JPH0112640Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0112640Y2 JPH0112640Y2 JP1982156779U JP15677982U JPH0112640Y2 JP H0112640 Y2 JPH0112640 Y2 JP H0112640Y2 JP 1982156779 U JP1982156779 U JP 1982156779U JP 15677982 U JP15677982 U JP 15677982U JP H0112640 Y2 JPH0112640 Y2 JP H0112640Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steam
- disk
- distribution
- shaft body
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010025 steaming Methods 0.000 claims description 8
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 7
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Soy Sauces And Products Related Thereto (AREA)
- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は断熱体によつて構成された密閉室内
に、多数の孔を穿設することにより通気性を有し
かつ回転駆動する円盤を設け、この円盤の裏面に
仕切板を円盤に対し放射状に設けて区画室を形成
し、この区画室に蒸気噴出部を設けて蒸気供給室
を構成し、円盤上に蒸〓資料を堆積させ蒸〓する
ものにおいて、回転する蒸気供給室に供給管より
蒸気を供給する蒸〓装置に係わるものである。
に、多数の孔を穿設することにより通気性を有し
かつ回転駆動する円盤を設け、この円盤の裏面に
仕切板を円盤に対し放射状に設けて区画室を形成
し、この区画室に蒸気噴出部を設けて蒸気供給室
を構成し、円盤上に蒸〓資料を堆積させ蒸〓する
ものにおいて、回転する蒸気供給室に供給管より
蒸気を供給する蒸〓装置に係わるものである。
従来かかる蒸〓装置においては、蒸〓資料を堆
積する多孔盤からなる回転円盤の下方全室又は区
画室を固定された蒸気供給室とし、その蒸気供給
室に設けられた蒸気噴出部より上方の回転円盤上
に堆積されて回転進行する蒸〓資料に蒸気を供給
して蒸〓を行なう装置があつた。しかし、多目的
作業をおこなわせるには固定された蒸気供給室で
は幾多の障害があり、その目的を達成することは
困難であつた。
積する多孔盤からなる回転円盤の下方全室又は区
画室を固定された蒸気供給室とし、その蒸気供給
室に設けられた蒸気噴出部より上方の回転円盤上
に堆積されて回転進行する蒸〓資料に蒸気を供給
して蒸〓を行なう装置があつた。しかし、多目的
作業をおこなわせるには固定された蒸気供給室で
は幾多の障害があり、その目的を達成することは
困難であつた。
この考案は以上に述べた事情に鑑みなされたも
ので、同一装置内で合理的な蒸〓作業、冷却作
業、製麹作業をおこなわせるために、回転駆動す
る円盤の裏面にこの円盤の中心軸を中心とする放
射状に仕切板を設けて複数室の区画室とし、この
区画室に蒸気噴出部を設けて蒸気供給室を構成
し、回転円盤と同時回転をおこなわせるものであ
つて、これらの作業を達成させるために蒸気供給
室の底板を昇降自在とし、資料の蒸〓にあたつて
は仕切板と密着させて蒸気供給室を構成し、冷
却、製麹の作業においては底板を降下させて蒸気
供給室底面を解放状とし、資料の冷却及び製麹作
業における資料への通気を可能とする。このよう
にして蒸〓作業をおこなわせるために、円盤下方
の前述の軸体である中心軸に蒸気の通過孔を設
け、この通過孔を囲んで気密性を保持させる蒸気
分配部を回転可能とし、円盤と同時回転する蒸気
供給室に蒸気の供給を円滑に均一にすることをこ
の考案は目的としている。
ので、同一装置内で合理的な蒸〓作業、冷却作
業、製麹作業をおこなわせるために、回転駆動す
る円盤の裏面にこの円盤の中心軸を中心とする放
射状に仕切板を設けて複数室の区画室とし、この
区画室に蒸気噴出部を設けて蒸気供給室を構成
し、回転円盤と同時回転をおこなわせるものであ
つて、これらの作業を達成させるために蒸気供給
室の底板を昇降自在とし、資料の蒸〓にあたつて
は仕切板と密着させて蒸気供給室を構成し、冷
却、製麹の作業においては底板を降下させて蒸気
供給室底面を解放状とし、資料の冷却及び製麹作
業における資料への通気を可能とする。このよう
にして蒸〓作業をおこなわせるために、円盤下方
の前述の軸体である中心軸に蒸気の通過孔を設
け、この通過孔を囲んで気密性を保持させる蒸気
分配部を回転可能とし、円盤と同時回転する蒸気
供給室に蒸気の供給を円滑に均一にすることをこ
の考案は目的としている。
以下添付図面に基づいてこの考案を詳細に説明
する。
する。
第1図及び第2図はこの考案の蒸〓装置を示す
縦断面図及び横断面図で、図中、1は断熱材料に
よつて構成される蒸〓装置本体で、蒸〓装置本体
1内は密閉室1aとされそのほぼ中央に垂直方向
に軸体である中心軸2が配設される。中心軸2に
は多数の小孔3が穿設されることによつて通気性
を有する円盤で、かつその円周部に案内立板4′
が形成される回転円盤4が、ほぼ水平に回転可能
に装着される。回転円盤4の上方にはスクリユー
コンベヤ状の盛込手段5が、中心軸2と蒸〓装置
本体1との間に昇降自在にかつほぼ水平に架設さ
れる。回転円盤4の裏面には複数の仕切板6が前
記中心軸2を中心にして放射状に装着されて区画
室7が形成される。回転円盤4の下方には、円板
状の底板円盤8がブラケツト9によつて中心軸2
に昇降かつ回転可能に装着され、底板円盤8が仕
切板6の下端に密着することにより、前述の区画
室7がそれぞれ蒸気供給室10とされる。区画室
7内にはそれぞれ蒸気の噴出部11が配設され
る。
縦断面図及び横断面図で、図中、1は断熱材料に
よつて構成される蒸〓装置本体で、蒸〓装置本体
1内は密閉室1aとされそのほぼ中央に垂直方向
に軸体である中心軸2が配設される。中心軸2に
は多数の小孔3が穿設されることによつて通気性
を有する円盤で、かつその円周部に案内立板4′
が形成される回転円盤4が、ほぼ水平に回転可能
に装着される。回転円盤4の上方にはスクリユー
コンベヤ状の盛込手段5が、中心軸2と蒸〓装置
本体1との間に昇降自在にかつほぼ水平に架設さ
れる。回転円盤4の裏面には複数の仕切板6が前
記中心軸2を中心にして放射状に装着されて区画
室7が形成される。回転円盤4の下方には、円板
状の底板円盤8がブラケツト9によつて中心軸2
に昇降かつ回転可能に装着され、底板円盤8が仕
切板6の下端に密着することにより、前述の区画
室7がそれぞれ蒸気供給室10とされる。区画室
7内にはそれぞれ蒸気の噴出部11が配設され
る。
前述の中心軸2には長手方向に通孔12が穿設
され、通孔12内にはその基部が蒸気バルブ13
を介して蒸気供給源(図示せず)に連結される蒸
気の供給管14が、中心軸2の下端から挿入され
る。また第3図に示すように、中心軸2の通孔1
2の回転円盤4の下方に位置する部分に、通孔1
2を閉鎖する壁15,16によつて蒸気分配室1
7が形成され、蒸気分配室17には供給管14の
先端が連通される。蒸気分配室17を構成する中
心軸2には、複数の通過孔18が形成される。中
心軸2には複数の通過孔18を囲むように通路1
9が形成される分配部20が、パツキン21を介
在することにより、中心軸2との間に気密性を保
持させて、蒸気の漏洩を防止しつつ回転可能に装
着される。分配部20には放射方向に回転円盤4
の下部に固定金具22によつて配設される複数の
分配管23の基部が、それぞれ連結され、かつ通
路19に連通される。それぞれの分配管23の先
端は、蒸気の噴出部11に連結される。噴出部1
1には開閉弁24がそれぞれ装着され、開閉弁2
4は開閉ハンドル25でそれぞれ開閉操作され
る。
され、通孔12内にはその基部が蒸気バルブ13
を介して蒸気供給源(図示せず)に連結される蒸
気の供給管14が、中心軸2の下端から挿入され
る。また第3図に示すように、中心軸2の通孔1
2の回転円盤4の下方に位置する部分に、通孔1
2を閉鎖する壁15,16によつて蒸気分配室1
7が形成され、蒸気分配室17には供給管14の
先端が連通される。蒸気分配室17を構成する中
心軸2には、複数の通過孔18が形成される。中
心軸2には複数の通過孔18を囲むように通路1
9が形成される分配部20が、パツキン21を介
在することにより、中心軸2との間に気密性を保
持させて、蒸気の漏洩を防止しつつ回転可能に装
着される。分配部20には放射方向に回転円盤4
の下部に固定金具22によつて配設される複数の
分配管23の基部が、それぞれ連結され、かつ通
路19に連通される。それぞれの分配管23の先
端は、蒸気の噴出部11に連結される。噴出部1
1には開閉弁24がそれぞれ装着され、開閉弁2
4は開閉ハンドル25でそれぞれ開閉操作され
る。
この考案による蒸気供給装置は以上に述べたよ
うであつて、以下その作用を述べる。すなわち、
蒸〓装置本体1内の密閉室1a内に配設される回
転円盤4の下方に設けられた区画室7の底板円盤
8を上昇させて、仕切板6の底面に密着させ、蒸
気供給室10を形成する。次に多数の小孔3を有
する回転円盤4を回転駆動させる。回転円盤4の
上方に昇降自在に設けた盛込手段5を、資料の堆
積層厚に合わせ、回転円盤4の中心に向つて資料
が搬送させるよう回転させ、蒸〓装置本体1の天
井に形成される投入口26から資料を投入する。
投入される資料は回転円盤4の回転と盛込手段5
の搬送との関連によつて中心方向へ搬送され、逐
次区画された蒸気供給室10上に均一に堆積され
る。各区画室7に設けられる噴出部11の開閉弁
24は資料の進行にしたがつて自動若しくは手動
で開とされ、蒸気を供給し蒸〓作業を行う。
うであつて、以下その作用を述べる。すなわち、
蒸〓装置本体1内の密閉室1a内に配設される回
転円盤4の下方に設けられた区画室7の底板円盤
8を上昇させて、仕切板6の底面に密着させ、蒸
気供給室10を形成する。次に多数の小孔3を有
する回転円盤4を回転駆動させる。回転円盤4の
上方に昇降自在に設けた盛込手段5を、資料の堆
積層厚に合わせ、回転円盤4の中心に向つて資料
が搬送させるよう回転させ、蒸〓装置本体1の天
井に形成される投入口26から資料を投入する。
投入される資料は回転円盤4の回転と盛込手段5
の搬送との関連によつて中心方向へ搬送され、逐
次区画された蒸気供給室10上に均一に堆積され
る。各区画室7に設けられる噴出部11の開閉弁
24は資料の進行にしたがつて自動若しくは手動
で開とされ、蒸気を供給し蒸〓作業を行う。
この際、蒸気の供給は供給管14が中心軸2内
に設けられた蒸気分配室17に連係し、蒸気分配
室17の周囲壁に穿設された通過孔18を経由
し、この通過孔18を囲んで回転摺動するパツキ
ン21或いは嵌合によつて気密保持された分配部
20(図面上ではパツキン21を使用している)
に導き、蒸気の分配管23を介して各区画室7内
の蒸気の噴出部11から噴出し、回転円盤4の小
孔3を通つて資料に蒸気を供給し、蒸〓するもの
である。なお実施例の図においては、蒸気の供給
管14は下方から中心軸2の通孔12内に挿入さ
れ、蒸気を供給するように示されているが、中空
管として構成される前記中心軸2の通孔12内に
供給管14を上方から挿入配管しても何等差支え
ない。
に設けられた蒸気分配室17に連係し、蒸気分配
室17の周囲壁に穿設された通過孔18を経由
し、この通過孔18を囲んで回転摺動するパツキ
ン21或いは嵌合によつて気密保持された分配部
20(図面上ではパツキン21を使用している)
に導き、蒸気の分配管23を介して各区画室7内
の蒸気の噴出部11から噴出し、回転円盤4の小
孔3を通つて資料に蒸気を供給し、蒸〓するもの
である。なお実施例の図においては、蒸気の供給
管14は下方から中心軸2の通孔12内に挿入さ
れ、蒸気を供給するように示されているが、中空
管として構成される前記中心軸2の通孔12内に
供給管14を上方から挿入配管しても何等差支え
ない。
かようにして蒸気は、供給管14から中心軸2
内に設けられた蒸気分配室17に導入され、蒸気
を分配する分配部20は気密に保持される回転自
在な構造となつているために、回転円盤4と同時
回転する蒸気供給室10に蒸気の供給を均等とす
ることができるものである。
内に設けられた蒸気分配室17に導入され、蒸気
を分配する分配部20は気密に保持される回転自
在な構造となつているために、回転円盤4と同時
回転する蒸気供給室10に蒸気の供給を均等とす
ることができるものである。
蒸〓作業完了後、蒸気バルブ13を閉じ、回転
円盤4を停止し、蒸気供給室10を構成した底板
円盤8を第1図に二点鎖線で示す位置まで降下さ
せ、蒸気供給室10の底面を解放状態となし、蒸
〓資料の冷却に移行する。
円盤4を停止し、蒸気供給室10を構成した底板
円盤8を第1図に二点鎖線で示す位置まで降下さ
せ、蒸気供給室10の底面を解放状態となし、蒸
〓資料の冷却に移行する。
上述の如くこの考案による装置は蒸〓作業を行
なわせるため、回転円盤4の裏面に仕切板6をこ
の回転円盤4の中心軸2を中心として放射状に設
けて区画室7とし、この区画室7内に蒸気の噴出
部11を設けて蒸気供給室10を構成するととも
に、円盤4下方の中心軸2に蒸気の通過孔18を
設け、この通過孔18を囲んで気密性を保持させ
る蒸気の分配部20を回転可能とし、円盤4と同
時回転する蒸気供給室10に蒸気の供給を円滑に
均一にする効果を有し、その利用価値は顕著であ
る。
なわせるため、回転円盤4の裏面に仕切板6をこ
の回転円盤4の中心軸2を中心として放射状に設
けて区画室7とし、この区画室7内に蒸気の噴出
部11を設けて蒸気供給室10を構成するととも
に、円盤4下方の中心軸2に蒸気の通過孔18を
設け、この通過孔18を囲んで気密性を保持させ
る蒸気の分配部20を回転可能とし、円盤4と同
時回転する蒸気供給室10に蒸気の供給を円滑に
均一にする効果を有し、その利用価値は顕著であ
る。
第1図及び第2図はこの考案による装置を施こ
して成る蒸〓装置を示す縦断面図及び横断面図、
第3図はこの考案による装置を示す拡大縦断面図
である。 なお図において、1a……密閉室、2……軸
体、3……孔(小孔)、4……盤体(円盤)、6…
…仕切板、7……区画室、10……蒸気供給室、
11……噴出部、14……供給管、18……通過
孔、20……分配部、23……分配管、である。
して成る蒸〓装置を示す縦断面図及び横断面図、
第3図はこの考案による装置を示す拡大縦断面図
である。 なお図において、1a……密閉室、2……軸
体、3……孔(小孔)、4……盤体(円盤)、6…
…仕切板、7……区画室、10……蒸気供給室、
11……噴出部、14……供給管、18……通過
孔、20……分配部、23……分配管、である。
Claims (1)
- 断熱体によつて構成された密閉室内に、多数の
孔を有しかつ前記密閉室内にほぼ垂直方向に配設
される軸体を中心にして回転駆動する円盤を設
け、この円盤の裏面に複数の仕切板を前記軸体を
中心にして放射状に装着して複数の区画室を形成
し、これらの区画室それぞれに蒸気噴出部を設け
て蒸〓装置を構成するものにおいて、前記円盤の
下方の前記軸体に蒸気の通過孔及びこの通過孔を
囲んで前記円盤と同時回転する蒸気分配部を設
け、分配管を介して前記蒸気噴出部に連通する前
記蒸気分配部と軸体との間に気密性を保持させて
蒸気の漏洩を防止すると共に、回転可能としたこ
の蒸気分配部を、蒸気供給源に連通する供給管と
連係させることによつて、回転する蒸気供給室に
蒸気を供給するように形成して成る蒸〓装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982156779U JPS5959899U (ja) | 1982-10-16 | 1982-10-16 | 蒸▲きょう▼装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982156779U JPS5959899U (ja) | 1982-10-16 | 1982-10-16 | 蒸▲きょう▼装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5959899U JPS5959899U (ja) | 1984-04-19 |
| JPH0112640Y2 true JPH0112640Y2 (ja) | 1989-04-12 |
Family
ID=30345837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1982156779U Granted JPS5959899U (ja) | 1982-10-16 | 1982-10-16 | 蒸▲きょう▼装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5959899U (ja) |
-
1982
- 1982-10-16 JP JP1982156779U patent/JPS5959899U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5959899U (ja) | 1984-04-19 |
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