JPH01129986A - Cleaner for buffing - Google Patents
Cleaner for buffingInfo
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- JPH01129986A JPH01129986A JP28844687A JP28844687A JPH01129986A JP H01129986 A JPH01129986 A JP H01129986A JP 28844687 A JP28844687 A JP 28844687A JP 28844687 A JP28844687 A JP 28844687A JP H01129986 A JPH01129986 A JP H01129986A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02825—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine containing hydrogen
- C23G5/02829—Ethanes
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はバフ研磨剤を用いて研磨した金属部品専に付着
した研磨剤類を除去するために用いるバフ研磨洗浄剤に
関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a buffing cleaning agent used to remove abrasives adhering to metal parts polished using a buffing agent.
[従来の技術]
精密金属部品、装飾部品等のバフ研磨工程で研磨剤類が
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類と
しては1、1.1 )リクロルエタンが広く使われてい
る。[Prior Art] Abrasives are used in the buffing process of precision metal parts, decorative parts, etc., but in many cases, products cannot be produced if these remain attached. Therefore, in the finishing process of such parts, organic solvents are used for cleaning. As for the types of solvents, 1, 1.1) Lichloroethane is widely used.
[発明の解決しようとする問題点]
本発明は従来使用されていた1、1.!−トリクロルエ
タンは地下水汚染の点から好ましくないため、その使用
量を抑えるべ(+、1.1−トリクロルエタンにかわる
新規のバフ研磨洗浄剤を提供することを目的とするもの
である。[Problems to be solved by the invention] The present invention solves the problems conventionally used. ! - Since trichloroethane is undesirable from the standpoint of groundwater contamination, its usage should be reduced.
[問題点を解決するための手段]
本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり5
トリクロロジフルオロエタンを有効成分として含有す
るバフ研磨洗浄剤を提供するものである。[Means for solving the problems] The present invention has been made to achieve the above-mentioned objects.
A buffing cleaning agent containing trichlorodifluoroethane as an active ingredient is provided.
本発明のバフ研磨洗浄剤の有効成分であるトリクロロジ
フルオロエタンは、不燃性で適度な溶解力がある等の利
点をイ1する優れた溶剤である。トリクロロジフルオロ
エタンには1.1.2−1−ジクロロ−2,2−ジフル
オロエタン(以下R(22という) 、 1,2.21
−リクロロー1.2−ジフル才口工タン(以下R122
,llという)及び1,1.1−トリクロロ−2,2−
1ジフルオロエタン(以下RI22bという)の3種類
の異性体が知られているが、これらを単独であるいはこ
れら2種以上の混合物として用いることができる。Trichlorodifluoroethane, which is an active ingredient of the buffing cleaning agent of the present invention, is an excellent solvent that has advantages such as being nonflammable and having a suitable dissolving power. Trichlorodifluoroethane includes 1.1.2-1-dichloro-2,2-difluoroethane (hereinafter referred to as R (22), 1,2.21
-Rechloror 1.2-Difur Saigukotan (hereinafter R122
,ll) and 1,1.1-trichloro-2,2-
Three types of isomers of 1-difluoroethane (hereinafter referred to as RI22b) are known, and these can be used alone or as a mixture of two or more types.
本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
剤の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有させることが
できる。これらの何機溶剤のバフ研磨洗浄剤中の含有割
合は、0〜50重1.J%、好ましくは10〜40重量
%、さらに好ましくは20〜301ii%である。トリ
クロロジフルオロエタンと有機溶剤との混合物に共沸組
成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好まし
い。The buffing cleaning agent of the present invention can contain various other components depending on various purposes. For example, in order to enhance the removal effect of the abrasive, at least one kind selected from organic solvents such as hydrocarbons, alcohols, ketones, chlorinated hydrocarbons, or esters can be included. The content ratio of these solvents in the buffing cleaning agent is 0 to 50% by weight. J%, preferably 10 to 40% by weight, more preferably 20 to 301ii%. If the mixture of trichlorodifluoroethane and the organic solvent has an azeotropic composition, it is preferred to use the azeotropic composition.
炭化水素類としては炭素数1〜15の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2.2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2.4−ジメチルベンタン、「1−オクタン、2
−メチルへブタン、3−メチルへブタン、4−メチルペ
ンタン、2.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチル
ヘキサン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3
−エチルペンクン、3−メチル−3−二チルペンクン、
2、3.3− トリメデルペンタン、2.3.4− ト
リメチルペンタン、2.2.3−トリメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、2.2.5− トリメデルヘキ
サン、デカン、ドデンカン、1−ペンテン、2−ペンテ
ン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−デ
セン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサ
ン、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、a−ピネン、
ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミル
ナフタレン等から選ばれるものである。より好ましくは
、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−へブタン等である
。The hydrocarbons are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbons having 1 to 15 carbon atoms, such as n-pentane, isopentane, n-hexane, isohexane, 2-methylpentane, 2,2-dimethylbutane, 2.3-dimethylbutane, n-hebutane, isohebutane, 3-methylhexane, 2.4-dimethylbentane, 1-octane, 2
-Methylhebutane, 3-methylhebutane, 4-methylpentane, 2.2-dimethylhexane, 2.5-dimethylhexane, 3.3-dimethylhexane, 2-methyl-3
-ethylpenkun, 3-methyl-3-ditylpenkun,
2,3.3-trimedelpentane, 2.3.4-trimethylpentane, 2.2.3-trimethylpentane,
Isooctane, nonane, 2.2.5-trimedelhexane, decane, dodencane, 1-pentene, 2-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane , methylcyclohexane, ethylcyclohexane, bicyclohexane, cyclohexene, a-pinene,
It is selected from dipentene, decalin, tetralin, amylene, amylnaphthalene, etc. More preferred are n-pentane, n-hexane, n-hebutane and the like.
アルコール類としては、炭素数1−17の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、Lert−ブチルア
ルコール。The alcohols are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated alcohols having 1 to 17 carbon atoms, such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, 5ec-butyl alcohol, isobutyl alcohol, Lert-butyl alcohol.
ペンチルアルコール、5ec−アミルアルコール、l−
エチル−1−プロパツール、2−メチル−1−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、 terL−ペンチルア
ルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチル
アルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペン
タノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル
−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−ヘプタツー
ル、3−ヘプタツール、1−オクタノール、2−オクタ
ノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノー
ル、3.5.5−トリメチル−1−ヘキサノール、1−
デカノール、I−ウンデカノール、1−ドデカノール、
アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジル
アルコール、シクロヘキサノール、1−メチルシクロヘ
キサノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチ
ルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール
、a−テルピネオール、アビニチノール、2.6−シメ
チルー4−ヘプタツール、トリメチルノニルアルコール
、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール等
から選ばれるものである。より好ましくはメタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール等である。Pentyl alcohol, 5ec-amyl alcohol, l-
Ethyl-1-propatol, 2-methyl-1-butanol, isopentyl alcohol, terL-pentyl alcohol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 1-hexanol, 2-methyl-1-pentanol, 4 -Methyl-2-pentanol, 2-ethyl-1-butanol, 1-heptatool, 2-heptatool, 3-heptatool, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1-nonanol , 3.5.5-trimethyl-1-hexanol, 1-
Decanol, I-undecanol, 1-dodecanol,
Allyl alcohol, propargyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 1-methylcyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, a-terpineol, avinitinol, 2.6-dimethyl-4- The alcohol is selected from heptatool, trimethylnonyl alcohol, tetradecyl alcohol, heptadecyl alcohol, and the like. More preferably methanol,
Ethanol, isopropyl alcohol, etc.
ケトン類としては、R−CO−R′、 R−CD、R−
CD−R′−rコ HIIz ]
CD−R″、R−CO−R’、 R−CO−R′(ここ
で、R,R’、R”は炭素数1〜9の飽和又は不飽和炭
化水素基)のいずれかの−数式で示されるものが好まし
く、アセトン、メチルブチルケトン、2−ペンタノン、
3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチル−n−ブヂル
ケトン、メチルブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘ
プタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、
メチルペンタン、ホ、ロン、メチル−〇−アミルケトン
、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シクロ
ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソボロン、2
.4−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール、アセト
フェノン、フェンチョン等から運ばれるものである。よ
り好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等である。Ketones include R-CO-R', R-CD, R-
CD-R'-rco HIIz ] CD-R'', R-CO-R', R-CO-R' (where R, R', R'' are saturated or unsaturated carbonized carbon atoms having 1 to 9 carbon atoms) Preferred are those represented by any of the following formulas: acetone, methyl butyl ketone, 2-pentanone,
3-pentanone, 2-hexanone, methyl-n-butyl ketone, methyl butyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, diisobutyl ketone, acetonylacetone,
Methylpentane, E, Ron, Methyl-〇-amylketone, Ethylbutylketone, Methylhexylketone, Cyclohexanone, Methylcyclohexanone, Isoboron, 2
.. It is derived from 4-pentanedione, diacetone alcohol, acetophenone, fenchen, etc. More preferred are acetone, methyl ethyl ketone and the like.
塩素化炭化水素類としては、炭素数1〜2の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、1.2−ジクロロ
エタン、I、 1.lトリクロルエタン、1.1.2−
1−ジクロルエタン、I、 l、 1.2−テトラクロ
ルエタン、 1,1,2.2−テトラクロルエタン、ペ
ンタクロルエタン、1.1−ジクロルエチレン、1.2
−ジクロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロ
ルエチレン等から選ばれるものである。より好ましくは
塩化メチレン、1.1.1−1−リフ凸ルエタン、 ト
リクロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。The chlorinated hydrocarbons are preferably saturated or unsaturated chlorinated hydrocarbons having 1 to 2 carbon atoms, such as methylene chloride, carbon tetrachloride, 1.1-dichloroethane, 1.2-dichloroethane, I, 1. l trichloroethane, 1.1.2-
1-dichloroethane, I, l, 1.2-tetrachloroethane, 1,1,2.2-tetrachloroethane, pentachloroethane, 1.1-dichloroethylene, 1.2
- selected from dichloroethylene, trichlorethylene, tetrachlorethylene, etc. More preferred are methylene chloride, 1.1.1-1-rif-convex ruethane, trichlorethylene, tetrachlorethylene, and the like.
エステル類としては、次の一般式で示されるものが好ま
しく 、 R,−COO−R,、R+−a−Rs−Co
o−R4゜OR。As the esters, those represented by the following general formula are preferable: R, -COO-R,, R+-a-Rs-Co
o-R4°OR.
C0OR。C0OR.
(ここでR,、R,、R,、R,、R,、R,は11又
は叶又は炭素数1〜19の飽和ないし、不飽和結合を有
する炭化水素基。)
具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸5ec−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセ
テート、酢酸5ec−ヘキシル、2−エチルブチルアセ
テート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソペ
ンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イ
ソペンチル、イソ醋酸イソブチル、2−ヒドロキシ−2
−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エヂル
、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソペ
ンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エヂル、アビ
エチン酸ベンジ =ル、アジピン酸ビス−2−エチルヘ
キシル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ
酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバ
シン酸ジブチル、セバシン酸ビス−2−エチルヘキシル
、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブ
チル、フタル酸ビス−2−エチルヘキシル、フタル酸ジ
オクチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸
メチル、酢酸エチル等である。(Here, R,, R,, R,, R,, R,, R, is a hydrocarbon group having 11 or 1 to 19 carbon atoms and a saturated or unsaturated bond.) Specifically, formic acid Methyl, ethyl formate, propyl formate,
Butyl formate, isobutyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, 5ec-butyl acetate, pentyl acetate, isopentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 5ec-hexyl acetate, 2 -Ethyl butyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, cyclohexyl acetate, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, isopentyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, isopentyl butyrate, isobutyl isoacetate, 2- Hydroxy-2
- Ethyl methylpropionate, butyl stearate, pentyl stearate, methyl benzoate, edyl benzoate, propyl benzoate, butyl benzoate, isopentyl benzoate, benzyl benzoate, edyl abietate, benzyl abietate, adipic acid Bis-2-ethylhexyl, γ-butyrolact, diethyl oxalate, dibutyl oxalate, dipentyl oxalate, diethyl malonate,
Dimethyl maleate, diethyl maleate, dibutyl maleate, dibutyl tartrate, tributyl citrate, dibutyl sebacate, bis-2-ethylhexyl sebacate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, bis-2-ethylhexyl phthalate , dioctyl phthalate, etc. More preferred are methyl acetate, ethyl acetate and the like.
本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の洗浄助剤、水、界
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素ズnをさらに添加
混合してもよい。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、ス
プレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採
用することができる。The buffing cleaning agent of the present invention may further contain various cleaning aids, water, surfactants, stabilizers, or hydrogen-containing chlorinated fluorinated hydrocarbons that have little effect on ozone destruction. As a cleaning method, conventional methods such as hand wiping, dipping, spraying, shaking, ultrasonic cleaning, and steam cleaning can be used.
[実施例]
更施例1〜8
下記第1表に示すバフ研磨洗浄剤を用いて研磨剤の除去
試験を行なった。[Examples] Additional Examples 1 to 8 An abrasive removal test was conducted using the buffing cleaning agents shown in Table 1 below.
腕時計のフレームをバフ研磨剤(GS−1,創研工業■
製)で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、3分間超音波
をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察し
た。その結果を第1表に示す。Buffing agent for watch frames (GS-1, Soken Kogyo■
After polishing with a buff polishing agent (manufactured by J.D.), the specimen was immersed in a buffing cleaning agent, subjected to ultrasonic waves for 3 minutes, and then taken out to observe the removal of the polishing agent. The results are shown in Table 1.
第1表
()内は混合比[重量%]
0:良好に除去できる △:少量残存
×:かなり残存
[発明の効果]
本発明のバフ研磨洗浄剤は実施例から明らかなように研
磨剤の除去効果の優れたものであC0又、従来使用され
ていたI、 1.ll−リクロルエタンに比べ、金属、
プラスチック及びエラストマー等から成る研磨剤を除去
すべき物品に悪影響を与えることが少ない点で有利であ
る。Table 1 () shows the mixing ratio [wt%] 0: Good removal △: Small amount remaining It has an excellent removal effect and is also C0, which has been used conventionally.1. Compared to ll-lychloroethane, metal,
This is advantageous in that the abrasives made of plastics, elastomers, etc. have little adverse effect on the articles to be removed.
Claims (2)
有するバフ研磨洗浄剤。(1) A buffing cleaning agent containing trichlorodifluoroethane as an active ingredient.
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
ばれる少なくとも1種が含まれている特許請求の範囲第
1項記載のバフ研磨洗浄剤。(2) The buff according to claim 1, wherein the buffing cleaning agent contains at least one selected from hydrocarbons, alcohols, ketones, chlorinated hydrocarbons, or esters. Abrasive cleaning agent.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28844687A JPH01129986A (en) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | Cleaner for buffing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28844687A JPH01129986A (en) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | Cleaner for buffing |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129986A true JPH01129986A (en) | 1989-05-23 |
Family
ID=17730315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28844687A Pending JPH01129986A (en) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | Cleaner for buffing |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01129986A (en) |
-
1987
- 1987-11-17 JP JP28844687A patent/JPH01129986A/en active Pending
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