JPH01130977A - 直接陰画の形成方法 - Google Patents
直接陰画の形成方法Info
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- JPH01130977A JPH01130977A JP63232783A JP23278388A JPH01130977A JP H01130977 A JPH01130977 A JP H01130977A JP 63232783 A JP63232783 A JP 63232783A JP 23278388 A JP23278388 A JP 23278388A JP H01130977 A JPH01130977 A JP H01130977A
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- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/382—Contact thermal transfer or sublimation processes
- B41M5/3825—Electric current carrying heat transfer sheets
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
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- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ、産業上の利用分野
本発明は印刷方法に係り、詳しくは、熱転写用抵抗性リ
ボンを応用して直接陰画を製造する方法に関する。
ボンを応用して直接陰画を製造する方法に関する。
Ｂ、従来の技術
抵抗性リボンの材料を熱的に転写する印刷方法及び電子
的腐食即ち放電式印刷方法が両方とも、コンピュータの
端末装置や、タイプライタに使われる型式において、特
に高い分解能と、良質の印刷を与えるということは、こ
の分野では公知である。抵抗性リボンの熱転写印刷は、
薄いリボンが使われる熱転写印刷の型式である。その抵
抗性リボンは、一般に、支持層と、受容媒体（紙など）
に接触される可溶性のインキの層と、電気的な抵抗性を
持つ材料の層とを含んで３層、または４層で構成されて
いる。既知の改良型においては、別個の支持層を必要と
しないように、抵抗性の層を支持層となるのて十分な厚
さにしている。また、必要に応じて、薄い電気的な導電
層が、電流の帰路として与えられる。
的腐食即ち放電式印刷方法が両方とも、コンピュータの
端末装置や、タイプライタに使われる型式において、特
に高い分解能と、良質の印刷を与えるということは、こ
の分野では公知である。抵抗性リボンの熱転写印刷は、
薄いリボンが使われる熱転写印刷の型式である。その抵
抗性リボンは、一般に、支持層と、受容媒体（紙など）
に接触される可溶性のインキの層と、電気的な抵抗性を
持つ材料の層とを含んで３層、または４層で構成されて
いる。既知の改良型においては、別個の支持層を必要と
しないように、抵抗性の層を支持層となるのて十分な厚
さにしている。また、必要に応じて、薄い電気的な導電
層が、電流の帰路として与えられる。
溶融しつるインキ層から受容体（紙等）へインキを転写
するために、インキ層は受容体の表面に接触される。ま
た、抵抗性リボンは電源に接続されており、プリントさ
れるべき受容体の面と反対の点に位置する薄いプリント
用電極針と選択的に接触する。薄いプリント用電極針を
通じて電流が印加されたとき、電流は抵抗性層を流れて
、抵抗による局部的な加熱が生じ、この熱により、溶融
可能なインキ層中の少量のインキを溶融する。この溶融
したインキは、印刷を行うために、受容体へ転写される
。抵抗性リボンによる熱転写印刷は、米国特許第３７４
４６１１号、同第４０９８１１７号、同第４４００１０
０号、同第４４９１４３１号、及び同第４４９１４３２
号に記載されている。
するために、インキ層は受容体の表面に接触される。ま
た、抵抗性リボンは電源に接続されており、プリントさ
れるべき受容体の面と反対の点に位置する薄いプリント
用電極針と選択的に接触する。薄いプリント用電極針を
通じて電流が印加されたとき、電流は抵抗性層を流れて
、抵抗による局部的な加熱が生じ、この熱により、溶融
可能なインキ層中の少量のインキを溶融する。この溶融
したインキは、印刷を行うために、受容体へ転写される
。抵抗性リボンによる熱転写印刷は、米国特許第３７４
４６１１号、同第４０９８１１７号、同第４４００１０
０号、同第４４９１４３１号、及び同第４４９１４３２
号に記載されている。
抵抗性リボンに使用される材料はこの分野では広く知ら
れている材料である。例えば、抵抗性層は、通常、炭素
、即ちポリカーボネートのような黒鉛を混合したポリマ
が使われる。電流帰還用の薄い層は、アルミニウムのよ
うな金属である。熱により溶融するインキは、染料を含
んだ種々の樹脂で構成され、通常は、約１００℃で溶融
する。
れている材料である。例えば、抵抗性層は、通常、炭素
、即ちポリカーボネートのような黒鉛を混合したポリマ
が使われる。電流帰還用の薄い層は、アルミニウムのよ
うな金属である。熱により溶融するインキは、染料を含
んだ種々の樹脂で構成され、通常は、約１００℃で溶融
する。
ｒＱＵＩ ＥＴＷＲＩ ＴＥＲ（商標）」の名称でＩＢ
Ｍ社から市販している現在のプリンタでは、約２０乃至
３０ミリアンペアの電流が使われている。
Ｍ社から市販している現在のプリンタでは、約２０乃至
３０ミリアンペアの電流が使われている。
前出のＱＵＩＥＴＷＲＩＴＥＲというタイプライタ−は
インクを印刷された紙からリボンに移すことによる訂正
機能を有している。リボンの未使用部分が訂正しようと
する像の上に配置される。次に印刷ヘッドがあたかも訂
正しようとする文字に重ねて印刷するようにリボンの上
て移動する。訂正ローラが導入されて紙からリボンを剥
すのを遅らせる。こうして、剥離を行う前にリボンと訂
正しようとする像との間の結合力を強（させる。
インクを印刷された紙からリボンに移すことによる訂正
機能を有している。リボンの未使用部分が訂正しようと
する像の上に配置される。次に印刷ヘッドがあたかも訂
正しようとする文字に重ねて印刷するようにリボンの上
て移動する。訂正ローラが導入されて紙からリボンを剥
すのを遅らせる。こうして、剥離を行う前にリボンと訂
正しようとする像との間の結合力を強（させる。
また、放電印刷も、公知技術であって、米国特許第２９
８３２２１号、同第３７８６５１８号、同第３８７Ｓ１
９５２号、同第４５５９７５８号及び同第４０８６８５
３号などに記載されている。
８３２２１号、同第３７８６５１８号、同第３８７Ｓ１
９５２号、同第４５５９７５８号及び同第４０８６８５
３号などに記載されている。
放電印刷は直接オフセット原版及び直接陰画を作成する
のに適した技術として知られている。一般に、放電記録
媒体は支持層及び薄い導電層とから成っている。支持層
は例えば紙、Ｍｙｌａｒ（商標）等のポリエステルであ
り、薄い導電層はＡｌのような金属である。印刷するた
めには、薄いＡ１層部分が電気アークによって除去され
ることになる。
のに適した技術として知られている。一般に、放電記録
媒体は支持層及び薄い導電層とから成っている。支持層
は例えば紙、Ｍｙｌａｒ（商標）等のポリエステルであ
り、薄い導電層はＡｌのような金属である。印刷するた
めには、薄いＡ１層部分が電気アークによって除去され
ることになる。
このため、印刷ヘッドは複数のスタイラス（針）を含ん
でおり、このスタイラスは典型的には直径０．３から０
，５ミル（約０．００７６から約０．０１３ｍｍ）のタ
ングステンのワイヤである。この印刷ヘッドは放電媒体
上を横切り、この間、スタイラスの先端と薄いＡｌとの
間の良好な電気的接触が保たれるようになっている。一
定の領域を印刷しようとするときには、パルスが適正な
時間だけ適当なスタイラスに印加され、スタイラスと１
１層との間にアークが生じる。このアークは例えば蒸発
のような分解によってＡｊｌｌの局所的な除去を生じさ
せるのに十分な高温である。
でおり、このスタイラスは典型的には直径０．３から０
，５ミル（約０．００７６から約０．０１３ｍｍ）のタ
ングステンのワイヤである。この印刷ヘッドは放電媒体
上を横切り、この間、スタイラスの先端と薄いＡｌとの
間の良好な電気的接触が保たれるようになっている。一
定の領域を印刷しようとするときには、パルスが適正な
時間だけ適当なスタイラスに印加され、スタイラスと１
１層との間にアークが生じる。このアークは例えば蒸発
のような分解によってＡｊｌｌの局所的な除去を生じさ
せるのに十分な高温である。
実用的な放電媒体は支持基板と薄いＡＡ層との間に基礎
層を必要とし、また、薄いＡ７層の上には表面層（オー
バーレイヤー）を必要とする。基礎層と表面層はアーク
が印加されない部分の１１層が崩されるのを防止するた
めに用いられ、また、ヘッドの摩耗と汚れを低減させる
。典型的には基礎層は例えば架橋した繊維素結合剤中の
シリカのような適当な結合剤中に埋め込まれた硬質粒子
を含む硬質層であり、表面層は例えば繊維素中のグラフ
ァイトのような固体潤滑剤を含むポリマーから成る滑ら
か保護用表面層である。
層を必要とし、また、薄いＡ７層の上には表面層（オー
バーレイヤー）を必要とする。基礎層と表面層はアーク
が印加されない部分の１１層が崩されるのを防止するた
めに用いられ、また、ヘッドの摩耗と汚れを低減させる
。典型的には基礎層は例えば架橋した繊維素結合剤中の
シリカのような適当な結合剤中に埋め込まれた硬質粒子
を含む硬質層であり、表面層は例えば繊維素中のグラフ
ァイトのような固体潤滑剤を含むポリマーから成る滑ら
か保護用表面層である。
放電媒体の種々の層の性質によって、直接オフセット原
版及び直接陰画を形成することができる。
版及び直接陰画を形成することができる。
例えば、直接陰画は透明なポリマー支持層及びこの支持
層上に直接堆積された薄いＡ１層によって形成できる。
層上に直接堆積された薄いＡ１層によって形成できる。
放電書込みを行うとＡ１層がパターン化される。Ａ１層
は光を反射するが基板は透明であるので、放電書込みに
よって陰画形成に必要な光年透明領域及び光透明領域が
形成される。放電書込みされた陰画はオフセット・リソ
グラフィで用いられるような原版を作るのに用いられる
版作製機械に用いられ得る。原版は放電書込みされた陰
画を用いた接触印刷によって作製される。
は光を反射するが基板は透明であるので、放電書込みに
よって陰画形成に必要な光年透明領域及び光透明領域が
形成される。放電書込みされた陰画はオフセット・リソ
グラフィで用いられるような原版を作るのに用いられる
版作製機械に用いられ得る。原版は放電書込みされた陰
画を用いた接触印刷によって作製される。
直接印刷原版は処理を簡単化するために、放電技法によ
って行われ、これにより、通常のオフセット・リングラ
フ印刷所で、マスク・プレート、即ち印刷原版が作られ
る。そのような構成において、放電記録媒体の代表例は
、支持層と、疎水性の基礎層と、１１層と、必要であれ
ば表面層とで構成されている。Ａ１層が放電破壊され、
そして表面層が除去されたとき、ＡＡ層の領域（非書き
込み領域）と、基礎層（書き込み層）の領域が露光され
る。１１層は親水性だから、Ａｌを有する非書き込み領
域は水で濡れるが、有機質のインキをはじ（。疎水性の
基礎層で構成されている記録媒体の書き込み領域は、水
ははじくが、有機質のインキは付着する。印刷される情
報は、水と、インキの表面親和性の条件に従って、印刷
原版上に良好に描かれるので、直接印刷原版が作られる
。
って行われ、これにより、通常のオフセット・リングラ
フ印刷所で、マスク・プレート、即ち印刷原版が作られ
る。そのような構成において、放電記録媒体の代表例は
、支持層と、疎水性の基礎層と、１１層と、必要であれ
ば表面層とで構成されている。Ａ１層が放電破壊され、
そして表面層が除去されたとき、ＡＡ層の領域（非書き
込み領域）と、基礎層（書き込み層）の領域が露光され
る。１１層は親水性だから、Ａｌを有する非書き込み領
域は水で濡れるが、有機質のインキをはじ（。疎水性の
基礎層で構成されている記録媒体の書き込み領域は、水
ははじくが、有機質のインキは付着する。印刷される情
報は、水と、インキの表面親和性の条件に従って、印刷
原版上に良好に描かれるので、直接印刷原版が作られる
。
不所望の領域の１１層の崩れの問題が無ければ、基板−
１１層の組合せそれ自身が、直接印刷原版及び直接陰画
のアプリケーションに使うことが出来る。直接陰画に対
して、透明なポリマのシート、代表的にはポリエステル
を、基板として使用することが出来る。ＩＩは光を反射
するのに反して、ポリマのシートは透明なので、直接陰
画を得ることが出来る。また、Ａｌは親水性であり、ポ
リエステルは疎水性なので、理論的ては、直接印刷原版
も作ることが出来る。
１１層の組合せそれ自身が、直接印刷原版及び直接陰画
のアプリケーションに使うことが出来る。直接陰画に対
して、透明なポリマのシート、代表的にはポリエステル
を、基板として使用することが出来る。ＩＩは光を反射
するのに反して、ポリマのシートは透明なので、直接陰
画を得ることが出来る。また、Ａｌは親水性であり、ポ
リエステルは疎水性なので、理論的ては、直接印刷原版
も作ることが出来る。
従来、放電破壊は、リングラフ用印刷原版を作るのに用
いられるが、感光性原板を作るために幾つもの化学的処
理を用いて、通常の印刷原版を作ったときは、実用的な
寿命は長くない。
いられるが、感光性原板を作るために幾つもの化学的処
理を用いて、通常の印刷原版を作ったときは、実用的な
寿命は長くない。
総じて、従来技術には、エネルギー作用（放電作用）を
用い且つ商業的に入手可能な装置を用いた処理に適した
機器を用いての、直接陰画を形成する方法は示されてい
ない。
用い且つ商業的に入手可能な装置を用いた処理に適した
機器を用いての、直接陰画を形成する方法は示されてい
ない。
Ｃ０発明が解決しようとする問題点
本発明の目的は直接陰画を形成する新しい方法を提供す
ることである。
ることである。
本発明の目的は抵抗性リボンを応用して直接陰画を形成
する新しい方法を提供することである。
する新しい方法を提供することである。
本発明の目的は放電処理の必要や標準的な陰画印刷板の
作製の必要のないような直接陰画を形成する新しい方法
を提供することである。
作製の必要のないような直接陰画を形成する新しい方法
を提供することである。
本発明の目的は低いレベルの電気的エネルギーが用いら
れて直接陰画の形成が効果的に行なわれるような新しい
方法を提供することである。
れて直接陰画の形成が効果的に行なわれるような新しい
方法を提供することである。
本発明の目的は工夫された抵抗性リボン熱転写物質及び
処理の利用を通じて優れた解像度の直接陰画形成方法を
提供することである。
処理の利用を通じて優れた解像度の直接陰画形成方法を
提供することである。
本発明の目的はオフセット・リソグラフィで用いられる
原版の作製に利用できるような直接陰画の形成方法を提
供することである。
原版の作製に利用できるような直接陰画の形成方法を提
供することである。
Ｄ０問題点を解決するだめの手段
本発明は透明支持基板上に直接陰画を形成する方法であ
って、この直接陰画形成方法は、抵抗性リボンの抵抗性
層に接触するように配置された複数スタイラスを有する
記録ヘッド中の選択されたスタイラス中に電流パルスを
印加して直接陰画を形成する。
って、この直接陰画形成方法は、抵抗性リボンの抵抗性
層に接触するように配置された複数スタイラスを有する
記録ヘッド中の選択されたスタイラス中に電流パルスを
印加して直接陰画を形成する。
本発明で用いる抵抗性リボンは抵抗性層とその上のイン
ク受容導電性層から成るインク受容媒体であり、前記イ
ンク受容導電性層を陰画準備版の不透明熱軟化性インク
層に接触させる。陰画準備版は前記不透明熱軟化性イン
ク層とこのインク層を支持する透明支持基板とから成る
。前記抵抗性層の抵抗熱によりインク受容導電性層が加
熱され、この加熱されたインク受容導電性層に接触する
不透明熱軟化性インク層は熱によって軟化され、透明支
持基板から剥されてインク受容導電層に移される。この
ようにして、前記透明支持基板に透明領域と不透明領域
とが形成され、これが直接陰画として利用できる。
ク受容導電性層から成るインク受容媒体であり、前記イ
ンク受容導電性層を陰画準備版の不透明熱軟化性インク
層に接触させる。陰画準備版は前記不透明熱軟化性イン
ク層とこのインク層を支持する透明支持基板とから成る
。前記抵抗性層の抵抗熱によりインク受容導電性層が加
熱され、この加熱されたインク受容導電性層に接触する
不透明熱軟化性インク層は熱によって軟化され、透明支
持基板から剥されてインク受容導電層に移される。この
ようにして、前記透明支持基板に透明領域と不透明領域
とが形成され、これが直接陰画として利用できる。
一実施例では透明支持基板は熱可塑性不透明インクの層
を有している。また、インク受容導電性層は金属から形
成されている。また、抵抗性層は自己保持性を備えてい
る。
を有している。また、インク受容導電性層は金属から形
成されている。また、抵抗性層は自己保持性を備えてい
る。
Ｅ、実施例
本発明においては、抵抗性リボン印刷あるいは放電印刷
にて用いられるような複数スタイラス印刷ヘッドが用い
られ、前記スタイラスを用いてインク受容媒体の抵抗性
層中に局部的に電流が流される。
にて用いられるような複数スタイラス印刷ヘッドが用い
られ、前記スタイラスを用いてインク受容媒体の抵抗性
層中に局部的に電流が流される。
第１図において、インク受容媒体１０はインク受容導電
性層１４と抵抗性層１１とから成っている。電流を抵抗
性層１６に通じさせ、それによって抵抗性層１６を加熱
し、今度は抵抗性層１６がインク受容層１４を局部的に
加熱するようにするために、抵抗性リボン印刷用あるい
は放電印刷用の多数スタイラス印刷ヘッドが用いられる
。このような印刷ヘッドは既知であり、複数の印刷用ス
タイラス１８及び大型接点（接地）電極２ｏを有してい
る。印刷用スタイラス１８の選択されたスタイラス１８
に電流が与えられると、図中、矢印２２で表わされる電
流が抵抗性層１６及びインク受容導電性層１４を通じて
流れて矢印２４で表わされるように接地電極２ｏへ戻る
。印刷用スタイラス１８の近傍の抵抗性層１６の領域中
の電流密度が十分に高げれば、激しい抵抗熱が発生し、
抵抗性層１６の小領域２６が十分な熱を隣接するインク
受容導電性層１４の小領域３ｏへ伝達し、この小領域６
０で生じる熱が、第２図に示されるように、小領域６０
に接触する不透明熱軟化性層５４の小領域５６に伝えら
れ、小領域５６が溶融されあるいは十分に軟化され、小
領域６ｏはインク層１４の小領域５６を剥ぎ取ることに
なる。約２０から約５０ｍＡ、好ましくは約２０から約
３５ｍＡの電流密度が適している。電流パルスの間隔は
約１から約１００ ｍ５ｅｃ、である。
性層１４と抵抗性層１１とから成っている。電流を抵抗
性層１６に通じさせ、それによって抵抗性層１６を加熱
し、今度は抵抗性層１６がインク受容層１４を局部的に
加熱するようにするために、抵抗性リボン印刷用あるい
は放電印刷用の多数スタイラス印刷ヘッドが用いられる
。このような印刷ヘッドは既知であり、複数の印刷用ス
タイラス１８及び大型接点（接地）電極２ｏを有してい
る。印刷用スタイラス１８の選択されたスタイラス１８
に電流が与えられると、図中、矢印２２で表わされる電
流が抵抗性層１６及びインク受容導電性層１４を通じて
流れて矢印２４で表わされるように接地電極２ｏへ戻る
。印刷用スタイラス１８の近傍の抵抗性層１６の領域中
の電流密度が十分に高げれば、激しい抵抗熱が発生し、
抵抗性層１６の小領域２６が十分な熱を隣接するインク
受容導電性層１４の小領域３ｏへ伝達し、この小領域６
０で生じる熱が、第２図に示されるように、小領域６０
に接触する不透明熱軟化性層５４の小領域５６に伝えら
れ、小領域５６が溶融されあるいは十分に軟化され、小
領域６ｏはインク層１４の小領域５６を剥ぎ取ることに
なる。約２０から約５０ｍＡ、好ましくは約２０から約
３５ｍＡの電流密度が適している。電流パルスの間隔は
約１から約１００ ｍ５ｅｃ、である。
第２図において、小領域２６を温めるスタイラスに十分
に電流が通じられる間あるいはその直後に不透明インク
層５４はインク受容層１４に接触するように運び込まれ
、インク受容層１４に接触する小領域５６の温度が十分
に高くなって小領域５６の軟化あるいは溶融が生じ、イ
ンク受容層１４の領域３０上に不透明インク５４の領域
５６のインクが移される。
に電流が通じられる間あるいはその直後に不透明インク
層５４はインク受容層１４に接触するように運び込まれ
、インク受容層１４に接触する小領域５６の温度が十分
に高くなって小領域５６の軟化あるいは溶融が生じ、イ
ンク受容層１４の領域３０上に不透明インク５４の領域
５６のインクが移される。
不透明インク層５４から領域５６を除去すると透明支持
基板５２の上に透明領域５８が形成される。第３図に示
されるように、複数の所定の透明領域５８が基板５２上
に形成され、パターン化された陰画像が形成されて、陰
画準備版５ｏは陰画となる。
基板５２の上に透明領域５８が形成される。第３図に示
されるように、複数の所定の透明領域５８が基板５２上
に形成され、パターン化された陰画像が形成されて、陰
画準備版５ｏは陰画となる。
インク受容媒体１０は抵抗性層と導電性層とから成り前
記導電性層上に軟化性インク層が特に設けられていない
ような通常の熱転写用抵抗性リボンであってもよい。抵
抗性層１６の抵抗値は抵抗性印刷リボンの抵抗性層の抵
抗値と同程度であり、典型的には約２００から約１２０
０オーム／平方ミリである。抵抗性層１６の厚さはその
組成に依存する。というのは、抵抗性層１６は単に熱伝
達手段として機能するだけでなく、自己保持機能及びイ
ンク受容層１４の担持機能をも有さなげればならないか
らである。こうして、抵抗性層１６は内部的な結合の緊
密さを含む十分な物理的完全性を有するように選択され
、抵抗性リボン印刷機械に取付は可能なように連続リボ
ン状に形成される。
記導電性層上に軟化性インク層が特に設けられていない
ような通常の熱転写用抵抗性リボンであってもよい。抵
抗性層１６の抵抗値は抵抗性印刷リボンの抵抗性層の抵
抗値と同程度であり、典型的には約２００から約１２０
０オーム／平方ミリである。抵抗性層１６の厚さはその
組成に依存する。というのは、抵抗性層１６は単に熱伝
達手段として機能するだけでなく、自己保持機能及びイ
ンク受容層１４の担持機能をも有さなげればならないか
らである。こうして、抵抗性層１６は内部的な結合の緊
密さを含む十分な物理的完全性を有するように選択され
、抵抗性リボン印刷機械に取付は可能なように連続リボ
ン状に形成される。
更に、抵抗性層はその上に導電性層が形成されることに
伴う物理的及び化学的に過酷な条件に対しても耐えられ
るものでなければならない。この種の抵抗性層は既に如
られている。従来技術は内部支持機構のない抵抗性印刷
リボンを教示しているが、リボンを導電粒子が導入され
たポリマーから形成することができる。例えば、リボン
をポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリイミド
、ポリエステル、及び、これらにカーボン、グラファイ
ト、ニッケル粉末、グラファイト被覆されたニッケル、
雲母被覆されたニッケル等の導電性粒子を約１５から約
４０重量％導入したポリマーから形成できる。概して、
約１０から約６０マイクロメータの厚さの抵抗性層は柔
軟なリボンにとつて物理的な完全性を十分に備え、標準
的な抵抗性印刷機器用カートリッジに用いられ得るもの
である。また、支持層はポリエステル、ポリテトラフル
オロエチレン等を含んでいてもよく、厚さは通常約１ミ
クロンである。
伴う物理的及び化学的に過酷な条件に対しても耐えられ
るものでなければならない。この種の抵抗性層は既に如
られている。従来技術は内部支持機構のない抵抗性印刷
リボンを教示しているが、リボンを導電粒子が導入され
たポリマーから形成することができる。例えば、リボン
をポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリイミド
、ポリエステル、及び、これらにカーボン、グラファイ
ト、ニッケル粉末、グラファイト被覆されたニッケル、
雲母被覆されたニッケル等の導電性粒子を約１５から約
４０重量％導入したポリマーから形成できる。概して、
約１０から約６０マイクロメータの厚さの抵抗性層は柔
軟なリボンにとつて物理的な完全性を十分に備え、標準
的な抵抗性印刷機器用カートリッジに用いられ得るもの
である。また、支持層はポリエステル、ポリテトラフル
オロエチレン等を含んでいてもよく、厚さは通常約１ミ
クロンである。
インク受容導電性層は通常、アルミニウム、ニッケル、
クロム、銅、あるいは、これらの混合物、ステンレス鋼
等の金属であり、軟化されたインク層を引張って保持で
きるものであればどのようなものでもよい。好ましい厚
さは約２５０から約１゜５００Ａである。
クロム、銅、あるいは、これらの混合物、ステンレス鋼
等の金属であり、軟化されたインク層を引張って保持で
きるものであればどのようなものでもよい。好ましい厚
さは約２５０から約１゜５００Ａである。
典型的な通常の熱転写用抵抗性リボンは約１５から約１
８ミクロンの厚さの抵抗性層を有し、その上には金属導
電層としてのアルミニウムが約１００ナノメータの厚さ
まで蒸着され、その上には約５ミクロンの厚さの熱可塑
性インク層が被覆される。このインク層は本発明にとっ
てはなくともよい。熱可塑性インク層は接着力があるの
で、通常の熱転写用抵抗性リボンを用いることができる
。
８ミクロンの厚さの抵抗性層を有し、その上には金属導
電層としてのアルミニウムが約１００ナノメータの厚さ
まで蒸着され、その上には約５ミクロンの厚さの熱可塑
性インク層が被覆される。このインク層は本発明にとっ
てはなくともよい。熱可塑性インク層は接着力があるの
で、通常の熱転写用抵抗性リボンを用いることができる
。
インク受容表面は、陰画準備版の透明支持基板よりも軟
化されたインクの全厚さに対してより大きな親和力を有
している。
化されたインクの全厚さに対してより大きな親和力を有
している。
陰画準備版は、ポリエステルのようなプラスチックから
成る透明基板及びその上の熱可塑性インク層から成り、
そのインクは熱転写用抵抗性リボンの頂部層のインクと
同種のものであってもよい。
成る透明基板及びその上の熱可塑性インク層から成り、
そのインクは熱転写用抵抗性リボンの頂部層のインクと
同種のものであってもよい。
インク転写層（不透明熱軟化性インク層）は通常、ワッ
クス、熱可塑性樹脂、あるいはカーボン・ブラック染料
等の染料である。インクの組成の例は米国特許第４２６
８３６８号にも記載されている。
クス、熱可塑性樹脂、あるいはカーボン・ブラック染料
等の染料である。インクの組成の例は米国特許第４２６
８３６８号にも記載されている。
融点が約９０から約１００℃のポリイミドとカーボン・
ブラックとの混合物が適している。ポリイミドとしてＧ
ｅｎｅｒａｌ Ｍｉｌｌｓ社のバルサイミド９４０（
商標）を利用できる。約９．４ ｇのバルサイミド９４
０と約２６！９のカーボン・ブラックとの混合物をスプ
レィで透明のポリマー基板上に被覆させることができる
。
ブラックとの混合物が適している。ポリイミドとしてＧ
ｅｎｅｒａｌ Ｍｉｌｌｓ社のバルサイミド９４０（
商標）を利用できる。約９．４ ｇのバルサイミド９４
０と約２６！９のカーボン・ブラックとの混合物をスプ
レィで透明のポリマー基板上に被覆させることができる
。
透明支持基板の好ましい例は商業的に入手可能な厚さが
約８０から約１５０ミクロンのポリエチレン・テレフタ
レートを有するポリエステルのようなポリマー・フィル
ムである。というのは、商業的に入手可能なものでは、
抵抗性印刷あるいは放電印刷において取扱い易いように
なっているからである。インク層は可能な限り薄くても
よ（、約１から約５ミクロンであり、加熱された導電層
が接触されたときに透明支持基板から完全に取除かれる
ことが重要である。薄いインク層は透明支持基板上での
インクの横方向への拡がりを減らすので解像度が向上す
る。一実施例では非像領域と像領域との間では光学密度
は３．０から１．６に変化することが観察された。
約８０から約１５０ミクロンのポリエチレン・テレフタ
レートを有するポリエステルのようなポリマー・フィル
ムである。というのは、商業的に入手可能なものでは、
抵抗性印刷あるいは放電印刷において取扱い易いように
なっているからである。インク層は可能な限り薄くても
よ（、約１から約５ミクロンであり、加熱された導電層
が接触されたときに透明支持基板から完全に取除かれる
ことが重要である。薄いインク層は透明支持基板上での
インクの横方向への拡がりを減らすので解像度が向上す
る。一実施例では非像領域と像領域との間では光学密度
は３．０から１．６に変化することが観察された。
他の実施例では、インク除去層が透明支持体あるいは導
電層に設けられている。他の中間層が透明である限りイ
ンク層と透明層との間に形成されてもよい。更に、支持
基板の像領域に幾らかのインクが残っている場合には、
洗浄液が非像領域のインクまでも除去して所望のパター
ンを変えてしまうことがない限り、穏やかで迅速な洗浄
を行ってもよい。
電層に設けられている。他の中間層が透明である限りイ
ンク層と透明層との間に形成されてもよい。更に、支持
基板の像領域に幾らかのインクが残っている場合には、
洗浄液が非像領域のインクまでも除去して所望のパター
ンを変えてしまうことがない限り、穏やかで迅速な洗浄
を行ってもよい。
本発明から得られる直接陰画を原版製造装置に直接用い
てリソグラフィ用原版を作製することができる。
てリソグラフィ用原版を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による直接陰画の形成方法の一実施例に
用いられるインク受容媒体及びスタイラスを拡大して示
す断面図、 第２図は前記実施例においてインク受容媒体がインクを
剥ぎ取った状態を示す断面図、第６図は前記実施例によ
り形成された直接陰画を示す断面図である。 １０・・・・インク受容媒体（抵抗性リボン）、１４・
・・・インク受容導電層、１６・・・・抵抗性層、１８
・・・・スタイラス、２０・・・・接地用電極、５０・
・・・陰画準備版、５２・・・・透明支持基板、５４・
・・・不透明熱軟化性インク層、５８・・・・透明領域
。 出願人 インターナシサレ・ビジネス・マシーンズ・
コーポレーション代理人 弁理士 山 本
仁 朗（外１名）
用いられるインク受容媒体及びスタイラスを拡大して示
す断面図、 第２図は前記実施例においてインク受容媒体がインクを
剥ぎ取った状態を示す断面図、第６図は前記実施例によ
り形成された直接陰画を示す断面図である。 １０・・・・インク受容媒体（抵抗性リボン）、１４・
・・・インク受容導電層、１６・・・・抵抗性層、１８
・・・・スタイラス、２０・・・・接地用電極、５０・
・・・陰画準備版、５２・・・・透明支持基板、５４・
・・・不透明熱軟化性インク層、５８・・・・透明領域
。 出願人 インターナシサレ・ビジネス・マシーンズ・
コーポレーション代理人 弁理士 山 本
仁 朗（外１名）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 直接陰画を形成する方法であつて、 抵抗性層とその上の薄いインク受容導電性層から成るイ
ンク受容媒体の前記抵抗性層にスタイラスを接触させ、 前記スタイラスに電流を与えてスタイラスに接触する前
記抵抗性層に局部的に高い電流密度を与えて前記抵抗性
層に隣接する前記インク受容導電性層を抵抗加熱し、 透明支持基板とその上の薄い不透明熱軟化性インク層と
から成る陰画準備版の前記不透明熱軟化性インク層に抵
抗加熱された前記インク受容導電性層を接触させて前記
不透明熱軟化性インク層を局部的に前記インク受容導電
性層に移すことにより、前記不透明熱軟化性インク層が
除去されないで残つた部分である不透明領域と前記不透
明熱軟化性インク層が除去された部分である透明領域と
から成る直接陰画を形成する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US115227 | 1987-10-30 | ||
| US07/115,227 US4915519A (en) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | Direct negative from resistive ribbon |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01130977A true JPH01130977A (ja) | 1989-05-23 |
Family
ID=22360046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63232783A Pending JPH01130977A (ja) | 1987-10-30 | 1988-09-19 | 直接陰画の形成方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4915519A (ja) |
| EP (1) | EP0313886A3 (ja) |
| JP (1) | JPH01130977A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115366540A (zh) * | 2021-05-18 | 2022-11-22 | 精工爱普生株式会社 | 液体喷射头以及液体喷射装置 |
Families Citing this family (16)
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| US5436738A (en) * | 1992-01-22 | 1995-07-25 | Eastman Kodak Company | Three dimensional thermal internegative photographic printing apparatus and method |
| FR2694644B1 (fr) * | 1992-08-05 | 1994-09-23 | Kis France Sa | Procédé pour la réalisation de tampons d'impression et installation mettant en Óoeuvre ce procédé. |
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-
1987
- 1987-10-30 US US07/115,227 patent/US4915519A/en not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-09-19 JP JP63232783A patent/JPH01130977A/ja active Pending
- 1988-10-05 EP EP19880116452 patent/EP0313886A3/en not_active Withdrawn
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0313886A3 (en) | 1991-04-03 |
| US4915519A (en) | 1990-04-10 |
| EP0313886A2 (en) | 1989-05-03 |
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