JPH01129986A - バフ研磨洗浄剤 - Google Patents
バフ研磨洗浄剤Info
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- JPH01129986A JPH01129986A JP28844687A JP28844687A JPH01129986A JP H01129986 A JPH01129986 A JP H01129986A JP 28844687 A JP28844687 A JP 28844687A JP 28844687 A JP28844687 A JP 28844687A JP H01129986 A JPH01129986 A JP H01129986A
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- JP
- Japan
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- buffing
- cleaner
- alcohol
- methyl
- acetate
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02825—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine containing hydrogen
- C23G5/02829—Ethanes
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はバフ研磨剤を用いて研磨した金属部品専に付着
した研磨剤類を除去するために用いるバフ研磨洗浄剤に
関するものである。
した研磨剤類を除去するために用いるバフ研磨洗浄剤に
関するものである。
[従来の技術]
精密金属部品、装飾部品等のバフ研磨工程で研磨剤類が
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類と
しては1、1.1 )リクロルエタンが広く使われてい
る。
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類と
しては1、1.1 )リクロルエタンが広く使われてい
る。
[発明の解決しようとする問題点]
本発明は従来使用されていた1、1.!−トリクロルエ
タンは地下水汚染の点から好ましくないため、その使用
量を抑えるべ(+、1.1−トリクロルエタンにかわる
新規のバフ研磨洗浄剤を提供することを目的とするもの
である。
タンは地下水汚染の点から好ましくないため、その使用
量を抑えるべ(+、1.1−トリクロルエタンにかわる
新規のバフ研磨洗浄剤を提供することを目的とするもの
である。
[問題点を解決するための手段]
本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり5
トリクロロジフルオロエタンを有効成分として含有す
るバフ研磨洗浄剤を提供するものである。
トリクロロジフルオロエタンを有効成分として含有す
るバフ研磨洗浄剤を提供するものである。
本発明のバフ研磨洗浄剤の有効成分であるトリクロロジ
フルオロエタンは、不燃性で適度な溶解力がある等の利
点をイ1する優れた溶剤である。トリクロロジフルオロ
エタンには1.1.2−1−ジクロロ−2,2−ジフル
オロエタン(以下R(22という) 、 1,2.21
−リクロロー1.2−ジフル才口工タン(以下R122
,llという)及び1,1.1−トリクロロ−2,2−
1ジフルオロエタン(以下RI22bという)の3種類
の異性体が知られているが、これらを単独であるいはこ
れら2種以上の混合物として用いることができる。
フルオロエタンは、不燃性で適度な溶解力がある等の利
点をイ1する優れた溶剤である。トリクロロジフルオロ
エタンには1.1.2−1−ジクロロ−2,2−ジフル
オロエタン(以下R(22という) 、 1,2.21
−リクロロー1.2−ジフル才口工タン(以下R122
,llという)及び1,1.1−トリクロロ−2,2−
1ジフルオロエタン(以下RI22bという)の3種類
の異性体が知られているが、これらを単独であるいはこ
れら2種以上の混合物として用いることができる。
本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
剤の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有させることが
できる。これらの何機溶剤のバフ研磨洗浄剤中の含有割
合は、0〜50重1.J%、好ましくは10〜40重量
%、さらに好ましくは20〜301ii%である。トリ
クロロジフルオロエタンと有機溶剤との混合物に共沸組
成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好まし
い。
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
剤の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有させることが
できる。これらの何機溶剤のバフ研磨洗浄剤中の含有割
合は、0〜50重1.J%、好ましくは10〜40重量
%、さらに好ましくは20〜301ii%である。トリ
クロロジフルオロエタンと有機溶剤との混合物に共沸組
成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好まし
い。
炭化水素類としては炭素数1〜15の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2.2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2.4−ジメチルベンタン、「1−オクタン、2
−メチルへブタン、3−メチルへブタン、4−メチルペ
ンタン、2.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチル
ヘキサン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3
−エチルペンクン、3−メチル−3−二チルペンクン、
2、3.3− トリメデルペンタン、2.3.4− ト
リメチルペンタン、2.2.3−トリメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、2.2.5− トリメデルヘキ
サン、デカン、ドデンカン、1−ペンテン、2−ペンテ
ン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−デ
セン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサ
ン、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、a−ピネン、
ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミル
ナフタレン等から選ばれるものである。より好ましくは
、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−へブタン等である
。
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2.2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2.4−ジメチルベンタン、「1−オクタン、2
−メチルへブタン、3−メチルへブタン、4−メチルペ
ンタン、2.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチル
ヘキサン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3
−エチルペンクン、3−メチル−3−二チルペンクン、
2、3.3− トリメデルペンタン、2.3.4− ト
リメチルペンタン、2.2.3−トリメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、2.2.5− トリメデルヘキ
サン、デカン、ドデンカン、1−ペンテン、2−ペンテ
ン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−デ
セン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサ
ン、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、a−ピネン、
ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミル
ナフタレン等から選ばれるものである。より好ましくは
、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−へブタン等である
。
アルコール類としては、炭素数1−17の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、Lert−ブチルア
ルコール。
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、Lert−ブチルア
ルコール。
ペンチルアルコール、5ec−アミルアルコール、l−
エチル−1−プロパツール、2−メチル−1−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、 terL−ペンチルア
ルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチル
アルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペン
タノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル
−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−ヘプタツー
ル、3−ヘプタツール、1−オクタノール、2−オクタ
ノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノー
ル、3.5.5−トリメチル−1−ヘキサノール、1−
デカノール、I−ウンデカノール、1−ドデカノール、
アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジル
アルコール、シクロヘキサノール、1−メチルシクロヘ
キサノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチ
ルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール
、a−テルピネオール、アビニチノール、2.6−シメ
チルー4−ヘプタツール、トリメチルノニルアルコール
、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール等
から選ばれるものである。より好ましくはメタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール等である。
エチル−1−プロパツール、2−メチル−1−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、 terL−ペンチルア
ルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチル
アルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペン
タノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル
−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−ヘプタツー
ル、3−ヘプタツール、1−オクタノール、2−オクタ
ノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノー
ル、3.5.5−トリメチル−1−ヘキサノール、1−
デカノール、I−ウンデカノール、1−ドデカノール、
アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジル
アルコール、シクロヘキサノール、1−メチルシクロヘ
キサノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチ
ルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール
、a−テルピネオール、アビニチノール、2.6−シメ
チルー4−ヘプタツール、トリメチルノニルアルコール
、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール等
から選ばれるものである。より好ましくはメタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール等である。
ケトン類としては、R−CO−R′、 R−CD、R−
CD−R′−rコ HIIz ] CD−R″、R−CO−R’、 R−CO−R′(ここ
で、R,R’、R”は炭素数1〜9の飽和又は不飽和炭
化水素基)のいずれかの−数式で示されるものが好まし
く、アセトン、メチルブチルケトン、2−ペンタノン、
3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチル−n−ブヂル
ケトン、メチルブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘ
プタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、
メチルペンタン、ホ、ロン、メチル−〇−アミルケトン
、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シクロ
ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソボロン、2
.4−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール、アセト
フェノン、フェンチョン等から運ばれるものである。よ
り好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等である。
CD−R′−rコ HIIz ] CD−R″、R−CO−R’、 R−CO−R′(ここ
で、R,R’、R”は炭素数1〜9の飽和又は不飽和炭
化水素基)のいずれかの−数式で示されるものが好まし
く、アセトン、メチルブチルケトン、2−ペンタノン、
3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチル−n−ブヂル
ケトン、メチルブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘ
プタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、
メチルペンタン、ホ、ロン、メチル−〇−アミルケトン
、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シクロ
ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソボロン、2
.4−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール、アセト
フェノン、フェンチョン等から運ばれるものである。よ
り好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等である。
塩素化炭化水素類としては、炭素数1〜2の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、1.2−ジクロロ
エタン、I、 1.lトリクロルエタン、1.1.2−
1−ジクロルエタン、I、 l、 1.2−テトラクロ
ルエタン、 1,1,2.2−テトラクロルエタン、ペ
ンタクロルエタン、1.1−ジクロルエチレン、1.2
−ジクロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロ
ルエチレン等から選ばれるものである。より好ましくは
塩化メチレン、1.1.1−1−リフ凸ルエタン、 ト
リクロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、1.2−ジクロロ
エタン、I、 1.lトリクロルエタン、1.1.2−
1−ジクロルエタン、I、 l、 1.2−テトラクロ
ルエタン、 1,1,2.2−テトラクロルエタン、ペ
ンタクロルエタン、1.1−ジクロルエチレン、1.2
−ジクロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロ
ルエチレン等から選ばれるものである。より好ましくは
塩化メチレン、1.1.1−1−リフ凸ルエタン、 ト
リクロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。
エステル類としては、次の一般式で示されるものが好ま
しく 、 R,−COO−R,、R+−a−Rs−Co
o−R4゜OR。
しく 、 R,−COO−R,、R+−a−Rs−Co
o−R4゜OR。
C0OR。
(ここでR,、R,、R,、R,、R,、R,は11又
は叶又は炭素数1〜19の飽和ないし、不飽和結合を有
する炭化水素基。) 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸5ec−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセ
テート、酢酸5ec−ヘキシル、2−エチルブチルアセ
テート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソペ
ンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イ
ソペンチル、イソ醋酸イソブチル、2−ヒドロキシ−2
−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エヂル
、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソペ
ンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エヂル、アビ
エチン酸ベンジ =ル、アジピン酸ビス−2−エチルヘ
キシル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ
酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバ
シン酸ジブチル、セバシン酸ビス−2−エチルヘキシル
、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブ
チル、フタル酸ビス−2−エチルヘキシル、フタル酸ジ
オクチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸
メチル、酢酸エチル等である。
は叶又は炭素数1〜19の飽和ないし、不飽和結合を有
する炭化水素基。) 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸5ec−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセ
テート、酢酸5ec−ヘキシル、2−エチルブチルアセ
テート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソペ
ンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イ
ソペンチル、イソ醋酸イソブチル、2−ヒドロキシ−2
−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エヂル
、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソペ
ンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エヂル、アビ
エチン酸ベンジ =ル、アジピン酸ビス−2−エチルヘ
キシル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ
酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバ
シン酸ジブチル、セバシン酸ビス−2−エチルヘキシル
、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブ
チル、フタル酸ビス−2−エチルヘキシル、フタル酸ジ
オクチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸
メチル、酢酸エチル等である。
本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の洗浄助剤、水、界
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素ズnをさらに添加
混合してもよい。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、ス
プレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採
用することができる。
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素ズnをさらに添加
混合してもよい。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、ス
プレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採
用することができる。
[実施例]
更施例1〜8
下記第1表に示すバフ研磨洗浄剤を用いて研磨剤の除去
試験を行なった。
試験を行なった。
腕時計のフレームをバフ研磨剤(GS−1,創研工業■
製)で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、3分間超音波
をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察し
た。その結果を第1表に示す。
製)で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、3分間超音波
をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察し
た。その結果を第1表に示す。
第1表
()内は混合比[重量%]
0:良好に除去できる △:少量残存
×:かなり残存
[発明の効果]
本発明のバフ研磨洗浄剤は実施例から明らかなように研
磨剤の除去効果の優れたものであC0又、従来使用され
ていたI、 1.ll−リクロルエタンに比べ、金属、
プラスチック及びエラストマー等から成る研磨剤を除去
すべき物品に悪影響を与えることが少ない点で有利であ
る。
磨剤の除去効果の優れたものであC0又、従来使用され
ていたI、 1.ll−リクロルエタンに比べ、金属、
プラスチック及びエラストマー等から成る研磨剤を除去
すべき物品に悪影響を与えることが少ない点で有利であ
る。
Claims (2)
- (1)トリクロロジフルオロエタンを有効成分として含
有するバフ研磨洗浄剤。 - (2)バフ研磨洗浄剤中には、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
ばれる少なくとも1種が含まれている特許請求の範囲第
1項記載のバフ研磨洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28844687A JPH01129986A (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | バフ研磨洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28844687A JPH01129986A (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | バフ研磨洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129986A true JPH01129986A (ja) | 1989-05-23 |
Family
ID=17730315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28844687A Pending JPH01129986A (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | バフ研磨洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01129986A (ja) |
-
1987
- 1987-11-17 JP JP28844687A patent/JPH01129986A/ja active Pending
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