JPH01129979A - アルミニウムの表面処理方法 - Google Patents
アルミニウムの表面処理方法Info
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- JPH01129979A JPH01129979A JP28746687A JP28746687A JPH01129979A JP H01129979 A JPH01129979 A JP H01129979A JP 28746687 A JP28746687 A JP 28746687A JP 28746687 A JP28746687 A JP 28746687A JP H01129979 A JPH01129979 A JP H01129979A
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- aluminum
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/14—Nitrogen-containing compounds
- C23F11/149—Heterocyclic compounds containing nitrogen as hetero atom
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、アルミニウムの表面処理方法に係シ、耐食性
且つ光反射性に優れた表面保護皮膜の形成に好適なアル
ミニウムの表面処理方法に関する。
且つ光反射性に優れた表面保護皮膜の形成に好適なアル
ミニウムの表面処理方法に関する。
アルミニウムは大気中において、安定な酸化皮膜で覆わ
れているが、酸性及びアルカリ性環境下では腐食され易
く、また一般条件下においても長期にわたって使用する
場合には、十分な耐食性を維持できない。したがって、
アルミニウムの使用に関しては、何らかの表面処理が必
要である。
れているが、酸性及びアルカリ性環境下では腐食され易
く、また一般条件下においても長期にわたって使用する
場合には、十分な耐食性を維持できない。したがって、
アルミニウムの使用に関しては、何らかの表面処理が必
要である。
防食を目的としたアルミニウムの表面処理方法には、゛
無機系溶液により処理する方法及び有機系溶液により処
理する方法がある。
無機系溶液により処理する方法及び有機系溶液により処
理する方法がある。
無機系溶液として代表的なものは、電解質溶液中でアル
ミニウムを陽極として電解する陽極酸化処理、クロム酸
塩、リン酸−クロム酸塩系等の溶液中に浸漬し、化成皮
膜を形成させる化成処理等がある。
ミニウムを陽極として電解する陽極酸化処理、クロム酸
塩、リン酸−クロム酸塩系等の溶液中に浸漬し、化成皮
膜を形成させる化成処理等がある。
一方、有機系溶液処理としては、塗装及び有機溶液によ
る浸漬処理がある。例えば、特開昭５０−４４９４５号
、同５０−４４９４６号各公報に記載のように、それぞ
れ炭素原子が１〜２０個で分子中に力〜ボキシｙ基を１
〜２０個もつ一般式％式％ は異なり、力μボニル基を含む原子団である）で示され
る置換二ナンド酸と脂肪族アミンとを含む化合物を金属
類に接触させる方法がある。
る浸漬処理がある。例えば、特開昭５０−４４９４５号
、同５０−４４９４６号各公報に記載のように、それぞ
れ炭素原子が１〜２０個で分子中に力〜ボキシｙ基を１
〜２０個もつ一般式％式％ は異なり、力μボニル基を含む原子団である）で示され
る置換二ナンド酸と脂肪族アミンとを含む化合物を金属
類に接触させる方法がある。
また、特開昭５５−１１３５４８号公報に記載のように
、半導体素子及びリードフレームの少なくとも一方の表
面にアルミキレート化合物を塗布する方法がある。
、半導体素子及びリードフレームの少なくとも一方の表
面にアルミキレート化合物を塗布する方法がある。
更に、特開昭６１−２８７１５５号公報に記載のように
、半導体素子及びこれに対する電気的接続部材の一部の
表面に金属とトリアゾール類の有機物の反応生成物から
成る保護層を形成する方法がある。
、半導体素子及びこれに対する電気的接続部材の一部の
表面に金属とトリアゾール類の有機物の反応生成物から
成る保護層を形成する方法がある。
上記従来技術のうち、無機系溶液処理である陽極酸化処
理及び化成処理においては、アルミニウム表面に強固な
皮膜を形成できる利点を有する反面、処理浴中にクロム
イオン、フッ素イオン等の有害物質を含むため、環境汚
染並びに人体に関する毒性、及び廃水処理等の問題が付
随する。そのため、多大な設備を要し、電力の消費が多
く、経済的にも不利である。
理及び化成処理においては、アルミニウム表面に強固な
皮膜を形成できる利点を有する反面、処理浴中にクロム
イオン、フッ素イオン等の有害物質を含むため、環境汚
染並びに人体に関する毒性、及び廃水処理等の問題が付
随する。そのため、多大な設備を要し、電力の消費が多
く、経済的にも不利である。
一方、有機系溶液処理である有機溶液による浸漬処理法
は、比較的簡易で毒性の低い表面処理法として知られて
いる。その抑制作用機構は、陽イオンとなった有機物が
金属面の負荷電部分に吸着する物理吸着、電子供与基と
金属との間の化学吸着による。しかしながら、単純表金
属表面への吸着のため、溶液中においては抑制効果を示
すが。
は、比較的簡易で毒性の低い表面処理法として知られて
いる。その抑制作用機構は、陽イオンとなった有機物が
金属面の負荷電部分に吸着する物理吸着、電子供与基と
金属との間の化学吸着による。しかしながら、単純表金
属表面への吸着のため、溶液中においては抑制効果を示
すが。
別環境、例えば大剣中などでは十分な耐食性を示さない
。
。
また、アルミキレート化合物を塗布する方法は、アルミ
キレート化合・物を塗布した後、ベーク処理ヲ行イ、ア
ルミニウム表面に酸化アルミニウム皮膜を形成すること
を目的としている。しかしながら、高温でベーク処理を
行うため、アルミキレート化合物が破壊され、逆Ｋｒ＃
食性を低下させる可能性がある。
キレート化合・物を塗布した後、ベーク処理ヲ行イ、ア
ルミニウム表面に酸化アルミニウム皮膜を形成すること
を目的としている。しかしながら、高温でベーク処理を
行うため、アルミキレート化合物が破壊され、逆Ｋｒ＃
食性を低下させる可能性がある。
更に、金属表面に金属と）リアシール類の有機物の保護
層を形成させる方法は、金属と有機物間の強固な化学結
合に着眼した耐食性の高い金属表面を得る方法である。
層を形成させる方法は、金属と有機物間の強固な化学結
合に着眼した耐食性の高い金属表面を得る方法である。
しかしながら、アルミニウムに関しては、トリアゾール
類は酸性環境下では高い耐食性を示すものの、アルカリ
性環境下では効果のないことが確認された。
類は酸性環境下では高い耐食性を示すものの、アルカリ
性環境下では効果のないことが確認された。
更に、一般に耐食性向上を目的とした表面処理法におい
ては、素地金属を保護するため何らかの皮膜を付着させ
ている。このため、処理後の光反射率が著しく低下する
。従来の陽極酸化処理、有機物による浸漬処理等は、処
理後のアルミニウム表面の光反射率に比べ、著しく低下
するととが問題となる。
ては、素地金属を保護するため何らかの皮膜を付着させ
ている。このため、処理後の光反射率が著しく低下する
。従来の陽極酸化処理、有機物による浸漬処理等は、処
理後のアルミニウム表面の光反射率に比べ、著しく低下
するととが問題となる。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、アル
ミニウム表面にキレート結合による耐食性且つ反射率の
高い安定なｋＡキレート化合物皮嘆を形成することによ
シ、アルミニウムの耐食信頼性を著しく向上させ、更に
アルミニウム表面の光反射率を低下させない表面処理方
法を抛供することＫある。
ミニウム表面にキレート結合による耐食性且つ反射率の
高い安定なｋＡキレート化合物皮嘆を形成することによ
シ、アルミニウムの耐食信頼性を著しく向上させ、更に
アルミニウム表面の光反射率を低下させない表面処理方
法を抛供することＫある。
本発明を概説すれば、本発明はアルミニウムの表面処理
方法に関する発明であって、アルミニウムの表面処理に
おいて、アルミニウムを８−ヒドロキシキノリン（以下
、オキシンと略記する）を含有する処理溶液と接触させ
ることを特徴とする。
方法に関する発明であって、アルミニウムの表面処理に
おいて、アルミニウムを８−ヒドロキシキノリン（以下
、オキシンと略記する）を含有する処理溶液と接触させ
ることを特徴とする。
本発明者らは、酸性からアルカリ性の幅広い領域で抑制
効果の裏込オキシンについて検討した結果、高耐食性を
示すばかシか、オキシン製炭、ｐＨを制御することによ
シ、光反射率の著しく高いアルミニウム表面が得られる
ことを見出した。
効果の裏込オキシンについて検討した結果、高耐食性を
示すばかシか、オキシン製炭、ｐＨを制御することによ
シ、光反射率の著しく高いアルミニウム表面が得られる
ことを見出した。
前記目的は、アルミニウム表面をキＶ−）他剤であるオ
キシンと接触させ、耐食性且つ反射性の優れたｋＡ−オ
キシンキレート化合物皮膜を形成することにより達成さ
れる。
キシンと接触させ、耐食性且つ反射性の優れたｋＡ−オ
キシンキレート化合物皮膜を形成することにより達成さ
れる。
本発明においては、比較的簡便な有機溶液による処理に
おいて、アルミニウムの吸着結合に比べ格段に結合力の
大きいキレ−）結合によシ、アルミニウム表面に難溶性
錯体を形成させる。すなわち、アルミニウムのキＶ−）
の安定度定数に着眼し、安定度定数の著しく大きなオキ
シンをアルミニウムと接触させ、Ａｔ−オキシンのち密
なキレート皮膜を形成することにより、耐食信頼性を向
上させる。更に、オキシン濃度、ｐＨを制御することに
より、光反射性に優れたアルミニウムの表面処理方法を
提供するものである。
おいて、アルミニウムの吸着結合に比べ格段に結合力の
大きいキレ−）結合によシ、アルミニウム表面に難溶性
錯体を形成させる。すなわち、アルミニウムのキＶ−）
の安定度定数に着眼し、安定度定数の著しく大きなオキ
シンをアルミニウムと接触させ、Ａｔ−オキシンのち密
なキレート皮膜を形成することにより、耐食信頼性を向
上させる。更に、オキシン濃度、ｐＨを制御することに
より、光反射性に優れたアルミニウムの表面処理方法を
提供するものである。
オキシン濃度のような作用によりアルミニウムに高耐食
性且つ高光反射性を付与する。
性且つ高光反射性を付与する。
すなわち、酸性溶液中ではオキシンはフェノール型をと
シ、アルミニウムと作用して、ＨＯ−の■と置換し、Ｘ
と配位結合して五員環のｋＡ−オキシンキレート（１）
を形成する。一方、アルカリ性溶液中では、オキシｙは
キノン型をとり、アルミニウムと作用して、Ｎと結合し
、０と配位結合してＡｔ−オキシンキレート（１１）を
形成する。
シ、アルミニウムと作用して、ＨＯ−の■と置換し、Ｘ
と配位結合して五員環のｋＡ−オキシンキレート（１）
を形成する。一方、アルカリ性溶液中では、オキシｙは
キノン型をとり、アルミニウムと作用して、Ｎと結合し
、０と配位結合してＡｔ−オキシンキレート（１１）を
形成する。
（１） （ｎ）上記のように形
成されたＡｔ−オキシンキレートの安定度は非常に大き
く、このため腐食性環境においても安定で、アルミニウ
ム素地の保護作用が強いため、高い耐食性を発揮する。
成されたＡｔ−オキシンキレートの安定度は非常に大き
く、このため腐食性環境においても安定で、アルミニウ
ム素地の保護作用が強いため、高い耐食性を発揮する。
更に、オキシンの水溶液の代りに、アルコール等の有機
溶媒を用いると、更に次のような作用により、よシー層
の耐食性が発揮される。すなわち、処理液中に水分が存
在したいため、処理後の水分残留の影響は極めて小さい
。更に有機物は有機溶媒に溶解し易いので、揮発性溶媒
に溶かした溶液を使えば、処理後の洗浄工程の省力化が
図れる点等の工程１優れた利点がある。
溶媒を用いると、更に次のような作用により、よシー層
の耐食性が発揮される。すなわち、処理液中に水分が存
在したいため、処理後の水分残留の影響は極めて小さい
。更に有機物は有機溶媒に溶解し易いので、揮発性溶媒
に溶かした溶液を使えば、処理後の洗浄工程の省力化が
図れる点等の工程１優れた利点がある。
オキシンはｐＨが２〜１２．０に調整され九溶液中で最
も安定なＡｔ−オキシンキｖ−）を形成する。
も安定なＡｔ−オキシンキｖ−）を形成する。
すなわち、上記のｐＨ範囲の処理浴中でアルミニウム表
面に形成されるキレート化合物皮膜は、難溶性で保護力
が高く、耐食性が格段に向上する。
面に形成されるキレート化合物皮膜は、難溶性で保護力
が高く、耐食性が格段に向上する。
更に、オキシンは少なくとも、１００１重量％含有すれ
ば、耐食性の高いｋＡ−オキシンキレート化合物皮膜が
形成される。オキシンは水に溶解しにくいため、処理液
を加温してやれば、適量のオキシンが溶解し、ｋＡ−オ
キシンキレートが得やすくなる。
ば、耐食性の高いｋＡ−オキシンキレート化合物皮膜が
形成される。オキシンは水に溶解しにくいため、処理液
を加温してやれば、適量のオキシンが溶解し、ｋＡ−オ
キシンキレートが得やすくなる。
また、アルミニウムは紫外から赤外までほぼ一定で、９
０ｘ近い大きな光反射率を示す。通常アルミニウムを表
面処理すると、アルミニウム表面上に保護嗅が形成され
るため、光反射率は５０％以下と格段に低下する。しか
しながら、オキシン濃度をＩＩＬ０１〜１０５重量Ｘと
し、酸性溶液において処理すると、処理前の反射率と比
較して、はぼ同程度の高い反射率を得ることができる。
０ｘ近い大きな光反射率を示す。通常アルミニウムを表
面処理すると、アルミニウム表面上に保護嗅が形成され
るため、光反射率は５０％以下と格段に低下する。しか
しながら、オキシン濃度をＩＩＬ０１〜１０５重量Ｘと
し、酸性溶液において処理すると、処理前の反射率と比
較して、はぼ同程度の高い反射率を得ることができる。
以上のことから、キレート化剤であるオキシンによる表
面処理方法は、処理浴中のｎＨ％濃度の調整によシ、ア
ルミニウム表面に耐食性且つ反射性の高い保護皮膜を形
成する。また、公害問題も解決され、比較的簡便で低コ
スト等の利点も有する。
面処理方法は、処理浴中のｎＨ％濃度の調整によシ、ア
ルミニウム表面に耐食性且つ反射性の高い保護皮膜を形
成する。また、公害問題も解決され、比較的簡便で低コ
スト等の利点も有する。
以下、本発明を実施例により、更に具体的に説明するが
、本発明はこれら実施例に限定されない。
、本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例１
９９、、９９％アルミニウム板（面積：１０５１２）を
酢酸−過塩素酸浴中で電解研磨し、水洗、乾燥したもの
を試験片とした。この試験片を１０１重量％、ｐＨ９に
調整したオキシン水溶液中に、常温及び８０℃で１０分
間浸漬し、水洗、乾燥した。この試験片を８０℃の３Ｘ
食塩水に浸漬し、２００時間腐食試験した。その結果を
第１表に示す。第１表には比較例として、従来法の中で
、トリカルバリル酸−Ｎ−メチ〃イミドについて、同様
の表面処理を施したもの、及び表面処理を施さないアル
ミニウムについて１食した結果も示す。
酢酸−過塩素酸浴中で電解研磨し、水洗、乾燥したもの
を試験片とした。この試験片を１０１重量％、ｐＨ９に
調整したオキシン水溶液中に、常温及び８０℃で１０分
間浸漬し、水洗、乾燥した。この試験片を８０℃の３Ｘ
食塩水に浸漬し、２００時間腐食試験した。その結果を
第１表に示す。第１表には比較例として、従来法の中で
、トリカルバリル酸−Ｎ−メチ〃イミドについて、同様
の表面処理を施したもの、及び表面処理を施さないアル
ミニウムについて１食した結果も示す。
第 １ 表
第１表より明らかなように、本発明によるオキシン処理
したアルミニウムは、処理しないものに比べ、腐食量が
格段に小さく、耐食性の高いキレート皮膜が形成されて
いることがわかる。それに対し、従来方法によるトリカ
ルバリル酸−Ｎ−メチ〜イミドによる処理は、本発明に
よるオキシン処理に比べ腐食量が大きく、十分な耐食性
を示してないことがわかる。
したアルミニウムは、処理しないものに比べ、腐食量が
格段に小さく、耐食性の高いキレート皮膜が形成されて
いることがわかる。それに対し、従来方法によるトリカ
ルバリル酸−Ｎ−メチ〜イミドによる処理は、本発明に
よるオキシン処理に比べ腐食量が大きく、十分な耐食性
を示してないことがわかる。
実施例２
実施例１と同様なアルミニウム試験片を、オキシンＣ［
１０１重１１％）処理ｐＨを変えて、８０℃の３％食塩
水で２００時間腐食試験した結果を第１図に示す。比較
例として、表面処理を施さない腐食量を破線で示す。す
なわち、第１図はｐＩ（を変えたオキシン処理後の腐食
量をｔ＋Ｈ（横ｌ１ＩＩＩＩ）と腐食！（μｍ、縦軸）
との関係で示すグラフである。
１０１重１１％）処理ｐＨを変えて、８０℃の３％食塩
水で２００時間腐食試験した結果を第１図に示す。比較
例として、表面処理を施さない腐食量を破線で示す。す
なわち、第１図はｐＩ（を変えたオキシン処理後の腐食
量をｔ＋Ｈ（横ｌ１ＩＩＩＩ）と腐食！（μｍ、縦軸）
との関係で示すグラフである。
第１図より明らかなように、本発明によるオキシン処理
は、Ｔ）Ｈ五５〜１α０の範囲において腐食量、が格段
に小さく、十分な耐食性を示していることがわかる。
は、Ｔ）Ｈ五５〜１α０の範囲において腐食量、が格段
に小さく、十分な耐食性を示していることがわかる。
実施例３
実施例１と同様なアルミニウム試験片を、オキシン（Ｄ
Ｈ９）処理濃度を変えて、８０℃の３％食塩水で２００
時間腐食試験した結果を第２図に示す。比較例として、
表面処理を施さない腐食量を破線で示す。すなわち、第
２図はオキシン重量Ｘを変えた処理後の腐食量をオキシ
ン重量％（横軸）と腐食量（μｍ、縦軸）との関係で示
したグラフである。第２図よシ明らかなように、本発明
によるオキシン処理は、Ｑ、００１重量％以上含有すれ
ば十分た耐食性を示し、安定なキレート皮膜を形成して
いることがわかる。
Ｈ９）処理濃度を変えて、８０℃の３％食塩水で２００
時間腐食試験した結果を第２図に示す。比較例として、
表面処理を施さない腐食量を破線で示す。すなわち、第
２図はオキシン重量Ｘを変えた処理後の腐食量をオキシ
ン重量％（横軸）と腐食量（μｍ、縦軸）との関係で示
したグラフである。第２図よシ明らかなように、本発明
によるオキシン処理は、Ｑ、００１重量％以上含有すれ
ば十分た耐食性を示し、安定なキレート皮膜を形成して
いることがわかる。
実施例４
実施例１と同様なアルミニウム試験片を、オキシンを１
０１５改量％、Ｔ）ＨＡ、Ｏに調整し、この処理浴中に
８０℃で２０分間浸漬した。処理前の反射率を１とした
ときの処理後及び腐食試験後の反射率を第２表に示す。
０１５改量％、Ｔ）ＨＡ、Ｏに調整し、この処理浴中に
８０℃で２０分間浸漬した。処理前の反射率を１とした
ときの処理後及び腐食試験後の反射率を第２表に示す。
比較例として、表面処理を施さない場合及び従来表面処
理による光反射率も示す。
理による光反射率も示す。
第２表
第２表より明らかなように、本発明によるオキシン処理
は、処理前の反射率の１９以上の高い値を示し、処理後
及び腐食試験後の光反射率は処理前のアルミニウムに比
べて、はとんど変化がなく、反射率の低下が著しく小さ
いことを示している。
は、処理前の反射率の１９以上の高い値を示し、処理後
及び腐食試験後の光反射率は処理前のアルミニウムに比
べて、はとんど変化がなく、反射率の低下が著しく小さ
いことを示している。
それに対し、従来方法による硫酸を電解液とする陽極酸
化処理及びベンゾトリアシー〜による処理は、本発明に
よるオキシン処理に比べ、処理後及び腐食試験後の光反
射率が格段に小さく、表面処理によシ反射率が著しく低
下することがわかる。
化処理及びベンゾトリアシー〜による処理は、本発明に
よるオキシン処理に比べ、処理後及び腐食試験後の光反
射率が格段に小さく、表面処理によシ反射率が著しく低
下することがわかる。
本発明によれば、公害問題を解決し、簡便でしかも耐食
性且つ光反射性の優れたアルミニウム表面処理方法を提
供することができ、これにより、ア、Ａ／ミニウムの１
＃食信頼性且つ光反射性を著しく向上することができる
。
性且つ光反射性の優れたアルミニウム表面処理方法を提
供することができ、これにより、ア、Ａ／ミニウムの１
＃食信頼性且つ光反射性を著しく向上することができる
。
第１図はｐＨを変えたオキシン処理後の腐食量を示すグ
ラフ、第２図はオキシン重量％を変えた処理後の腐食量
を示すグラフである。 特許出願人 株式会社日立製作所
ラフ、第２図はオキシン重量％を変えた処理後の腐食量
を示すグラフである。 特許出願人 株式会社日立製作所
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、アルミニウムの表面処理において、アルミニウムを
８−ヒドロキシキノリンを含有する処理溶液と接触させ
ることを特徴とするアルミニウムの表面処理方法。 ２、該処理溶液は、８−ヒドロキシキノリンを少なくと
も０．００１重量％含有し、そのｐＨが２〜１２．０の
範囲にある特許請求の範囲第１項記載のアルミニウムの
表面処理方法。 ３、該処理後のアルミニウムの反射率が８０％以上とな
るように、該処理溶液中の８−ヒドロキシキノリンの濃
度及びｐＨを制御する特許請求の範囲第１項記載のアル
ミニウムの表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28746687A JPH0678588B2 (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | アルミニウムの表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28746687A JPH0678588B2 (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | アルミニウムの表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129979A true JPH01129979A (ja) | 1989-05-23 |
| JPH0678588B2 JPH0678588B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=17717703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28746687A Expired - Lifetime JPH0678588B2 (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | アルミニウムの表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0678588B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04191381A (ja) * | 1990-11-23 | 1992-07-09 | Nippondenso Co Ltd | アルミニウム表面に耐食性化成皮膜を形成する方法 |
| US5516418A (en) * | 1995-06-26 | 1996-05-14 | International Business Machines Corporation | Patterned electroplating |
| US5545307A (en) * | 1995-04-06 | 1996-08-13 | International Business Machines Corporation | Process for patterned electroplating |
| CN103184447A (zh) * | 2013-03-26 | 2013-07-03 | 大连理工大学 | 一种铝及其合金表面自修复防腐蚀转化膜及其制备方法 |
-
1987
- 1987-11-16 JP JP28746687A patent/JPH0678588B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| Publication number | Publication date |
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| JPH0678588B2 (ja) | 1994-10-05 |
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