。

尚、この発明の実施態様は上述実施例に限るものでない
ことは勿論であり、吸引ノズルの吸入口はワーク形状に
応じてスリット状、スポット状としたり、ブース内に於
けるエアー吸入効率を高める等して多孔ノズルを用いる
ことが自在である。

更に、ワーク表面に対してノズルを走査的に移動させる
ようにするこも自在である。

〈発明の効果〉 以上、この発明によれば、基本的に電子工学部品等に対
する精密洗浄処理後における乾燥処理がブース内でなさ
れる該、該ブースでエアーの乱流を発生させずにワーク
表面の液滴より拡散離反する蒸気をノズル近辺で吸引す
ることが出来、したがって、乾燥処理が迅速に行えると
いう優れた効果が奏される。

而して、ワーク表面の液滴に対して負圧発生自在にノズ
ルが臨まされることでブース内のエアーと共にワーク表
面より液滴は離反し、該ワークに対する付着を阻止さ
れ、即ち、乾燥され、エアー、及び、液滴はノズルより
ブース系外へ排出されるために、該ブース内雰囲気を攪
乱することはなく、又、ワーク表面への塵埃や水滴等の
再付着を防止することが出来るという優れた効果が奏さ
れる。

又、ブース内エアーの吸引中に該ワークに対して赤外線
を照射したり、その他熱源を補助的に併用することは気
化効率を高めて有効であり、又、ワーク自体を予め加温
することも乾燥処理上有効であって、この発明の応用例
とされる等広範囲の乾燥処理の態様が自在に採用される
という優れた効果が奏される。

更に、スピン乾燥等によるワークに対する回転等の機械
的作動がないために、該ワークを損傷させることもな
く、乾燥装置自体の構造も簡易にして乾燥作用が高めら
れるという優れた効果が奏される。

又、乾燥作用がエアー吸引のため、吹き付け等による水
滴の飛散がなく、したがって、隣位のワークに飛散水滴
の再付着がないという優れた効果も奏される。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の１実施例を示す乾燥装置の模式部分
断面図であり、第２図は従来態様を示す乾燥装置の模式
部分断面図である。 2…ワーク、 5…ブース、 4…強制拡散装置、 3、３′…ワークの乾燥処理装置、 10…吸引ノズル、 13…エアー負圧発生装置

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ワークに付着した液滴をブース内で吸引さ
   せて乾燥処理を行うワークの乾燥処理方法において、該
   ワークの少くとも局部的な表面に対し所定のクリアラン
   スを介して吸気負圧を作用するようにしたことを特徴と
   したワークの乾燥方法。