JPH01132094A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPH01132094A JPH01132094A JP62291051A JP29105187A JPH01132094A JP H01132094 A JPH01132094 A JP H01132094A JP 62291051 A JP62291051 A JP 62291051A JP 29105187 A JP29105187 A JP 29105187A JP H01132094 A JPH01132094 A JP H01132094A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooking
- membrane
- film
- sio2
- door glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は１発熱体を有する高周波加熱装置に関するもの
である 従来の技術 従来のオーブン電子レンジや電気レンジなどでは、ドア
ガラスに強化ガラスや、５ｎ０２膜や、ＩＴＯ嘆や金属
薄膜を、熱線反射膜として全面に付与したガラスが用い
られてきた。
である 従来の技術 従来のオーブン電子レンジや電気レンジなどでは、ドア
ガラスに強化ガラスや、５ｎ０２膜や、ＩＴＯ嘆や金属
薄膜を、熱線反射膜として全面に付与したガラスが用い
られてきた。
発明が解決しようとする問題点
従来のオープン電子レンジなどのドアに用いられてきた
強化ガラスは、赤外線特に波長３．Ｏ，Ｉｔｍ以上を吸
収してしまうため、加熱源から輻射により放出される赤
外線の３．０μｍ以上のエネルギーは、有効に調理に利
用されていなかった。
強化ガラスは、赤外線特に波長３．Ｏ，Ｉｔｍ以上を吸
収してしまうため、加熱源から輻射により放出される赤
外線の３．０μｍ以上のエネルギーは、有効に調理に利
用されていなかった。
また、５ｎ０２膜やＩＴＯ膜や金属薄膜を、熱線に対膜
として全面に付与したガラスでは、３．０メｍ以上の赤
外線を反射できるが、高周波をかけた際にガラス面が高
温になったり、スパークを起こしたりするうえに、金属
薄膜は表面が酸化されやすいという問題があった。
として全面に付与したガラスでは、３．０メｍ以上の赤
外線を反射できるが、高周波をかけた際にガラス面が高
温になったり、スパークを起こしたりするうえに、金属
薄膜は表面が酸化されやすいという問題があった。
本発明はこのような従来の問題点を解決するものであり
、可視光線を透過し加熱源から出た熱エネルギー特に赤
外線領域を反射し調理時の熱効率を上げスピード調理を
可能にし、かつマイクロ波調理の際にもガラス面が高温
になったシ、スパークを起こしたりしない高周波加熱装
置を提供することを目的としている。
、可視光線を透過し加熱源から出た熱エネルギー特に赤
外線領域を反射し調理時の熱効率を上げスピード調理を
可能にし、かつマイクロ波調理の際にもガラス面が高温
になったシ、スパークを起こしたりしない高周波加熱装
置を提供することを目的としている。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために、本発明はドアガラスの厚
内面にＡｌ、Ｎｉ、Ｃｒの群から選定した少なくとも１
種の金属薄膜を、最大長さが１５１１１以下の小領域に
分割して形成し、その表面にＳｉＯの被膜を形成して成
ることを特徴としている。
内面にＡｌ、Ｎｉ、Ｃｒの群から選定した少なくとも１
種の金属薄膜を、最大長さが１５１１１以下の小領域に
分割して形成し、その表面にＳｉＯの被膜を形成して成
ることを特徴としている。
作 用
上記のＦＲ戎により、加熱源から出た輻射熱エネルギー
特に赤外線領域を反射するので、熱効率が上がりスピー
ド調理を可能にする。
特に赤外線領域を反射するので、熱効率が上がりスピー
ド調理を可能にする。
実施例
以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。
図の実施例は、ドアの強化ガラス０）の庫内面にＡＩの
金属薄膜（１）を蒸着し、その上に、ＳｉＯ２のコーテ
ィングク）を形成したものである。
金属薄膜（１）を蒸着し、その上に、ＳｉＯ２のコーテ
ィングク）を形成したものである。
Ａ４の金属薄膜を直径２．０龍厚さ１．０メｍ開ロ率５
０％で、形成した場合の赤外線の反射率は５０％であり
、オーブンに装着した時の庫内温度立上り速さは、未装
着の場合に比べて２０％速くなった。
０％で、形成した場合の赤外線の反射率は５０％であり
、オーブンに装着した時の庫内温度立上り速さは、未装
着の場合に比べて２０％速くなった。
金属薄膜の最大長さを１５ｕ以下の小領域に分割した理
由は、１５寵以上の大きさにするとマイクロ波をかけた
際にスパークを起こしてしまうためである。
由は、１５寵以上の大きさにするとマイクロ波をかけた
際にスパークを起こしてしまうためである。
ドアガラスの庫内面に金属薄膜を形成した理由は、庫外
側に形成した場合には、波長３．０）１ｍ以上の赤外線
領域の輻射エネルギーは、ガラスに吸収されてしまい反
射しないため調理に対する効果がないだめである。
側に形成した場合には、波長３．０）１ｍ以上の赤外線
領域の輻射エネルギーは、ガラスに吸収されてしまい反
射しないため調理に対する効果がないだめである。
また、嘆表面にＳｉＯ２の被膜を形成する理由は。
金属薄１漠の耐食性が悪いため、５ｔｏ２によって被膜
を形成し食品等による汚染や腐食を防止し。
を形成し食品等による汚染や腐食を防止し。
かつ１表面硬度を向上させるためである。
発明の効果
以上本発明によれば、加熱源から放射される熱エネルギ
ー特に赤外線領域を反射し、調理時の熱効率を上げ、ス
ピード調理を可能にすることができる。
ー特に赤外線領域を反射し、調理時の熱効率を上げ、ス
ピード調理を可能にすることができる。
かつ、マイクロ波調理を行う際にも、スパークの発生が
なく、’ＳｉＯ２層を設けることにより。
なく、’ＳｉＯ２層を設けることにより。
金属薄１漠の腐食を防止し、表面硬度を上げることがで
き表面１・こ傷がつきに〈〈できる−
き表面１・こ傷がつきに〈〈できる−
図は本発明の一実施例を示す高周波加熱調理器の断面図
である。 １・・・・・・金属薄膜、２・・・・・・ＳｉＯ２層、
３％５・・・・・・強化ガｔス、４・・・・・・パンチ
ングメタ／Ｉ／、 ６・・・・・・オープン箱体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名１−
金属薄膜 ４− バッチンジメタル ５−踵イ乙ガラス 乙−オーラン箱体
である。 １・・・・・・金属薄膜、２・・・・・・ＳｉＯ２層、
３％５・・・・・・強化ガｔス、４・・・・・・パンチ
ングメタ／Ｉ／、 ６・・・・・・オープン箱体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名１−
金属薄膜 ４− バッチンジメタル ５−踵イ乙ガラス 乙−オーラン箱体
Claims (1)
- ドアガラスの庫内面に、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｒの群か
ら選定した少なくとも、種の金属薄膜を、最大長さが１
５ｍｍ以下の小領域に分割して形成し、その表面にＳｉ
Ｏ＿２の被膜を形成した高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62291051A JPH071715B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62291051A JPH071715B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01132094A true JPH01132094A (ja) | 1989-05-24 |
| JPH071715B2 JPH071715B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=17763798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62291051A Expired - Lifetime JPH071715B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH071715B2 (ja) |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP62291051A patent/JPH071715B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH071715B2 (ja) | 1995-01-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |