JPH01131163A - イミダゾール系化合物及びそれらを含有する有害生物防除剤 - Google Patents
イミダゾール系化合物及びそれらを含有する有害生物防除剤Info
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- JPH01131163A JPH01131163A JP63057920A JP5792088A JPH01131163A JP H01131163 A JPH01131163 A JP H01131163A JP 63057920 A JP63057920 A JP 63057920A JP 5792088 A JP5792088 A JP 5792088A JP H01131163 A JPH01131163 A JP H01131163A
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
製造方法、それらの中間体及びそれらを有効成分として
含有する有害生物防除剤に関する。
、その化学構造と有害生物に対する活性とを詳細に検討
し、イミダゾール環の1位又は3位の窒素原子がスルホ
ニル基で結合し、更に2位の炭素原子がシアノ基、2−
チアゾリン−2−イル基又はチオカルバモイル基で結合
しているイミダゾール系化合物が有害生物防除剤として
有用であるとの知見を得て、本発明を完成した。
れる新規なイミダゾール系化合物である。
置換されてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェ
ニル基である)である〕であり、R,及び ′R1は水
素原子;ハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;チオシア
ナート基;トリメチルシ・リル基;゛置換されてもよい
アルキル基;置換されてもよいシクロアルキル基;置換
されてもよいアルケニル基;置換されてもよいアルキニ
ル基;置換されてもよいアルコキシ基;置換されてもよ
いフェノキシ基;置換されてもよいフェニル基:置換さ
れてもよいナフチル基;置換されてもよい5〜6員の芳
香族複素環基; −SO,Re基(Reは置換されて
もよいアルキル基;置換されてもよいシクロアル 。
よいアルキニル基;置換されてもよいフエ基(R9及び
R111はアルキル基である);又は置換されてもよい
ナフチル基であり、nは0〜2の整数である〕 ;又は
−C−(Wt)處R11基(Wtは酸素原子又は硫黄原
子であり、W2は酸素原子、硫黄原子又は−N11−で
あり、lは0〜1の整数であり、Roは置換されてもよ
いアルキル基;又は置換されてもよいフェニル基である
)であり、R4は置換されてもよいアルキル基;置換さ
れてもよいシクロアルキル基;置換されてもよいフェニ
ル基;置換されてもよいチエニル基;置換されてもよい
ぞれ水素原子;置換されてもよいアルキル基;又は置換
されてもよいアルケニル基であるか、又は互いに隣接し
ている窒素原子と共に5〜7員の飽和複素環を形成し、
但しRItとR11が同時に水素原子である場合を除(
、)であり、但しR2とR1が同時にハロゲン原子であ
る場合を除く)。
部分としては炭素数が1〜12のものであればよく、例
えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、sec −ブチル基、イソブチル
基、ter t−ブチル基、n −ペンチル基、n−ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル
基などが挙げられる。
ル基としては炭素数が3〜7のものであればよく、例え
ばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基などが挙げられる。R1、Ri
、Ra、RIt及びRt2に含まれるアルケニル基とし
ては、炭素数が2〜12のものであればよく、例えばア
リル基、ゲラニル基などが挙げられる* Rz + R
2及びR1に含まれるアルキニル基としては炭素数が2
〜12のものであればよく、例えば2−プロピニル基な
どが挙げられる。
芳香族複素環基としては、その環内に酸素原子、硫黄原
子及び窒素原子よりなる群から選ばれた少くとも1つの
へテロ原子を含むものであればよく例えば置換されても
よいチエニル基、°置換されてもよいフリル基、置換さ
れてもよいチアゾリル基、置換されてもよいピリジル基
°な、どが挙げられる。
s 1R+いRtz及びRt3で表わされる置換されて
もよいアルキル基; R1、R:+ 、、R4及びR。
z 、Ra 、Rs 、RIt及びRt3で表わされる
置換されてもよいアルケニル基;R1、R1及びR,で
表わされる置換されてもよいアルキニル基;並びにR,
及びR3で表わされる置換されてもよいアルコキシ基の
置換基としてはハロゲン原子;ハロゲン原子で置換され
てもよいアルコキシ基;ハロゲン原子で置換されてもよ
いアルキルチオ基;ハロゲン原子で置換されてもよいフ
ェニル基;ハロゲン原子で置換されてもよいアルキル基
で置換されたフェニル基;水酸基などが挙げられ、R2
、“R3、Ra 、Rs 、Ra 、Rt 、Rs及び
Roで表わされる置換されてもよいフェニル基;R2及
びR3で表わされる置換されてもよいフェノキシ基;R
8で表わされる置換されてもよいピリジル基; Rz
% Rs及びR8で表わされる置換されてもよいナフチ
ル基iR4で表わされる置換されてもよいチエニル基;
R4で表わされる置換されてもよいフリル基;並びにR
1及びR1で表わされる置換されてもよい5〜6員の芳
香族複素環基の置換基としては、ハロゲン原子;ニトロ
基;シアノ基;ハロゲン原子で置換されてもよいアルキ
ル基;アルコキシアルキル基;ハロゲン原子で置換され
でもよいアルコキシ基;ハロゲン原子で置換(R1,及
びR′1.は水素原子、ハロゲン原子で置換されてもよ
いアルキル基又はアルカノイル基である) ; −
3O,R,、基(R1,はハロゲン原子で置換されても
よいアルキル基であり、mは0〜2の整′数である)な
どが挙げられる。上記置換基の個数はθ〜5が望ましい
、前記R2〜R3及びR0〜R1&に含まれるハロゲン
原子としては、塩素原子、臭素原子、弗素原子、沃素原
子が挙げられる。前記R14〜R0及び後記R1?に含
まれるアルキル部分としては、前述のR8〜RI3に含
まれるアルキル部分と同様のものであればよい。
酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでもよい5〜7
員の飽和複素環を形成してもよく、例えばピペリジン環
、ピロリジン環、モルフォリン環、チオモルフォリン環
などが挙げられ・る。
、望ましい態様を下記する。
は水素原子又は−CR,基であり、R1はアルキル基で
ある)であり、より望ましくはシアノ基である。。
ロ基;シアノ基;アルキル基;ハロゲン原子で置換され
たアルキル基;ハロゲン原子で置換されてもよいアルコ
キシ基で置換されたアルキル基;フェニル基で置換され
たアルキル基;アルキル基で置換されたフェニル基で置
換されたアルキル基;ハロゲン原子で置゛換されたフェ
ニル基で置換されたアルキル基;水酸基で置換されたア
ルキル基;シクロアルキル基;ハロゲン原子で置換され
てもよむ)アルケニル基;ハロゲン原子で置換されても
よいアルコキシ基;フェニル基;ハロゲン原子で置換さ
れたフェニル基;ハロゲン原子で置換されてもよいアル
キル基で置換されたフェニル基;ハロゲン原子で置換さ
れでもよいアルコキシ基で置換されたフェニル基;チエ
ニル基;ハロゲン原・子で置換されたチエニル基;ピリ
ジル基;フリル基i −5(0)、R@基(R11はフ
ェニル基で置換されてもよいアルキル基;ハロゲン原子
で置換されてもよいフェニル基;ハロゲン原子で置換さ
れたアルキル基で置換されてもよいピリジル基;アルケ
ニル基は−C(Nil)悲R++ (Rzはハロゲン
原子で置換されてもよいアルキル基;又はハロゲン原子
で置換されてもよいフェニル基であり、lはO〜lの整
数である)であり、(但し、R2とR1が同時にハロゲ
ン原子である場合を除く)より望ましくはR1がアルキ
ル基;ハロゲン原子で置換されたアルキル基;ハロゲン
原子で置換すれてもよいフェニル基で置換されたアルキ
ル基:ハロゲン原子で置換されてもよいアルケニル基;
アルキルチオ基;フェニル基;又はハロゲン原子で置換
されたフェニル基であり、R3がハロゲン原子であり、
更により望ましくはRtがメチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、n−ペンチル基、3−クロロ−n−プロピルL4−
クロローn−ブチル基、アリル(allyl)基、エチ
ルチオ基、フェニル基、2−クロロフェニル基、2−フ
ルオロフェニル基、ベンジル基又は2−フルオロベンジ
ル基であり、R2が塩素原子又は臭素原子である。
合物は、本願第2の発明である次の(A)のような方法
によって製造することができる。
あり、Yはハロゲン原子である。) 上記本発明の製法は、通常、反応温度10〜150℃及
び反応時間1〜48時間で行なわれる。
般式(I−2)で表わされる化合物は、次のような方法
でも製造することができる。
前記一般式(1−2)においてR3が一5R,基である
場合、前記反応[B]工程−2において、R:l−1の
代わりにR55SRsを使用することも出来る。
ある。) 前記一般式(1)において、RIがシアノ基であり、R
3が水素原子、塩素原子又は臭素原子である下記一般式
(1−4)で表わされる化合物は例えば次のような方法
でも製造することができる。
場合、前記反応〔C〕工程−2において、R1−Y’の
代わりにR,SSR,を使用することも出来、また、R
tが−C1l (Oll) −Rl Y基(Rttはア
ルキル基又は置換されていてもよいフェニル基である)
である場合、前記反応(C)工程−2において、R1−
Y’の代わりにR1?Cll0を使用することもてきる
。
Y゛は塩素原子、臭素原子又は沃素原子であり、R2、
R4、Rs及びYは前述の通りである。) ある下記一般式(1−6)で表わされる化合物皮表わさ
れる化合物は例えば次のような方法でも製造することが
できる。
R1、Ra 、Ra 、Rt及びYは前述の通りである
。) 上記反応(A)及び(B)〜(D)の工程−1は必要に
応じて、溶媒及び酸受容体の存在下で行なわれる。
ベンゼンなどの芳香族炭化水素類:クロロホルム、四塩
化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエ
タン、n−ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は非
環状脂肪族炭化水素類:ジエチルエーテル、ジオキサン
、テトラヒドロフランなどのエーテル類:アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン類ニアセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリ
ルv4ニジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン
、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非プロトン
性極性溶媒などが挙げられる。
く、無機塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物:無水炭酸
カリウム、無水炭酸カルシウムのようなアルカリ金属又
はアルカリ土類金属の炭酸塩;水素化ナトリウムのよう
なアルカ、り金属水素化物;金属ナトリウムのようなア
ルカリ金属などが挙げられ、また有機塩基としてはトリ
エチルアミンなどが挙げられる。前記反応は適当な触媒
の存在下でも行イことが出来る。
うな相間移動触媒が挙げられる。
原子としては、塩素原子、臭素原子、沃素原子、弗素原
子が挙げられ、塩素原子が望ましい。
の中間体として官用な、一般式(n)で表わされる新規
な化合物は本願第3の発明である。
〜2図に示される(n−3)、(If−4)、(n−5
)、(II −6)、(II−7)及び(Il−8)で
表わされる化合物は、同図に示した工程によって製造す
ることができる。
、次記第3〜5図に示した工程でも合成することができ
、また前記(n −8)で表わされる化合物中、 一般式: %式%) で表わされる化合物は第3図に示した工程でも合成する
ことができる。
b基(Rhはジアルキルアミノ基;アルキル基;又はア
ルキル基で置換されてもよい、フェニル基である)、又
は−CIl −Rd基(Rcは水素原子;又Rc はメチル基であり、Rdはアルコキシ基:アルキル基或
いはアルコキシ基で置換されてもよいフェニル基;又は
−〇CIIzCtl□Si(に113) 3基である〕
前記RaxRd中に含まれるアルキル部分は、前述のI
?、〜R12に含まれるアルキル部分と同様のものであ
れば良い。
〜5図に示した反応工程中、一般式(If−1)及び/
又は(II−9)で表わされる中間体化合物の原料物質
である前記一般式(ア)及び(イ)で表わされる化合物
は、例えば下記第6〜7図に示した工程で合成すること
ができる。
、アミノ基、ヒドロキシル基又はアルカノl1 又は−C−A3基であり、A、はアルコキシ基又はアル
キルチオ基であり、A4はホルミル基である)前記一般
式(つ)及び(1)で表わされる化合物中に含まれるカ
ルボニル基はアセタール、チオアセタール、環状アセタ
ール、環状チオアセタールなどの潜在的な形態であって
もよく、A4で表わされるホルミル基はアセタール、ヘ
ミアセタールの様な潜在的な形態であってもよい。
あり、A、はアルコキシ基又はアルキルチオ基である) なお、前記第1〜7図においてそれぞれの反応は、必要
に応じて溶媒、酸受容体、アルカリ受容体などの存在下
で行なわれてもよく、それらの種類や量を含め、各反応
の反応温度、反応時間などの反応条件は、通常同様の反
応における反応条件から適宜選択できる。
である中間体の代表例を第1表に挙げる。
が相異なる場合、下記一般式(■−a)及び(n−b) ([−a) (II−b)(式中、
R,、R,及びR3は前述の通りである。)で表される
互変異性体が存在する。従って−C式(II)で表され
る化合物を出発原料として用いた一般式(1)で表され
る本発明化合物を製造した場合、 (1−a) (1=b)が得られる
。R2及びR3が相異なる場合、(■−a)及び(1−
b)は互いに異性体である。前記反応(B)〜(D)中
の一般式(1−1)、(1−5)、(1−6)、(1−
7)及び第1図中の(1−8)の化合物並びに、前記一
般式(IV)〜(XV)で表される化合物についても上
記と同様なことがいえる。
は、具体的には、例えば下記(E−1)〜(E−3)で
示される方法により得ることが出来る。
ロマトグラフィー、フラッシュクロマトグラフィーなど
により前記一般式(1−a)及び(1−b)からなる異
性体混合物から各々を分離、することが出来る。シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーの場合、例えば、展開溶
媒としてn−ヘキサン、四塩化炭素、塩化メチレン、ク
ロロホルム、酢酸エチル又はこれらの混合溶媒を用いる
ことが出来る。
、クロロホルム、1.2−ジクロロエタン、酢酸エチル
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトン又
はこれらの混合溶媒を用いることにより前記一般式(1
−a)及び(1−b)からなる異性体混合物から各々を
分離することが出来る。
間(好ましくは5〜24時間)の条件で選択的加水分解
反応を行ない、前記一般式(1−a)及び(1−b)か
らなる異性体混合物から一方を分離することが出来る。
物としては、あらかじめ前記反応(A)において反応条
件例えば溶媒及び酸受容体の種類並びに使用量、さらに
は反応温度及び反応時間などを適宜選択し、その結果両
異性体の混合割合の差を出来るだけ大きくしたものを使
用する方が好ましい。
(1−b)の化合物においてR,がシア得る場合、例え
ば次のような方法により得ることができる。
である。) 次に本願第2の発明である製法の具体的態様を含め、本
願第1の発明化合物及び/又は本願第3の発明化合物の
具体的合成例を記載する。
ダゾール(化合物11m1)の合成(1) J、 O
rg、 Chem、’ 4S、4038〜4040(1
980)の方法に準じて、1−ジェトキシメチルイミダ
ゾールより、2−ホルミル−1−ジェトキシメチルイミ
ダゾールを油状物として得た。次いで水中、塩酸ヒドロ
キシルアミン−酢酸ナトリウムと反応させて得られるイ
ミダゾール−2−アルドキシムを、無水酢酸で脱水して
2−シアノイミダゾール(融点176℃)を得た。
30g1無水炭酸カリウム53.4g、アセトニトリル
60Q+/!を室温で混合し、還流温度で2時間反応さ
せた後、冷却し、ジメチルスルファモイルクロリド55
.6gを加え、再び還流温度で2時間反応させた。
抽出し、水洗後無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。溶
媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製して融点
74〜76℃の目的物28.0 gを得た。
−フェニルチオイミダゾール (化合物11hlO−b)の合成 四ツロフラスコに窒素雰囲気下で2−シアノ−1−ジメ
チルスルファモイルイミダゾール(化合物m1)12.
0g及び乾燥テトラヒドロフラン240mjtを仕込み
ドライアイス−アセトンにより一75℃以下に温度を保
ちながら、1.6Mのn−ブチルリチウムヘキサン溶液
(アルドリッチ製)41.3mJ!を徐々に滴下した。
ジスルフィド17.0 gのテトラヒドロフラン溶液3
0mj!を一70℃以下で滴下した。
した。
0m1で抽出し、この酢酸エチル層を水洗した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、酢酸エチルを留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:塩化メチレン)で精製分離して融点106〜10
7℃の目的物4.3gを得た。
ァモイル−5−n−プロピル イミダゾール(化合物11kL16−b)の合成(1)
前記合成例2のジフェニルジスルフィドに代えてヨ
ウ化n−プロ?ル15.3 gを用いるほかは同様に行
い、融点51−52℃の2−シアノ−1−シメチルスル
フアモイル−5−n−プロピルイミダゾール(化合物N
113−b)4.8gを得た。
ルスルファモイル−5−n−プロピルイミダゾール4.
8g、ピリジン40II+1及び塩化ピリジニウム11
.4gを混合し、90℃で4時間撹拌し、反応を終了し
た。
酢酸エチルで抽出し、水洗した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。乾燥後、酢酸エチルを留去し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル
+n−ヘキサン)で精製分離して融点52〜54℃の2
−シアノ−4(5)−n−プロピルイミダゾール(中間
体rl&155)2、46 gを得た。
n−プロピルイミダゾール2.35g、クロロホルム8
0m1及びN−クロルコハク酸イミド2.6gを混合し
還流下4時間反応した。
し、更に水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
ムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n−ヘ
キサン=1/1)で精製分離して融点107〜109℃
の4(5)−クロロ−2−シアノ−5(4)−n−プロ
ピルイミダゾール(中間体f1h14)2.2gを得た
。
シアノ−5(4)−n−プロピルイミダゾール2.0g
、アセトニトリル30m11無水炭酸カリウム1.95
g及びジメチルスルファモイルクロライド1.86 g
を混合しゆっくり昇温し、還流温度で1時間保持し反応
を終了した。
水100mj!を投入し、塩化メチレン50m1lで抽
出し、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾
燥後、塩化メチレンを留去し、残渣を1晩室温で放置後
分析したところ、2種の異性体混合生成物のうち一方は
分解して原料°に戻ったことがわかった。残った一方の
異性体を含む残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製分離して融点64
〜66℃の4−クロロ−2−シアノ゛−1−ジメチル゛
スルファモイル−5−n−プロピルイミダゾール(化合
物Na16−b)1.1gを得た。
(5)−フェニルイミダゾール(化合物11h4)の合
成 (1) 4(5)−フェニルイミダゾール23.04
gをアセトン320m1に溶解し、無“氷炭酸カリウ
ム’12.14gを加え、2時間加熱還流した。次いで
冷却した後ミジメチルスルフプモイルクロライド25.
25 gを含むアセトン溶液45m1を滴下し、滴下終
了後4.5時間加熱゛還流して反応を終了した。
、溶媒を減圧上留去した後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製して融点
96〜100℃の1−ジメチルスルファモイル−4(5
)−フェニルイミダゾール17.8 gを得た。
イル−4(5)−フェニルイミダゾール17gをテトラ
ヒドロフラン290nlに溶解し、窒素雰囲気下で一7
0℃に冷却し、1.6Mn−ブチルリチウムヘキサン溶
液51m1を30分を要して滴下した。滴下終了後−7
0℃で30分撹拌した後、!11N ジメチルホルム
アミド6gを含むテトラヒドロ、ノン溶液12nlを滴
下し、滴下終了後室温までゆっくり温度を上げながら1
5時間撹拌下反応させた。
出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、溶媒を減圧下留寺した後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/2
)で精製して融点86〜89℃の1−ジメチルスルファ
モイル−2−ホルミル−4(5)−フェニルイミダゾー
ル12.8gを得た。
イル−2−ホルミル−4(5)−フェニルイミダゾール
11.16gとヒドロキシルアミン塩酸塩5.56gと
をピリジン120mj?に溶解“し、室温で無水酢酸2
4m1を滴下した。滴下終了後徐々に温度を上げて10
0°Cで12時間反応させた。
物に水125mj!を加え、析出した固体をろ別した。
クロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル)で精製し
て、コ虫点203〜.205℃の2−シアノ−4(5)
−フェニルイミダゾール5、55 gを得た。
フェニルイミダゾール1.7 gをアセトン88m1に
溶解し、無水炭酸カリウム1.73を加え、2時間加熱
還流した。
を含むアセトン溶液6 mllを滴下し、滴下終了後2
時間加熱還流して反応を終了した。
、溶媒を減圧上留去した後、残留物を酢酸エチルで抽出
した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧上留去して、目的物である、融点101〜1
02℃の2−シアノ−1−ジメチルスルファモイル−4
(5)−フェニルイミダゾール2gを得た。
ルスルファモイル−5(4)−フェニルイミダゾール(
化合物11h17)及び4−クロロ−2−シアノ−1−
ジメチル スルファモイル−5−フェニルイミダ ゾール(化合物11h17−b)の合成〔1〕 2−
シアノ−4(5)−フェニルイミダゾール1.352g
をクロロホルム100m1に溶解し、N−クロロコハク
酸イミド1.175gを加え、4時間加熱還流下で反応
させた。
出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、溶媒を減圧上留去した後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製して、融
点149〜151℃の4(5)−クロロ−2−シアノ−
5(4)−フェニルイミダゾール(中間体Na15)1
.28gを得た。
シアノ−5(4)−フェニルイミダゾール0.43 g
をアセトン6 mj2に溶解し、無水炭酸カリウム0、
29 g及びジメチルスルファモイルクロライド0、3
6 gを加え、30分間加熱還流下反応させた。
した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製して目的物で
ある融点106〜109℃の4(5)−クロロ−2−シ
アノ−°1−ジメチルスルファモイルー5(4)−フェ
ニルイミダゾール(化合物隘17)0.5gを得た。
ほぼ等割合の4−クロロ−2−シアノ−1、−ジメチル
スルファモイル−5−フェニルイミダゾールと5−クロ
ロ−2−シアノ−1−ジメチルスルファモイル−4−フ
ェニルイミダゾールとの異性体混合物であった。
性体混合物2.9gを室温で24時間放置した後、塩化
メチレンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製して融点109〜112℃の4−クロロ
−2−シアノ−1−ジメチルスルラブモイル−5−フェ
ニルイミダゾール(化合物!’h17−b)1.15g
を得た。またこの精製分離により4(5)−クロロ−2
−シアノ−5(4)−フェニル−イミダゾール0.7g
も得られた。
ルスルファモイル−5(4)−(4−メチルフェニル)
イミダゾール(化合物 隘18)及び4−クロロ−2−シアノ −1−ジメチルスルファモイル−5− (4−メチルフェニル)イミダゾール (化合物隘18−b)の合成 合成例4〔1〕〜【4〕及び合成例5〔1〕〜〔2〕に
記載の方法に準じて、4(5)−(4−メチルフェニル
)イミダゾールより4−クロロ−2−ジアツー1−ジメ
チルスルファモイル−5−(4−メチルフェニル)イミ
ダゾールと5−クロロ−2−シアノ−1−シメチルスル
フアモイル−4−(4−メチルフェニル)イミダゾール
との割合が6:4の異性体混合物(融点101〜108
℃、化合物N1118)を得た。この異性体混合物0.
75gを40℃で8時間反応させた後、塩化メチレンを
展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製して融点133〜134℃の4−クロロ−2−シア
ノ−1−ジメチルスルファモイル−5−(4−メチル、
フェニル)イミダゾール(化合物N111B−b)0.
’45gを得た。またこの精製分離により、4(5)−
クロロ−2−シアノ−5(4)−(4−メチルフェニル
)イミダゾール(中間体隘12、融点124〜129℃
)0.15gも得られた。
フェニル)−2−シアノ−・1−ジメチルスルファモイ
ルイミダゾール・(化合物rlh23)、4−りl:I
ロー5− (410ロフエニル)−2−シアノ−1−ジ メチルスルファモイルイミダゾール (化合物NcL23− b)及び5−りo。
記載の方法に準じて4(5)−(4−クロロフェニル)
イミダゾールより、4−クロロ−5−(4−クロロフェ
ニル)2−ジアノ−1−ジメ 。
4−クロロフェニル)−2−シアノ−エージメチルスル
ファモイルイミダゾールとの混合物0.80g(化合物
11h23、融点108℃)を得た。
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。第2分画
の溶出液を濃縮し、塩化メチレンで再結晶したところ融
点117〜120℃の4−クロロ−5−(4−クロロフ
ェニル)−2−シアノ−1−ジメチルスルファモイルイ
ミダゾール(化合物患23−b)0.16gが得られた
。なお、第1分画の溶出液も同様に濃縮し、塩化メチレ
ンで再結晶し、融点133〜138℃の5−クロロ−4
−(4−クロロフェニル)−2−シアノ−1−ジメチル
スルファモイルイミダゾール(化合物魚23−a)0.
50gを得た。
ニル−2−チオカルバモイルイミ ダゾール(化合物N11L49)の合成2−シアノ−1
−ジメチルスルファモイル−4(5)−フェニルイミダ
ゾール(化合物11h4)1.0gをジオキサン30m
A!に溶解し、トリエチルアミン0.36 gを加え、
撹拌しながら40〜50℃に加温し、硫化水素ガスを1
時間25分間導入した。その後40〜50℃で更に50
分反応させた。
た。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を減圧上留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/3)で
精製して、目的物で 。
イル−4(5)−フェニル−2−チオカルバモイルイミ
ダゾール0.8gを得た。また少量の4(5)−フェニ
ル−2−チオカルバモイルイミダゾールの結晶も得られ
た。
(5)−フェニルイミダゾール(化合物1itai 0
1)の合成 2−シアノ−4(5)−フェニルイミダゾ、−ル1.0
・g、無水炭酸カリウム0.98 g及びアセトニトリ
ル30m1を室温で混合し、還流温度で2時間反応させ
た後、冷却し、イソプロピルスルホニルクロリド1.0
gのアセトニトリル5#lの溶液を加え再び還流温度で
1.5時間反応させた。
した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
次いで溶媒を減圧下に留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製して、
融点80〜83℃の目的物1.4gを得た。
−1−ジメチルスルファモイルイ ミダゾール(化合物N[16)の合成 (1) 2−(ブロモアセチル)チオフェン25gを
ホルムアミド150+nj!に加え、180〜190℃
で2時間反応させた。
にし、次いで塩化メチレンで洗浄した。
抽出層を水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し、l1gの4(5)−(2−チエニル)イ
ミダゾールを得た。
ァモイルクロリド11.6g、無水炭酸カリウム11.
1 g及び前記工程〔1〕で得た4(5)−(2−チエ
ニル)イミダゾールl1gを加え、撹拌下に2時間反応
させた。
た。抽出層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を減圧下に留去して、4(5)−(2−チエニル)−
1−ジメチルスルファモイルイミダゾール14.5 g
を得た。
ル)−1−ジメチルスルファモイルイミダゾール9.5
gを無水テトラヒドロフラン120mJに溶解し、窒素
雰囲気下、−78℃で1.6Mのn−ブチルリチウムヘ
キサン溶液26.2mlを滴下し、同温度で15分間撹
拌した。次いでそこにN、N−ジメチルホルムアミド5
.4gを溶解させたテトラヒドロフラン溶液20m1を
滴下し、滴下後徐々に室温に戻し反応を終了した。
た。抽出層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を減圧上留去して、5.4gの4(5)−(2−チエ
ニル)−2−ホルミル−1−ジメチルスルファモイルイ
ミダゾールを得た。
程〔3〕で得た4(5)−(2−チエニル)−2−ホル
ミル−1−ジメチルスルファモイルイミダゾール5.4
gをピリジン54mj!に溶解し、室温で15分間撹拌
した。次いでそこに無水酢酸10mAを徐々に加え、6
0〜70℃で2時間反応させた。
た。抽出層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を減圧下に留去、し、シリカゲル、カラムクロマトグ
ラフィニ(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=2/1)
で精製して融点195〜203℃の4(5)−(2−チ
エニル)−2−シアノイミダゾール(中間体11kL4
7)1.2gを得た。
ファモイルクロライド1.Ig、無水炭酸カリウム1.
0g及び前記工程〔4〕で得た4(5)−(2−チエニ
ル)−2−シアノイミダゾール1.2gを加え、2時間
還流させた。
た。抽出層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
下に留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒:塩化メチレン)で精製し、融点145〜150
℃の目的物1.3gを得た。
ルスルファモイル−5(4)−イソプロピルイミダゾー
ル(化合物陽 125)及び4−クロロ−2−シア ノ−1−ジメチルスルファモイル− 5−イソプロピルイミダゾール(化 合物N1125−b)の合成 (1) ホルムアミド360gを180℃に加熱し撹
拌しなから1−ヒドロキシ・−3−メチル−2−ブタノ
ン(LipshuLz and Morey、 J、
OrH,Chem、。
した)102gを30分を要して滴下した。滴下終了後
、100℃で1時間反応させた。
酸でpH−1とした後、塩化メチレンで洗浄した。水層
をアンモニア水でpH=4〜5とし、活性炭5gを加え
、1時間撹拌した。活性炭をろ過して除去し、ろ液をア
ンモニア水でpH=’8とした後、塩化メチレンで抽出
し、無水r+、Jtナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧上
留去し、4(5)−イソプロピルイミダゾール13gを
得た。
ルイミダゾール11.8gをアセトニトリル300m1
に溶解し、無水炭酸カリウム18gを加え、30分間加
熱還流した。次いで冷却した後、ジメチルスルファモイ
ルクロライド17gを滴下し、滴下終了後5時間加熱還
流して反応を終了・した。
チルで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒を減圧上留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフ・イー(展開溶媒S゛塩化メチレン)で
精製して1−ジメチルスルファモイル−4(5)−イソ
プロピルイミダゾール13gを得た。
イル4(5)−イソプロピルイミダゾール13gをテト
ラヒドロフラン20Qn11に溶解し、窒素気流下で一
70℃に冷却し、1.6Mn−ブチルリチウムヘキサン
溶液38Illlを15分を要して滴下した。滴下終了
後−70℃で30分撹拌した後、N、N−ジメチルホル
ムアミド5.6gを滴下し、滴下終了後室温までゆっく
り温度を上げながら15時間撹拌下反応させた。
出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、溶媒を減圧上留去し、■−ジメチルスルファモイルー
2−ホルミル−4(5)−イソプロピルイミダゾール(
’IINMR:CCj! a中TMS基準(主要ビーの
みを記載)、δ値(pp請) 9.68(ill。
、1.27(6H,d 611z ) )8.6gを得
た。
イル−2−ホルミル−4(5)−イソプロピルイミダゾ
ール8.5gとヒドロキシルアミン塩酸塩4.8gとを
ピリジン100+nj!に溶解し、室温で無水酢酸10
mJを滴下した0滴下終了後、徐々に温度を上げて80
〜90℃で5時間反応させた。
残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出層を希
塩酸で洗い、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を減圧上留去し、融点88〜91℃の2−シアノ−4
(5)−イソプロピルイミダゾール(中間体111I1
61)2.35gを得た。
イソプロピルイミダゾール2gをメタノール80mfに
溶解し、N−クロロコハク酸イミド2.1gを加え、室
温で20時間撹拌した後、40℃に加温して8時間反応
させた。
、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出層を
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧上留
去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:塩化メ・チレン)で精製して、融点84〜87℃
の4(5)−クロロニ2−シアノ−5(4)−イソプロ
ピルイミダゾール(中間体阻62)1.67gを得た。
−シアノ−5(4)−イソプロピルイミダゾール1.6
gをアセトニトリル30ml1に溶解し、無水炭酸カリ
ウム1.56gを加え、30分間加熱還流した。
1.49 gを滴下し、滴下終了後15分間加熱還流し
て反応を終了した。
酸エチルで抽出し、抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製
して、4(5)−クロロ−2=シアノ−1−ジメチルス
ルファモイル−5(4)−イソプロピルイミダゾール(
化合物11h125)2.1gを得た。
4−クロロ−2−シアノ−1−ジメチルスルファモイル
−5−イソプロピルイミダゾールと5−クロロ−2−シ
アノ−1−ジメチルスルファモイル−4−イソプロピル
イミダゾールとの異性体混合物であり、その割合は約2
=1であった。
.1gを室温で5日間放置した後、塩化メチレンを展開
溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、融点75〜82℃(分解)の4−クロロ−2−シ
アノ−1−ジメチルスルファモイル−5−イソプロピル
イミダゾール(化合物Nh125−b) 1 gを得た
。またこの精製分離により4(5)−クロロ−2−シア
ノ−5(4)−イソプロピルイミダゾールも得られた。
5−n−プロピル−2−チ ・オカルバモイルイミダゾ
ール(化合 物阻185−b)の合成 。
チルメチルエーテルと反応させて4.5−ジクロロ−1
−メトキシメチルイミダゾール(n 。
1記載の方法に準じて4.5−ジクロロ−2−ホルミル
−1−メトキシメチルイミダゾール〔4〕に記載の方法
に準じて4,5−ジクロロ−2−シアノイミダゾール(
融点187〜189℃)を得、これより合成例1と同様
の方法で融点100〜103℃の2−シアノ−4,5−
ジクロロ−1−ジメチルスルファモイルイミダゾールを
得妃。
(1)で得た。2−シアノ−4,5−ジクロロ−1−ジ
メチルスルファモイルイミダゾール6.0g及び乾燥テ
トラヒドロフラン180m/を仕込み、ドライアイス−
アセトンにより一75℃以下に温度を保ちながら1.6
Mn−ブチルリチウムヘキサン溶液15.3++llを
徐々に滴下した。滴下終了後15分同温度に保持した。
ン88 液15mj!を一70℃以下で滴下した。滴下
終了後1晩撹拌下室温まで徐々にもどし反応を終了し、
た。
0m1で抽出し、水洗した後無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて2回精製分離(展開溶媒として
塩化メチレンを使用したものとn−ヘキサン−酢酸エチ
ルを使用したもの、各1回ずつ)して融点66〜68℃
の4−クロロ−2−シアノ−1−ジメチルスルファモイ
ル−5−n−プロピルイミダゾール(化合物k16−b
)2.8gを得た。
クロロ−2−シアノ−1−ジメチルスルファモイル−5
−n−プロピルイミ゛ダゾール2.7g=°ジオキサン
40 ml、)リエチルアミン1.0g及びピリジン0
.8gを仕込み、この混合物に20〜25℃で硫化水素
ガスを原料が消失するまで約30分間導入し、反応を終
了した。
ッチェにより濾別し乾燥した。この結晶をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン)で
精製分離して、融点160〜162℃の4−クロロ−1
−ジメチルスルファモイル−5−n−プロピル−2−チ
オカルバモイルイミダゾール(化合物11h185−b
) 2.3 gを得た。
チルスルファモイル−5−n −プロピル−2−チオカルバモイル イミダゾール(化合物Na187−b)の合成 四ツ目フラスコ中に4−クロロ−1−ジメチルスルファ
モイル−5−n−プロピル−2−チオカルバモイルイミ
ダゾール(化合物1k185−b) 2.0 g、アセ
トン24m1及びピリジン1.12 gを仕込み、この
混合物に0〜5℃で塩化プロピオニル1.19gを滴下
した0滴下終了後30−35℃で1時間及び還流下で3
0分間撹拌し、反応を終了した。
抽出し、水洗した後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾
燥後酢酸エチルを留去し、残渣を、塩化メチレンを展開
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
分離し、融点150〜152℃の目的物1.02 gを
得た。
−4,5−ジフェニルチオイミ ダゾール(化合物阻141)の合成 (1) 合成例2と同様に得た2−シアノ−1−ジメ
チルスルファモイル−5−フェニルチオイミダゾール(
化合物隠1O−b)8.0g、メタノール60+ij!
および7%塩酸水601I+1を1仕込み40−50℃
で2時間撹拌下反応した。反応を終えアンモニアで弱ア
ルカリとし析出結晶を濾別し乾燥し士、融点166〜1
69℃の2−シアノ−4(5)−フェニルチオイミダゾ
ール(中間体患26)4.2gを得た。
フェニルチオイミダゾール4.2g、アセトニトリル8
0Il1g及び無水炭酸カリウム3.1“gの混合物に
ジメチルスルファモイルクロライド3.4gを加え、1
時間加熱還流した。反応終了後、混合物を冷却し固体を
ろ過した後、得ら、れた濾液中の溶。
ー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製分離して2−シア
ノ−1−ジメチルスルファモイル−4(5)−フェニル
チオイミダゾール(化合物−10)5.8gを得た。
で得た2−シアノ−1−ジメチルスルファモイル−4(
5)−フェニルチオイミダゾール5.8g及び乾燥テト
ラヒドロフラン150o+1を仕込み、ドライアイス−
アセトンにより一75℃以下に温度を保ちながら1.6
Mn−ブチルリチウムへキサン溶液(関東化学型)12
.9mj2を滴下したゆ滴1下後、15分間−75℃以
下で保持した後ジフェニルジスルフィド5.2gのテト
ラヒドロフラン20II11溶液を一70℃以下で滴下
し、その後室温までもどした。反応終了後、混合物を酢
酸エチルで抽出し、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製分離
して融点98〜101℃の2−シアノ−1−ジメチルス
ルファモイル−4,5−ジフェニルチオイミダゾール1
.7gを得た。
ルファモイル−5−n−プロ ピルイミダゾール(化合物1’h157−b)の合成 (1) 合成例1と同様の方法で2−シアノ−4,5
−ジブロモイミダゾール(融点200〜203℃)より
2−シアノ−4,5−ジブロモ−1−ジメチルスルファ
モイルイミダゾール(融点118〜120℃)を合成し
た。
前記工程〔1〕で得た2−シアノ−4,5−ジブロモ−
1−ジメチルスルファモイルイミダゾール5gと乾燥テ
トラヒドロフラン120m1を入れ、混合した。この溶
液をドライアイス−アセトンで一75℃以下に保ちなが
ら、同溶液に1.6Mn−ブチルリチウムヘキサン溶液
(アルドリッチ製)を9.6n1滴下した。次いで15
分間同温度で保持した後、ヨウ化n−プロピル3.6g
と乾燥テトラヒドロフラン15輸lとの混合溶液を一7
5℃以下で滴下し、その後室温になるまで放置した。
・反応終了後、反応混合物を酢酸エチルで抽出し水洗し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶。
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、融点93
〜94℃の目的物2.1gを得た。
−4−n−テロビ、ルー5−ト。
しながらl−ヒドロキシ−2−ペンタノン(Lipsh
uLz and Morey+ J、Org、Chem
、+1983+ 4EL3745に記載)98gを40
分を要して滴下した。
酸でpH−1とした後、塩化メチレンで洗浄した。水層
をアンモニア水でpl+=4〜5とし、活性炭5gを加
え、1時間攪拌した。活性炭をろ過して除去し、ろ液を
、アンモニア水でpH=8とし“た後、塩化メチレンで
抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥゛し、溶媒を減圧上
留去し、4 (5) −n−プロピルイミダゾール36
gを得た。
ピルイミダゾール33.5 gをアセトニトリル600
1m1に溶解し、無水炭酸カリウム50gを加え、30
分間加熱還流した0次いで冷却した後、ジメチルスルフ
ァモイルクロライド47.4 gを滴下し、滴下終了後
5時間加熱還流して反応を終了した。
チルで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒を減圧上留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン)で精製
して1−ジメチルスルファモイル−4(5)−n−プロ
ピルイミダゾール46.5 gを得た。
イル−4(5)−n−プロピルイミダゾール46gをテ
トラヒドロフラン700IllNに溶解し、窒素気流下
で一70℃に冷却し、1.6 M n−ブチルリチウム
ヘキサン溶液135.7 mj!を15分を要して滴下
した0滴下終了後−70℃で30分攪拌した後、N、N
−ジメチルホルムアミド20gのテトラヒドロフラン2
0+wi!溶液を滴下し、滴下終了後室温までゆっくり
温度を上げながら15時間攪拌下反応させた。
抽出した。抽出物を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧上留去し、1−ジメチルスルファモイル
−2−ホルミル−4(5)−n−プロピルイミダゾール
47gを得た。
イル−2−ホルミル−4(5)−n−プロピルイミダゾ
ール47gとヒドロキシルアミン塩酸塩26.7gとを
ピリジン600mj!に溶解し、室温で無水酢酸60論
2を滴下した。滴下終了後、徐々に温度を上げて80〜
90℃で5時間反応させた。
残留物に水を□加え、酢酸エチルで抽出した。抽出層を
希塩酸で洗い、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧上留去じ、12−シアノ−4(5)−n−プ
ロピルイミダゾール15gを得た。
n−プロピルイミダゾール5g1アセトニトリ、ル10
0+j!及び無水炭酸カリウム6、’13gを混合し3
0分間加熱還流した0次いで冷却した後、ジメチルスル
ファモイルクロライド5.8gを加え30分間加熱還流
した。
チルで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫、酸ナトリウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧上留去した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン)で精
製して2−シアノ−1−ジメチルスルファモイル−4(
5)−n−プロピルイミダゾール(化合物Na5)4.
5gを得た。
ルスルファモイル−4(5)−n−プロピルイミダゾー
ル2.4gをテトラヒドロフラン50IIIlに溶解し
、窒素気流下で一70℃に冷却し、1.6Mn−ブチル
リチウムヘキサン溶液5.7mj!を加え、50分後ト
リフルオロ酢酸エチル1.42 gのテトラヒドロフラ
ン3 ml溶液を加え、室温までゆっくり温度を上げな
がら15時間反応させた。
出した。抽出層を水洗し無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧上留去した後シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒:n−ヘキサン/塩化メチレン−40
/60)で2回精製して融点90〜92℃の2−シアノ
−1−ジメチルスルファモイル−4−n−プロピル−5
−トリフルオロアセチルイミダゾール(化合物N118
2−a)0.9gを得た。
物嵐の後にaが付記されている化合物は□前記一般式(
1)中、前記一般式(1−a)で示される化合物であり
、bが付記されている化合物は、前記一般式(1)中、
前記一般式(1−b)で示される化合物である。
・ 前記一般式(1)で表わされ゛る本願第1の発明化合物
は、本願第4の発明である有害生物防除剤の有効成分と
して、特に農園芸用有害生物防除剤及び医薬用抗菌剤と
して有用である。農園芸用殺菌剤としては、稲いもち病
、稲紋枯病、キュウリ炭そ病、キュウリうどんこ病、キ
ュウリベと病、トマト疫病、トマト輪紋病、柑橘類の黒
点病、柑橘類のみどりかび病、ナシ黒星病、リンゴ斑点
落葉病、ブトウベと病、各種の灰色かび病、菌核病、さ
び病などの病害及びフザリウム菌、ピシウム菌、リゾク
トニア菌、パーティシリウム菌、ブラズモディオホーラ
菌などの植物病原菌によって引き起こされる土壌病害に
対し優れた防除効果を示す。
ト病、タバコの青かび病、プラズモディオホーラ属菌、
アファノマイセス属菌及びピシウム属菌などによる各種
土壌病害など、藻菌類による病害に対して優れた防除効
果を示す。本発明化合物は残効性が長く優れた予防効果
を示すのみならず、優れた治療効果を有することから感
染後、の処理による病害防除が可能である。また浸透移
・行性を有することから、土壌処理による茎葉部の病害
防除も可能である0本願第1の発明化合物は、更に農園
芸上有害な昆虫類、ダニ類、線虫類、例えばウンカ、コ
ナガ、ツマグロヨコバイ、アズキゾウムシ、ハスモンヨ
トウ、モモアカアブラムシなどの昆虫類、ナミハダニ、
ニセナミハダニ、ミカンハダニなどのダニ類、サツマイ
モネコブ線虫なとの線虫類に対して優れた防除効果を示
す。使用に際しては、従来の農薬製剤の場合と同様に、
補助剤と共に、乳剤、粉剤、水和剤、液剤、粒剤、懸濁
製剤などの種々の形態に製剤することができる。これら
の製剤の実際の使用に際しては、そのまま使用するか、
または水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用すること
ができる。ここに言う補助剤としては、担体、乳化剤、
懸濁剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、増粘剤、安
定剤などが挙げられ、必要により適宜添加すればよい。
体としては、澱粉、砂糖、セルロース粉、シクロデキス
トリン、活性炭、大豆粉、小麦粉、もみがら粉、木粉、
魚粉、粉乳などの動植物性粉末、タルク、カオリン、ベ
ントナイト、有機ベントナイト、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム25重炭酸ナトリウム、ゼオライト、珪藻土
、ホワイトカーボン、クレー、アルミナ、シリカ、硫黄
粉末などの鉱物性粉末などが挙げられ、液体担体として
は、水、大豆油、綿実油などの動植物油、エチルアル・
コール、エチレングリコールなどのアルコール類、アセ
トン1.メチルエチルケトンなどのケトン類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ケロシン、
灯油、流動パラフィンなどの脂肪族炭化水素類、キシレ
ン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、シク
ロヘキサン、ソルベントナフサなどの芳香族炭化水素類
、クロ゛ロホルム、クロロベンゼンなどのハロゲン化、
炭化水素類、ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、酢
酸エチルエステル、脂肪酸のグリセリンエステルなどの
エステル類、アセトニトリルなどのニトリル類、°ジメ
チルスルホキシドなどの含硫化合物類、N−メチルピロ
リドン、N、N−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ
る。
0.05 : 99.95〜90:10、望ましくは0
、2 : 99.8〜80:20である。
形態、施用量などの違いによって異なり、−概に規定で
きないが、茎葉処理の場合、有効成分当たり普通0.1
〜10,000 ppm、望ましくは、1〜2+000
ppmである。土壌処理の場合には、普通10〜10
0.OOOg/ha、望ましくは、200〜20,00
0g/haである。
、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウィルス剤
、誘引剤、除草剤、植物生長調整剤などと、混用、併用
することができ、この場合には一層優れた効果を示すこ
ともある。
O−(4−プロモー2−クロロフェニル)0−エチル
S−プロピル ホスホロチオエート、2.2−ジクロロ
ビニル ジメチル ホスフェート、エチル 3−メチル
−4−(メチルチオ)フェニル イソプロピルホスホロ
アミデート、0.〇−ジメチル 0−4−二トローm−
)リルホスホロチオエート、0−エチル 0−4−ニト
ロフェニルフェニルホスホノチオエート、0.0−ジエ
チル 0−2−イソプロピル−6−メチルピリミジン−
4−イル ホスホロチオエート、0.0−ジメチル O
−(3,5,6−ドリクロロー2−ピリジル)ホスホロ
チオエート、0.8−ジメ、チル アセチルホスホロア
ミドチオエート、0−′(・2.4−ジクロロフェニル
)0−エチル S−プロピルホスホロジチオエートのよ
うな有機リン酸エステル系化合物;1−ナフチルメチル
カーバメート、2−イソプロポキシフェニルメチルカー
バメート、2−メチル−2−(メチルチオ)プロピオン
アルデヒド O−メチルカルバモイルオキシム、2.3
−ジヒドロ−2,2−ジメチルベンゾフラン−7−イル
メチルカーバメート、ジメチル N、N’ −(チオビ
ス〔(メチルイミノ)カルボニルオキシ〕)ビスエタン
イミドチオエート、S−メチ)し N−(メチルカルバ
モイルオキシ)チオアセトイミデート、N、N−ジメチ
ル−2−メチルカルバモイルオキシイミノ−2−(メチ
ルチオ)アセトアミド、2−(エチルチオメチル)フ・
エニル メチル゛カーバメート、2−ジメチルアミノ−
5,6−シメチルピリミジンー4−イル ジメチルカー
バメート、S、S” −2−ジメチルアミノトリメチレ
ンビス(チオカーバメート)のようなカーバメート系化
合物: 2.2.2−トリクロロ−1,1−ビス(4
−10ロフエニル)エタノール、4−クロロフェニル
2.4.5− )ジクロロフェニル スルホンのような
有機塩素系化合物;トリシクロヘキシルチン ヒドロキ
シドのような有機金属化合物;(R3)7α−シアノ−
3−フェノキシベンジル(R5)−2−(4−クロロフ
ェニル)−3−メチルブチレート、3−フェノキシベン
ジル(IH3)−シス、トランス−3−(2,2−ジク
ロロビニル)=2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
キシレート、(R3)−α−シアノ−3−フェノキシベ
ンジル(IH3)−シス、トランス−3−(2,2−ジ
クロロビニル) −2,2−ジメチルシクロプロパンカ
ルボキシレート、(R3)−α−シアノ−3−フェノキ
シベンジル(IH3)−シス−3−(2,2−ジブロモ
ビニル) ”−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
キシレート、(RS)−α−シスノー3−フェノキシベ
ンジル(IH3)−シス。
ロプロペニル”) −2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボキシレートのようなピレスロイド系化合物:1−
(4−クロロフェニル)−8−(2,6−ジフルオロベ
ンゾイル)ウレア、1−(3,5−ジクロロ−4−(3
10ロー5− ) IJフルオロメチル−2−ピリジル
オキシ)フェニル〕−3−(2,6−ジフルオロベンゾ
イル)ウレア、1−(3,5−ジクロロ−2,4−ジフ
ルオロフェニル)−3−(2,6−ジフルオロベンゾイ
ル)ウレアのようなベンゾイルウレア系化合物;2−t
ert−ブチルイミノ−3−イソプロピル−5−フェニ
ル−3,4,5,6−テトラヒドロ−28−1,3,5
−チアジアジン−4−オン、トランス−5−(4−クロ
ロフェニル)−N−シクロヘキシル−4−メチル−2−
オキソチアゾリジノン−3−カルボキサミド、N−メチ
ルビス(2,4−キシリルイミノメチル)アミンのよう
な化合物;イソプロピル(2E、4B)−11−メトキ
シ−3,7,11−)リメチルー2.4−ドデカジノエ
ートのような幼若ホルモン様 ′化合物;また、その他
の化合物として、ジニトロ系化合物、有機硫黄化合物、
尿素系化合1物、トリ“アジン系化合物などが挙げられ
る。更に、BT剤、昆虫病原ウィルス剤などのような微
生物農薬などと、混用、併用することもできる。
ソプロピルホスホロチオエート、0−エチル S、S−
ジフェニル ホスホロジチオエート、アルミニウム エ
チルハイドロゲン ホスホネート、O−2,6−ジクロ
ロ−p−トリル 0.0−ジメチル ホスホロチオエー
トのような有機リン系化合物; 4.5.6.7−チト
ラクロロフタリド、テトラクロロイソフタロニトリルの
、ような有機塩素、系化合物;マンガニ−°ズ“エチレ
ンビス(ジチオカーバメート)の重合物、ジンク エチ
レンビス(ジチオカーバメート)の重合物、ジンクとマ
ンネブの錯化合物、ジジンク ビス(ジメチルジチオカ
ーバメート)エチレンビス(ジチオカーバメート)、ジ
ンク プロピレンビス(ジチオカーバメート)の重合物
のようなジチオカーバメート系化合物; 3a、4.7
.7a−テトラヒドロ−N−(トリクロロメタンスルフ
ェニル)フタルイミド、3a。
トラクロロエタンスルフェニル)フタルイミド、N−(
トリクロロメチルスルフェニル)フタルイミドのような
N−ハロゲノチオアルキル系化合物;3− (3,5−
ジクロロフェニル)−N−イソプロピル−2,4−ジオ
キソイミダゾリジン−1−カルボキサミド、(R3)−
3−(3,5−ジクロロフェニル)−5−メチル−5−
ビニル−1,3−オキサゾリジン−2,4−ジ゛オン、
N−(3,5−ジクロロフェニル) −1,2−ジメチ
ルシクロプロパン−1,2−ジカルボキシミドのような
ジカルボキシミド系化合物;メチル 1−(ブチルカル
バモイル)ベンズイミダゾール−2−イル カーバメー
ト、ジメチル 4.4’−(o−フェニレン)ビス(3
−チオアロファネート)のようなベンズイミダゾール系
化合物;1−(4−クロロフェノキシ)−3,3−ジメ
チル−1−(I H−1,2,4−トリアゾール−1−
イル)ブタノン、1−(ビフェニル−4−イルオキシ)
−3,3−ジメチル−1−(IH−1,2,4−)リ
アゾール−1−イル)ブタン−2−オール、1− (N
−(4−クロロ−2−トリフルオロメチルフェニル)−
2−プロポキシアセトイミドイルコイミダゾール、1−
(2−(2,4−ジクロロフェニル)−,4−エチル
−1,3−ジオキ ゛ソランー2−イルメチル) −1
H−1,2,4−1−リアゾール、1−(2−(2,4
−ジクロロフェニル)−4−プロピル−1,3−ジオキ
ソラン−2−イルメチル) −1H−1,2,4−1−
リアゾール、1−(2−(2,4−ジクロロフェニル)
ペンチル〕−I H−1,2,4−トリアゾールのよう
なアゾール系化合物、2.4’−ジグロローα−(ピリ
ミジン−。
′−ジフルオロ−α−(I H−1,2,・4−トリア
ゾール−1−イルメチル)ベンズヒドリルアルコールの
ようなカルビノール系化合物;3′−イソプロポキシ−
0−)ルアニリド、α、α、α−トリフルオロー3′−
イソプロポキシ−0−トルアニリドのようなベンズアニ
リド系化合物;メチル N−(2−メトキシアセチル)
−N−(2,6−キシリル)−DL−アラニネートの
ようなアシルアラニン系化合物;3−クロロ−N−(3
−クロロ−2,6−シニトロー4−α、α、α−トリフ
ルオロトリル)−5−)リフルオロメチル−2−ピリジ
ナミンのようなピリジナミン系化合物;またその他の化
合物として、ピペラジン系化合物、モルフォリン系化合
物、アントラキノン系化合物、6−メチル−1,3−ジ
チオロ(4,5−b)キノキ。
、クロトン酸系化合物、スルフェン酸系化合物、イソプ
ロピル−3,4−ジェトキシフェニルカーバメートなど
のようなフェニルカーバメート系化合物、尿素系化合物
、1−(2−シアノ−2−メトキシイミノアセチル)−
3−エチル尿素などのようなシアノアセトアミド、抗生
物質などが挙げられる。
タフィロコッカス属菌やトリコフィトン属菌に対して有
効である。使用に際しては、従来の医薬製剤の場合と同
様に経口又は非経口的に投与できる。経口の場合は錠剤
、顆粒剤、カプセル、シロップ及び水性又は油性の懸濁
剤など胃腸管からの吸収に適した種々の形態に製剤する
ことができ、また非経口の場合、注射剤、或いはクリー
ム、軟膏など経皮吸収に適した種々の形態に製剤するこ
とができる。投与量は病原性細菌又は真菌に感染した人
及び動物の症状、年令などにより適宜変化する。
用抗菌剤の試験例を記載する。農園芸用殺菌剤の評価基
準は、特記した場合を除き、下記の評価基準に従った。
、防除指数を下記の5段階で求めた。
10%未満 3 : 病斑面積、病斑数または病斑1長が、無処理区
の40%未満 2 : 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の
70%未満 1 : 病斑面積、病斑数または病斑長が、無処理区の
70%以上 試験例1 キュウリうどんこ病予防効果試験直径7.5
cmのポリ林で;1−ユウリ (品種:四葉)を栽培
し、1葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液10m/をスプレーガンを用いてlik布し
た。22〜24℃の恒温室内に1昼夜保った後、うどん
こ病菌の分生胞子を振り掛は接種した。接種10日後に
第1Mの病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除
指数を求め、・第3表の結果を得た。
培し、2葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に
調整した薬液10m1をスプレーガンを用いて散布した
。22〜24℃の恒温室内に1昼夜保った後、炭そ病菌
の胞子懸濁液を噴霧接種した。接種7日後に第1葉の病
斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め
、第4表の結果を得た。
を栽培し、2葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃
度に調整した薬液10++j!をスプレーがンを用いて
散布した。22〜24℃の恒温室内に1昼夜保った後、
べと病菌の胞子懸濁液を噴霧接種した。接種6日後に第
1葉の病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指
数を求め、第5表の結果を得た。
5 c+aのポリ鉢でキュウリ (品種:四葉)を栽培
し、2葉期に達した時に、べと病菌の胞子懸濁液を噴霧
接種した。6時間後に各供試化合物を所定濃度に調整し
た薬液10Illlをスプレーガンを用いて散布した。
斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め
、第6表の結果を得た。
ポリ鉢でキュウリ (品種:四葉)を栽培し、2葉期に
達した時に、各供試化合物を所定濃度に調整した薬液1
5mJ!をピペットを用いて土壌表面に潅注した。22
〜24℃の恒温室内に2日間保った後、べと病菌の胞子
懸濁液を噴霧接種した。接種6日後に第1葉の病斑面積
を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、第7
表の結果を得た。
のポリ鉢でトマト(品種;ポンチローザ)を栽培し、4
葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調整した
薬液10mj!をスプレーガンを用いて散布した。22
〜24℃の恒温室内に1昼夜保った後、疫病菌の遊走子
嚢懸濁液を噴霧接種した。接種5日後に病斑面積を調査
し、前記評価基準に従って防除指数を求め、第8表の結
果を得た。
、ヲp彊tUflJU;\ΣU(1) 直径7.5
elmのポリ鉢でトマト(品種:ポンチローザ)を栽培
し、4葉期に達、した時に、各偶、賦化合物を所定濃度
に一書した薬液10−をスプレーガンを用いて散布した
。22〜24℃の恒温室内に1昼夜保った後、疫病菌の
遊走子a懸濁液を噴霧接種した。接種5日後に病斑面積
を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、第9
−・1表の結果を得た。
トリフルオロメチルフェニル)−2−プロポキシアセト
イミドイル〕イミダゾールキノメチオネート:6−メチ
ル−1,3−ジチオロ(4,5−b)キノキサリン−2
−オン(2) 前記(1)と同様の方法で試験を行な
い第9−2表の結果を得た。
ス(ジチオカーバメート)(マンネブ)の錯化合物 クロロタロニル:テトラクロロイソフ名口二トリル(3
)前記(1)と同様の方法で試験を行ない、第9−3表
の結果を得た。
ール−2−イルカ−バメート (4)前記(11と同様の方法で試験を行ない第9−4
表の結果を得た。
−α、α、α−トリフルオロトリル)−5−トリフルオ
ロメチル−2−ピリジナミン (5)前記(1)と同様の方法で試験を行ない第9−5
表の結果を得た。
表の結果を得た。
アセチル)−3−エチル尿素 8 7 ゛ − 直径7.5 amのポリ林でトマト(品種:ボンテロー
ザ)を栽培し、4葉期に達した時に、各供試化合物を所
定濃度に調整した薬液15mj!をピペットを用いて土
壌表面に潅注した。122〜24℃の1恒温室内に2日
間保った後、疫病菌の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種した。
防除指数を求め、第10表の結果を得た。
培し、4葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に
調整した薬液20a+ffiをスプレーガンを用いて散
布した。22〜24℃の恒温室内に1昼夜保った後、い
もち病菌の胞子懸濁液を噴霧接種した。接種5日後に病
斑数を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求め、
第11表の結果を得た。
を栽培し、5葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃
度に調整した薬液20++1をスプレーガンを用いて散
布した。22〜24℃の恒温室内に1昼夜保った後、予
め紋枯病菌を培養しておいた稲藁を葉鞘部に挟んで接種
した。温度28℃、湿度100%の接種室内に5日間保
った後、病斑長を調査し、前記評価基準に従って防除指
数を求め、第12表の結果を得た。
7.5 cmのポリ鉢でエンバク(品種:前進)を栽培
し、2葉期に達した時に、各供試化合物を所定濃度に調
整した薬液1OI111をスプレーガンを用いて散布し
た。22〜24℃の恒温室内に1昼夜保った後、冠さび
病菌の分生胞子を振り掛は接種した。接種10日後に第
2葉の病斑面積を調査し、前記評価基準に従って防除指
数を求め、第13表の結果を得た。
icae )汚染土壌を1/14000aポツトに詰め
、各供試化合物を有効成分で、4kg/10a及び1k
g/10aとなるように調整した薬液20mfをピペッ
トを用いて土壌表1面に潅注した。処理1日後に土壌を
全層混和し、°カブ(品種:金町小カブ)を播種した。
度を調査し、下記評価基準に従って防除指数を求め第1
4表の結果を得た。
100ppmのストレプトマイシン及び1100ppの
各供試化合物を含むバレイショ・ブドウ糖寒天培地(P
DA培地)上に、前培養したキュウリ綿腐病菌(@
a hanidermatum)のディスク(寒天打抜
)を移植した。22℃で48時間培養した後菌叢直径を
調査し、下記式によって菌糸生育阻害率(%)を求め、
第15表の結果を得た。
菜豆)を栽培し、初生葉期に達した時に初生葉1枚残し
て他の葉を切取った。ナミハダニの成虫(Dicofo
l及び有機リン剤抵抗性)約30頭を接種した後、この
苗を各供試化合物の所定濃度に調整した薬液20m1に
約10秒間浸漬した。風乾後、26℃の照明付恒温器内
に放置し、成虫2日後に生死を判定し下記式により死虫
率(%)を求め、第16表の結果を得た。
移植し、これにナミハダニの成虫を接種し24時間産卵
させ、成虫を取り除いた0次いで、各供試化合物の所定
濃度に調整した薬液20mj! 。
℃の照明付恒温器内に保つた。処理・5〜7日□後に卵
の郷化状況を調査し、下記式により殺卵率(%)を求め
、第17表の結果を得た。尚、卿化直後の死亡も殺卵と
見なした。
イネ幼苗を約10秒間浸漬し、風乾した後湿った脱脂綿
で根部を包んで試験管に入れた。次いでこの中へヒメト
ビウンカの2〜3令幼虫10頭を放ち、管口をガーゼで
ふたをして、26℃の照明付恒温器内に保った。成虫5
日後に生死を判定し、前記試験例14の場合と同様にし
て死出率(%)を求め、第18表の結果を得た。
の所定濃度に調整した薬液20m lにキャベツの葉片
を約10秒間浸漬しJ風乾した。。
上に風乾した葉片を置いた。そこへモモアカアブラムシ
無翅胎生雌虫を放ち、ふたをして26℃の照明付恒温器
内に保った。成虫2日後に生死を判定し、前記試験例1
4の場合と同様にして死出率(%)を求め、第19表の
結果を得た。
キャベツの葉片を約10秒間浸漬し、風乾した。
に風乾した葉片を置いた。そこへ2〜3令のハスモンヨ
トウ幼虫を放ち、ふたをして26℃の照明付恒温器内に
保った。放出5日後に生死を判定し、前記試験例14の
場合と同様にして死出率(%)を求め、第20表の結果
を得た。
ブロー寒天培地上に、トリコフィトン・メンタグロフィ
テス(k丘胚執■匹 憇圏■匹肚圏し)及びトリコフィ
トン・ルブラム(Tricho h tonrubru
m)を接種し、28〜30℃で5日間培養した後、試験
菌生育の有無を調査した。トリコフィトン・メンタグロ
フィテスに有効なものは化合物陽25.34.55−b
、119−b及び16B−b。
h23並びに両国に有効なものは化合物11h6.26
.120−b、134及び169−bであった。
上に、スタフィロコ□ツカス・アウレウス(Sta h
1ococcus aureus)を接種し、37
℃で16時間培養した後、試験菌生育の有無を調査した
。有効なものは化合物阻17.20−b、21.22.
23.25.26.26−b、28−b。
67−b、、1 03、104、105.106、13
4、16B−b、 201−b、 202−b。
物、製剤量、剤型等は記載例のみに限定されるものでは
ない。
オリン 40重量部(ハ)リグニン
スルホン酸ソーダ 7重量部(ニ)ジアルキルスル
ホサクシネート 3重量部以上のものを均一に混合して
水和剤が得られる。
)カオリン 72重量部(’zX)
リグニンスルホン酸ソーダ 4重量部(ニ)ポリオ
キシエチレンアルキル アリール(aryl)エーテル 4重量部以上のも
のを均一に混合して水和剤が得られる。
(ロ)ケイ環± 88重量部(ハ)
ジアルキルスルホサクシネート 2重量部(ニ)ポリオ
キシエチレンアルキル フェニルエーテルサルフェー) 4重1部以上のもの
を均一に混合して水和剤が得られる。
β−ナフタレンスルホン酸ソーダホルマリン縮合物
2重量部(ハ)ポリオキシエチレンアルキル アリール(aryl)サルフェート 5重量部(ニ)含
水無晶形二酸化ケイ素 15重量部以上の各成分の
混合物と、化合物阻22とを4:1の重量割合で混合し
、水和剤が得、られる。
ルク 94.5重量部(ハ)低級
アルコールリン酸 0.5重量部エステル 以上のものを均一に混合して粉剤が得られる。
キシレン 60重量部(ハ)ポリオ
キシエチレンアルキル アリール(aryl)エーテル 20重量部以上の各
成分を混合、溶解して、乳剤が得られる。
(ロ)ベントナイト 61重量部(ハ
)カオリン 33重量部(ニ)リグ
ニンスルホン酸ソーダ 5重量部以上の各成分に適
量の造粒所要水を加え、混合、造粒して粒剤が得られる
。
2rIL量部(ロ)炭酸カルシウム粉 98.
8重量部(ハ)低級アルコールリン酸 エステル 1.0重量部以上のもの
を均一に混合して粉剤が得られる。
部(ロ)ケイ藻土 69重量部(ハ
)炭酸カルシウム粉末 15重量部(ニ)ジア
ルキルスルホサクシネート 1重量部(ホ)ポリオキシ
エチレンアルキル フェニルエーテルサルフェート3重41B(へ)β−ナ
フタレンスルホン酸ソーダホルマリン縮合物
2重量部以上のものを均一に混合して水和剤が得ら
れる。
量部(ロ)トウモロコシ油 77重量部(
ハ)ポリオキシエチレン硬化 ヒマシ油 12重量部(ニ)有機ベ
ントナイト 1重量部以上のものを均一に
混合、粉砕して懸濁製剤が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、R_1はシアノ基、▲数式、化学式、表等があ
ります▼基又は▲数式、化学式、表等があります▼基〔
R_5及びR_6は水素原子、アルキル基、置換されて
もよいフェニル基、又は▲数式、化学式、表等がありま
す▼基(R_7は置換されてもよいアルキル基又は置換
されてもよいフェニル基である)である〕であり、R_
2及びR_3は水素原子;ハロゲン原子;ニトロ基;シ
アノ基;チオシアナート基;トリメチルシリル基;置換
されてもよいアルキル基;置換されてもよいシクロアル
キル基;置換されてもよいアルケニル基;置換されても
よいアルキニル基;置換されてもよいアルコキシ基;置
換されてもよいフェノキシ基;置換されてもよいフェニ
ル基;置換されてもよいナフチル基;置換されてもよい
5〜6員の芳香族複素環基;−SO_nR_8基〔R_
8は置換されてもよいアルキル基;置換されてもよいシ
クロアルキル基;置換されてもよいアルケニル基;置換
されてもよいアルキニル基;置換されてもよいフェニル
基;置換されてもよいピリジル基;▲数式、化学式、表
等があります▼基(R_9及びR_1_0はアルキル基
である);又は置換されてもよいナフチル基であり、n
は0〜2の整数である〕;又は▲数式、化学式、表等が
あります▼基(W_1は酸素 原子又は硫黄原子であり、W_2は酸素原子、硫黄原子
又は−NH−であり、lは0〜1の整数であり、R_1
_1は置換されてもよいアルキル基;又は置換されても
よいフェニル基である)であり、R_4は置換されても
よいアルキル基;置換されてもよいシクロアルキル基;
置換されてもよいフェニル基;置換されてもよいチエニ
ル基;置換されてもよいフリル基;又は、▲数式、化学
式、表等があります▼基(R_1_2及びR_1_3は
それぞれ水素原子;置換されてもよいアルキル基;又は
置換されてもよいアルケニル基であるか、又は互いに隣
接している窒素原子と共に5〜7員の飽和複素環を形成
し、但しR_1_2とR_1_3が同時に水素原子であ
る場合を除く。)であり、但しR_2とR_3が同時に
ハロゲン原子である場合を除く}で表わされるイミダゾ
ール系化合物。 2、請求項1に記載の化合物を有効成分として含有する
ことを特徴する有害生物防除剤。 3、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、R_1はシアノ基、▲数式、化学式、表等があ
ります▼基又は▲数式、化学式、表等があります▼基〔
R_5及びR_6は水素原子、アルキル基、置換されて
もよいフェニル基、又は▲数式、化学式、表等がありま
す▼基(R_7は置換されてもよいアルキル基又は置換
されてもよいフェニル基である)である〕であり、R_
2及びR_3は水素原子;ハロゲン原子;ニトロ基;シ
アノ基;チオシアナート基;トリメチルシリル基;置換
されてもよいアルキル基;置換されてもよいシクロアル
キル基;置換されてもよいアルケニル基;置換されても
よいアルキニル基;置換されてもよいアルコキシ基;置
換されてもよいフェノキシ基;置換されてもよいフェニ
ル基;置換されてもよいナフチル基;置換されてもよい
5〜6員の芳香族複素環基;−SO_nR_8基〔R_
8は置換されてもよいアルキル基;置換されてもよいシ
クロアルキル基;置換されてもよいアルケニル基;置換
されてもよいアルキニル基;置換されてもよいフェニル
基;置換されてもよいピリジル基;▲数式、化学式、表
等があります▼基(R_9及びR_1_0はアルキル基
である)又は置換されてもよいナフチル基であり、nは
0〜2の整数である〕;又は▲数式、化学式、表等があ
ります▼基(W_1は酸素 原子又は硫黄原子であり、W_2は酸素原子、硫黄原子
又は−NH−であり、lは0〜1の整数であり、R_1
_1は置換されてもよいアルキル基;又は置換されても
よいフェニル基である)であり、R_4は置換されても
よいアルキル基;置換されてもよいシクロアルキル基;
置換されてもよいフェニル基;置換されてもよいチエニ
ル基;置換されてもよいフリル基;又は▲数式、化学式
、表等があります▼基(R_1_2及びR_1_3はそ
れぞれ水素原子;置換されてもよいアルキル基;又は置
換されてもよいアルケニル基であるか、又は互いに隣接
している窒素原子と共に5〜7員の飽和複素環を形成し
、但しR_1_2とR_1_3が同時に水素原子である
場合を除く。)であり、但しR_2とR_3が同時にハ
ロゲン原子である場合を除く}で表わされるイミダゾー
ル系化合物を製造する方法において、 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2及びR_3は前述の通りである
)で表わされる化合物と一般式:Y−SO_2R_4(
式中、R_4は前述の通りであり、Yはハロゲン原子で
ある)で表わされる化合物とを反応させることを特徴と
するイミダゾール系化合物の製造方法。 4、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、R_1はシアノ基、▲数式、化学式、表等があ
ります▼基又は▲数式、化学式、表等があります▼基〔
R_5及びR_6は水素原子、アルキル基、置換されて
もよいフェニル基、又は▲数式、化学式、表等がありま
す▼基(R_7は置換されてもよいアルキル基又は置換
されてもよいフェニル基である)である〕であり、R_
2及びR_3は水素原子;ハロゲン原子;ニトロ基;シ
アノ基;チオシアナート基;トリメチルシリル基;置換
されてもよいアルキル基;置換されてもよいシクロアル
キル基;置換されてもよいアルケニル基;置換されても
よいアルキニル基;置換されてもよいアルコキシ基;置
換されてもよいフェノキシ基;置換されてもよいフェニ
ル基;置換されてもよいナフチル基;置換されてもよい
5〜6員の芳香族複素環基;−SO_nR_8基〔R_
8は置換されてもよいアルキル基;置換されてもよいシ
クロアルキル基;置換されてもよいアルケニル基;置換
されてもよいアルキニル基;置換されてもよいフェニル
基;置換されてもよいピリジル基;▲数式、化学式、表
等があります▼基(R_9及びR_1_0はアルキル基
である)又は置換されてもよいナフチル基であり、nは
0〜2の整数である〕;又は▲数式、化学式、表等があ
ります▼基(W_1は酸素 原子又は硫黄原子であり、W_2は酸素原子、硫黄原子
又は−NH−であり、lは0〜1の整数であり、R_1
_1は置換されてもよいアルキル基;又は置換されても
よいフェニル基である)であり、但しR_2とR_3が
同時にハロゲン原子である場合を除く}で表わされる中
間体としての化合物。
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