JPH0112628B2 - - Google Patents
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- JPH0112628B2 JPH0112628B2 JP54005015A JP501579A JPH0112628B2 JP H0112628 B2 JPH0112628 B2 JP H0112628B2 JP 54005015 A JP54005015 A JP 54005015A JP 501579 A JP501579 A JP 501579A JP H0112628 B2 JPH0112628 B2 JP H0112628B2
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- JP
- Japan
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- magnetic head
- tape
- contact
- head
- magnetic
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/52—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with simultaneous movement of head and record carrier, e.g. rotation of head
- G11B5/53—Disposition or mounting of heads on rotating support
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘツド、特に回転ヘツド型磁気録
画再生装置VTRに使用される磁気ヘツドの研摩
方法に関するもので、VTRに組み込まれた状態
で、使用時に、磁気ヘツドの磁気テープに対する
当接角度を変化せしめても、良好な磁気ヘツドと
磁気テープの接触が得られるよう磁気ヘツドの先
端部を研摩せんとするものである。
画再生装置VTRに使用される磁気ヘツドの研摩
方法に関するもので、VTRに組み込まれた状態
で、使用時に、磁気ヘツドの磁気テープに対する
当接角度を変化せしめても、良好な磁気ヘツドと
磁気テープの接触が得られるよう磁気ヘツドの先
端部を研摩せんとするものである。
一般に、VTRに用いられる回転磁気ヘツドは
第１図に示すように磁気ヘツドチツプ１をヘツド
ベース２に接着せしめたものを使用している。
第１図に示すように磁気ヘツドチツプ１をヘツド
ベース２に接着せしめたものを使用している。
なお、Ａ面は磁気テープと接するヘツド前面で
ある。このように構成された回転磁気ヘツドのチ
ツプ１の先端のＡ面は第２図に示す如く磁気テー
プとの接触を良好にするために略々円弧形状に形
成されている。第２図ａはヘツドチツプをその上
面より見た図であり、ｂはその厚み方向断面図で
ある。前記の如くヘツドチツプ先端形状を形成す
る手段としては第３図および第４図に示す手段が
提案され実用化されている。第３図はエンドレス
状に形成されたヘツド前面ラツプ用のラツピング
テープ３をそのガイドローラー４，５，６間に架
張し、かつ前記ラツピングテープ３を適当なる手
段（図示せず）により図中矢印Ｂ方向に高速に移
動せしめるとともに、そのラツピングテープ３の
ラツピング粉末塗布面に適当なる圧力をもつて磁
気ヘツドチツプ１を当接せしめ、ヘツド先端形状
を形成するように成されたものである。
ある。このように構成された回転磁気ヘツドのチ
ツプ１の先端のＡ面は第２図に示す如く磁気テー
プとの接触を良好にするために略々円弧形状に形
成されている。第２図ａはヘツドチツプをその上
面より見た図であり、ｂはその厚み方向断面図で
ある。前記の如くヘツドチツプ先端形状を形成す
る手段としては第３図および第４図に示す手段が
提案され実用化されている。第３図はエンドレス
状に形成されたヘツド前面ラツプ用のラツピング
テープ３をそのガイドローラー４，５，６間に架
張し、かつ前記ラツピングテープ３を適当なる手
段（図示せず）により図中矢印Ｂ方向に高速に移
動せしめるとともに、そのラツピングテープ３の
ラツピング粉末塗布面に適当なる圧力をもつて磁
気ヘツドチツプ１を当接せしめ、ヘツド先端形状
を形成するように成されたものである。
第４図はVTRに使用する回転磁気ヘツドの前
面ラツピングに最適として提案されている手段で
あり、９はVTRの回転ヘツドを内蔵するテープ
案内筒と略同一に形成された円筒状のラツピング
テープ案内筒である。該案内筒９の内部には適当
なる手段により回転駆動せられるデイスク１０が
内蔵され、その一部に研摩すべきヘツドチツプベ
ース２が取付けられるように構成されている。ま
た前記案内筒９はその一部に前記ベース２に設け
られた磁気ヘツドのチツプ１先端が突出し回転可
能なるスリツト部１３が形成されている。
面ラツピングに最適として提案されている手段で
あり、９はVTRの回転ヘツドを内蔵するテープ
案内筒と略同一に形成された円筒状のラツピング
テープ案内筒である。該案内筒９の内部には適当
なる手段により回転駆動せられるデイスク１０が
内蔵され、その一部に研摩すべきヘツドチツプベ
ース２が取付けられるように構成されている。ま
た前記案内筒９はその一部に前記ベース２に設け
られた磁気ヘツドのチツプ１先端が突出し回転可
能なるスリツト部１３が形成されている。
すなわち、磁気ヘツドチツプ１はデイスク１０
にチツプベース２を介して案内筒９のスリツト部
１３に突出した形状で取付けられ、回転駆動せら
れる。前記案内筒９の外周には一般のヘリカルス
キヤンVTRと同様に略180゜ら旋状ラツピングテ
ープ１４が巻付けられ、適当なる速度で矢印Ｃ方
向に移動される。この時の磁気ヘツドチツプ１と
ラツピングテープ１４の接触すべりにおいて、チ
ツプ１の先端形状を形成するように成された手段
である。
にチツプベース２を介して案内筒９のスリツト部
１３に突出した形状で取付けられ、回転駆動せら
れる。前記案内筒９の外周には一般のヘリカルス
キヤンVTRと同様に略180゜ら旋状ラツピングテ
ープ１４が巻付けられ、適当なる速度で矢印Ｃ方
向に移動される。この時の磁気ヘツドチツプ１と
ラツピングテープ１４の接触すべりにおいて、チ
ツプ１の先端形状を形成するように成された手段
である。
かかる従来手段により、その前面のラツプ加工
が行われた磁気ヘツドチツプを、圧電素子で構成
されたバイモルフ等の如き一端固定、他端可動の
磁気ヘツド上下移動機構に固着して使用する
VTRの場合について説明をする。第５図は上下
移動機構の構成例の一例であり、１５は圧電素子
で構成されたバイモルフ、１６は該バイモルフ１
５の一端を固定したバイモルフベースである。ま
た磁気ヘツドチツプ１７は前記バイモルフの自由
端に接着固定されている。このように構成された
磁気ヘツドユニツトは適切なる条件で回転体１８
の一部に取付けられ、磁気ヘツドの再生出力等よ
りフイードバツクされる制御信号によりバイモル
フ１５は変形し、磁気ヘツドチツプ１７は機械的
高さ位置を変位させる如く図中矢印Ｄ―Ｅ方向に
移動し、磁気テープに記録された信号トラツクに
最適なるトレースが行われる。この場合磁気ヘツ
ドチツプ先端はバイモルフ固定端１９を支点とし
た条件で移動せられ、第６図ａ，ｂ，ｃで示す如
く制御条件により異なつた傾斜角をもつて磁気テ
ープ２０と接することとなる。
が行われた磁気ヘツドチツプを、圧電素子で構成
されたバイモルフ等の如き一端固定、他端可動の
磁気ヘツド上下移動機構に固着して使用する
VTRの場合について説明をする。第５図は上下
移動機構の構成例の一例であり、１５は圧電素子
で構成されたバイモルフ、１６は該バイモルフ１
５の一端を固定したバイモルフベースである。ま
た磁気ヘツドチツプ１７は前記バイモルフの自由
端に接着固定されている。このように構成された
磁気ヘツドユニツトは適切なる条件で回転体１８
の一部に取付けられ、磁気ヘツドの再生出力等よ
りフイードバツクされる制御信号によりバイモル
フ１５は変形し、磁気ヘツドチツプ１７は機械的
高さ位置を変位させる如く図中矢印Ｄ―Ｅ方向に
移動し、磁気テープに記録された信号トラツクに
最適なるトレースが行われる。この場合磁気ヘツ
ドチツプ先端はバイモルフ固定端１９を支点とし
た条件で移動せられ、第６図ａ，ｂ，ｃで示す如
く制御条件により異なつた傾斜角をもつて磁気テ
ープ２０と接することとなる。
磁気ヘツドチツプ１７は第４図で前述した如く
固定の一定条件でその前面ラツプ加工が成されて
いるために、第６図ａで示す如く磁気テープ２０
と直角に磁気ヘツドチツプが当接する場合には良
好なる磁気ヘツドと磁気テープ２０の接触は得ら
れるが、オートトラツキング制御により第６図ｂ
あるいはｃの磁気ヘツドと磁気テープとの接触関
係と成つた場合にはそのラツプ条件と接触条件の
異なりにより、接触状態が悪化し再生出力減少等
の害を生じ、しいては再生画質の低下を生じる。
なお、第６図における２１は圧電素子と磁気ヘツ
ドチツプの絶縁材であり、例えばガラス等により
構成される。
固定の一定条件でその前面ラツプ加工が成されて
いるために、第６図ａで示す如く磁気テープ２０
と直角に磁気ヘツドチツプが当接する場合には良
好なる磁気ヘツドと磁気テープ２０の接触は得ら
れるが、オートトラツキング制御により第６図ｂ
あるいはｃの磁気ヘツドと磁気テープとの接触関
係と成つた場合にはそのラツプ条件と接触条件の
異なりにより、接触状態が悪化し再生出力減少等
の害を生じ、しいては再生画質の低下を生じる。
なお、第６図における２１は圧電素子と磁気ヘツ
ドチツプの絶縁材であり、例えばガラス等により
構成される。
以上は圧電素子により構成されたバイモルフを
使用した場合について説明をしたが、例えばボイ
スコイル等により構成した一端が固定で、他端が
可動の磁気ヘツド移動機構についても同様であ
り、磁気ヘツドが傾くことによる磁気テープとの
接触条件の悪化は生じるものである。
使用した場合について説明をしたが、例えばボイ
スコイル等により構成した一端が固定で、他端が
可動の磁気ヘツド移動機構についても同様であ
り、磁気ヘツドが傾くことによる磁気テープとの
接触条件の悪化は生じるものである。
本発明は前述の問題を解決するために、磁気ヘ
ツド前面のラツピング加工時において、その磁気
ヘツドを記録再生装置に取付け使用する状態と近
似の条件で加工を行い、磁気ヘツドのチツプ先端
形状を形成し、実際の使用条件下で磁気ヘツドと
磁気テープの接触を確実ならしめんとするもので
ある。
ツド前面のラツピング加工時において、その磁気
ヘツドを記録再生装置に取付け使用する状態と近
似の条件で加工を行い、磁気ヘツドのチツプ先端
形状を形成し、実際の使用条件下で磁気ヘツドと
磁気テープの接触を確実ならしめんとするもので
ある。
つまり磁気ヘツドチツプ１７の加工時におい
て、既に例えば圧電素子により構成されたバイモ
ルフ１５に磁気ヘツドチツプ１７が固着された状
態かあるいはその状態と近似のヘツド上下動可能
なる状態にて前述した磁気ヘツド前面加工手段に
取りつけ、磁気ヘツドとラツピングテープの接触
すべりによる加工時に同時に前記バイモルフに制
御電圧を加え磁気ヘツドを上下移動させることに
より、ヘツドチツプ先端のラツプ加工を行い、磁
気ヘツドチツプの先端形状、特に幅方向断面形状
を第６図ａ，ｂ，ｃのいかなる条件下においても
磁気テープとの当接が良好なる条件に形成するよ
うにしたものである。またこの時の磁気ヘツドの
移動量は実際VTRに組み込み使用する時のオー
トトラツキング制御幅と同等か少し多めにするこ
とが好ましい。
て、既に例えば圧電素子により構成されたバイモ
ルフ１５に磁気ヘツドチツプ１７が固着された状
態かあるいはその状態と近似のヘツド上下動可能
なる状態にて前述した磁気ヘツド前面加工手段に
取りつけ、磁気ヘツドとラツピングテープの接触
すべりによる加工時に同時に前記バイモルフに制
御電圧を加え磁気ヘツドを上下移動させることに
より、ヘツドチツプ先端のラツプ加工を行い、磁
気ヘツドチツプの先端形状、特に幅方向断面形状
を第６図ａ，ｂ，ｃのいかなる条件下においても
磁気テープとの当接が良好なる条件に形成するよ
うにしたものである。またこの時の磁気ヘツドの
移動量は実際VTRに組み込み使用する時のオー
トトラツキング制御幅と同等か少し多めにするこ
とが好ましい。
すなわち、本発明ではヘツドチツプ先端のラツ
プ加工時に、あらかじめヘツドチツプを第６図
ａ，ｂ，ｃに示すようなヘツドチツプとラツピン
グテープとの接触状態になるようにヘツドチツプ
を移動せしめるものであるため、使用時に第６図
ａ，ｂあるいはｃの当接状態となつても良好な再
生出力が得られるものである。
プ加工時に、あらかじめヘツドチツプを第６図
ａ，ｂ，ｃに示すようなヘツドチツプとラツピン
グテープとの接触状態になるようにヘツドチツプ
を移動せしめるものであるため、使用時に第６図
ａ，ｂあるいはｃの当接状態となつても良好な再
生出力が得られるものである。
次に、ヘリカルスキヤン方式VTRに使用され
る回転磁気ヘツドの本発明によるラツプ時の磁気
ヘツド上下動の最適条件について説明する。
る回転磁気ヘツドの本発明によるラツプ時の磁気
ヘツド上下動の最適条件について説明する。
第７図は前記第４図で示した構成と類似の前面
ラツプ手段で本発明を実施する場合の回転体に取
付けられた磁気ヘツドチツプ回転角と、バイモル
フに印加されるバイモルフ駆動信号の周波数、つ
まりバイモルフ上下振動数との関係について説明
をしたものである。すなわち、磁気ヘツドチツプ
の１回転中の定められた半周（0゜〜180゜）におい
てヘツドチツプはラツピングテープに当接する。
回転体１回転中に含まれるバイモルフ振動数が整
数値の場合第７図ａに示した如く前記回転体の回
転角とヘツド位置とは常に同条件となり磁気ヘツ
ド先端形状は最適とならない。
ラツプ手段で本発明を実施する場合の回転体に取
付けられた磁気ヘツドチツプ回転角と、バイモル
フに印加されるバイモルフ駆動信号の周波数、つ
まりバイモルフ上下振動数との関係について説明
をしたものである。すなわち、磁気ヘツドチツプ
の１回転中の定められた半周（0゜〜180゜）におい
てヘツドチツプはラツピングテープに当接する。
回転体１回転中に含まれるバイモルフ振動数が整
数値の場合第７図ａに示した如く前記回転体の回
転角とヘツド位置とは常に同条件となり磁気ヘツ
ド先端形状は最適とならない。
すなわち、ヘリカルスキヤン方式VTRにおい
ては第４図にも示されるように、磁気ヘツドは磁
気テープの一側縁端部より磁気テープ（ラツピン
グテープ）と接触を始め、磁気テープ（ラツピン
グテープ）の他側縁端部より離反するものであ
る。
ては第４図にも示されるように、磁気ヘツドは磁
気テープの一側縁端部より磁気テープ（ラツピン
グテープ）と接触を始め、磁気テープ（ラツピン
グテープ）の他側縁端部より離反するものであ
る。
したがつて、磁気ヘツドのテープとの接触開始
点あるいは離反時近傍では第９図ａ，ｂに示すよ
うに、テープ２０の一側縁端部が案内筒９より離
反する方向に持上げられ、テープの中央部を走査
する状態（第６図ａ参照）とは異なる当接状態と
なる。
点あるいは離反時近傍では第９図ａ，ｂに示すよ
うに、テープ２０の一側縁端部が案内筒９より離
反する方向に持上げられ、テープの中央部を走査
する状態（第６図ａ参照）とは異なる当接状態と
なる。
特に、この接触開始点あるいは離反時近傍は前
述のようにテープとヘツドの接触圧も小さくなる
ため、テープとヘツドの接触状態を良好にする必
要がある。
述のようにテープとヘツドの接触圧も小さくなる
ため、テープとヘツドの接触状態を良好にする必
要がある。
ところで、前述の第７図ａに示すように回転体
の１回転中に含まれるバイモルフの振動数が整数
の場合には前記のヘツドとテープの接触開始およ
び離反開始時におけるヘツドとテープの角度関係
が固定されてしまう。一方、実際のVTRで使用
される場合は必ずしも、接触開始および離反開始
時におけるヘツドとテープの角度関係は固定され
るものではない。
の１回転中に含まれるバイモルフの振動数が整数
の場合には前記のヘツドとテープの接触開始およ
び離反開始時におけるヘツドとテープの角度関係
が固定されてしまう。一方、実際のVTRで使用
される場合は必ずしも、接触開始および離反開始
時におけるヘツドとテープの角度関係は固定され
るものではない。
したがつて、VTRでの使用時において、この
接触開始および離反開始時近傍において、常に安
定した出力が得られないこととなる。
接触開始および離反開始時近傍において、常に安
定した出力が得られないこととなる。
第７図ｂは回転体の１回転中に含まれるバイモ
ルフ振動数が整数値＋1/2あるいは1/2の場合であ
り、この場合は接触開始点あるいは離反時近傍に
おけるヘツドとテープの接触角度が単純化されて
好ましくない。
ルフ振動数が整数値＋1/2あるいは1/2の場合であ
り、この場合は接触開始点あるいは離反時近傍に
おけるヘツドとテープの接触角度が単純化されて
好ましくない。
第７図ｃは回転体の１回転中に含まれる磁気ヘ
ツドの上下振動数が整数値＋1/5の端数の場合を
示すものであり、接触開始点および離反点におけ
るヘツドとテープの接触角度が１回転毎に５通り
に順次変化する。
ツドの上下振動数が整数値＋1/5の端数の場合を
示すものであり、接触開始点および離反点におけ
るヘツドとテープの接触角度が１回転毎に５通り
に順次変化する。
したがつて、この端数を1/5よりさらに小さく
すると接触角度の変化は順次増大するものであ
り、実験の結果少なくとも、1/5以下にする必要
があつた。
すると接触角度の変化は順次増大するものであ
り、実験の結果少なくとも、1/5以下にする必要
があつた。
なお、ラツピング時間は一般に数分間行なわれ
るものであり、回転体の回転速度を通常の２ヘツ
ド型VTRと同様に1800rpmとすると、磁気ヘツ
ドとテープは5000回程度接触離反を繰返すもので
ある。
るものであり、回転体の回転速度を通常の２ヘツ
ド型VTRと同様に1800rpmとすると、磁気ヘツ
ドとテープは5000回程度接触離反を繰返すもので
ある。
したがつて、第８図に示すように、加工時に時
間の経過とともに、磁気ヘツドの上下動の周波数
を変化せしめ、接触開始および離反時の磁気ヘツ
ドとテープの角度関係を順次変化せしめても良い
ものである。
間の経過とともに、磁気ヘツドの上下動の周波数
を変化せしめ、接触開始および離反時の磁気ヘツ
ドとテープの角度関係を順次変化せしめても良い
ものである。
以上のように本発明によれば、使用時に磁気テ
ープと磁気ヘツドの当接角度が変化する磁気記録
再生装置においても常に安定な磁気ヘツドとテー
プとの当接関係が得られる磁気ヘツドが得られる
ものである。
ープと磁気ヘツドの当接角度が変化する磁気記録
再生装置においても常に安定な磁気ヘツドとテー
プとの当接関係が得られる磁気ヘツドが得られる
ものである。
第１図は磁気ヘツドの１例を示す斜視図、第２
図ａ，ｂは同平面図および側面図、第３図、第４
図はそれぞれ従来の研摩装置を示す斜視図、第５
図はオートトラツキング装置に使用される磁気ヘ
ツドの上下動機構の１例を示す斜視図、第６図
ａ，ｂ，ｃは磁気ヘツドとテープとの当接関係を
示す側面図、第７図ａ，ｂ，ｃは磁気ヘツドの回
転と上下振動の関係を示す図、第８図は研摩時間
と磁気ヘツド上下動の周波数の関係を示す図、第
９図ａ，ｂはヘリカルスキヤンVTRにおける磁
気ヘツドとテープの当接関係を模式的に示す側断
面図である。 １，１７…ヘツドチツプ、９…案内筒、１４…
ラツピングテープ、１５…バイモルフ。
図ａ，ｂは同平面図および側面図、第３図、第４
図はそれぞれ従来の研摩装置を示す斜視図、第５
図はオートトラツキング装置に使用される磁気ヘ
ツドの上下動機構の１例を示す斜視図、第６図
ａ，ｂ，ｃは磁気ヘツドとテープとの当接関係を
示す側面図、第７図ａ，ｂ，ｃは磁気ヘツドの回
転と上下振動の関係を示す図、第８図は研摩時間
と磁気ヘツド上下動の周波数の関係を示す図、第
９図ａ，ｂはヘリカルスキヤンVTRにおける磁
気ヘツドとテープの当接関係を模式的に示す側断
面図である。 １，１７…ヘツドチツプ、９…案内筒、１４…
ラツピングテープ、１５…バイモルフ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 磁気ヘツドを回転体上に一点を支点として回
転方向に対し直角方向に略円弧軌跡の振動をせし
める様構成し、ラツピングテープを磁気ヘツドの
回転軌跡に沿つてら旋状に巻回し、ラツピングテ
ープに研摩すべき磁気ヘツドを当接せしめるとと
もに、前記回転体の回転運動によりラツピングテ
ープと磁気ヘツドの相対移動をせしめる事を特徴
とする磁気ヘツドの研摩方法。 ２ 回転体の１回転中における磁気ヘツドの振動
数を1/5以下の端数が生じるよう設定した事を特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘツド
の研摩方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP501579A JPS55101130A (en) | 1979-01-20 | 1979-01-20 | Polishing method of magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP501579A JPS55101130A (en) | 1979-01-20 | 1979-01-20 | Polishing method of magnetic head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55101130A JPS55101130A (en) | 1980-08-01 |
| JPH0112628B2 true JPH0112628B2 (ja) | 1989-03-01 |
Family
ID=11599693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP501579A Granted JPS55101130A (en) | 1979-01-20 | 1979-01-20 | Polishing method of magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55101130A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60164910A (ja) * | 1984-02-08 | 1985-08-28 | Alps Electric Co Ltd | Ｖｔｒ用磁気ヘツドの製造方法 |
| KR920008432B1 (ko) * | 1988-11-05 | 1992-09-28 | 가부시끼가이샤 히다찌세이사꾸쇼 | 자기헤드 래핑방법과 이것에 사용하는 자기헤드 래핑장치 및 이것을 사용해서 얻어진 자기헤드 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5430594A (en) * | 1977-08-10 | 1979-03-07 | Hitachi Ltd | Chamfering method |
-
1979
- 1979-01-20 JP JP501579A patent/JPS55101130A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55101130A (en) | 1980-08-01 |
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