JPH01131675A - 荷電粒子線がん治療装置 - Google Patents
荷電粒子線がん治療装置Info
- Publication number
- JPH01131675A JPH01131675A JP28849587A JP28849587A JPH01131675A JP H01131675 A JPH01131675 A JP H01131675A JP 28849587 A JP28849587 A JP 28849587A JP 28849587 A JP28849587 A JP 28849587A JP H01131675 A JPH01131675 A JP H01131675A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- particle beam
- cancer treatment
- range shifter
- collimator
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/10—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
- A61N5/1042—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy with spatial modulation of the radiation beam within the treatment head
Landscapes
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、荷電粒子線をがん患部に照射して治療する
ための荷電粒子線がん治療装置に関するものである。
ための荷電粒子線がん治療装置に関するものである。
従来の荷電粒子線がん治療装置を第6図〜第11図によ
り説明する。電6図において、加速器で高エネルギーに
加速された荷電粒子線(1)は、磁場の方向が互いに直
交する2つの走査電磁石(2)により患部面で平坦なビ
ーム線量分布となるよう円形走査される。このとき、荷
電粒子線(1)の線量分布は、第7図に曲線(A1)で
示すように、特定の照射深さでピークをもつような形を
している。この性質を利用して、治療台(1上の患者(
6)の任意の深さにある患部に多くの線量を照射するこ
とができる。
り説明する。電6図において、加速器で高エネルギーに
加速された荷電粒子線(1)は、磁場の方向が互いに直
交する2つの走査電磁石(2)により患部面で平坦なビ
ーム線量分布となるよう円形走査される。このとき、荷
電粒子線(1)の線量分布は、第7図に曲線(A1)で
示すように、特定の照射深さでピークをもつような形を
している。この性質を利用して、治療台(1上の患者(
6)の任意の深さにある患部に多くの線量を照射するこ
とができる。
また、患部が照射方向にピーク幅以上の長さをもってい
る場合には、リッジフィルタ(3)により、第8図に曲
線(A2)で示すような深さ方向に対する平坦なピーク
のある線量分布を得ることができる。
る場合には、リッジフィルタ(3)により、第8図に曲
線(A2)で示すような深さ方向に対する平坦なピーク
のある線量分布を得ることができる。
リッジフィルタ(3)の断面形状は、第9図に示すよう
に、 −−ビー ム方向に多数の突部を有している。ビームは矢印の方向
から来て、リッジフィルタ(3)の突部による厚さの差
の分だけ照射方向の線量分布の拡がりを呈する。多葉コ
リメータ(4)はビーム軌道に垂直な平面内のビーム形
状を制限するコリメータであり、上記ビーム形状を患部
の形状に合わせることができる。すなわち、第10図に
示すように、時間をおいて1回目と2回目のビーム照射
を行うのに対応してコリメータ片を移動させ、患部(8
)の2つの突部(8a)、(8b)Kビーム形状を順次
に合わせることができる。ポーラス(5)は患部の深さ
方向(ビームの進行方向)の形状にビーム(1)の形状
を合わせるためのもつで、第11図に示すように、ポー
ラス(5)はビーム(1)の方向に凹凸があるために、
患部(i)に対して照射する深さが、破線で示すよう史 にその厚さに応じてXえられる。
に、 −−ビー ム方向に多数の突部を有している。ビームは矢印の方向
から来て、リッジフィルタ(3)の突部による厚さの差
の分だけ照射方向の線量分布の拡がりを呈する。多葉コ
リメータ(4)はビーム軌道に垂直な平面内のビーム形
状を制限するコリメータであり、上記ビーム形状を患部
の形状に合わせることができる。すなわち、第10図に
示すように、時間をおいて1回目と2回目のビーム照射
を行うのに対応してコリメータ片を移動させ、患部(8
)の2つの突部(8a)、(8b)Kビーム形状を順次
に合わせることができる。ポーラス(5)は患部の深さ
方向(ビームの進行方向)の形状にビーム(1)の形状
を合わせるためのもつで、第11図に示すように、ポー
ラス(5)はビーム(1)の方向に凹凸があるために、
患部(i)に対して照射する深さが、破線で示すよう史 にその厚さに応じてXえられる。
従来の荷電粒子線がん治療装置は以上のように構成され
ているので、個々の患者に対応したりツジフィルタとポ
ーラスを用意しなければならないこの発明は上記のよう
な問題点を解消する/めになされたもので、患者毎にリ
ッジフィルタおよびポーラスを用意する必要のない荷電
粒子線がん治療装置を得ることを目的とする。
ているので、個々の患者に対応したりツジフィルタとポ
ーラスを用意しなければならないこの発明は上記のよう
な問題点を解消する/めになされたもので、患者毎にリ
ッジフィルタおよびポーラスを用意する必要のない荷電
粒子線がん治療装置を得ることを目的とする。
この発明に係る荷電粒子線がん治療装置は、荷電粒子線
エネルギーを変化させるレンジシフタにより、任意の照
射深さを治療するとともに、ビーム軸に垂直な平面のビ
ーム形状を自由に変えることのできるコリメータを組み
合わせ備えている。
エネルギーを変化させるレンジシフタにより、任意の照
射深さを治療するとともに、ビーム軸に垂直な平面のビ
ーム形状を自由に変えることのできるコリメータを組み
合わせ備えている。
この発明においては、レンジシフタとコリメータにより
、患部の形状に合った3次元のビーム照射を行う。
、患部の形状に合った3次元のビーム照射を行う。
以下、この発明の一実施例を第1図〜第5図について説
明する。@1図において、荷電粒子線(1)に沿って、
レンジシフタ(9)および線量計(10)が新たに配設
されている。その他、第6図におけると同一符号は同一
部分を示している。
明する。@1図において、荷電粒子線(1)に沿って、
レンジシフタ(9)および線量計(10)が新たに配設
されている。その他、第6図におけると同一符号は同一
部分を示している。
以下、動作について説明する。走査電磁石(2)により
円形平坦化された荷電粒子線(1)は、レンジシフタ(
9)によりそのエネルギーを変えられる。レンジシフタ
(9)は、水2食塩水、その他の液体または銅などでな
る複数個の板状体からなっており、荷電粒子線(1)が
通過する厚さ分だけのエネルギー損失により、そのエネ
ルギーが低減する。これにより、加速器のエネルギーを
変えることなく照射エネルギーを変えることができる。
円形平坦化された荷電粒子線(1)は、レンジシフタ(
9)によりそのエネルギーを変えられる。レンジシフタ
(9)は、水2食塩水、その他の液体または銅などでな
る複数個の板状体からなっており、荷電粒子線(1)が
通過する厚さ分だけのエネルギー損失により、そのエネ
ルギーが低減する。これにより、加速器のエネルギーを
変えることなく照射エネルギーを変えることができる。
また、レンジシフタ(9)のエネルギーデグレーダの厚
さは連続的に変化することが望ましく、患部の深さに応
じて、荷電粒子線(1)のエネルギーが変えられる。ま
た、多葉コリメータ(4)Kよりビーム軸に垂直方向の
照射野を制限する。この多葉コリメータ(4)は多数対
のリーフの内、1対のリ フの片方が、もう一方のリー
フの照射野もカバーできる機能を有する。
さは連続的に変化することが望ましく、患部の深さに応
じて、荷電粒子線(1)のエネルギーが変えられる。ま
た、多葉コリメータ(4)Kよりビーム軸に垂直方向の
照射野を制限する。この多葉コリメータ(4)は多数対
のリーフの内、1対のリ フの片方が、もう一方のリー
フの照射野もカバーできる機能を有する。
この発明においては、このレンジシフタ(9)と多葉コ
リメータ(4)を組み会わせて、3次元的な患部の形状
に合った照射を行う。これにより、患部に最大限の効率
で放射線治療を行うことができる。すなわちレンジシフ
タ(9)で深さ方向の照射位置を調節し、多葉コリメー
タ(4)でビーム軸に垂直な面の形を自由自在に変える
。
リメータ(4)を組み会わせて、3次元的な患部の形状
に合った照射を行う。これにより、患部に最大限の効率
で放射線治療を行うことができる。すなわちレンジシフ
タ(9)で深さ方向の照射位置を調節し、多葉コリメー
タ(4)でビーム軸に垂直な面の形を自由自在に変える
。
次に、上記3次元照射の手順を第2図〜第5図を加えて
説明する。第2図は3次元照射制御装置(11)と、レ
ンジシフタ(9)、線量計(10)、多葉コリメータ(
4)との接続図であり、線量計(10)からの線量信号
により、3次元照射制御装置7 (11)からの制御信
号でレンジシフタ(9)および多葉コリメータ(4)が
所定の条件に設定される。
説明する。第2図は3次元照射制御装置(11)と、レ
ンジシフタ(9)、線量計(10)、多葉コリメータ(
4)との接続図であり、線量計(10)からの線量信号
により、3次元照射制御装置7 (11)からの制御信
号でレンジシフタ(9)および多葉コリメータ(4)が
所定の条件に設定される。
第3図は、患部(8)の各層に対応するレンジシフタ(
9)および多葉コリメータ(4)の動作を示している。
9)および多葉コリメータ(4)の動作を示している。
第4図はかかる動作の時間的経過であり、レンジシフタ
(9)と多葉コリメータ(4)が、適宜に移動、静止し
て所定の線量にコントロールする態様を示している。
(9)と多葉コリメータ(4)が、適宜に移動、静止し
て所定の線量にコントロールする態様を示している。
第5図は3次元の照射シーケンスを示し、スター)(2
1)で、まず、レンジシフタ(9)、多葉コリメータの
初期条件を設定(22)し、照射を開始(23)する。
1)で、まず、レンジシフタ(9)、多葉コリメータの
初期条件を設定(22)し、照射を開始(23)する。
n層目の設定線量(24)の照射が完了したら、レンジ
シフタ(9)、多葉コリメータ(4)を線量計(10)
からの信号で次の設定値に設定(25)し、次の層に照
射を行う。次々に各層へ照射し、全設定線量の照射を終
えたらストップ(26)L、照射終了(27)する。
シフタ(9)、多葉コリメータ(4)を線量計(10)
からの信号で次の設定値に設定(25)し、次の層に照
射を行う。次々に各層へ照射し、全設定線量の照射を終
えたらストップ(26)L、照射終了(27)する。
以上のようにして、3次元の均一照射野が形成される。
なお、上記実施例では、多葉コリメータ(4)とレンジ
シフタ(9)を組み合わせた例を説明したが、これらに
、前述したりツジフィルタ、ポーラスを組み合わせても
よく、上記実施例と同様の効果を奏する。
シフタ(9)を組み合わせた例を説明したが、これらに
、前述したりツジフィルタ、ポーラスを組み合わせても
よく、上記実施例と同様の効果を奏する。
また、第10図に示したように、ビーム方向に凸部が2
つあるような患部に対しては、最初に片側の凸部に対し
て3次元照射を行い、次にもう1つの凸部に対して3次
元照射を行うという重ね照射を行うことで、複雑形状の
3次元照射が可能となる。
つあるような患部に対しては、最初に片側の凸部に対し
て3次元照射を行い、次にもう1つの凸部に対して3次
元照射を行うという重ね照射を行うことで、複雑形状の
3次元照射が可能となる。
以上のように、この発明によれば、レンジシフタとコリ
メータを組み合わせ配置したので、患者毎のリッジフィ
ルタおよびポーラスを用意する必要がなく、患部の形状
に合った3次元の荷電粒子線照射が得られる効果がある
。
メータを組み合わせ配置したので、患者毎のリッジフィ
ルタおよびポーラスを用意する必要がなく、患部の形状
に合った3次元の荷電粒子線照射が得られる効果がある
。
第1図〜第5図はこの発明の一実施例を示し、第1図は
概略立面図、第2図は一部接続図、第3図はレンジシフ
タと多葉コリメータの動作の模式図、第4図はレンジシ
フタと多葉コリメータの相対動作説明図、第5図は照射
手顆のタイムチャート図である。 第6図〜第11図は従来の荷電粒子線がん治療装置を示
し、第6図は概略立面図、第7図、第8図はそれぞれ荷
電粒子線の吸収線量の特性線図、第9図はりツジフィル
タの断面図、第10図は多葉コリメータの動作の模式図
、第11図はポーラスの作用模式図である。 (1)・、・荷電粒子線、(4)・・多葉コリメータ、
(5)・・ポーラス、(8)・・患部、(9)・・レン
ジシフタ、(lO)φ・線量計。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第11!1 1112図 第 6 図 第1図 第8図 照村運さ IN 9 図 、d−t、8′″ ユ $ 10 図 (a) ↓ ヒ・ニム方向 (b) $11 4〜70 口 ! 一一−ジ 7二勿三三 】 く 一一二 視白〕仲エベ:
概略立面図、第2図は一部接続図、第3図はレンジシフ
タと多葉コリメータの動作の模式図、第4図はレンジシ
フタと多葉コリメータの相対動作説明図、第5図は照射
手顆のタイムチャート図である。 第6図〜第11図は従来の荷電粒子線がん治療装置を示
し、第6図は概略立面図、第7図、第8図はそれぞれ荷
電粒子線の吸収線量の特性線図、第9図はりツジフィル
タの断面図、第10図は多葉コリメータの動作の模式図
、第11図はポーラスの作用模式図である。 (1)・、・荷電粒子線、(4)・・多葉コリメータ、
(5)・・ポーラス、(8)・・患部、(9)・・レン
ジシフタ、(lO)φ・線量計。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第11!1 1112図 第 6 図 第1図 第8図 照村運さ IN 9 図 、d−t、8′″ ユ $ 10 図 (a) ↓ ヒ・ニム方向 (b) $11 4〜70 口 ! 一一−ジ 7二勿三三 】 く 一一二 視白〕仲エベ:
Claims (7)
- (1)荷電粒子線をがん患部に照射して治療する荷電粒
子線がん治療装置において、前記荷電粒子線の軌道上に
それぞれ配置された、前記荷電粒子線のエネルギーを変
化させるレンジシフタと、前記軌道に垂直な平面の形状
を変化させるコリメータとを備え、患部の形に合わせて
3次元的に前記荷電粒子線の照射をすることを特徴とす
る荷電粒子線がん治療装置。 - (2)レンジシフタが、水、食塩水およびその他の液体
のいずれかである特許請求の範囲第1項記載の荷電粒子
線がん治療装置。 - (3)レンジシフタが、板状の固体からなり、これを重
ねて厚さを連続的に変えられる特許請求の範囲第1項記
載の荷電粒子線がん治療装置。 - (4)コリメータが、複雑な形状の照射野をつくりだす
多葉コリメータである特許請求の範囲第1項記載の荷電
粒子線がん治療装置。 - (5)対向するコリメータ片が互いにオーバランして対
向するコリメート部分まで移動可能である特許請求の範
囲第4項記載の荷電粒子線がん治療装置。 - (6)荷電粒子線の軸方向に凸部が2つ以上ある患部に
対して、多数回の重ね照射により複雑形状の3次元照射
をする特許請求の範囲第1項記載の荷電粒子線がん治療
装置。 - (7)ボーラスが付設されている特許請求の範囲第1項
記載の荷電粒子線がん治療装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62288495A JPH0696048B2 (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | 荷電粒子線がん治療装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62288495A JPH0696048B2 (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | 荷電粒子線がん治療装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01131675A true JPH01131675A (ja) | 1989-05-24 |
| JPH0696048B2 JPH0696048B2 (ja) | 1994-11-30 |
Family
ID=17730954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62288495A Expired - Lifetime JPH0696048B2 (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | 荷電粒子線がん治療装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0696048B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04132567A (ja) * | 1990-09-25 | 1992-05-06 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子線がん治療装置 |
| JPH04197273A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-16 | Tsukuba Univ | 陽子線を用いた治療装置 |
| JP2000214298A (ja) * | 1999-01-20 | 2000-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子線照射装置及びその装置に用いるエネルギ―コンペンセ―タ、並びに荷電粒子線照射方法 |
| JP2004504121A (ja) * | 2000-06-30 | 2004-02-12 | ジー エス アイ ゲゼルシャフト フュア シュベールイオーネンフォルシュンク エム ベー ハー | 潰瘍組織に照射する装置 |
| US7026636B2 (en) | 2002-06-12 | 2006-04-11 | Hitachi, Ltd. | Particle beam irradiation system and method of adjusting irradiation apparatus |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102245263B (zh) | 2008-12-24 | 2014-04-16 | 三菱电机株式会社 | 粒子射线治疗装置 |
| JP5075260B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-21 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
| CN104137190A (zh) * | 2012-02-22 | 2014-11-05 | 三菱电机株式会社 | 射程移位器及粒子射线治疗装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5822072A (ja) * | 1981-07-31 | 1983-02-09 | 株式会社東芝 | 放射線照射野限定装置 |
| JPS60111662A (ja) * | 1983-11-22 | 1985-06-18 | 株式会社東芝 | 放射線治療装置 |
| JPS6160952U (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-24 | ||
| JPS62227375A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-06 | 株式会社東芝 | ビーム治療装置 |
-
1987
- 1987-11-17 JP JP62288495A patent/JPH0696048B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5822072A (ja) * | 1981-07-31 | 1983-02-09 | 株式会社東芝 | 放射線照射野限定装置 |
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH04132567A (ja) * | 1990-09-25 | 1992-05-06 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子線がん治療装置 |
| JPH04197273A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-16 | Tsukuba Univ | 陽子線を用いた治療装置 |
| JP2000214298A (ja) * | 1999-01-20 | 2000-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子線照射装置及びその装置に用いるエネルギ―コンペンセ―タ、並びに荷電粒子線照射方法 |
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| US7026636B2 (en) | 2002-06-12 | 2006-04-11 | Hitachi, Ltd. | Particle beam irradiation system and method of adjusting irradiation apparatus |
| US7071479B2 (en) | 2002-06-12 | 2006-07-04 | Hitachi, Ltd. | Particle beam irradiation system and method of adjusting irradiation apparatus |
| US7297967B2 (en) | 2002-06-12 | 2007-11-20 | Hitachi, Ltd. | Particle beam irradiation system and method of adjusting irradiation apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0696048B2 (ja) | 1994-11-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |