JPH01130785A - オゾン水殺菌装置 - Google Patents
オゾン水殺菌装置Info
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- JPH01130785A JPH01130785A JP28954087A JP28954087A JPH01130785A JP H01130785 A JPH01130785 A JP H01130785A JP 28954087 A JP28954087 A JP 28954087A JP 28954087 A JP28954087 A JP 28954087A JP H01130785 A JPH01130785 A JP H01130785A
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- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 44
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 42
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Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、オゾン水殺菌装置に関する
もので、詳しくは、バイオ、食品工業、医療分野等にお
いて、研究よまたは衛生上必要となる細菌類の殺菌を行
なうためのオゾン水殺菌装置に関するものである。
いて、研究よまたは衛生上必要となる細菌類の殺菌を行
なうためのオゾン水殺菌装置に関するものである。
従来の技術
従来は、高濃度のオゾン水を作る場合
には、オゾン発生器からの高濃度のオゾンガスを水槽の
水中に吹込んでいた。
水中に吹込んでいた。
発明が解決しようとする問題点
水は低温度程、オゾンを多量に溶解す
る性質を有するが、前述のように、従来は、高濃度のオ
ゾン水を作る場合には、高濃度のオゾンガスを水中に吹
込んでいたので、高濃度のオゾンガスを発生させるため
のオゾン発生器の製作費用および運転費用等が増加する
という問題点があった。また殺菌効果は、水中のオゾン
が酸素に分解し、活性化された酸素原子を作ることでな
されるが、この酸素への分解は高温になる程、多くなる
。しかし、従来は、温度調整をしないので、排水中のオ
ゾン濃度が高く、その分解処理費用が多くなるという問
題点があった。
ゾン水を作る場合には、高濃度のオゾンガスを水中に吹
込んでいたので、高濃度のオゾンガスを発生させるため
のオゾン発生器の製作費用および運転費用等が増加する
という問題点があった。また殺菌効果は、水中のオゾン
が酸素に分解し、活性化された酸素原子を作ることでな
されるが、この酸素への分解は高温になる程、多くなる
。しかし、従来は、温度調整をしないので、排水中のオ
ゾン濃度が高く、その分解処理費用が多くなるという問
題点があった。
本発明は、このような問題点を解決し
ようとするものである。
問題点を解決するだめの手段
内部に冷却器を有してオゾン発生器か
らのオゾンガスを溶解してオゾン水とする冷却水槽と、
内部に加熱器を有して前記冷却水槽からのオゾン水を加
温して殺菌水とする加熱水槽と、冷却側で前記冷却水槽
の冷却器を冷却するとともに放熱側で前記加熱水槽の加
熱器を加熱するヒートポンプ式の冷凍機とを備えたもの
とした。
内部に加熱器を有して前記冷却水槽からのオゾン水を加
温して殺菌水とする加熱水槽と、冷却側で前記冷却水槽
の冷却器を冷却するとともに放熱側で前記加熱水槽の加
熱器を加熱するヒートポンプ式の冷凍機とを備えたもの
とした。
作用
本発明によれば、オゾン水を作る冷却
水槽には冷却器が設けられており、また殺菌用水を作る
加熱水槽には加熱器が設けられているので、まず、冷却
水槽でオゾンガスを溶解させる水の温度を下げて溶解度
を上げることができ、つぎに、加熱水槽でこのオゾン水
の温度を上げて殺菌効果を高めることができる。また前
記冷却水槽の冷却器の冷却および前記加熱水槽の加熱器
の加熱を、それぞれヒートポンプ式の冷凍機の冷却側と
放熱側で行なうので、冷熱源および加熱源を一つの冷凍
機で行なうことができる。
加熱水槽には加熱器が設けられているので、まず、冷却
水槽でオゾンガスを溶解させる水の温度を下げて溶解度
を上げることができ、つぎに、加熱水槽でこのオゾン水
の温度を上げて殺菌効果を高めることができる。また前
記冷却水槽の冷却器の冷却および前記加熱水槽の加熱器
の加熱を、それぞれヒートポンプ式の冷凍機の冷却側と
放熱側で行なうので、冷熱源および加熱源を一つの冷凍
機で行なうことができる。
実施例
図面は本発明の一実施例を示している。
図において、１は冷却水槽、２は該冷却水槽１の内部に
設けられた冷却器、３は該冷却水槽１の水を循環させる
循環ポンプ、４ はエジェクタ、５は加熱水槽、６は該
加熱水槽５の内部に設けられた加熱器、７と８はオゾン
分解器、９は冷却側で前記冷却器２′ｆ：冷却するとと
もに放熱側で前記加熱器６を加熱するヒートポンプ式の
冷凍機、１０はオゾン発生器、 １１は給水管、１２は排水管、１３は排気管である。
設けられた冷却器、３は該冷却水槽１の水を循環させる
循環ポンプ、４ はエジェクタ、５は加熱水槽、６は該
加熱水槽５の内部に設けられた加熱器、７と８はオゾン
分解器、９は冷却側で前記冷却器２′ｆ：冷却するとと
もに放熱側で前記加熱器６を加熱するヒートポンプ式の
冷凍機、１０はオゾン発生器、 １１は給水管、１２は排水管、１３は排気管である。
図に示すように構成されたオゾン水殺
菌装置においては、冷却水槽ｌへ供給された水は冷却器
２で所定の温度まで冷却される。循環ポンプ３は冷却水
槽ｌの水を吸入して循環させるが、この循環ポンプ３の
吐出側には２つのエジェクタ４が設けられており、まず
、冷却水槽ｌの未溶解オゾン混合気を吸入し、さらに、
オゾン発生器１０からのオゾン混合気を吸入して溶解さ
せる。
２で所定の温度まで冷却される。循環ポンプ３は冷却水
槽ｌの水を吸入して循環させるが、この循環ポンプ３の
吐出側には２つのエジェクタ４が設けられており、まず
、冷却水槽ｌの未溶解オゾン混合気を吸入し、さらに、
オゾン発生器１０からのオゾン混合気を吸入して溶解さ
せる。
そして、冷却水槽ｌで冷却されてオシ
／ガスを溶解したオゾン水は加熱水槽５に送られ、ここ
で、所定の温度まで加熱されて殺菌用水となり、殺菌に
用いられる。
で、所定の温度まで加熱されて殺菌用水となり、殺菌に
用いられる。
前記冷却水槽１および加熱水槽５の気 □相部のオゾン
混合気はオゾン分解器７でオゾンを分解処理して排気管
１３から排気される。また加熱水槽５の排水も同様にオ
ゾン分解器８で処理されたのちに排水管１２から排水さ
れる。
混合気はオゾン分解器７でオゾンを分解処理して排気管
１３から排気される。また加熱水槽５の排水も同様にオ
ゾン分解器８で処理されたのちに排水管１２から排水さ
れる。
前記冷凍機９はヒートポンプとして作
用をする。すなわち、冷却側で冷却器２を冷却し、放熱
側で加熱器６を加熱する。
側で加熱器６を加熱する。
さらに説明すると、オゾン発生器１０
はそのエネルギー効率が低く、現状では１０％程度とい
われている。また高濃度オゾンの発生も、技術的に困難
で、最高１重量％程度のものが多い。またオゾンが水に
溶解する量は、圧力、温度、オゾン濃度により影響を受
ける。圧力を一定とすると、ヘンリーの法則により、水
への溶解量は、気体中のオゾン濃度に比例するとともに
、水温を低くすると増加する。
われている。また高濃度オゾンの発生も、技術的に困難
で、最高１重量％程度のものが多い。またオゾンが水に
溶解する量は、圧力、温度、オゾン濃度により影響を受
ける。圧力を一定とすると、ヘンリーの法則により、水
への溶解量は、気体中のオゾン濃度に比例するとともに
、水温を低くすると増加する。
たとえば、気体体積１リットル当り空
気中１ミリグラムのオゾン濃度では、水中平衡濃度は第
１表のとおりである。
１表のとおりである。
第 １ 表
第１表にみられるように、水温が５°Ｃでは、３０°Ｃ
の２倍のオゾンを溶解できることになる。
の２倍のオゾンを溶解できることになる。
一方、水温を高くすると、オゾンは自
己分解速度が増大して、
０３→ｏ２＋。
の反応が促進されるが、この過程で発生するＯ（酸素原
子）が強力な酸化・殺菌作用を示す。
子）が強力な酸化・殺菌作用を示す。
すなわち、低濃度のオゾン発生器１０
でも、冷却水槽ｌの水を冷却することによって、高温度
のオゾン水が作られ、また加熱水槽５でオゾン水を加熱
して温度を上げることにより、殺菌用水の酸化・殺菌力
を高めることが可能である。
のオゾン水が作られ、また加熱水槽５でオゾン水を加熱
して温度を上げることにより、殺菌用水の酸化・殺菌力
を高めることが可能である。
発明の詳細
な説明したように、本発明によれば、
冷却水槽の水を最適な温度に下げることができてオゾン
ガスの溶解度を上げることができ、かつ、加熱水槽のオ
ゾン水を最適な温度に上げて殺菌効果を高めることがで
きるので、オゾン発生器を性能のよい高価なものとしな
くてもよく、また通常の運転でもよいため、経済的にき
わめて有利である。また前記冷却水槽の冷却と加熱水槽
の加熱を、それぞれヒートポンプ式の冷凍機の冷却側と
放熱側で行なうので、冷熱源と加熱源を一つの冷凍機で
行なうことができて経済的である。
ガスの溶解度を上げることができ、かつ、加熱水槽のオ
ゾン水を最適な温度に上げて殺菌効果を高めることがで
きるので、オゾン発生器を性能のよい高価なものとしな
くてもよく、また通常の運転でもよいため、経済的にき
わめて有利である。また前記冷却水槽の冷却と加熱水槽
の加熱を、それぞれヒートポンプ式の冷凍機の冷却側と
放熱側で行なうので、冷熱源と加熱源を一つの冷凍機で
行なうことができて経済的である。
なお使用目的に応じて、冷却のみでの高濃度オゾン水の
製造または加熱のみで殺菌効果を高めることも、温度制
御により、゛容易に実現することが可能である。
製造または加熱のみで殺菌効果を高めることも、温度制
御により、゛容易に実現することが可能である。
図は本発明の一実施例を示した説明図
である。
１・・・冷却水槽、２・・・冷却器、
５・・・加熱水槽、６・・・加熱器、９・・・冷凍機、
１０・・・オゾン発生器。
１０・・・オゾン発生器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、内部に冷却器を有してオゾン発生器 からのオゾンガスを溶解してオゾン水と する冷却水槽と、内部に加熱器を有して 前記冷却水槽からのオゾン水を加温して 殺菌用水とする加熱水槽と、冷却側で前 記冷却水槽の冷却器を冷却するとともに 放熱側で前記加熱水槽の加熱器を加熱す るヒートポンプ式の冷凍機とを備えてい ることを特徴とする、オゾン水殺菌装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28954087A JPH01130785A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | オゾン水殺菌装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28954087A JPH01130785A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | オゾン水殺菌装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01130785A true JPH01130785A (ja) | 1989-05-23 |
Family
ID=17744565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28954087A Pending JPH01130785A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | オゾン水殺菌装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01130785A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0372993A (ja) * | 1989-08-10 | 1991-03-28 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン水製造装置 |
| JPH0338198U (ja) * | 1989-08-24 | 1991-04-12 | ||
| US5971368A (en) * | 1997-10-29 | 1999-10-26 | Fsi International, Inc. | System to increase the quantity of dissolved gas in a liquid and to maintain the increased quantity of dissolved gas in the liquid until utilized |
| JP2001079376A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-27 | Kurita Water Ind Ltd | ガス溶解水の調製方法 |
| US6235641B1 (en) | 1998-10-30 | 2001-05-22 | Fsi International Inc. | Method and system to control the concentration of dissolved gas in a liquid |
| US6274506B1 (en) | 1999-05-14 | 2001-08-14 | Fsi International, Inc. | Apparatus and method for dispensing processing fluid toward a substrate surface |
| US6406551B1 (en) | 1999-05-14 | 2002-06-18 | Fsi International, Inc. | Method for treating a substrate with heat sensitive agents |
| JP2003512736A (ja) * | 1999-10-19 | 2003-04-02 | フィファー・スミス・コーポレーション | オゾン−溶媒溶液を用いた基体の処理方法及び処理装置 |
| WO2020008884A1 (ja) * | 2018-07-06 | 2020-01-09 | 栗田工業株式会社 | 逆浸透処理方法及びシステム |
| KR102235746B1 (ko) * | 2020-09-14 | 2021-04-02 | 주식회사 목간 | 공기정화장치 |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP28954087A patent/JPH01130785A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0372993A (ja) * | 1989-08-10 | 1991-03-28 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン水製造装置 |
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| US6648307B2 (en) | 1997-10-29 | 2003-11-18 | Fsi International, Inc. | Method to increase the quantity of dissolved gas in a liquid and to maintain the increased quantity of dissolved gas in the liquid until utilized |
| US6488271B1 (en) * | 1997-10-29 | 2002-12-03 | Fsi International, Inc. | Method to increase the quantity of dissolved gas in a liquid and to maintain the increased quantity of dissolved gas in the liquid until utilized |
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| US6406551B1 (en) | 1999-05-14 | 2002-06-18 | Fsi International, Inc. | Method for treating a substrate with heat sensitive agents |
| US6274506B1 (en) | 1999-05-14 | 2001-08-14 | Fsi International, Inc. | Apparatus and method for dispensing processing fluid toward a substrate surface |
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| WO2020008884A1 (ja) * | 2018-07-06 | 2020-01-09 | 栗田工業株式会社 | 逆浸透処理方法及びシステム |
| JPWO2020008884A1 (ja) * | 2018-07-06 | 2020-07-09 | 栗田工業株式会社 | 逆浸透処理方法及びシステム |
| KR102235746B1 (ko) * | 2020-09-14 | 2021-04-02 | 주식회사 목간 | 공기정화장치 |
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